JP4140463B2 - Optical element polishing apparatus and polishing method - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学素子の光学面を研磨するための研磨装置及び研磨方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の光学素子には、レンズやミラー等があり、例えばマスク上のパターンの像を基板に転写する露光装置等に数多く用いられている。また、露光装置に設けられる光学素子は、保持装置を介して鏡筒に保持されている。
【０００３】
このような露光装置に使用される光学素子の仕上加工は、例えば以下のような手順で行われる。
まず、予め所定の形状に形成された光学素子を研磨装置用の固定枠に固定し、この状態で光学素子の光学面（入射面や出射面）の状態を例えば干渉計等により測定する。この測定の結果から、光学素子の光学面を、どのくらい研磨するかを決定する。次いで、光学素子を固定枠に固定した状態で、その固定枠を研磨装置の研磨台に載置し、光学素子の光学面を研磨する。
【０００４】
その後、光学素子を固定枠から取り外し、その光学素子を、前記保持装置により保持する。そして、このように保持した状態で光学素子の研磨後の光学面（研磨面）の状態を例えば干渉計等により測定する。ここで、この干渉計による測定の結果、光学面（研磨面）が所望の状態と一致する場合には、その光学素子の仕上加工を終了する。
【０００５】
一方、光学面が所望の状態と一致しない場合には、光学素子を保持装置から取り外すとともに再び前記固定枠に固定して、光学面を研磨する。その後、光学素子を、固定枠から取り外すとともに保持装置により保持し、研磨後の光学面（研磨面）の状態を例えば干渉計等により測定する。この測定の結果、光学面（研磨面）が所望の状態と一致すれば、その光学素子の仕上加工を終了する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、研磨後の光学素子を露光装置に組み付ける度に、その光学素子を、干渉計による光学面の測定時と同様の状態で、すなわち光学素子が歪まないように保持しなければならず、作業性の低下を招いていた。また、光学素子を、歪んだ状態で固定枠に固定して研磨した場合には、研磨後において、その光学素子を固定枠から取り外した際に光学面（研磨面）が歪んでしまうという問題があった。また、光学素子を、歪ませることなく固定枠に固定して研磨したとしても、研磨後に固定枠から取り外し、保持装置にその光学素子を保持する際に歪んでしまうという問題もあった。
【０００７】
特に、例えば半導体素子製造用の露光装置においては、近年の半導体素子の著しい高度集積化に伴ってパターンがますます微細化してきており、投影光学系のさらなる高解像度化が要求されてきている。そして、こうした要求に応えるためには、投影光学系等に用いられる光学素子を精度よく仕上げることが非常に重要となってきている。
【０００８】
このような半導体露光装置用の光学素子においては、研磨装置の固定枠の表面に僅かな歪み等が生じている場合、光学素子の光学面は、その固定枠の表面状態（微小なうねり等）の影響を受けた状態で研磨されることになる。このように研磨された光学素子を、前記固定枠とは表面状態の異なる鏡筒に取着した場合、僅かな表面状態の差であっても、光学面の面精度に影響が及ぶおそれがある。
【０００９】
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的としては、光学面を精度よく仕上げることができる光学素子の研磨装置及び研磨方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本願請求項１に記載の発明は、光学素子の表面のうち、所定の面を研磨する光学素子の研磨装置において、前記光学素子の周縁部に、前記光学素子を保持する保持装置が取り付けられた状態で、前記光学素子を支持する保持台と、前記光学素子の表面のうち、前記所定の面を研磨する際に、前記所定の面を研磨する空間に対して、前記保持装置を隔離する隔離部材と、を備えることを特徴とするものである。
【００１１】
この本願請求項１に記載の発明では、光学素子の光学面の研磨を、保持装置により光学素子を保持した状態で行うことが可能となるとともに、研磨後の光学素子を、保持装置により保持した状態で鏡筒に取り付けることが可能となる。これにより、研磨の前後において、光学素子の保持状態が大きく変化することがなく、研磨した光学面を所望の状態に維持しつつ、光学素子を鏡筒に取り付けることができる。このように、光学面の研磨後において、光学素子を保持装置から取り外すことなく鏡筒に取り付けることができるため、光学面の歪みの発生を抑制することができる。
【００１２】
また、本願請求項２に記載の発明は、前記請求項１に記載の発明において、前記保持装置は、前記光学素子の周縁部に係合する座面が形成された座面ブロックと、前記座面ブロックを支持ブロックに対して、前記光学素子の接線方向周りと径方向周りとの少なくとも一方に回転可能に支持する座面ブロック支持機構と、を備えることを特徴とするものである。
【００１３】
この本願請求項２に記載の発明では、前記請求項１に記載の発明の作用に加えて、光学素子を保持装置により保持する際には、座面ブロック支持機構が、光学素子の接線方向周りと径方向周りとの少なくとも一方に回転する。この回転により、光学素子の歪みが吸収され、光学素子が、歪んだ状態で保持装置に保持されることが抑制される。また、研磨装置の固定枠に光学素子を支持する際、あるいは研磨した光学素子を鏡筒に支持する際において、それら固定枠、鏡筒の受け部の表面状態が光学素子の光学面の面精度に及ぼす影響を低減することが可能となる。このため、光学素子における研磨面（光学面）の高精度な研磨が短時間で行われる。
【００１４】
また、本願請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記保持装置は、さらに、前記支持ブロックが取り付けられる枠体を備えることを特徴とするものである。
【００１６】
また、本願請求項４に記載の発明は、前記請求項１〜請求項３のうちいずれか一項に記載の発明において、前記光学素子は、入射光を入射する入射面または入射光を反射する反射面と、該入射面または該反射面に対して交差する側面とを有し、前記隔離部材は、前記所定の面として、前記入射面または前記反射面を露出させる開口部が形成されたカバー部と、前記開口部の周縁と前記光学素子の側面との間に設けられ、前記保持装置に対して、前記入射面または前記反射面を研磨する際の研磨剤の到達を抑制するシール部材と、を有することを特徴とするものである。
【００１７】
この本願請求項４に記載の発明では、前記請求項３に記載の発明の作用に加えて、光学素子の研磨面を研磨する際に研磨剤が用いられる場合には、その研磨剤が保持装置にかかることが回避される。
【００１８】
また、本願請求項５に記載の発明は、前記請求項４に記載の発明において、前記シール部材は、前記カバー部に対して着脱可能に設けられていることを特徴とするものである。
【００１９】
この本願請求項５に記載の発明では、前記請求項４に記載の発明の作用に加えて、シール部材が劣化等した場合には、そのシール部材のみを取り替えることができる。このため、取替費用を低減することが可能となる。また、シール部材を、種々の光学素子の形状や外径等に応じて、適宜選択して取り替えることが可能となる。このため、研磨装置の汎用性を向上することが可能となる。
【００２０】
また、本願請求項６に記載の発明は、前記請求項４または請求項５に記載の発明において、前記シール部材は、前記開口部の周縁と前記光学素子の側面との間に挟持された状態で変形し得る軟質材料からなるチューブ材から形成されることを特徴とするものである。
【００２１】
この本願請求項６に記載の発明では、前記請求項４または請求項５に記載の発明の作用に加えて、光学素子の研磨面を研磨する際に、その光学素子をカバー部により覆うと、チューブ材は、カバー部の開口部の周縁と光学素子の側面との間で変形しつつ、それらの間を液密にシールする。この際、チューブ材は変形し易く、しかも変形により生じる弾性力が小さくなる。このため、光学素子の側面に過剰な力が作用することが抑制される。この結果、光学素子の研磨面の研磨時において、その光学素子に歪みの生じることが抑制される。
【００２２】
また、本願請求項７に記載の発明は、前記請求項４〜請求項６のうちいずれか一項に記載の発明において、前記光学素子は、前記周縁部に第１鍔部及び第２鍔部を有し、前記第１鍔部及び第２鍔部のそれぞれは、前記側面から離れる方向に向かって突出するとともに、前記光学素子の光軸方向の異なる位置に設けられ、前記カバー部は、前記開口部の周縁が、前記第１鍔部及び第２鍔部のうち、前記所定の面に最も近い一方の鍔部に対向するように設けられ、前記保持装置は、前記第１鍔部及び第２鍔部のうち、他方の鍔部を保持し、前記シール部材は、前記カバー部の前記開口部の周縁と前記他方の鍔部との間に設けられることを特徴とするものである。
【００２３】
この本願請求項７に記載の発明では、前記請求項４〜請求項６のうちいずれか一項に記載の発明の作用に加えて、光学素子の側面において、第１鍔部と第２鍔部とは互いに離間した位置にあるため、保持装置とカバー部との接触を回避することが可能となる。これにより、光学素子の研磨面を研磨する際に、保持装置がカバー部によって変形されることを抑制することができる。
【００２４】
また、本願請求項８に記載の発明は、前記請求項７に記載の発明において、前記シール部材は、前記他方の鍔部における前記一方の鍔部とは反対側の面に圧接するように設けられることを特徴とするものである。
【００２５】
この本願請求項８に記載の発明では、前記請求項７に記載の発明の作用に加えて、光学素子を研磨する際に使用する研磨剤が、保持装置の取り付けられる第１鍔部側へと流下することを、より確実に抑制することができる。
また、本願請求項９に記載の発明は、光学素子の所定の面を研磨する光学素子の研磨方法において、前記光学素子の周縁部に、前記光学素子を保持する保持装置を取り付けた状態で、前記光学素子の所定の面を、請求項１〜請求項８のうちいずれか一項に記載の光学素子の研磨装置を用いて研磨することを特徴とするものである。
【００２６】
この本願請求項９に記載の発明では、請求項１〜請求項８のうちいずれか一項に記載の発明の作用と同様の作用が奏される。
【００３３】
次に、前記各請求項の発明の下で有用性の認められる技術的思想について、それらの作用とともに以下に記載する。
（１） 前記保持装置は、前記光学素子の周縁部を保持する保持部と、同保持部を保持する保持枠とを備えるものであり、前記光学素子は、その周縁部が前記保持装置により保持されるとともに、その保持装置に取着した状態で使用されるものであり、前記保持台は、前記光学素子を、前記保持部を介して前記保持枠に取着した状態で支持することを特徴とする請求項４に記載の光学素子の研磨装置。
【００３４】
従って、この（１）に記載の発明では、前記請求項４に記載の発明の作用に加えて、光学素子の光学面の研磨を、保持部を介して光学素子を保持枠に保持した状態で行うことが可能となるとともに、研磨後の光学素子を、保持枠に保持した状態で鏡筒に取り付けることが可能となる。これにより、研磨した光学面を所望の状態に好適に維持しつつ、光学素子を鏡筒に取り付けることができる。このため、光学面の歪みの発生を、より効果的に抑制することができる。
【００３５】
（２） 前記カバー部は、前記保持部と前記保持枠とを覆うように形成されることを特徴とする前記（１）に記載の光学素子の研磨装置。
従って、この（２）に記載の発明では、前記（１）に記載の発明の作用に加えて、光学素子の研磨面を研磨する際に研磨剤が用いられる場合に、その研磨剤が保持部と保持枠とにかかることを回避させることができる。
【００３６】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明を具体化した一実施形態について、図１〜図７を参照して説明する。
【００３７】
図１に示すように、露光装置１１は、半導体素子製造用の露光装置であり、光源１２と、照明光学系１３と、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステージ１４と、投影光学系１５と、基板としてのウエハＷを保持するウエハステージ１６とを備えている。
【００３８】
前記光源１２は、例えば波長１５７ｎｍのＦ２レーザを発振する。
前記照明光学系１３は、図示しないフライアイレンズやロッドレンズ等のオプティカルインテグレータ、リレーレンズ、コンデンサレンズ等の各種レンズ系及び開口絞り等を含んで構成されている。そして、光源１２から出射される露光光ＥＬが、この照明光学系１３を通過することにより、レチクルＲ上のパターンを均一に照明するように調整される。
【００３９】
前記レチクルステージ１４は、照明光学系１３の射出側、すなわち、後述する投影光学系１５の物体面側（露光光ＥＬの入射側）において、そのレチクルＲの載置面が投影光学系１５の光軸方向とほぼ直交するように配置されている。
【００４０】
前記ウエハステージ１６は、投影光学系１５の像面側（露光光ＥＬの射出側）において、ウエハＷの載置面が投影光学系１５の光軸方向と交差するように配置されている。そして、前記露光光ＥＬにて照明されたレチクルＲ上のパターンの像が、投影光学系１５を通して所定の縮小倍率に縮小された状態で、ウエハステージ１６上のウエハＷに投影転写されるようになっている。
【００４１】
次に、投影光学系１５の構成について説明する。
図１及び図２に示すように、投影光学系１５は、反射屈折光学系をなしており、連結部材２０を中心として上方に位置する上部鏡筒２１と、側方に位置する横鏡筒２２と、下方に位置する下部鏡筒２３とを有している。また、投影光学系１５は、複数の光学素子を備えており、それら全ての光学素子（レンズ成分）には、蛍石（ＣａＦ２結晶）が使用されている。
【００４２】
前記上部鏡筒２１は、投影光学系１５の光軸としての第１光軸ＡＸ上のレチクルＲ側に配置されている。この上部鏡筒２１は、略円筒状をなしており、その内部にレチクルＲのパターンの第１中間像を形成し、複数の光学素子からなる第１結像光学系２４を保持している。また、上部鏡筒２１は、投影系鏡筒の一部をなす部分鏡筒２１ａが複数（この例では４つ）積層された状態で形成されている。これらの部分鏡筒２１ａは、例えばステンレス鋼、チタン合金等の金属材料で構成され、光学素子としての複数のレンズ２５ａ及び光学素子としてのカバーガラス２６を１つまたは複数組み合わせて保持している。
【００４３】
前記横鏡筒２２は、前記第１光軸ＡＸに直交する光軸としての第２光軸ＡＸ’上に配置され、第２中間像を形成するための第２結像光学系２８を保持している。この第２結像光学系２８は、光学素子としての直角反射鏡２９、光学素子としての負レンズ３０、反射光学素子としての凹面反射鏡３１を有している。前記負レンズ３０及び凹面反射鏡３１は、光軸が水平方向を指向するように、縦置き状態で配置されている。前記直角反射鏡２９は、第１光路折り曲げ鏡２９ａと第２光路折り曲げ鏡２９ｂとを備える。この横鏡筒２２は、直角反射鏡２９、負レンズ３０、凹面反射鏡３１をそれぞれ保持するとともに投影系鏡筒の一部をなす複数の部分鏡筒２２ａ〜２２ｃが互いに連結された状態で形成されている。
【００４４】
前記第１結像光学系２４が形成する第１中間像の近傍に、第１光路折り曲げ鏡２９ａが配置され、第１光路折り曲げ鏡２９ａで偏向された露光光ＥＬが、負レンズ３０を介して凹面反射鏡３１に導かれ、そして凹面反射鏡３１によって反射される。凹面反射鏡３１で反射された露光光ＥＬは、再び負レンズ３０を通過し、第１中間像の形成位置の近傍、本実施形態では第２光路折り曲げ鏡２９ｂの近傍に第２中間像を形成する。この第２中間像は、第１中間像とほぼ等倍であり、パターンの２次像である。
【００４５】
すなわち、第２光路折り曲げ鏡２９ｂは、第２結像光学系２８が形成する第２中間像の近傍に配置され、第２中間像へ向かう露光光ＥＬまたは第２中間像からの露光光ＥＬを、屈折型の第３結像光学系３３に向かって偏向する。直角反射鏡２９は、金属材料（ステンレス鋼等）、低熱膨張セラミックス（炭化珪素等）などからなる母材に形成された、互いに直交する２つの斜面の一方に第１光路折り曲げ鏡２９ａの反射面を形成し、また２つの斜面の他方に第２光路折り曲げ鏡２９ｂの反射面を形成する。母材が炭化珪素からなる場合、鋳型に炭化珪素を流し込んだ後に、整形加工を行うことによって形成される。
【００４６】
なお、第１光路折り曲げ鏡２９ａの反射面及び第２光路折り曲げ鏡２９ｂの反射面は、金属反射面である。この金属反射面は、例えば、ＣＶＤなどにより母材の斜面に、ＳｉＣなど研磨に適した材料をコーティングした後に、その斜面を鏡面研磨し、鏡面研磨した面に、金属膜（アルミ膜など）あるいはフッ化物膜を形成したものである。また、金属膜にフッ化物膜を形成してもよい。
【００４７】
さらに、ＳｉＣなどの材料は、母材の前記斜面だけでなく、母材の全表面にも施すことが好ましい。このように母材の全表面をコーティングすることにより、母材から揮散する吸光物質（露光光ＥＬを吸収する酸素、水蒸気、有機物等）を低減することができる。なお、反射面とその他の部分とにそれぞれコーティングする場合には、反射面は鏡面加工が必要であるため、その他の部分に対して厚い方が望ましい。また、母材の加工精度としては、両反射面の直角度が±５秒以内、面精度が３．５〜７λ／１００００ｒｍｓ以内であることが望ましい。また、凹面反射鏡３１の反射面３１ａも、直角反射鏡２９と同様に金属反射面としてもよく、直角度を除いた精度や、その他の加工についても直角反射鏡２９と同様に施すことが望ましい。
【００４８】
なお、直角反射鏡２９の両斜面は、光学的に隔絶されており、第１結像光学系２４からの光束は第２光路折り曲げ鏡２９ｂに入射せず、第２結像光学系２８からの光束が第１光路折り曲げ鏡２９ａに入射しないようになっている。
【００４９】
前記下部鏡筒２３は、投影光学系１５の第１光軸ＡＸ上、すなわち前記上部鏡筒２１と同軸上のウエハＷ側に配置されている。この下部鏡筒２３は、略円筒状をなしており、その内部に第２中間像からの光束に基づいてレチクルＲのパターンの縮小像（第２中間像の像であってパターンの最終像）をウエハＷ上に形成するための第３結像光学系３３を保持している。この第３結像光学系３３は、複数の光学素子を有している。また、下部鏡筒２３は、投影系鏡筒の一部をなす複数（この例では４つ）の部分鏡筒２３ａが積層された状態で形成されている。これらの部分鏡筒２３ａは、例えばステンレス鋼、チタン合金等の金属材料で構成され、光学素子としての複数（この例では４つ）のレンズ２５ｂ及び光学素子としてのカバーガラス３４を１つまたは複数組み合わせて保持している。
