JP4128833B2

JP4128833B2 - 汚染水及び有機排ガスの処理方法とその処理システム

Info

Publication number: JP4128833B2
Application number: JP2002269414A
Authority: JP
Inventors: 秀行門脇; 輝男増本; 幸雄武田; 一郎和久井
Original assignee: 三菱マテリアル資源開発株式会社
Priority date: 2002-09-17
Filing date: 2002-09-17
Publication date: 2008-07-30
Anticipated expiration: 2022-09-17
Also published as: JP2004105817A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、土壌・地下水に含まれる揮発性有機化合物等を汚染水から分離して無害化処理するための揮発性有機化合物を含む汚染水と有機排ガスの処理システムに関する。更に詳しくは、人の健康の保護に関連するもので、土壌、又は地盤中の水を汲み上げてこの中に含まれる物質を分離し、除去された有機排ガスである揮発性有機化合物等を無害化処理し放散、再利用するための処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
工業用の洗浄、溶剤等で使用される物質の中で、土壌（土木用語ではＡ層、Ｂ層という。）等の地盤、地下水の汚染物質として、ジクロロメタン、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、1,1-ジクロロエチレン、シス-1,2-ジクロロエチレン、シス-1,2-ジクロロエチレン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、1,3-ジクロロプロパン、ベンゼン等の揮発性有機化合物（Volatile Organic Compounds; 通称VOCと略す。）が土壌環境基準、地下水環境基準に指定され知られている。更に、クロロホルム、トランス-1,2-ジクロロエチレン、1,2ジクロロプロパン、p-ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン等の揮発性有機化合物の６種類が汚染物質の要監視項目物質として追加されている。
【０００３】
これら揮発性有機化合物による土壌・地下水汚染は、そのほとんどが人為的行為によって地表面あるいはその近くから揮発性有機化合物として土壌に浸入し、地下に浸透して土壌や地下水を汚染させたものである、と言われている。汚染源から流出した揮発性有機化合物は、液状のまま地下へ浸透し、一部は土壌の間隙中に滞留する。又帯水層まで達した汚染源の原液は、地層の間隙が大きければ帯水層中を降下して更に粘土層等の不透水層に達し、間隙が小さければ地下水面付近に滞留する、と言われている。
【０００４】
これらの土壌中の揮発性有機化合物を除去して浄化するための処理技術は、土壌ガス吸引法、二重吸引法、気液混合抽出法、土壌掘削法等のように種々提案され実施されている。地下水の処理技術は、地下水揚水法、微生物処理法、反応性バリア等の処理法が提案され実施されている。また、土壌、又は地下水から分離された揮発性有機化合物を含むオフガスは、活性炭吸着法、触媒酸化法、熱酸化法、紫外線酸化法等により処理されている。
【０００５】
前述した二重吸引法は、汚染された地層に達する井戸を掘り帯水層から地下水を揚水すると共に、土壌ガスも別途吸引して処理を行うものであり、気液混合抽出法は、真空ポンプを用いて高減圧により土壌ガスと地下水を同時吸引する技術であり、地下水揚水法は汚染物質が溶解している地下水をポンプで揚水する方法である。揚水された土壌ガス、及び汚染水は、何らかの方法で水と揮発性有機化合物を分離して除去しなければならない。
【０００６】
この中で、揮発性有機化合物、低沸点有機塩素化合物を汚染地下水から分離して除去する技術として揚水曝気が知られている。揚水された汚染地下水は、地上に設置された曝気設備で空気と接触することによって、汚染地下水に含まれる揮発性の高い成分が気相に移行し浄化される。この排ガスの処理は、活性炭による吸着処理、熱分解、触媒分解等の方法が適用されている。