【００５０】
本実施形態では、図３に示すように、前記凹面反射鏡３１は、入射光である露光光ＥＬを反射する反射面３１ａと、この反射面３１ａを含む曲面に対して交差する側面としての外周面３１ｂとを有している。この凹面反射鏡３１は、その周縁部、すなわち前記外周面３１ｂから第２光軸ＡＸ’方向の異なる位置で外方に向かって突出する一対の鍔部３７ａ，３７ｂを有している。これら一対の鍔部３７ａ，３７ｂは、外周面３１ｂにおいてその周方向に延びるとともに、環状をなすように外周面３１ｂの全周に亘って形成されている。
【００５１】
また、一対の鍔部３７ａ，３７ｂのうちの第１鍔部としての取付鍔部３７ａは、縦置き状態に配置されたときの凹面反射鏡３１の重心位置Ｇｃを含んで前記凹面反射鏡３１の第２光軸ＡＸ’にほぼ直交する平面Ｐ１に沿って延びるように形成されている。また、一対の鍔部３７ａ，３７ｂのうちの第２鍔部としてのシール鍔部３７ｂは、前記平面Ｐ１よりも凹面反射鏡３１の反射面３１ａ側に位置するとともにその平面Ｐ１と平行をなす平面Ｐ２に沿って延びるように形成されている。
【００５２】
また、本実施形態では、図２に示すように、前記凹面反射鏡３１は、その周縁部が保持装置４０により保持された状態で前記横鏡筒２２の部分鏡筒２２ａに固定されている。
【００５３】
図４に示すように、この保持装置４０は、例えばアルミニウム等の金属材料からなる円環状の枠体４１と、その枠体４１に対して等角度間隔をおいて配設されるとともに凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａを挟持する複数（この例では３つ）の保持部４２とから構成されている。
【００５４】
図５に示すように、前記保持部４２は、大きく分けて基台部材４３とクランプ部材４４とを備えている。そして、枠体４１には、その一方の表面４１ａに、クランプ部材４４が取り付けられる取付溝４５が等角度間隔おきに形成されている。さらに、枠体４１の内周面には、基台部材４３の一部をなす座面ブロック５０ａが収容される収容凹部４６が、前記取付溝４５と対応する位置に形成されている。
【００５５】
まず、前記基台部材４３の構成について説明する。
この基台部材４３は、前記凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａにおけるシール鍔部３７ｂと対向する側面とは反対側の側面に係合する座面５１を有する座面ブロック５０ａと、その座面ブロック５０ａの姿勢を調整可能に支持する座面ブロック支持機構５５が形成された支持ブロック５０ｂとを備えている。
【００５６】
前記座面ブロック５０ａは、その長手方向が前記凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向に沿うように配置され、前記座面５１は、その座面ブロック５０ａの長手方向の両端部に形成されている。すなわち、座面５１は、座面ブロック５０ａの表面から突出するように形成されている。この座面５１は、所定の面積を有する平面状をなすとともに、その周縁が所定の曲率をもった曲面状に形成されている。
【００５７】
また、この座面５１の表面には、金の層がめっきや蒸着等により設けられており、その座面５１の表面の凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに対する摩擦係数が高められている。なお、座面５１と、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａとの摩擦係数を高めるべく、その取付鍔部３７ａの表面に例えば金属膜等を形成してもよい。また、座面５１と取付鍔部３７ａとの摩擦係数を向上すべく、それら座面５１と取付鍔部３７ａとの接触面積を、座面ブロック５０ａの長手方向に沿って増加させてもよい。
【００５８】
ここで、前記座面ブロック支持機構５５について説明する。
図５及び図６に示すように、前記座面ブロック５０ａと支持ブロック５０ｂとの間、及び支持ブロック５０ｂには、凹面反射鏡３１の径方向（図５のＸ軸方向）に貫通する複数のスリット５６が形成されている。この複数のスリット５６を形成する際、全部のスリット５６が互いに連続しないように、スリット５６の間に、加工を施さない部分を残す。そして、この加工を施さない部分に対して、彫り込み部５７が、図５中のＸ軸方向の＋方向から彫り込む加工と、Ｘ軸方向の−方向からの彫り込む加工とにより形成されている。このＸ軸方向の＋方向からの加工と−方向からの加工とによって、座面ブロック５０ａと支持ブロック５０ｂとの間、及び支持ブロック５０ｂには、複数の首部５８ａ〜５８ｄが形成される。
【００５９】
また、前記支持ブロック５０ｂは、複数のスリット５６により、大きく３つの部分に分割されている。すなわち、支持ブロック５０ｂは、前記枠体４１に対してボルト（図示略）等により固着される基台部５９ａと、第１ブロック５９ｂと、第２ブロック５９ｃとに分割されている。さらに、基台部５９ａと第１ブロック５９ｂとを連結する第１首部５８ａと、基台部５９ａと第２ブロック５９ｃとを連結する第２首部５８ｂと、第１ブロック５９ｂと第２ブロック５９ｃとを連結する第３首部５８ｃと、第２ブロック５９ｃと座面ブロック５０ａとを連結する第４首部５８ｄとが形成されている。これらの首部５８ａ〜５８ｄは、断面正方形をなし、座面ブロック５０ａ、基台部５９ａ、第１ブロック５９ｂ、第２ブロック５９ｃの断面積に比べて著しく小さな正方形の断面積を有する。
【００６０】
そして、第１ブロック５９ｂは、第１首部５８ａ及び第３首部５８ｃによって、基台部５９ａと第２ブロック５９ｃとに固定される。この第１ブロック５９ｂは、第１首部５８ａ及び第３首部５８ｃにより、図６中のＹ軸方向（凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向）周りに回転可能に保持されるが、そのＹ軸方向への変位は拘束される。従って、第１ブロック５９ｂと第１首部５８ａと第３首部５８ｃとにより、凹面反射鏡３１の前記接線方向への変位を拘束する接線方向拘束リンク６０が形成される。
【００６１】
また、第２ブロック５９ｃは、第２首部５８ｂ及び第４首部５８ｄによって、座面ブロック５０ａと基台部５９ａとに固定される。この第２ブロック５９ｃは、第２首部５８ｂ及び第４首部５８ｄにより、図６中のＺ軸方向（凹面反射鏡３１の光軸と平行な方向）周りに回転可能に保持されるが、そのＺ軸方向への変位は拘束される。従って、第２ブロック５９ｃと第２首部５８ｂと第４首部５８ｄとにより、凹面反射鏡３１の前記光軸と平行な方向への変位を拘束する光軸方向拘束リンク６１が形成される。
【００６２】
これら接線方向拘束リンク６０の拘束方向と光軸方向拘束リンク６１の拘束方向とは、互いにほぼ直交する。言い換えれば、接線方向拘束リンク６０の回転軸と光軸方向拘束リンク６１の回転軸とが、互いにほぼ直交する。
【００６３】
そして、座面ブロック５０ａは、第４首部５８ｄによって、支持ブロック５０ｂに連結されている。すなわち、座面ブロック５０ａは、基台部５９ａに対して、接線方向拘束リンク６０と光軸方向拘束リンク６１とを備える一対のリンク機構により支持される。
【００６４】
また、図６に示すように、これらの首部５８ａ〜５８ｄのうち、第２及び第４首部５８ｂ，５８ｄは、前記座面ブロック５０ａの両座面５１の中間位置を通る線上に配置されている。その線は、前記一対の座面５１を結ぶ線と直交するとともに図６中のＺ軸に平行である。一方、第１及び第３首部５８ａ，５８ｃは、一対の座面５１を結ぶ線と平行な線上に配置されている。さらに、第３首部５８ｃは、第４首部５８ｄの近傍に配置されている。
【００６５】
このように構成された座面ブロック支持機構５５において、座面ブロック５０ａは、接線方向拘束リンク６０及び光軸方向拘束リンク６１により、基台部５９ａに対して、図５中のＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向周りに回転可能に、かつＹ軸方向、Ｚ軸方向への変位が抑制されるように支持されている。さらに、座面ブロック５０ａは、第４首部５８ｄにより、図５中のＸ軸方向に変位可能に支持されている。すなわち、座面ブロック支持機構５５は、接線方向拘束リンク６０と、光軸方向拘束リンク６１と、Ｘ軸方向に変位可能な第４首部５８ｄとを含む構成となっている。
【００６６】
なお、図５に示すように、前記基台部材４３には、その座面ブロック５０ａに、座面５１に対して図５中のＺ軸方向（凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａの厚さ方向）に延びて形成される座面側取付部５２を備えている。言い換えると、座面側取付部５２は、前記座面５１からＺ軸方向に所定距離を離間した位置に設けられている。
【００６７】
次に、前記クランプ部材４４の構成について説明する。
図５に示すように、このクランプ部材４４は、前記座面ブロック５０ａの上方に対応して配置され、クランプ本体６５とパッド部材７０とからなっている。
【００６８】
前記クランプ本体６５には、押さえ面ブロック６６と、その押さえ面ブロック６６と一体に形成されて押さえ面ブロック６６を支持する押さえ面ブロック支持機構６７とが装備されている。前記押さえ面ブロック６６の下面の両端には、前記座面ブロック５０ａの座面５１に対向するように押さえ面６８が形成されている。この押さえ面６８は、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向にほぼ沿った稜線を有する断面三角形状に形成されている。これらの両押さえ面６８の稜線は、その２つの稜線を結ぶ直線の中点が、前記座面ブロック５０ａと光軸方向拘束リンク６１（図６参照）とを連結する第４首部５８ｄの上方に位置するように形成されている。
【００６９】
前記押さえ面ブロック支持機構６７は、腕部６７ａと押さえ面側取付部６７ｂとからなっており、その押さえ面側取付部６７ｂと前記押さえ面ブロック６６とは所定の間隔をおいて離間されている。そして、この押さえ面側取付部６７ｂと前記座面側取付部５２とを前記パッド部材７０を介して接合させた状態でボルト４７により締結することによって、クランプ部材４４が前記座面ブロック５０ａに対して固定されるようになっている。また、前記腕部６７ａは、前記押さえ面ブロック６６と押さえ面側取付部６７ｂとの両端を接続するように一対設けられている。各腕部６７ａは、平面コ字状をなし、押さえ面側取付部６７ｂと前記座面側取付部５２とを前記パッド部材７０を介して接合させた状態で弾性変形可能なだけの長さをもって形成されている。さらに、この腕部６７ａは、枠体４１に装着した状態で、その枠体４１の取付溝４５内にその内周面とは離間した状態で収容されるようになっている。
【００７０】
前記パッド部材７０は、前記両取付部５２，６７ｂの間に挟持される挟持部７１と、前記押さえ面６８と凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａとの間に介装される作用部７２と、それら挟持部７１と作用部７２とを連結するとともに弾性変形可能な薄板状の薄板部７３とからなっている。前記作用部７２の下面には、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに係合する作用面７４が、前記座面５１に対応するように平面状に形成されている。この作用面７４の周縁は、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに対する角当たりによる損傷を回避するため、所定の曲率をもった曲面状に形成されている。また、この作用面７４の表面には、前記座面５１と同様に金の層がめっきや蒸着等により設けられており、その作用面７４の表面における凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに対する摩擦係数が高められている。
【００７１】
そして、このように構成されたクランプ部材４４は、前記ボルト４７を締め込むことにより、前記腕部６７ａが弾性変形されて、押さえ面ブロック６６の押さえ面６８に座面ブロック５０ａ側への押圧力を付与する。この押圧力は、パッド部材７０の作用面７４を介して、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに作用する。これにより、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａが、座面ブロック５０ａの座面５１と押さえ面ブロック６６の押さえ面６８との間に挟持される。
【００７２】
このような構成の座面ブロック支持機構５５を介して凹面反射鏡３１が枠体４１に固定される。
ここで、凹面反射鏡３１と枠体４１とは、それぞれ異なる材質で形成されており、凹面反射鏡３１と枠体４１との間では線膨張係数に差を生じることがある。これにより、光源１２からの露光光ＥＬの照射により凹面反射鏡３１が発熱したような場合には、凹面反射鏡３１と枠体４１との間で凹面反射鏡３１の径方向へ伸縮長さの違いが生じることがある。
【００７３】
このような伸縮長さの違いが生じた場合には、各座面ブロック支持機構５５の各拘束リンク６０，６１及び各首部５８ａ〜５８ｄの協働作用により、凹面反射鏡３１を挟持する座面ブロック５０ａと押さえ面ブロック６６とが、枠体４１に対して凹面反射鏡３１の径方向へ相対移動される。これにより、前記伸縮長さの違いが吸収され、凹面反射鏡３１に大きな伸縮荷重が直接加わるおそれはない。
【００７４】
また、枠体４１を部分鏡筒２２ａに固定する際に、部分鏡筒２２ａの受け部の表面状態によっては、その枠体４１にわずかな歪みを生じるおそれがある。このように枠体４１に歪みが生じたとしても、各座面ブロック支持機構５５の各拘束リンク６０，６１及び各首部５８ａ〜５８ｄの協働作用により、凹面反射鏡３１が枠体４１に対してキネマティックに保持されているため、その歪みの影響が凹面反射鏡３１に及ぶことが抑制される。
【００７５】
さらに、本実施形態では、凹面反射鏡３１を露光装置１１の投影光学系１５に組み付ける前において、その凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨装置により研磨する仕上加工を行っている。
【００７６】
図７に示すように、この研磨装置８０は、凹面反射鏡３１を支持する保持台８１と、この保持台８１により保持された凹面反射鏡３１の反射面３１ａ（研磨面）を研磨する研磨部８２とを備えている。ここで、研磨部８２は、凹面反射鏡３１の反射面３１ａに接触する接触部や、この接触部を回転させたり、移動させたりする駆動部などを備えており、一般的に用いられるものである。
【００７７】
本実施形態では、前記保持台８１は、有底円筒状をなしており、前記保持部４２を介して枠体４１に固定された状態の凹面反射鏡３１を保持できるように構成されている。この保持台８１には、その周壁８１ａの上端面に、枠体４１と係合する段部８１ｂが全周に亘って形成されている。なお、保持台８１は、その段部８１ｂに枠体４１が係合しているときに、凹面反射鏡３１や保持部４２が保持台８１の内底面８１ｃ及び内周面８１ｄに接触しないように形成されている。
【００７８】
また、本実施形態では、研磨装置８０は、凹面反射鏡３１が保持装置４０を介して保持台８１に保持された状態で、枠体４１や保持部４２を、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する空間、すなわち反射面３１ａが表出する空間９０から隔離するための隔離部材８３を備えている。
【００７９】
この隔離部材８３は、保持台８１上に載置されるカバー部８４と、このカバー部８４に設けられるシール部材としてのシールリング８５とを有している。
前記カバー部８４は、前記保持台８１の周壁８１ａ上に載置される円環状の縦壁部８４ａを有している。この縦壁部８４ａには、前記枠体４１の外径よりも大きな内径を有する開口部としての縦壁部側開口部８６ａが形成されている。そして、この縦壁部側開口部８６ａには、前記枠体４１が挿入される。
【００８０】
また、カバー部８４は、縦壁部８４ａの内周面における上端部から内方に向かって突出する円盤状の上底部８４ｂを有している。この上底部８４ｂには、前記凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂの外径よりも大きな内径を有する開口部としての上底部側開口部８６ｂが形成されている。そして、この上底部側開口部８６ｂには、前記凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂが挿入される。
【００８１】
さらに、カバー部８４は、上底部８４ｂの先端の内周面における上端部から内方に向かって突出する円盤状の突出部８４ｃを有している。この突出部８４ｃには、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂにおけるシール鍔部３７ｂよりも反射面３１ａ側の部分の外径よりも大きな内径を有する開口部としての突出部側開口部８６ｃが形成されている。そして、この突出部側開口部８６ｃには、凹面反射鏡３１におけるシール鍔部３７ｂよりも前記反射面３１ａ側の部分が挿入される。
【００８２】
また、凹面反射鏡３１を、保持装置４０を介して保持台８１に保持し、前記カバー部８４を載置した状態では、前記突出部８４ｃの下面と前記凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂにおける反射面３１ａ側の側面との間に所定の隙間が形成されるようになっている。
【００８３】
前記シールリング８５は、突出部８４ｃの下面に沿うように設けられている。このシールリング８５は、凹面反射鏡３１を保持した状態の保持台８１上にカバー部８４が載置された際に、突出部８４ｃと凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとにより挟持された状態で変形し得る軟質材料からなるチューブ材から形成されている。
【００８４】