【０００７】
この揚水曝気の代表的なものとしては、タワー状の曝気塔、トレー式、貯留槽で散気管を用いて曝気する等の方法が知られている。しかしながら、これらの従来の曝気方法では空気と汚染水の接触は、汚染水を上方から落下させて、同時に空気を下方から噴射させている。即ち、汚染水とこれに接触させる空気の流れの方向は、逆方向であり対向させているものが多い。
【０００８】
この方法は、汚染水中の汚染濃度が濃くなり、気液比を上げたい場合（空気量を増加させい場合）に、空気の量を増加させると汚染水が空気に吹き上げられて落下が困難になり、結果として処理量が落ちるという問題がある。この結果、空気と汚染水の接触時間を長くしなければならず設備が大きくなる、処理エネルギーが増大する等の問題があった。
【０００９】
一方、排ガス処理については、前述のように、活性炭による処理が一般的であるが、活性炭の処理も行わねばならない。又、光照射による方法も部分的に行われているが、代表的な光触媒として酸化チタンが知られている。酸化チタンは、波長400nm以下の紫外線が照射されると表面上で電子の授受が行える半導体となり、表面上で酸化還元反応を行える光触媒活性を有する物質となる。
【００１０】
酸化チタンは光触媒として多方面に応用され、ガラスやタイルなどの汚れ防止、抗菌用、空気中の臭いや排ガスを除去する脱臭・排ガス処理用、水中の微量有機物質を分解除去する水処理用として利用されている。酸化チタンの触媒活性の原理は、光が照射されることにより酸化チタンの表面において酸化還元電位が生じ電子と正孔に分かれ、電子は近傍にある物質を酸化し、正孔は近傍にある物質を還元する働きをする。酸化チタンそれ自体は微細粒子であるため、一般に水溶液やゲル状にして溶かしたものを、基質となるガラスやタイル、又は不織布等に塗布して使用される。
【００１１】
酸化チタンの光触媒活性能は、照射される光量と塗布された面の酸化チタンの密度及び面積に依存する。光源としては波長400nm以下の紫外線を照射する必要があり、光量の少ない段階では光触媒活性は光量に比例して上昇するが、一定光量以上では活性の上昇は見られないことが知られている。一方、酸化チタンの密度については塗布層を厚くすれば高くなるが表面全体が酸化チタンに覆うようになれば、それ以上の活性の上昇は望めない。他方、光触媒の表面積は広いほど活性が高くなる。
【００１２】
又、紫外線の光量については、一定の光量以上では活性の上昇はみられないものの、光量が少ない段階では光触媒活性は光量に比例して上昇する。従って、一定以上の紫外線の光量があり酸化チタンが密に塗布された光触媒にあっては、光触媒の表面積が光触媒活性を左右する重要な因子となっている。又、光触媒の表面積が広く、かつ表面部の通気性が良好な部材として、波形の担体に光触媒を塗布したものや不織布に光触媒を塗布又は焼結したものなどが利用されている。
【００１３】
このように汚染された地下水を浄化するために前述のとおり種々の提案がなされている。従来の技術として具体的に提案されている技術の例は、直接地下水を浄化する方法で、処理水は地下に戻し排ガスは吸収処理剤を有する吸収塔で吸収させる方法（例えば、特許文献１）、又、汚染水を第２次副生成物の生成後汚水とともに好気性生成物により浄化処理し無害化する方法（例えば、特許文献２）、更に、ハニカムロータ使用によって、凝縮させた排ガスを光照射手段により光触媒を活性化させて処理する方法（例えば、特許文献３）等が開示されており、更に活性炭等の吸着部材を使用し直接吸着処理する方法も広く知られている。
【００１４】
【特許文献１】
特開平９−２７６８５０号公報
【特許文献２】
特開平７−１１６４６７号公報
【特許文献３】
特開２００１−２３２１３６号公報
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者等は、従来の曝気法では空気の大きさ、即ち汚染水が曝気されるときに空気粒（泡）が大きく、かつ気液混合が弱いため汚染水との接触確率が小さいことに着目した。汚染水と接触する空気粒を小さく、かつ多くすると共に気液混合を強化することに着目したものである。即ち、単位体積当たりの空気の表面積を大きくすると共に気液混合を強化して、しかも処理量を低下させることがない効率のよい曝気法が望まれていた。