そして、シールリング８５は、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際に、シール鍔部３７ｂにおける前記取付鍔部３７ａとは反対側の面、すなわち、シール鍔部３７ｂにおける凹面反射鏡３１の反射面３１ａ側の面に圧接するように設けられている。このシールリング８５により、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際に、液状の研磨剤が保持台８１とカバー部８４との内部の空間内に流入することが抑制されるとともに、その研磨剤が保持装置４０に到達することが抑制されるようになっている。
【００８５】
また、このシールリング８５は、カバー部８４に対して着脱可能に設けられている。
このような構成の研磨装置８０を用いて凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨（仕上加工）する際には、例えば以下のような手順で行われる。
【００８６】
まず、所定の形状に形成された凹面反射鏡３１を、保持部４２を介して枠体４１に固定する。次いで、枠体４１に固定した状態で、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの状態を例えば干渉計等により測定する。この測定の結果から、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを、どのくらい研磨するかを決定する。
【００８７】
その後、凹面反射鏡３１が固定されたままの状態の枠体４１を、研磨装置８０の保持台８１上に載置する。この際、枠体４１を保持台８１の段部８１ｂに係合させる。そして、カバー部８４を、凹面反射鏡３１の反射面３１ａが前記開口部８６ａ〜８６ｃを介して前記空間９０に露出するように保持台８１上に載置する。この際、枠体４１と保持部４２とがカバー部８４により覆われるとともに、シールリング８５が、カバー部８４の突出部８４ｃと凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとの両対向面に圧接されて、保持台８１とカバー部８４との内部空間が前記空間９０から隔離される。
【００８８】
こうして凹面反射鏡３１を保持台８１に保持した状態で、液状の研磨剤を凹面反射鏡３１の反射面３１ａに供給しつつ、前記測定の結果に基づいて、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨部８２により研磨する。
【００８９】
この研磨が終了した後は、凹面反射鏡３１を、枠体４１に固定した状態で、保持台８１から外すとともに研磨後の反射面３１ａの状態を例えば干渉計等により再度測定する。ここで、干渉計による再度の測定の結果、研磨後の反射面３１ａが所望の状態と一致する場合には、凹面反射鏡３１の仕上加工を終了する。なお、この仕上加工が終了した後の凹面反射鏡３１は、保持部４２を介して枠体４１に固定されたままの状態で前記部分鏡筒２２ａの所定の位置に固定され、その後、凹面反射鏡３１が固定された部分鏡筒２２ａが前記横鏡筒２２に組み付けられる。
【００９０】
一方、研磨後の反射面３１ａが所望の状態と一致しない場合には、凹面反射鏡３１を、枠体４１に固定したままの状態で保持台８１に再び載置するとともに、カバー部８４を保持台８１に載置する。そして、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを、再度の測定の結果に基づいて研磨装置８０により研磨する。この再度の研磨後、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの状態を例えば干渉計等により再び測定し、その測定の結果、反射面３１ａが所望の状態と一致すれば、凹面反射鏡３１の研磨（仕上加工）を終了する。
【００９１】
従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（イ） 本実施形態では、研磨装置８０は、凹面反射鏡３１が保持部４２を介して枠体４１に保持されている状態でその枠体４１を支持する保持台８１と、保持台８１上の枠体４１及び保持部４２を前記空間９０から隔離する隔離部材８３とを備えている。そして、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを、凹面反射鏡３１が保持部４２を介して枠体４１により保持されている状態で研磨装置８０により研磨している。
【００９２】
これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの研磨を、保持部４２を介して凹面反射鏡３１を枠体４１に保持した状態で行うことができるとともに、研磨後の凹面反射鏡３１を、枠体４１に保持した状態で部分鏡筒２２ａ（横鏡筒２２）に取り付けることができる。このように反射面３１ａの研磨後において、凹面反射鏡３１を保持装置４０から取り外すことがないため、保持装置４０による凹面反射鏡３１の保持状態が大きく変化することがない。この結果、反射面３１ａの研磨後において、その反射面３１ａの歪みの発生を抑制して所望の状態に維持しつつ、凹面反射鏡３１を部分鏡筒２２ａに取り付けることができ、凹面反射鏡３１を露光装置１１に装着した状態で、その凹面反射鏡３１の反射面３１ａの面精度を高く維持することができる。
【００９３】
（ロ） 本実施形態では、保持部４２は、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａに係合する座面５１が形成された座面ブロック５０ａと、この座面ブロック５０ａを、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向周りと径方向周りとに回転可能に支持する座面ブロック支持機構５５とを備えている。
【００９４】
これにより、凹面反射鏡３１を保持装置４０により保持した状態では、座面ブロック支持機構５５が、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向周りと径方向周りとに回転可能となる。これにより、座面ブロック５０ａの取付鍔部３７ａの表面に沿った回転が可能となり、凹面反射鏡３１の反射面３１ａに対する保持台８１の段部８１ｂの表面における微小なうねり等の表面状態の影響が遮断される。また、凹面反射鏡３１の反射面３１ａに対する枠体４１の表面状態及び部分鏡筒２２ａの表面状態の影響を遮断することができる。このため、凹面反射鏡３１における反射面３１ａの高精度な研磨を短時間で行うことができる。
【００９５】
（ハ） 本実施形態では、隔離部材８３は、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを空間９０に露出させる開口部８６ａ〜８６ｃが形成されるとともに、保持台８１上に載置されたときに、枠体４１と保持部４２とを覆うカバー部８４を有している。また、隔離部材８３は、カバー部８４の突出部８４ｃの周縁と凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂの側面との間に設けられ、保持装置４０に対して、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際の研磨剤の到達を抑制するシールリング８５を有している。これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの研磨を可能としながらも、その反射面３１ａの研磨時に、液状の研磨剤が枠体４１と保持部４２とにかかることを回避することができる。
【００９６】
（ニ） 本実施形態では、シールリング８５を、カバー部８４に対して着脱可能に設けている。これにより、例えばシールリング８５が劣化等した場合には、そのシールリング８５のみを取り替えることができる。このため、取替費用を低減することができる。また、シールリング８５を、種々の凹面反射鏡３１の形状や外径等に応じて、適宜選択して取り替えることができる。このため、研磨装置８０の汎用性を向上することができる。
【００９７】
（ホ） 本実施形態では、シールリング８５を、カバー部８４の突出部８４ｃの周縁と凹面反射鏡３１の側面との間に挟持された状態で変形し得る軟質材料からなるチューブ材から形成している。これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際には、その凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂや保持装置４０をカバー部８４により覆うと、シールリング８５は、カバー部８４の突出部８４ｃの周縁と凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとの間で変形しつつ、それらの間を液密にシールする。この際、シールリング８５は変形し易く、しかも変形により生じる弾性力が小さい。このため、凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂに、シールリング８５の弾性力に起因した過剰な力が作用することを抑制することができる。この結果、凹面反射鏡３１の反射面３１ａの研磨時において、その凹面反射鏡３１に歪みが生じることを抑制することができる。
【００９８】
（ヘ） 本実施形態では、凹面反射鏡３１には、その外周面３１ｂから光軸方向の異なる位置で外方へ向かって突出するとともに周方向に延びる一対の鍔部３７ａ，３７ｂを設けている。また、保持装置４０を、凹面反射鏡３１の一対の鍔部３７ａ，３７ｂのうちの取付鍔部３７ａを保持するように設けている。また、カバー部８４を、その突出部８４ｃが凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂにおける反射面３１ａ側の側面と対向するように設けている。さらに、シールリング８５を、カバー部８４の突出部８４ｃと凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとの間に位置するように設けている。
【００９９】
このように、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂに一対の鍔部３７ａ，３７ｂを設けることにより、保持装置４０により保持される取付鍔部３７ａと、研磨装置８０の隔離部材８３に当接されるシール鍔部３７ｂとに機能を分担させることが可能となる。これにより、凹面反射鏡３１を保持装置４０により保持した状態で、その凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨装置８０により研磨することができる。また、凹面反射鏡３１を保持装置４０により保持した状態で、かつ、その保持装置４０に研磨剤がかかることを抑制しつつ、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨することができる。
【０１００】
また、取付鍔部３７ａとシール鍔部３７ｂとは、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂにおいて互いに離間した位置にあるため、凹面反射鏡３１が保持台８１とカバー部８４との内部空間内にあるときに、保持装置４０とカバー部８４との接触を回避することができる。このため、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際に、保持装置４０がカバー部８４との接触によって変形することを抑制することができる。
【０１０１】
（ト） 本実施形態では、シールリング８５を、凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂにおける反射面３１ａ側の側面に圧接するように設けている。これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際に使用する研磨剤が、保持装置４０の取り付けられる取付鍔部３７ａ側へと流下することを、より確実に抑制することができる。
【０１０２】
（チ） 本実施形態では、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂ上において反射面３１ａ側に位置するシール鍔部３７ｂを、その外周面３１ｂの全周に亘って環状に形成している。これにより、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨する際には、シール鍔部３７ｂの全周が隔離部材８３のシールリング８５により圧接された状態となる。このため、隔離部材８３とシール鍔部３７ｂとの間に隙間が形成されることを抑制することができ、それら隔離部材８３とシール鍔部３７ｂとの間のシール性を向上することができる。
【０１０３】
（リ） 本実施形態では、凹面反射鏡３１の前記取付鍔部３７ａを、保持装置４０による保持位置を含んで光軸と交差する方向に延びる平面Ｐ１が、縦置き状態に配置された凹面反射鏡３１の重心位置Ｇｃを通るように設けている。
【０１０４】
これにより、縦置き状態に配置された凹面反射鏡３１を、モーメントの発生を抑制しつつ安定した状態で部分鏡筒２２ａにより保持することができる。このため、前記モーメントの発生に起因する凹面反射鏡３１の反射面３１ａの変形を抑制することができる。この結果、凹面反射鏡３１の光学性能が悪化するおそれを抑制して、光学性能を良好に保つことができる。
【０１０５】
（ヌ） 本実施形態では、露光光ＥＬを反射する凹面反射鏡３１の反射面３１ａを、研磨装置８０により研磨している。
一般に、凹面反射鏡により反射される反射光は、その凹面反射鏡の反射面の状態に影響され易い。すなわち、凹面反射鏡の反射面が僅かにでも歪んでいたりすると、所望の反射光が得られにくくなる。このように反射面３１ａの状態が反射光に大きな影響を与える凹面反射鏡３１を、研磨装置８０により研磨する本実施形態では、特に顕著な効果を得ることができる。
【０１０６】
（変形例）
なお、本発明の実施形態は、以下のように変形してもよい。
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１の一対の鍔部３７ａ，３７ｂのうちの保持部４２により保持される取付鍔部３７ａは、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの全周に亘って環状に設けられる構成には限定されない。この取付鍔部３７ａを、保持部４２により保持される部分でのみ外周面３１ｂから突出させて形成する構成としてもよい。
【０１０７】
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂを省略してもよい。
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１を投影光学系１５に装着した状態で反射面３１ａの研磨量を測定し、その後、凹面反射鏡３１を、投影光学系１５から保持装置４０ごと取り外すとともに保持台８１にセットして、反射面３１ａの研磨を行うようにしてもよい。
【０１０８】
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１を枠体４１に固定せずに、凹面反射鏡３１の反射面３１ａを研磨装置８０により研磨するようにしてもよい。すなわち、保持部４２により凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａを保持した状態で、その保持部４２を保持台８１により保持しつつ、反射面３１ａを研磨するようにしてもよい。この場合、例えば、保持台８１の段部８１ｂは、保持部４２の支持ブロック５０ｂに係合するように形成される。
【０１０９】
・ 前記実施形態において、座面ブロック支持機構５５は、座面ブロック５０ａを、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂの接線方向周りと径方向周りとのどちらか一方にのみ回転可能に支持する構成であってもよい。
【０１１０】
・ 前記実施形態では、押さえ面ブロック６６がパッド部材７０を介して、凹面反射鏡３１の取付鍔部３７ａを押圧するように構成した。これに対して、パッド部材７０を省略して、押さえ面ブロック６６が取付鍔部３７ａを直に押圧するようにしてもよい。この場合、押さえ面ブロック６６の押さえ面６８は、座面５１と同様に平面状に形成することが望ましい。
【０１１１】
・ 前記実施形態では、座面５１を座面ブロック５０ａにおける凹面反射鏡３１との対向面の両端に２つ設けたが、その対向面のほぼ全面に座面を形成してもよいし、３つ以上の座面を形成してもよい。また、押さえ面ブロック６６の押さえ面６８も、同様に、その対向面のほぼ全面に形成してもよいし、３つ以上を形成してもよい。
【０１１２】
・ 前記実施形態では、クランプ本体６５において長く延長された腕部６７ａが、押さえ面ブロック６６を付勢するようになっている。これに対して、この腕部６７ａに代えて、例えば板状の板ばね、コイルばね等を採用して押さえ面ブロック６６を付勢するようにしてもよい。
【０１１３】
・ 前記実施形態において、シールリング８５は、チューブ材からなるものには限定されない。このシールリング８５を、例えば、環状をなす中実体からなるものであってもよい。このようにした場合にも、そのシールリング８５を、カバー部８４の突出部８４ｃと凹面反射鏡３１のシール鍔部３７ｂとの間に挟持された状態で変形し得る軟質材料により形成することが望ましい。
【０１１４】
・ 前記実施形態において、シールリング８５を、カバー部８４に対し、例えば接着等により、着脱不能に設ける構成としてもよい。
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１は、縦置きタイプのものには限定されず、横置きタイプのものであってもよい。この場合、保持装置４０により保持される取付鍔部３７ａを、凹面反射鏡３１の外周面３１ｂにおいて、重心位置Ｇｃを含む平面Ｐ１に沿うように設ける構成でなくてもよい。
【０１１５】
・ 前記実施形態において、凹面反射鏡３１以外の光学素子、例えば、レンズ２５ａ，２５ｂ、カバーガラス２６、直角反射鏡２９、ハーフミラーなど、露光装置１１に設けられる各種光学素子を研磨装置８０により研磨するようにしてもよい。この場合、それらの光学素子は、保持装置により保持された状態、または、保持装置により保持されるとともに部分鏡筒（鏡筒）に取着された状態で研磨される。
【０１１６】
・ また、レンズ２５ａ，２５ｂ、カバーガラス２６、直角反射鏡２９、ハーフミラーなど、入射面と出射面との両面が研磨される光学素子の場合等には、鍔部を、光学素子の外周面に３個以上設ける構成としてもよい。この場合、例えば、光軸方向の中央に位置する鍔部が保持装置により保持され、入射面に最も接近した位置にある鍔部と出射面に最も接近した位置にある鍔部とがカバー部８４のシールリング８５により圧接される構成とすることができる。
【０１１７】
・ また、露光装置の光源としては、例えばｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ２レーザ（１２６ｎｍ）等を用いてもよい。また、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いてもよい。
【０１１８】
・ また、露光装置として、投影光学系を用いることなく、マスクと基板とを密接させてマスクのパターンを露光するコンタクト露光装置、マスクと基板とを近接させてマスクのパターンを露光するプロキシミティ露光装置の光学系にも適用することができる。また、投影光学系としては、反射屈折タイプに限らず、全屈折タイプであってもよい。
【０１１９】
さらに、本発明の露光装置は、縮小露光型の露光装置に限定されるものではなく、例えば等倍露光型、拡大露光型の露光装置であってもよい。
また、半導体素子等のマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置等で使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置に用いられる光学素子にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（深紫外）やＶＵＶ（真空紫外）光などを用いる露光装置では一般に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては、石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、または水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のＸ線露光装置や電子線露光装置などでは、透過型マスク（ステンシルマスク、メンバレンマスク）が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
【０１２０】
また、半導体素子の製造に用いられる露光装置だけでなく、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置に用いられる光学素子にも本発明を適用することができる。その他に、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置や、ＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などに用いられる光学素子にも本発明を適用することができる。
【０１２１】
さらに、マスクと基板とが相対移動した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステップ移動させるスキャニング・ステッパに用いられる光学素子にも本発明を適用することができる。加えて、マスクと基板とが静止した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式のステッパに用いられる光学素子にも本発明を適用することができる。
【０１２２】
加えて、他の光学機械、例えば顕微鏡や望遠鏡や干渉計等の光学系における光学素子にも本発明を適用することができる。
【０１２３】
【発明の効果】
以上詳述したように、本願請求項１に記載の発明によれば、光学素子の光学面の歪みの発生を抑制することができて、その光学面を精度よく仕上げることができる。
【０１２４】
また、本願請求項２に記載の発明によれば、前記請求項１に記載の発明の効果に加えて、光学素子を受ける受け部の表面状態が光学素子の光学面（研磨面）の面精度に及ぼす影響を低減することができる。また、光学素子における研磨面の高精度な研磨を短時間で行うことができる。
【０１２５】
また、本願請求項４に記載の発明によれば、前記請求項１〜請求項３のうちいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、光学素子の研磨面の研磨時に、研磨剤が保持装置にかかることを回避することができる。
【０１２６】
また、本願請求項５に記載の発明によれば、前記請求項４に記載の発明の効果に加えて、シール部材を取り替える際の取替費用を低減することができる。また、研磨装置の汎用性を向上することができる。
【０１２７】
また、本願請求項６に記載の発明によれば、前記請求項４または請求項５に記載の発明の効果に加えて、光学素子の側面に過剰な力が作用することを抑制することができ、光学素子の研磨面の研磨時において、その光学素子に歪みが生じることを抑制することができる。
【０１２８】
また、本願請求項７に記載の発明によれば、前記請求項４〜請求項６のうちいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、光学素子の研磨時に、保持装置とカバー部とが接触することを回避することができ、保持装置がカバー部との接触によって変形することを抑制することができる。
【０１２９】
また、本願請求項８に記載の発明によれば、前記請求項７に記載の発明の効果に加えて、光学素子を研磨する際に使用する研磨剤が、第１鍔部側へと流下することを、より確実に抑制することができる。
【０１３０】
また、本願請求項９に記載の発明では、請求項１〜請求項８のうちいずれか一項に記載の発明の効果と同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学素子を備えた露光装置の概要を示す構成図。
【図２】投影光学系を示す断面図。
【図３】凹面反射鏡の断面図。
【図４】図２の４―４線断面図。
【図５】保持装置を示す一部破断分解斜視図。
【図６】基台部材を拡大して示す正面図。
【図７】研磨装置の保持台及び隔離部材を示す断面図。
【符号の説明】
２１…上部鏡筒、２２…横鏡筒、２２ａ…鏡筒の一部を構成する部分鏡筒、２３…下部鏡筒、２５ａ，２５ｂ…光学素子としてのレンズ、２６…光学素子としてのカバーガラス、２９…光学素子としての直角反射鏡、３０…光学素子としての負レンズ、３１…光学素子である反射光学素子としての凹面反射鏡、３１ａ…研磨面としての反射面、３１ｂ…側面としての外周面、３４…光学素子としてのカバーガラス、３７ａ…周縁部である第１鍔部としての取付鍔部、３７ｂ…周縁部である第２鍔部としてのシール鍔部、４０…保持装置、４１…保持装置の一部を構成する枠体、４２…保持装置の一部を構成する保持部、５０ａ…座面ブロック、５１…座面、５５…座面ブロック支持機構、８０…研磨装置、８１…保持台、８３…隔離部材、８４…隔離部材の一部を構成するカバー部、８４ｃ…周縁としての突出部、８５…隔離部材の一部を構成するシール部材としてのシールリング、８６ａ…開口部としての縦壁部側開口部、８６ｂ…開口部としての上底部側開口部、８６ｃ…開口部としての突出部側開口部、９０…空間、ＡＸ…光軸としての第１光軸、ＡＸ’…光軸としての第２光軸、Ｐ１…面としての平面、Ｇｃ…重心位置。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention relates to a polishing apparatus and a polishing method for polishing an optical surface of an optical element.To the lawIt is related.
[0002]
[Prior art]
This type of optical element includes a lens, a mirror, and the like, and is often used in, for example, an exposure apparatus that transfers a pattern image on a mask to a substrate. The optical element provided in the exposure apparatus is held by the lens barrel via a holding device.
[0003]
The finishing process of the optical element used in such an exposure apparatus is performed by the following procedure, for example.
First, an optical element formed in a predetermined shape in advance is fixed to a fixed frame for a polishing apparatus, and in this state, the state of the optical surface (incident surface and outgoing surface) of the optical element is measured using, for example, an interferometer. From the result of this measurement, how much the optical surface of the optical element is polished is determined. Next, in a state where the optical element is fixed to the fixed frame, the fixed frame is placed on the polishing table of the polishing apparatus, and the optical surface of the optical element is polished.
[0004]
Thereafter, the optical element is removed from the fixed frame, and the optical element is held by the holding device. Then, the state of the polished optical surface (polished surface) of the optical element is measured with, for example, an interferometer while being held in this way. Here, when the optical surface (polished surface) coincides with a desired state as a result of measurement by the interferometer, finishing of the optical element is finished.
[0005]
On the other hand, when the optical surface does not match the desired state, the optical surface is polished by removing the optical element from the holding device and fixing it to the fixing frame again. Thereafter, the optical element is removed from the fixed frame and held by a holding device, and the state of the polished optical surface (polished surface) is measured by, for example, an interferometer. If the optical surface (polished surface) matches the desired state as a result of this measurement, finishing of the optical element is finished.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, every time the polished optical element is assembled into the exposure apparatus, the optical element must be held in the same state as when measuring the optical surface with an interferometer, that is, the optical element must be kept from being distorted. It was causing a decline in sex. In addition, when the optical element is fixed and polished in a distorted state, the optical surface (polishing surface) is distorted when the optical element is removed from the fixed frame after polishing. there were. Further, even if the optical element is fixed and polished without being distorted, the optical element is distorted when the optical element is removed from the fixed frame after polishing and held in the holding device.
[0007]
In particular, in an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor element, for example, a pattern is increasingly miniaturized with the recent high integration of semiconductor elements, and further higher resolution of a projection optical system is required. In order to meet such demands, it has become very important to accurately finish optical elements used in projection optical systems and the like.
[0008]
In such an optical element for a semiconductor exposure apparatus, when a slight distortion or the like is generated on the surface of the fixed frame of the polishing apparatus, the optical surface of the optical element is the surface state of the fixed frame (small waviness or the like). It will be polished in the state of being affected by. When the optical element thus polished is attached to a lens barrel having a surface state different from that of the fixed frame, even a slight difference in surface state may affect the surface accuracy of the optical surface. .
[0009]
  The present invention has been made paying attention to such problems existing in the prior art. An object of the present invention is to provide an optical element polishing apparatus and polishing method capable of accurately finishing an optical surface..
[0010]
[Means for Solving the Problems]
  In order to achieve the object, the invention according to claim 1 of the present application islightAcademic elementSurfaceOf which, predeterminedFace ofIn an optical element polishing apparatus for polishingThe optical element is held on the periphery of the optical element.Retainer attachedIn state,A holding stand for supporting the optical element; andSurfaceOf which, the predeterminedFace ofWhen polishing the predeterminedFace ofPolishing spaceAgainstAnd an isolation member for isolating the holding device.