【００１６】
更に分離された揮発性有機化合物は無害化してそのまま放出できることが望ましい。前述のように酸化チタンによる光触媒によって紫外線照射することで無害化することは可能であるが、現状の紫外線照射のための装置は部分的に適用は可能であってもシステムとして適用するには種々の欠点を有し不完全である。光触媒として、通気性がよく、表面積が広く、軽量で劣化の少ない材質のものに酸化チタンを塗布したもので活性効率の高いものが望まれていた。
【００１７】
従来の汚染された地下水を浄化し、処理水と排ガスに分離し無害化するものは、水中では、反応速度が遅かったり、吸着容量が小さかったり、又施設も大型になり、多大な運転コストが生じていた。又、地下水等には鉄成分やマンガン成分が多く存在し、酸化剤方式などは、装置そのものに酸化鉄等のスケールで運転が困難になる場合もあった。
【００１８】
一方、地下水を空気などで有機塩素系溶剤を放散し、地下水を浄化し、空気を活性炭などで吸着処理するものは、その空気が飽和水蒸気の状態になることから、活性炭がその水蒸気の結露ですぐに処理機能を発揮できなかったり、空気抵抗が大きくなり空気量が掃けなくなくなり、また、空気放散機能の低下となり、塩素系有機溶剤の放散が不可能となる問題があった。更に、光触媒を利用し現状で行われている排ガス等の無害化方法については、設備が大きくなりコスト高になり、必ずしも浄化効率の点で優れているとは言い難い。浄化効率を飛躍的によくし、簡素な構成で低コストにより、地下水を有機排ガスまで含めてシステマチックに浄化処理する技術が望まれている。
本発明は前述のような技術背景のもとになされたものであり、下記の目的を達成する。
本発明の目的は、汚染水と空気との接触確率を向上させて、汚染水から揮発性有機化合物等の有機排ガスを効率的に分離・除去し、無害化する汚染水及び有機排ガスの処理技術とその処理システムを提供することにある。
本発明の他の目的は、少ない除去エネルギーで汚染水から揮発性有機化合物等の有機排ガスとを効率的に分離・除去し、無害化できる汚染水及び有機排ガスの処理技術とその処理システムを提供することにある。
本発明の更に他の目的は、簡単な構造のシステムで汚染水から有機排ガスである揮発性有機化合物とを効率的に分離・除去し、簡単な構造の装置でこの有機排ガスを効率的に無害化できる汚染水及び有機排ガスの処理技術とその処理システムを提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記目的を達成するために次のような手段を採用する。
本発明１の汚染水及び有機排ガスの処理方法は、
汚染水から揮発性有機化合物を含む有機排ガスを分離して無害化処理するための処理方法において、
前記汚染水を加圧して鉛直方向上方にノズルで噴射する行程と、
前記噴射と共に空気を吸引、又は圧入して区画された空間内で前記汚染水と前記空気を攪拌・混合するための噴流を形成する行程と、
前記空間の鉛直方向の上方の吐出口から前記攪拌・混合された前記汚染水、及び前記汚染水から分離された前記揮発性有機化合物である有機排ガスを含む汚染空気とを前記空間から吐出させる行程と、
前記空間から吐出された前記汚染空気と前記揮発性有機化合物が減少した前記汚染水の気液混合体を気液分離函で前記汚染空気と前記汚染水に分離する行程と、
前記気液分離函で分離された前記汚染空気を紫外線が照射された光触媒に接触させて前記有機排ガスを酸化分解させる行程とからなり、
前記汚染水から除去された前記有機排ガスを前記光触媒への紫外線照射により分解処理をして無害化することを特徴とする。
【００２０】
本発明２の汚染水及び有機排ガスの処理方法は、本発明１において、
前記空間への前記汚染水と前記空気の噴射は、同一方向に噴射することを特徴としている。空気の供給量を自由に調節できる。
本発明３の汚染水及び有機排ガスの処理方法は、本発明１又は２において、
前記噴流は、前記汚染水が前記空間の壁面に付着する壁付着現象であるコアンダ効果を伴うものであることを特徴としている。
本発明４の汚染水及び有機排ガスの処理方法は、本発明１ないし３から選択される１において、