[0011]
In the first aspect of the present invention, the optical surface of the optical element can be polished while the optical element is held by the holding device, and the polished optical element is held by the holding device. It can be attached to the lens barrel in a state. As a result, the holding state of the optical element does not change significantly before and after polishing, and the optical element can be attached to the lens barrel while maintaining the polished optical surface in a desired state. In this manner, after the optical surface is polished, the optical element can be attached to the lens barrel without being removed from the holding device, so that the occurrence of distortion of the optical surface can be suppressed.
[0012]
  Further, the invention according to claim 2 of the present application is the invention according to claim 1, wherein the holding device includes a seating surface block in which a seating surface engaged with a peripheral edge portion of the optical element is formed, and the seat. Face blockFor the support block,A bearing surface block support mechanism that rotatably supports at least one of a tangential direction and a radial direction of the optical element.
[0013]
In the invention according to claim 2 of the present application, in addition to the operation of the invention according to claim 1, when the optical element is held by the holding device, the seating surface block support mechanism is arranged around the tangential direction of the optical element. And at least one of around the radial direction. By this rotation, the distortion of the optical element is absorbed, and the optical element is suppressed from being held by the holding device in a distorted state. Further, when the optical element is supported on the fixed frame of the polishing apparatus or when the polished optical element is supported on the lens barrel, the surface state of the receiving portion of the fixed frame and the lens barrel is the surface accuracy of the optical surface of the optical element. It is possible to reduce the influence on the. Therefore, highly accurate polishing of the polishing surface (optical surface) in the optical element is performed in a short time.
[0014]
  The invention according to claim 3 of the present application is, ContractIn the invention according to claim 2,The holding device further includes a frame body to which the support block is attached.It is characterized by this.
[0016]
  The invention according to claim 4 of the present application isAny one of Claims 1-3.In the invention described inThe optical element includes an incident surface that receives incident light or a reflective surface that reflects incident light, and a side surface that intersects the incident surface or the reflective surface, and the separating member is the predetermined surface. A cover part formed with an opening for exposing the incident surface or the reflecting surface, and a periphery of the opening and a side surface of the optical element. And a sealing member that suppresses the arrival of the abrasive when polishing the reflective surface.It is characterized by this.
[0017]
  In the invention according to claim 4 of the present application, in addition to the action of the invention according to claim 3,When an abrasive is used when polishing the polishing surface of the optical element, it is avoided that the abrasive is applied to the holding device.
[0018]
  The invention according to claim 5 of the present application is the above claim.4In the invention described inThe seal member is detachably provided to the cover part.It is characterized by this.
[0019]
  In the invention according to claim 5 of the present application,4In addition to the action of the invention described inWhen the seal member is deteriorated, only the seal member can be replaced. For this reason, it becomes possible to reduce replacement cost. Further, the seal member can be appropriately selected and replaced in accordance with the shape and outer diameter of various optical elements. For this reason, it becomes possible to improve the versatility of the polishing apparatus.
[0020]
  The invention according to claim 6 of the present applicationClaim 4 or claim 5In the invention described inThe seal member is formed of a tube material made of a soft material that can be deformed while being sandwiched between a peripheral edge of the opening and a side surface of the optical element.It is characterized by this.
[0021]
  In the invention according to claim 6 of the present application,Claim 4 or claim 5In addition to the action of the invention described inWhen polishing the polishing surface of the optical element, if the optical element is covered with the cover part, the tube material deforms between the peripheral edge of the opening of the cover part and the side surface of the optical element, and the liquid is interposed between them. Seal tightly. At this time, the tube material is easily deformed, and the elastic force generated by the deformation is reduced. For this reason, it is suppressed that an excessive force acts on the side surface of the optical element. As a result, distortion of the optical element is suppressed during polishing of the polishing surface of the optical element.
[0022]
  The invention according to claim 7 of the present applicationAny one of Claims 4-6.In the invention described inThe optical element has a first collar part and a second collar part at the peripheral edge part, and each of the first collar part and the second collar part protrudes in a direction away from the side surface, and the optical element The cover is provided at a different position in the optical axis direction of the element, and the peripheral edge of the opening is opposed to one of the first and second collars closest to the predetermined surface. The holding device holds the other flange of the first flange and the second flange, and the sealing member includes a peripheral edge of the opening of the cover and the other flange Provided between the buttocksIt is characterized by this.
[0023]
  In the invention according to claim 7 of the present application,Any one of Claims 4-6.In addition to the action of the invention described inOn the side surface of the optical element, since the first collar part and the second collar part are spaced apart from each other, it is possible to avoid contact between the holding device and the cover part. Accordingly, when the polishing surface of the optical element is polished, the holding device can be prevented from being deformed by the cover portion.
[0024]
  The invention according to claim 8 of the present application isIn the invention according to claim 7, the seal member is provided so as to be in pressure contact with a surface of the other flange portion opposite to the one flange portion.It is characterized by this.
[0025]
  In the invention according to claim 8 of this application,In addition to the action of the invention according to claim 7, it is possible to more reliably suppress the abrasive used for polishing the optical element from flowing down to the first flange side to which the holding device is attached. Can do.
  The invention according to claim 9 of the present application isIn the optical element polishing method for polishing a predetermined surface of an optical element, the predetermined surface of the optical element is attached to a peripheral portion of the optical element with a holding device for holding the optical element attached thereto. Polishing using the optical element polishing apparatus according to claim 8.It is characterized by this.
[0026]
  In the invention according to claim 9 of this application,The effect similar to the effect | action of the invention as described in any one of Claims 1-8 is show | played.
[0033]
  Next, technical ideas that are recognized to be useful under the inventions of the above claims will be described below together with their actions.
  (1) The holding device includes a holding portion that holds a peripheral portion of the optical element and a holding frame that holds the holding portion, and the optical element is held by the holding device at the peripheral portion. And is used in a state of being attached to the holding device, and the holding stand supports the optical element in a state of being attached to the holding frame via the holding portion. Claim44. An optical element polishing apparatus according to 1.
[0034]
  Therefore, in the invention described in (1),4In addition to the operation of the invention described in 1., the optical surface of the optical element can be polished while the optical element is held on the holding frame via the holding unit, and the polished optical element is held. It can be attached to the lens barrel while being held in the frame. Thus, the optical element can be attached to the lens barrel while suitably maintaining the polished optical surface in a desired state. For this reason, generation | occurrence | production of the distortion of an optical surface can be suppressed more effectively.
[0035]
(2) The optical element polishing apparatus according to (1), wherein the cover portion is formed to cover the holding portion and the holding frame.
Therefore, in the invention described in (2), in addition to the action of the invention described in (1) above, when an abrasive is used when polishing the polishing surface of the optical element, the abrasive is retained in the holding portion. And the holding frame can be avoided.
[0036]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
[0037]
As shown in FIG. 1, the exposure apparatus 11 is an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor element, and includes a light source 12, an illumination optical system 13, a reticle stage 14 that holds a reticle R as a mask, and a projection optical system 15. And a wafer stage 16 for holding a wafer W as a substrate.
[0038]
The light source 12 is, for example, F having a wavelength of 157 nm.2Oscillates the laser.
The illumination optical system 13 includes an optical integrator (not shown) such as a fly-eye lens and a rod lens, various lens systems such as a relay lens and a condenser lens, an aperture stop, and the like. Then, the exposure light EL emitted from the light source 12 is adjusted so as to uniformly illuminate the pattern on the reticle R by passing through the illumination optical system 13.
[0039]
In the reticle stage 14, on the exit side of the illumination optical system 13, that is, on the object plane side (incident side of the exposure light EL) of the projection optical system 15 described later, the mounting surface of the reticle R is the light of the projection optical system 15. They are arranged so as to be substantially orthogonal to the axial direction.
[0040]
The wafer stage 16 is arranged on the image plane side of the projection optical system 15 (exit side of the exposure light EL) so that the mounting surface of the wafer W intersects the optical axis direction of the projection optical system 15. Then, the pattern image on the reticle R illuminated by the exposure light EL is projected and transferred onto the wafer W on the wafer stage 16 in a state of being reduced to a predetermined reduction magnification through the projection optical system 15. It has become.
[0041]
Next, the configuration of the projection optical system 15 will be described.
As shown in FIGS. 1 and 2, the projection optical system 15 is a catadioptric optical system, and an upper barrel 21 positioned above the connecting member 20 and a horizontal barrel 22 positioned laterally. And a lower barrel 23 positioned below. The projection optical system 15 includes a plurality of optical elements, and all of the optical elements (lens components) include fluorite (CaF).2Crystal) is used.
[0042]
The upper barrel 21 is arranged on the reticle R side on the first optical axis AX as the optical axis of the projection optical system 15. The upper barrel 21 has a substantially cylindrical shape, forms a first intermediate image of the pattern of the reticle R therein, and holds a first imaging optical system 24 composed of a plurality of optical elements. The upper lens barrel 21 is formed in a state where a plurality of (four in this example) partial lens barrels 21a forming a part of the projection system lens barrel are stacked. These partial lens barrels 21a are made of, for example, a metal material such as stainless steel or titanium alloy, and hold a plurality of lenses 25a as optical elements and a cover glass 26 as an optical element in combination of one or more.
[0043]
The horizontal barrel 22 is disposed on a second optical axis AX ′ as an optical axis orthogonal to the first optical axis AX, and holds a second imaging optical system 28 for forming a second intermediate image. ing. The second imaging optical system 28 includes a right-angle reflecting mirror 29 as an optical element, a negative lens 30 as an optical element, and a concave reflecting mirror 31 as a reflecting optical element. The negative lens 30 and the concave reflecting mirror 31 are arranged in a vertical state so that the optical axis is oriented in the horizontal direction. The right-angle reflecting mirror 29 includes a first optical path bending mirror 29a and a second optical path bending mirror 29b. The horizontal lens barrel 22 is formed in a state in which a plurality of partial lens barrels 22a to 22c that respectively hold a right-angle reflecting mirror 29, a negative lens 30, and a concave reflecting mirror 31 and are part of a projection system lens barrel are connected to each other. Has been.
[0044]
A first optical path folding mirror 29 a is disposed in the vicinity of the first intermediate image formed by the first imaging optical system 24, and the exposure light EL deflected by the first optical path folding mirror 29 a passes through the negative lens 30. The light is guided to the concave reflecting mirror 31 and reflected by the concave reflecting mirror 31. The exposure light EL reflected by the concave reflecting mirror 31 passes through the negative lens 30 again to form a second intermediate image in the vicinity of the first intermediate image formation position, in the present embodiment, in the vicinity of the second optical path folding mirror 29b. To do. This second intermediate image is approximately the same size as the first intermediate image and is a secondary image of the pattern.
[0045]
That is, the second optical path bending mirror 29b is disposed in the vicinity of the second intermediate image formed by the second imaging optical system 28, and emits the exposure light EL toward the second intermediate image or the exposure light EL from the second intermediate image. Then, the light is deflected toward the refractive third imaging optical system 33. The right-angle reflecting mirror 29 is formed on a base material made of a metal material (stainless steel, etc.), low thermal expansion ceramics (silicon carbide, etc.), and the like. And the reflection surface of the second optical path folding mirror 29b is formed on the other of the two slopes. When the base material is made of silicon carbide, it is formed by performing shaping after pouring silicon carbide into the mold.
[0046]
The reflective surface of the first optical path bending mirror 29a and the reflective surface of the second optical path bending mirror 29b are metal reflective surfaces. For example, the metal reflecting surface is formed by coating a material suitable for polishing such as SiC on the slope of the base material by CVD or the like, and then mirror-polishing the slope, and a metal film (aluminum film or the like) A fluoride film is formed. Further, a fluoride film may be formed on the metal film.
[0047]
Furthermore, it is preferable that the material such as SiC is applied not only to the slope of the base material but also to the entire surface of the base material. By coating the entire surface of the base material in this manner, light-absorbing substances (oxygen, water vapor, organic matter, etc. that absorb the exposure light EL) that are volatilized from the base material can be reduced. In addition, when coating a reflective surface and another part, respectively, since the reflective surface needs mirror surface processing, it is desirable that the thickness is thicker than the other parts. Further, as the processing accuracy of the base material, it is desirable that the squareness of both reflecting surfaces is within ± 5 seconds and the surface accuracy is within 3.5 to 7λ / 10000 rms. Further, the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 may be a metal reflecting surface as in the case of the right-angle reflecting mirror 29, and it is desirable that the accuracy excluding the squareness and other processing be performed in the same manner as the right-angle reflecting mirror 29. .
[0048]
Note that both inclined surfaces of the right-angle reflecting mirror 29 are optically isolated, and the light beam from the first imaging optical system 24 does not enter the second optical path bending mirror 29b, but from the second imaging optical system 28. The light beam is prevented from entering the first optical path bending mirror 29a.
[0049]
The lower lens barrel 23 is disposed on the first optical axis AX of the projection optical system 15, that is, on the wafer W side coaxial with the upper lens barrel 21. The lower barrel 23 has a substantially cylindrical shape, and a reduced image of the pattern of the reticle R based on the light beam from the second intermediate image (the image of the second intermediate image and the final image of the pattern) therein. Is held on the wafer W. The third imaging optical system 33 is held. The third imaging optical system 33 has a plurality of optical elements. Further, the lower barrel 23 is formed in a state where a plurality (four in this example) of partial barrels 23a forming a part of the projection system barrel are stacked. These partial lens barrels 23a are made of a metal material such as stainless steel or titanium alloy, for example, and include one or a plurality of lenses 25b (four in this example) as optical elements and a cover glass 34 as an optical element. Hold in combination.
[0050]
In the present embodiment, as shown in FIG. 3, the concave reflecting mirror 31 includes a reflecting surface 31 a that reflects the exposure light EL that is incident light, and an outer periphery as a side surface that intersects a curved surface including the reflecting surface 31 a. And a surface 31b. The concave reflecting mirror 31 has a pair of flange portions 37a and 37b protruding outward from the peripheral edge portion thereof, that is, the outer peripheral surface 31b at different positions in the second optical axis AX ′ direction. The pair of flange portions 37a and 37b extend in the circumferential direction on the outer peripheral surface 31b and are formed over the entire circumference of the outer peripheral surface 31b so as to form an annular shape.
[0051]
Moreover, the attachment collar part 37a as the first collar part of the pair of collar parts 37a, 37b includes the center of gravity position Gc of the concave reflecting mirror 31 when placed in the vertical position, and the concave reflecting mirror 31 has a center of gravity Gc. It is formed so as to extend along a plane P1 substantially orthogonal to the second optical axis AX ′. Further, the seal collar portion 37b as the second collar portion of the pair of collar portions 37a and 37b is located on the reflecting surface 31a side of the concave reflecting mirror 31 with respect to the plane P1, and is a plane parallel to the plane P1. It is formed so as to extend along P2.
[0052]
In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the concave reflecting mirror 31 is fixed to the partial lens barrel 22 a of the horizontal lens barrel 22 with the peripheral edge thereof being held by the holding device 40.
[0053]
As shown in FIG. 4, the holding device 40 includes an annular frame 41 made of, for example, a metal material such as aluminum, and a concave reflecting mirror disposed at an equal angular interval with respect to the frame 41. It comprises a plurality of (three in this example) holding portions 42 that sandwich the 31 attachment rod portions 37a.
[0054]
As shown in FIG. 5, the holding portion 42 is roughly provided with a base member 43 and a clamp member 44. In the frame body 41, mounting grooves 45 to which the clamp members 44 are attached are formed at equal angular intervals on one surface 41a. Further, a housing recess 46 for housing a seating surface block 50 a forming a part of the base member 43 is formed on the inner peripheral surface of the frame body 41 at a position corresponding to the mounting groove 45.
[0055]
First, the configuration of the base member 43 will be described.
The base member 43 includes a seat surface block 50a having a seat surface 51 that is engaged with a side surface opposite to the side surface facing the seal collar portion 37b of the mounting collar portion 37a of the concave reflecting mirror 31, and the seat surface thereof. And a support block 50b formed with a seat block support mechanism 55 that supports the posture of the block 50a in an adjustable manner.
[0056]
The seating surface block 50a is arranged so that its longitudinal direction is along the tangential direction of the outer peripheral surface 31b of the concave reflecting mirror 31, and the seating surface 51 is formed at both ends of the seating surface block 50a in the longitudinal direction. ing. That is, the seat surface 51 is formed so as to protrude from the surface of the seat surface block 50a. The seat surface 51 has a planar shape having a predetermined area, and its peripheral edge is formed in a curved surface shape having a predetermined curvature.
[0057]
Further, a gold layer is provided on the surface of the seating surface 51 by plating, vapor deposition, or the like, and the friction coefficient of the surface of the seating surface 51 with respect to the mounting flange portion 37a of the concave reflecting mirror 31 is increased. In order to increase the coefficient of friction between the seat surface 51 and the mounting flange portion 37a of the concave reflecting mirror 31, a metal film or the like may be formed on the surface of the mounting flange portion 37a. In addition, in order to improve the coefficient of friction between the seat surface 51 and the attachment flange portion 37a, the contact area between the seat surface 51 and the attachment flange portion 37a may be increased along the longitudinal direction of the seat surface block 50a.
[0058]
Here, the seat block support mechanism 55 will be described.
As shown in FIGS. 5 and 6, a plurality of holes penetrating in the radial direction of the concave reflecting mirror 31 (X-axis direction in FIG. 5) between the seating surface block 50 a and the support block 50 b and in the support block 50 b. A slit 56 is formed. When forming the plurality of slits 56, an unprocessed portion is left between the slits 56 so that all the slits 56 are not continuous with each other. And the engraving part 57 is formed by the process which engraves from the + direction of the X-axis direction in FIG. 5, and the process which engraves from the-direction of the X-axis direction with respect to the part which does not perform this process. . A plurality of neck portions 58a to 58d are formed between the seating surface block 50a and the support block 50b and in the support block 50b by the processing from the + direction and the − direction in the X-axis direction.
[0059]
Further, the support block 50 b is roughly divided into three parts by a plurality of slits 56. That is, the support block 50b is divided into a base portion 59a that is fixed to the frame body 41 with bolts (not shown) or the like, a first block 59b, and a second block 59c. Furthermore, a first neck 58a that connects the base 59a and the first block 59b, a second neck 58b that connects the base 59a and the second block 59c, a first block 59b and a second block 59c, A third neck portion 58c for connecting the second block 59c and a fourth neck portion 58d for connecting the second block 59c and the seating surface block 50a are formed. These neck portions 58a to 58d have a square cross section and have a square cross-sectional area that is significantly smaller than the cross-sectional areas of the seat block 50a, the base portion 59a, the first block 59b, and the second block 59c.
[0060]
The first block 59b is fixed to the base portion 59a and the second block 59c by the first neck portion 58a and the third neck portion 58c. The first block 59b is held by the first neck portion 58a and the third neck portion 58c so as to be rotatable around the Y-axis direction in FIG. 6 (the tangential direction of the outer peripheral surface 31b of the concave reflecting mirror 31). Axial displacement is constrained. Therefore, the first block 59b, the first neck portion 58a, and the third neck portion 58c form a tangential restriction link 60 that restricts the displacement of the concave reflecting mirror 31 in the tangential direction.
[0061]
The second block 59c is fixed to the seating block 50a and the base 59a by the second neck portion 58b and the fourth neck portion 58d. The second block 59c is held rotatably by the second neck portion 58b and the fourth neck portion 58d around the Z-axis direction in FIG. 6 (direction parallel to the optical axis of the concave reflecting mirror 31). Axial displacement is constrained. Accordingly, the second block 59c, the second neck portion 58b, and the fourth neck portion 58d form an optical axis direction restraint link 61 that restrains the displacement of the concave reflecting mirror 31 in the direction parallel to the optical axis.
[0062]
The constraint direction of the tangential direction constraint link 60 and the constraint direction of the optical axis direction constraint link 61 are substantially orthogonal to each other. In other words, the rotation axis of the tangential direction restriction link 60 and the rotation axis of the optical axis direction restriction link 61 are substantially orthogonal to each other.
[0063]
The seat block 50a is connected to the support block 50b by the fourth neck 58d. That is, the seat block 50a is supported by the pair of link mechanisms including the tangential direction restraint link 60 and the optical axis direction restraint link 61 with respect to the base portion 59a.
[0064]
Moreover, as shown in FIG. 6, among these neck portions 58a to 58d, the second and fourth neck portions 58b and 58d are arranged on a line passing through an intermediate position between the both seating surfaces 51 of the seating surface block 50a. . The line is orthogonal to the line connecting the pair of seating surfaces 51 and is parallel to the Z-axis in FIG. On the other hand, the first and third neck portions 58 a and 58 c are arranged on a line parallel to a line connecting the pair of seating surfaces 51. Further, the third neck portion 58c is disposed in the vicinity of the fourth neck portion 58d.
[0065]
In the seat block support mechanism 55 configured as described above, the seat block 50a is moved in the X-axis direction in FIG. 5 with respect to the base portion 59a by the tangential restraint link 60 and the optical axis restraint link 61. It is supported so as to be able to rotate around the Y-axis direction and the Z-axis direction and to suppress displacement in the Y-axis direction and the Z-axis direction. Further, the seat block 50a is supported by the fourth neck 58d so as to be displaceable in the X-axis direction in FIG. That is, the seat block support mechanism 55 includes a tangential direction restraint link 60, an optical axis direction restraint link 61, and a fourth neck portion 58d that can be displaced in the X-axis direction.
[0066]
As shown in FIG. 5, the base member 43 has the seat block 50 a on the seat surface 51 in the Z-axis direction in FIG. 5 (the thickness of the mounting flange 37 a of the concave reflecting mirror 31. The seat surface side mounting portion 52 is formed to extend in the direction). In other words, the seating surface side mounting portion 52 is provided at a position spaced a predetermined distance from the seating surface 51 in the Z-axis direction.
[0067]
Next, the configuration of the clamp member 44 will be described.
As shown in FIG. 5, the clamp member 44 is disposed above the seat block 50 a and includes a clamp main body 65 and a pad member 70.
[0068]
The clamp body 65 is equipped with a pressing surface block 66 and a pressing surface block support mechanism 67 that is formed integrally with the pressing surface block 66 and supports the pressing surface block 66. At both ends of the lower surface of the pressing surface block 66, pressing surfaces 68 are formed so as to face the seating surface 51 of the seating surface block 50a. The pressing surface 68 is formed in a triangular cross section having a ridge line substantially along the tangential direction of the outer peripheral surface 31 b of the concave reflecting mirror 31. The ridgelines of these pressing surfaces 68 are located above the fourth neck 58d where the midpoint of the straight line connecting the two ridgelines connects the seat block 50a and the optical axis direction restraint link 61 (see FIG. 6). It is formed to be located.
[0069]
The pressing surface block support mechanism 67 includes an arm portion 67a and a pressing surface side mounting portion 67b, and the pressing surface side mounting portion 67b and the pressing surface block 66 are spaced apart from each other with a predetermined interval. . Then, by fastening the holding surface side mounting portion 67b and the seating surface side mounting portion 52 through the pad member 70 with the bolt 47, the clamp member 44 is attached to the seating surface block 50a. To be fixed. Further, a pair of the arm portions 67a are provided so as to connect both ends of the pressing surface block 66 and the pressing surface side mounting portion 67b. Each arm portion 67a has a U-shape in a plane, and has a length that can be elastically deformed in a state where the pressing surface side mounting portion 67b and the seating surface side mounting portion 52 are joined via the pad member 70. Is formed. Further, the arm portion 67a is accommodated in the mounting groove 45 of the frame body 41 in a state of being separated from the inner peripheral surface in a state of being mounted on the frame body 41.
[0070]
The pad member 70 includes a sandwiching portion 71 sandwiched between the mounting portions 52 and 67b, and an action portion 72 interposed between the pressing surface 68 and the mounting flange portion 37a of the concave reflecting mirror 31. The sandwiching portion 71 and the action portion 72 are connected to each other and a thin plate-like thin plate portion 73 that can be elastically deformed. On the lower surface of the action portion 72, an action surface 74 that engages with the mounting flange portion 37 a of the concave reflecting mirror 31 is formed in a flat shape so as to correspond to the seat surface 51. The peripheral edge of the working surface 74 is formed in a curved surface having a predetermined curvature in order to avoid damage due to corner contact with respect to the mounting flange portion 37a of the concave reflecting mirror 31. Further, a gold layer is provided on the surface of the working surface 74 by plating, vapor deposition, or the like, similar to the seating surface 51, and the surface of the working surface 74 is subjected to friction against the mounting flange portion 37a of the concave reflecting mirror 31. The coefficient is increased.
[0071]
In the clamp member 44 configured as described above, the arm portion 67a is elastically deformed by tightening the bolt 47, and the pressing surface 68 of the pressing surface block 66 is pressed against the seat surface block 50a. Is granted. This pressing force acts on the attachment flange portion 37 a of the concave reflecting mirror 31 via the action surface 74 of the pad member 70. As a result, the mounting flange portion 37 a of the concave reflecting mirror 31 is sandwiched between the seat surface 51 of the seat surface block 50 a and the pressing surface 68 of the pressing surface block 66.
[0072]
The concave reflecting mirror 31 is fixed to the frame body 41 through the seat block support mechanism 55 having such a configuration.
Here, the concave reflecting mirror 31 and the frame 41 are formed of different materials, and there may be a difference in linear expansion coefficient between the concave reflecting mirror 31 and the frame 41. Thereby, when the concave reflecting mirror 31 generates heat due to the irradiation of the exposure light EL from the light source 12, the length of the concave reflecting mirror 31 between the concave reflecting mirror 31 and the frame body 41 is extended and contracted in the radial direction. Differences can occur.
[0073]
When such a difference in expansion / contraction length occurs, the seat surface that holds the concave reflecting mirror 31 by the cooperative action of the restraining links 60 and 61 and the neck portions 58a to 58d of the seat surface block support mechanism 55. The block 50 a and the pressing surface block 66 are moved relative to the frame body 41 in the radial direction of the concave reflecting mirror 31. Thereby, the difference in the expansion / contraction length is absorbed, and there is no possibility that a large expansion / contraction load is directly applied to the concave reflecting mirror 31.
[0074]
Further, when the frame body 41 is fixed to the partial barrel 22a, a slight distortion may occur in the frame body 41 depending on the surface state of the receiving portion of the partial barrel 22a. Even if the frame body 41 is distorted as described above, the concave reflecting mirror 31 is moved relative to the frame body 41 by the cooperative action of the restraint links 60 and 61 and the neck portions 58a to 58d of the seat block support mechanisms 55. Therefore, the influence of the distortion on the concave reflecting mirror 31 is suppressed.
[0075]
Further, in this embodiment, before the concave reflecting mirror 31 is assembled to the projection optical system 15 of the exposure apparatus 11, a finishing process is performed in which the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 is polished by the polishing apparatus.
[0076]
As shown in FIG. 7, the polishing apparatus 80 includes a holding table 81 that supports the concave reflecting mirror 31 and a polishing unit that polishes the reflecting surface 31 a (polishing surface) of the concave reflecting mirror 31 held by the holding table 81. 82. Here, the polishing portion 82 includes a contact portion that contacts the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31, a drive portion that rotates and moves the contact portion, and is generally used. is there.
[0077]
In the present embodiment, the holding stand 81 has a bottomed cylindrical shape and is configured to hold the concave reflecting mirror 31 fixed to the frame body 41 via the holding portion 42. In the holding table 81, a stepped portion 81b that engages with the frame body 41 is formed on the upper end surface of the peripheral wall 81a over the entire circumference. Note that the holding table 81 prevents the concave reflecting mirror 31 and the holding unit 42 from contacting the inner bottom surface 81c and the inner peripheral surface 81d of the holding table 81 when the frame body 41 is engaged with the stepped portion 81b. Is formed.
[0078]
Further, in the present embodiment, the polishing apparatus 80 is configured such that the frame body 41 and the holding portion 42 are moved to the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31 in a state where the concave reflecting mirror 31 is held by the holding base 81 via the holding device 40. Is provided with a separating member 83 for separating from the space 90 where the reflecting surface 31a is exposed.
[0079]
The isolation member 83 includes a cover portion 84 placed on the holding base 81 and a seal ring 85 as a seal member provided on the cover portion 84.
The cover portion 84 has an annular vertical wall portion 84 a that is placed on the peripheral wall 81 a of the holding table 81. In the vertical wall portion 84a, a vertical wall portion side opening portion 86a is formed as an opening portion having an inner diameter larger than the outer diameter of the frame body 41. And the said frame 41 is inserted in this vertical wall part side opening part 86a.
[0080]
Moreover, the cover part 84 has the disk-shaped upper bottom part 84b which protrudes inward from the upper end part in the internal peripheral surface of the vertical wall part 84a. An upper bottom side opening 86b is formed in the upper bottom 84b as an opening having an inner diameter larger than the outer diameter of the seal flange 37b of the concave reflecting mirror 31. Then, the seal flange 37b of the concave reflecting mirror 31 is inserted into the upper bottom side opening 86b.
[0081]
Furthermore, the cover part 84 has a disk-shaped protruding part 84c that protrudes inward from the upper end part of the inner peripheral surface at the tip of the upper bottom part 84b. The protruding portion 84c is formed with a protruding portion side opening 86c as an opening having an inner diameter larger than the outer diameter of the portion on the reflecting surface 31a side of the outer peripheral surface 31b of the concave reflecting mirror 31 than the seal flange portion 37b. ing. And the part by the side of the said reflective surface 31a rather than the seal collar part 37b in the concave surface reflecting mirror 31 is inserted in this protrusion part side opening part 86c.
[0082]
Further, when the concave reflecting mirror 31 is held on the holding stand 81 via the holding device 40 and the cover portion 84 is placed, the lower surface of the protruding portion 84c and the seal flange portion 37b of the concave reflecting mirror 31 are provided. A predetermined gap is formed between the reflecting surface 31a and the side surface.
[0083]
The seal ring 85 is provided along the lower surface of the protruding portion 84c. The seal ring 85 is sandwiched between the projecting portion 84c and the seal flange portion 37b of the concave reflecting mirror 31 when the cover portion 84 is placed on the holding table 81 holding the concave reflecting mirror 31. It is formed from the tube material which consists of a soft material which can deform | transform.
[0084]
The seal ring 85, when polishing the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31, is a surface of the sealing collar portion 37b opposite to the mounting collar portion 37a, that is, the surface of the concave reflecting mirror 31 in the sealing collar portion 37b. It is provided so as to be in pressure contact with the surface on the reflective surface 31a side. When the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 is polished by the seal ring 85, the liquid abrasive is prevented from flowing into the space inside the holding table 81 and the cover portion 84, and the polishing is performed. The agent is prevented from reaching the holding device 40.
[0085]
The seal ring 85 is detachably attached to the cover portion 84.
When the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 is polished (finished) using the polishing apparatus 80 having such a configuration, for example, the following procedure is performed.
[0086]
First, the concave reflecting mirror 31 formed in a predetermined shape is fixed to the frame body 41 via the holding portion 42. Next, in a state of being fixed to the frame body 41, the state of the reflection surface 31a of the concave reflecting mirror 31 is measured by, for example, an interferometer. From the result of this measurement, how much the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 is polished is determined.
[0087]
Thereafter, the frame body 41 in a state where the concave reflecting mirror 31 is fixed is placed on the holding table 81 of the polishing apparatus 80. At this time, the frame body 41 is engaged with the step portion 81 b of the holding table 81. Then, the cover portion 84 is placed on the holding table 81 so that the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 is exposed to the space 90 through the openings 86a to 86c. At this time, the frame body 41 and the holding portion 42 are covered with the cover portion 84, and the seal ring 85 is pressed against both opposing surfaces of the protruding portion 84 c of the cover portion 84 and the seal flange portion 37 b of the concave reflecting mirror 31. Thus, the internal space between the holding table 81 and the cover portion 84 is isolated from the space 90.
[0088]
With the concave reflecting mirror 31 held on the holding base 81 in this way, while supplying a liquid abrasive to the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31, the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 is changed based on the measurement result. Polishing is performed by the polishing unit 82.
[0089]
After the polishing is completed, the concave reflecting mirror 31 is fixed to the frame body 41, removed from the holding table 81, and the state of the polished reflecting surface 31a is measured again by using, for example, an interferometer. Here, when the reflection surface 31a after polishing coincides with a desired state as a result of the measurement by the interferometer again, the finishing process of the concave reflecting mirror 31 is finished. The concave reflecting mirror 31 after finishing is fixed to a predetermined position of the partial barrel 22a while being fixed to the frame body 41 via the holding portion 42, and then the concave reflecting is performed. A partial lens barrel 22 a to which a mirror 31 is fixed is assembled to the horizontal lens barrel 22.
[0090]
On the other hand, when the polished reflecting surface 31a does not match the desired state, the concave reflecting mirror 31 is mounted again on the holding base 81 while being fixed to the frame body 41, and the cover portion 84 is held. Place on the table 81. Then, the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 is polished by the polishing apparatus 80 based on the result of the measurement again. After this re-polishing, the state of the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 is measured again with an interferometer, for example, and if the reflecting surface 31a matches the desired state as a result of the measurement, the concave reflecting mirror 31 is polished ( Finish finishing).
[0091]
Therefore, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
(A) In the present embodiment, the polishing apparatus 80 includes a holding table 81 that supports the frame body 41 in a state where the concave reflecting mirror 31 is held by the frame body 41 via the holding unit 42, and the holding table 81. And an isolation member 83 that isolates the frame body 41 and the holding portion 42 from the space 90. Then, the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31 is polished by the polishing apparatus 80 in a state where the concave reflecting mirror 31 is held by the frame body 41 via the holding portion 42.
[0092]
Thus, the polishing of the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 can be performed in a state where the concave reflecting mirror 31 is held by the frame body 41 via the holding portion 42, and the polished concave reflecting mirror 31 is attached to the frame. It can be attached to the partial barrel 22a (horizontal barrel 22) while being held by the body 41. Thus, since the concave reflecting mirror 31 is not removed from the holding device 40 after polishing the reflecting surface 31a, the holding state of the concave reflecting mirror 31 by the holding device 40 does not change greatly. As a result, after polishing of the reflecting surface 31a, the concave reflecting mirror 31 can be attached to the partial barrel 22a while suppressing the occurrence of distortion of the reflecting surface 31a and maintaining the desired state. Can be maintained high in the surface accuracy of the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31.
[0093]
(B) In the present embodiment, the holding portion 42 includes a seating surface block 50 a on which a seating surface 51 that engages with the mounting flange portion 37 a of the concave reflecting mirror 31 is formed, and the seating surface block 50 a is connected to the concave reflecting mirror 31. And a seating surface block support mechanism 55 that rotatably supports the tangential direction and the radial direction of the outer peripheral surface 31b.
[0094]
Thereby, in a state where the concave reflecting mirror 31 is held by the holding device 40, the seat block support mechanism 55 can rotate around the tangential direction and the radial direction of the outer peripheral surface 31 b of the concave reflecting mirror 31. This enables rotation along the surface of the mounting flange portion 37a of the seating surface block 50a, and the influence of surface conditions such as minute undulations on the surface of the stepped portion 81b of the holding table 81 with respect to the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31. Is cut off. Moreover, the influence of the surface state of the frame 41 and the surface state of the partial barrel 22a on the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 can be blocked. For this reason, highly accurate polishing of the reflecting surface 31a in the concave reflecting mirror 31 can be performed in a short time.
[0095]
(C) In this embodiment, the separating member 83 is formed with openings 86 a to 86 c that expose the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31 to the space 90 and is placed on the holding table 81. A cover portion 84 that covers the frame body 41 and the holding portion 42 is provided. Further, the separating member 83 is provided between the peripheral edge of the protruding portion 84 c of the cover portion 84 and the side surface of the seal collar portion 37 b of the concave reflecting mirror 31, and the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31 with respect to the holding device 40. It has a seal ring 85 that suppresses the arrival of the abrasive during polishing. This makes it possible to polish the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31, but to avoid the liquid abrasive from being applied to the frame body 41 and the holding part 42 when the reflecting surface 31 a is polished.
[0096]
(D) In the present embodiment, the seal ring 85 is detachably provided to the cover portion 84. Thereby, for example, when the seal ring 85 is deteriorated, only the seal ring 85 can be replaced. For this reason, replacement costs can be reduced. Further, the seal ring 85 can be selected and replaced as appropriate according to the shape and outer diameter of various concave reflecting mirrors 31. For this reason, the versatility of the polishing apparatus 80 can be improved.
[0097]
(E) In the present embodiment, the seal ring 85 is formed from a tube material made of a soft material that can be deformed while being sandwiched between the peripheral edge of the protruding portion 84 c of the cover portion 84 and the side surface of the concave reflecting mirror 31. ing. As a result, when the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31 is polished, the seal ring 85 protrudes from the cover portion 84 when the sealing collar portion 37 b and the holding device 40 of the concave reflecting mirror 31 are covered with the cover portion 84. While deforming between the peripheral edge of the portion 84c and the seal flange portion 37b of the concave reflecting mirror 31, the space between them is sealed in a liquid-tight manner. At this time, the seal ring 85 is easily deformed, and the elastic force generated by the deformation is small. For this reason, it is possible to suppress an excessive force due to the elastic force of the seal ring 85 from acting on the seal flange portion 37 b of the concave reflecting mirror 31. As a result, distortion of the concave reflecting mirror 31 can be suppressed during polishing of the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31.
[0098]
(F) In the present embodiment, the concave reflecting mirror 31 is provided with a pair of flange portions 37a and 37b that protrude outward from the outer peripheral surface 31b at different positions in the optical axis direction and extend in the circumferential direction. . In addition, the holding device 40 is provided so as to hold the attachment flange portion 37 a of the pair of flange portions 37 a and 37 b of the concave reflecting mirror 31. Moreover, the cover part 84 is provided so that the protrusion part 84c may oppose the side surface by the side of the reflective surface 31a in the seal collar part 37b of the concave reflecting mirror 31. FIG. Further, the seal ring 85 is provided so as to be positioned between the protruding portion 84 c of the cover portion 84 and the seal flange portion 37 b of the concave reflecting mirror 31.
[0099]
As described above, by providing the pair of flange portions 37 a and 37 b on the outer peripheral surface 31 b of the concave reflecting mirror 31, the attachment flange portion 37 a held by the holding device 40 and the isolation member 83 of the polishing device 80 are brought into contact with each other. It is possible to share the function with the seal collar portion 37b. Thereby, the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31 can be polished by the polishing device 80 in a state where the concave reflecting mirror 31 is held by the holding device 40. In addition, the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 can be polished while the concave reflecting mirror 31 is held by the holding device 40 and the polishing agent is prevented from being applied to the holding device 40.
[0100]
Further, since the mounting flange portion 37 a and the seal flange portion 37 b are located at positions separated from each other on the outer peripheral surface 31 b of the concave reflecting mirror 31, the concave reflecting mirror 31 is in the internal space between the holding base 81 and the cover portion 84. Sometimes, the contact between the holding device 40 and the cover portion 84 can be avoided. For this reason, when the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31 is polished, the holding device 40 can be prevented from being deformed due to contact with the cover portion 84.
[0101]
(G) In this embodiment, the seal ring 85 is provided so as to be in pressure contact with the side surface of the seal flange portion 37b of the concave reflecting mirror 31 on the reflecting surface 31a side. Thereby, it can suppress more reliably that the abrasive | polishing agent used when grind | polishing the reflective surface 31a of the concave reflective mirror 31 flows down to the attachment collar part 37a side to which the holding | maintenance apparatus 40 is attached.
[0102]
(H) In the present embodiment, the seal flange portion 37b located on the reflective surface 31a side on the outer peripheral surface 31b of the concave reflecting mirror 31 is formed in an annular shape over the entire circumference of the outer peripheral surface 31b. As a result, when the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31 is polished, the entire circumference of the seal flange portion 37 b is pressed by the seal ring 85 of the isolation member 83. For this reason, it can suppress that a clearance gap is formed between the isolation member 83 and the seal collar part 37b, and can improve the sealing performance between these isolation members 83 and the seal collar part 37b.
[0103]
(L) In the present embodiment, the concave reflecting surface in which the plane P1 extending in the direction intersecting the optical axis including the holding position by the holding device 40 is arranged in a vertically placed state on the mounting flange portion 37a of the concave reflecting mirror 31. The mirror 31 is provided so as to pass through the gravity center position Gc.
[0104]
Thereby, the concave reflecting mirror 31 arranged in the vertically placed state can be held by the partial barrel 22a in a stable state while suppressing the generation of moment. For this reason, deformation of the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 due to the generation of the moment can be suppressed. As a result, the possibility that the optical performance of the concave reflecting mirror 31 is deteriorated can be suppressed, and the optical performance can be kept good.
[0105]
(N) In this embodiment, the reflecting surface 31a of the concave reflecting mirror 31 that reflects the exposure light EL is polished by the polishing apparatus 80.
In general, the reflected light reflected by the concave reflecting mirror is easily affected by the state of the reflecting surface of the concave reflecting mirror. That is, if the reflecting surface of the concave reflecting mirror is slightly distorted, it becomes difficult to obtain desired reflected light. In this embodiment in which the concave reflecting mirror 31 in which the state of the reflecting surface 31a greatly affects the reflected light in this way is polished by the polishing apparatus 80, a particularly remarkable effect can be obtained.
[0106]
(Modification)
The embodiment of the present invention may be modified as follows.
-In the said embodiment, the attachment collar part 37a hold | maintained by the holding | maintenance part 42 of the pair of collar parts 37a and 37b of the concave reflecting mirror 31 is cyclic | annular over the perimeter of the outer peripheral surface 31b of the concave reflecting mirror 31. It is not limited to the structure provided. It is good also as a structure which makes this attachment collar part 37a protrude from the outer peripheral surface 31b only in the part hold | maintained by the holding part 42. FIG.
[0107]
-In the said embodiment, you may abbreviate | omit the seal collar part 37b of the concave surface reflecting mirror 31. FIG.
In the embodiment, the polishing amount of the reflecting surface 31a is measured with the concave reflecting mirror 31 mounted on the projection optical system 15, and then the concave reflecting mirror 31 is removed from the projection optical system 15 together with the holding device 40 and held. You may make it set on the base 81 and grind | polish the reflective surface 31a.
[0108]
In the embodiment, the reflecting surface 31 a of the concave reflecting mirror 31 may be polished by the polishing device 80 without fixing the concave reflecting mirror 31 to the frame body 41. That is, the reflecting surface 31 a may be polished while the holding portion 42 is held by the holding stand 81 in a state where the mounting flange portion 37 a of the concave reflecting mirror 31 is held by the holding portion 42. In this case, for example, the stepped portion 81b of the holding base 81 is formed to engage with the support block 50b of the holding portion.
[0109]
In the embodiment, the seat block support mechanism 55 is configured to support the seat block 50a so as to be rotatable only around one of the tangential direction and the radial direction of the outer peripheral surface 31b of the concave reflecting mirror 31. There may be.
[0110]
In the embodiment, the pressing surface block 66 is configured to press the attachment flange portion 37 a of the concave reflecting mirror 31 via the pad member 70. On the other hand, the pad member 70 may be omitted, and the pressing surface block 66 may directly press the attachment flange portion 37a. In this case, it is desirable that the pressing surface 68 of the pressing surface block 66 be formed in a planar shape like the seat surface 51.
[0111]
In the above embodiment, two seating surfaces 51 are provided at both ends of the facing surface of the seating block 50a facing the concave reflecting mirror 31, but the seating surface may be formed on almost the entire facing surface. Two or more seating surfaces may be formed. Similarly, the pressing surface 68 of the pressing surface block 66 may be formed on substantially the entire opposing surface, or three or more.
[0112]
In the embodiment, the arm portion 67 a extended in the clamp main body 65 urges the pressing surface block 66. On the other hand, instead of the arm portion 67a, for example, a plate-like plate spring, a coil spring or the like may be employed to urge the holding surface block 66.
[0113]
-In the said embodiment, the seal ring 85 is not limited to what consists of tube materials. The seal ring 85 may be made of, for example, an annular solid body. Even in this case, the seal ring 85 can be formed of a soft material that can be deformed while being sandwiched between the protruding portion 84 c of the cover portion 84 and the seal flange portion 37 b of the concave reflecting mirror 31. desirable.
[0114]
In the embodiment, the seal ring 85 may be provided so as not to be attached to and detached from the cover portion 84 by, for example, adhesion.
In the above-described embodiment, the concave reflecting mirror 31 is not limited to the vertical type, and may be a horizontal type. In this case, the attachment flange portion 37a held by the holding device 40 may not be provided on the outer peripheral surface 31b of the concave reflecting mirror 31 so as to be along the plane P1 including the gravity center position Gc.
[0115]
In the above-described embodiment, various optical elements provided in the exposure apparatus 11 such as the optical elements other than the concave reflecting mirror 31 such as the lenses 25a and 25b, the cover glass 26, the right-angle reflecting mirror 29, and the half mirror are polished by the polishing apparatus 80. You may make it do. In this case, these optical elements are polished in a state of being held by the holding device, or being held by the holding device and attached to the partial barrel (lens barrel).
[0116]
In addition, in the case of an optical element in which both the entrance surface and the exit surface are polished, such as the lenses 25a and 25b, the cover glass 26, the right-angle reflecting mirror 29, and the half mirror, the collar portion is used as the outer peripheral surface of the optical element. Three or more may be provided in each. In this case, for example, the hook portion located in the center in the optical axis direction is held by the holding device, and the hook portion closest to the incident surface and the hook portion closest to the exit surface are covered by the cover portion 84. The seal ring 85 can be used for pressure contact.
[0117]
As the light source of the exposure apparatus, for example, g-line (436 nm), i-line (365 nm), KrF excimer laser (248 nm), ArF excimer laser (193 nm), Kr2Laser (146 nm), Ar2A laser (126 nm) or the like may be used. In addition, a single wavelength laser beam in the infrared region or visible region oscillated from a DFB semiconductor laser or fiber laser is amplified by, for example, a fiber amplifier doped with erbium (or both erbium and ytterbium), and a nonlinear optical crystal is obtained. It is also possible to use harmonics that have been converted into ultraviolet light.
[0118]
In addition, as an exposure apparatus, a contact exposure apparatus that exposes the mask pattern by bringing the mask and the substrate into close contact without using a projection optical system, and a proximity exposure that exposes the mask pattern by bringing the mask and the substrate close to each other. It can also be applied to the optical system of the apparatus. Further, the projection optical system is not limited to the catadioptric type, but may be a total refraction type.
[0119]
Furthermore, the exposure apparatus of the present invention is not limited to a reduction exposure type exposure apparatus, and may be, for example, an equal magnification exposure type or an enlargement exposure type exposure apparatus.
Further, in order to manufacture reticles or masks used in not only microdevices such as semiconductor elements but also light exposure apparatuses, EUV exposure apparatuses, X-ray exposure apparatuses, electron beam exposure apparatuses, etc., from mother reticles to glass substrates, The present invention can also be applied to an optical element used in an exposure apparatus that transfers a circuit pattern to a silicon wafer or the like. Here, in an exposure apparatus using DUV (deep ultraviolet) or VUV (vacuum ultraviolet) light, a transmission type reticle is generally used. As a reticle substrate, quartz glass, quartz glass doped with fluorine, fluorite, fluoride, and the like are used. Magnesium or quartz is used. Further, in proximity type X-ray exposure apparatuses and electron beam exposure apparatuses, a transmission type mask (stencil mask, member mask) is used, and a silicon wafer or the like is used as a mask substrate.
[0120]
In addition to the exposure apparatus used in the manufacture of semiconductor elements, the present invention also applies to an optical element used in an exposure apparatus used for manufacturing a display including a liquid crystal display element (LCD) to transfer a device pattern onto a glass plate. The invention can be applied. In addition, the present invention is also applied to an optical element used in an exposure apparatus used for manufacturing a thin film magnetic head or the like and transferring a device pattern onto a ceramic wafer or the like, or an exposure apparatus used in manufacturing an image pickup device such as a CCD. Can be applied.
[0121]
Furthermore, the present invention can also be applied to an optical element used in a scanning stepper that transfers a mask pattern to a substrate while the mask and the substrate are relatively moved, and sequentially moves the substrate stepwise. In addition, the present invention can also be applied to an optical element used in a step-and-repeat stepper that transfers the mask pattern to the substrate while the mask and the substrate are stationary and sequentially moves the substrate stepwise. .
[0122]
In addition, the present invention can be applied to optical elements in other optical machines, for example, optical systems such as a microscope, a telescope, and an interferometer.
[0123]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the first aspect of the present invention, the occurrence of distortion of the optical surface of the optical element can be suppressed, and the optical surface can be finished with high accuracy.
[0124]
According to the invention described in claim 2 of the present application, in addition to the effect of the invention described in claim 1, the surface state of the receiving portion that receives the optical element is the surface accuracy of the optical surface (polishing surface) of the optical element. Can be reduced. In addition, it is possible to polish the polishing surface of the optical element with high accuracy in a short time.
[0125]
  In addition, the claims of the present application4According to the invention described in claim 1, the claim 1To any one of claims 3 to 4.In addition to the effects of the invention described in (1), it is possible to avoid the abrasive from being applied to the holding device during polishing of the polishing surface of the optical element.
[0126]
  In addition, the claims of the present application5According to the invention described in claim 1, the claim4In addition to the effects of the invention described in (1), the replacement cost when the seal member is replaced can be reduced. Moreover, the versatility of the polishing apparatus can be improved.
[0127]
  In addition, the claims of the present application6According to the invention described in claim 1, the claim4Or claims5In addition to the effects of the invention described in (2), it is possible to suppress an excessive force from acting on the side surface of the optical element, and to suppress distortion of the optical element during polishing of the polishing surface of the optical element. be able to.
[0128]
  In addition, the claims of the present application7According to the invention described in claim 1, the claim4~ Claim6In addition to the effect of the invention described in any one of the above, when the optical element is polished, it is possible to avoid contact between the holding device and the cover portion, and the holding device is deformed by contact with the cover portion. This can be suppressed.
[0129]
  In addition, the claims of the present application8According to the invention described in claim 1, the claim7In addition to the effects of the invention described in (2), it is possible to more reliably suppress the abrasive used when polishing the optical element from flowing down to the first flange portion side.
[0130]
  In addition, the claims of the present application9In the invention described in claim 1, claims 1 to8The effect similar to the effect of the invention described in any one of the above can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing an outline of an exposure apparatus provided with an optical element of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view showing a projection optical system.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a concave reflecting mirror.
4 is a cross-sectional view taken along line 4-4 of FIG.
FIG. 5 is a partially broken exploded perspective view showing a holding device.
FIG. 6 is an enlarged front view showing a base member.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a holding stand and a separating member of the polishing apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Upper barrel, 22 ... Horizontal barrel, 22a ... Partial barrel which comprises a part of barrel, 23 ... Lower barrel, 25a, 25b ... Lens as optical element, 26 ... Cover glass as optical element , 29 ... right angle mirror as an optical element, 30 ... negative lens as an optical element, 31 ... concave reflecting mirror as a reflective optical element as an optical element, 31a ... reflective surface as a polished surface, 31b ... outer periphery as a side surface 34, a cover glass as an optical element, 37a, a mounting collar as a first collar as a peripheral part, 37b ... a seal collar as a second collar as a peripheral part, 40 ... a holding device, 41 ... A frame constituting a part of the holding device, 42... A holding part constituting a part of the holding device, 50 a... A seat block, 51. Holding stand 83 ... Isolation member 8 ... a cover part constituting a part of the separating member, 84c ... a protruding part as a peripheral edge, 85 ... a seal ring as a sealing member constituting a part of the separating member, 86a ... an opening part on the vertical wall part side as an opening part, 86b: Upper bottom side opening as an opening, 86c: Projection side opening as an opening, 90: Space, AX: First optical axis as an optical axis, AX ′: Second optical axis as an optical axis , P1... Plane as a plane, Gc.

Claims (9)

光学素子の表面のうち、所定の面を研磨する光学素子の研磨装置において、
前記光学素子の周縁部に、前記光学素子を保持する保持装置が取り付けられた状態で、前記光学素子を支持する保持台と、
前記光学素子の表面のうち、前記所定の面を研磨する際に、前記所定の面を研磨する空間に対して、前記保持装置を隔離する隔離部材と、
を備えることを特徴とする光学素子の研磨装置。Of the surface of the light optical element, in the polishing apparatus of an optical element for polishing a predetermined face,
In a state in which a holding device that holds the optical element is attached to a peripheral portion of the optical element, a holding base that supports the optical element;
Of the surface of the optical element, when polishing the predetermined surfaces for space of polishing the predetermined surfaces, an isolation member for isolating the holding device,
An optical element polishing apparatus comprising: 前記保持装置は、前記光学素子の周縁部に係合する座面が形成された座面ブロックと、
前記座面ブロックを支持ブロックに対して、前記光学素子の接線方向周りと径方向周りとの少なくとも一方に回転可能に支持する座面ブロック支持機構と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の光学素子の研磨装置。The holding device includes a seating block formed with a seating surface that engages with a peripheral edge of the optical element;
A bearing surface block support mechanism that rotatably supports the bearing surface block around at least one of a tangential direction and a radial direction of the optical element with respect to the support block ;
The optical element polishing apparatus according to claim 1, further comprising: 前記保持装置は、さらに、前記支持ブロックが取り付けられる枠体を備えることを特徴とする請求項２に記載の光学素子の研磨装置。The optical element polishing apparatus according to claim 2, wherein the holding device further includes a frame body to which the support block is attached. 前記光学素子は、入射光を入射する入射面または入射光を反射する反射面と、該入射面または該反射面に対して交差する側面とを有し、The optical element has an incident surface for incident light or a reflective surface for reflecting incident light, and a side surface intersecting the incident surface or the reflective surface,
前記隔離部材は、前記所定の面として、前記入射面または前記反射面を露出させる開口部が形成されたカバー部と、The isolation member includes a cover portion in which an opening that exposes the incident surface or the reflective surface is formed as the predetermined surface;
前記開口部の周縁と前記光学素子の側面との間に設けられ、前記保持装置に対して、前記入射面または前記反射面を研磨する際の研磨剤の到達を抑制するシール部材と、A seal member that is provided between a peripheral edge of the opening and a side surface of the optical element, and suppresses arrival of an abrasive when the incident surface or the reflective surface is polished with respect to the holding device;
を有することを特徴とする請求項１〜請求項３のうちいずれか一項に記載の光学素子の研磨装置。The optical element polishing apparatus according to claim 1, wherein the optical element polishing apparatus comprises: 前記シール部材は、前記カバー部に対して着脱可能に設けられていることを特徴とする請求項４に記載の光学素子の研磨装置。The optical element polishing apparatus according to claim 4, wherein the seal member is detachably attached to the cover portion. 前記シール部材は、前記開口部の周縁と前記光学素子の側面との間に挟持された状態で変形し得る軟質材料からなるチューブ材から形成されることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の光学素子の研磨装置。The said sealing member is formed from the tube material which consists of a soft material which can deform | transform in the state clamped between the peripheral edge of the said opening part, and the side surface of the said optical element, The Claim 4 or Claim 5 characterized by the above-mentioned. 4. An optical element polishing apparatus according to 1. 前記光学素子は、前記周縁部に第１鍔部及び第２鍔部を有し、The optical element has a first flange and a second flange on the peripheral edge,
前記第１鍔部及び第２鍔部のそれぞれは、前記側面から離れる方向に向かって突出するとともに、前記光学素子の光軸方向の異なる位置に設けられ、Each of the first collar part and the second collar part protrudes in a direction away from the side surface, and is provided at a different position in the optical axis direction of the optical element,
前記カバー部は、前記開口部の周縁が、前記第１鍔部及び第２鍔部のうち、前記所定の面に最も近い一方の鍔部に対向するように設けられ、The cover portion is provided so that a peripheral edge of the opening portion faces one of the first flange portion and the second flange portion that is closest to the predetermined surface,
前記保持装置は、前記第１鍔部及び第２鍔部のうち、他方の鍔部を保持し、The holding device holds the other collar part among the first collar part and the second collar part,
前記シール部材は、前記カバー部の前記開口部の周縁と前記他方の鍔部との間に設けられることを特徴とする請求項４〜請求項６のうちいずれか一項に記載の光学素子の研磨装置。The optical element according to any one of claims 4 to 6, wherein the seal member is provided between a peripheral edge of the opening portion of the cover portion and the other flange portion. Polishing equipment. 前記シール部材は、前記他方の鍔部における前記一方の鍔部とは反対側の面に圧接するように設けられることを特徴とする請求項７に記載の光学素子の研磨装置。The optical element polishing apparatus according to claim 7, wherein the seal member is provided so as to be in pressure contact with a surface of the other flange portion opposite to the one flange portion. 光学素子の所定の面を研磨する光学素子の研磨方法において、In an optical element polishing method for polishing a predetermined surface of an optical element,
前記光学素子の周縁部に、前記光学素子を保持する保持装置を取り付けた状態で、前記光学素子の所定の面を、請求項１〜請求項８のうちいずれか一項に記載の光学素子の研磨装置を用いて研磨することを特徴とする光学素子の研磨方法。The optical element according to any one of claims 1 to 8, wherein a predetermined surface of the optical element is attached to a peripheral portion of the optical element with a holding device that holds the optical element. A polishing method for an optical element, characterized by polishing using a polishing apparatus.
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