前記空間は、３次元の空間で扁平であり、前記空間の概ねの高さをＨで、前記空間の概ねの幅をＷで表し、前記ノズルの開口の有効直径をＤ₁で表すと、前記噴射は長さ方向に向いて前記空間の概ねの中心線の方向に射出され、前記噴流の発生条件として、Ｄ₁＜Ｈ、且つ、Ｗ／Ｈ＞４であることを特徴としている。
【００２１】
本発明５の汚染水及び有機排ガスの処理方法は、本発明１ないし４から選択される１において、
前記光触媒は、前記光触媒を被着する前に金属表面に絶縁被膜処理の施されたものであることを特徴とする。紫外線照射により生じた光触媒上の電子は、絶縁被膜に隔てられているため金属側に逃れることができなくなり、光触媒表面上で電子の授受を行い近傍にある臭気物質や有機物質を分解する光触媒活性を高める効果がある。
【００２２】
本発明６の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、
汚染水を加圧して鉛直方向上方に噴射するためのノズルと、
前記ノズルに配置され空気を供給するための空気供給管と、
前記ノズルに加圧された前記汚染水を供給するための加圧ポンプと、
前記噴射と共に空気を吸引して区画された空間を備え、前記汚染水と前記空気を攪拌・混合するための噴流を形成するための噴流発生室と、
前記噴流発生室には前記攪拌・混合された前記汚染水、及び前記汚染水から分離された前記揮発性有機化合物を含む汚染空気を排出するための吐出口と、
この吐出口から吐出された前記汚染水と前記汚染空気の気液混合体を受け入れ、前記汚染空気と前記汚染水に分離するための気液分離函と、
この気液分離函から吐出され前記汚染空気中の前記揮発性有機化合物を紫外線が照射された光触媒に接触させる光触媒装置とからなることを特徴とする。
【００２３】
本発明７の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６において、
前記空気供給管に加圧された空気を供給するブロワとを有するものであることを特徴としている。確実に空気を送ることができる。
本発明８の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６又は７において、
前記噴流ノズルと同軸に前記空気供給管が配置されていることを特徴としている。汚染水の噴射に伴って空気を吸引することができ、より効率的に空気量を増加できる。
本発明９の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６又は７において、
前記噴流を発生する噴流発生室は、３次元の空間で扁平であり、前記空間の概ねの高さをＨで、前記空間の概ねの幅をＷで表し、前記ノズルの開口の有効直径をＤ₁で表すと、前記噴射は長さ方向に向いて前記空間の概ね中心線の方向に射出され、前記噴流の発生条件として、Ｄ₁＜Ｈ、且つ、Ｗ／Ｈ＞４であることを特徴としている。
【００２４】
本発明１０の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６ないし９から選択される１において、
前記噴流発生室は、多段階に直列に接続されていることを特徴とする。比例的に汚染水内の揮発性有機化合物等を除去できる。
本発明１１の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６ないし９から選択される１において、
前記噴流発生室から吐出された前記汚染水と空気の気液混合体を受け入れ、空気と前記汚染水を分離するためのサイクロンとからなることを特徴としている。
本発明１２の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６ないし９から選択される１において、
前記光触媒装置は、光触媒に行う光照射構成が多段階に直列に配置した構成になっていることを特徴としている。暫時段階的に揮発性有機化合物等を無害化することができる。
【００２５】
本発明１３の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６ないし９から選択される１において、
前記光触媒装置から吐出される無害化された有機排ガスを前記噴流式曝気装置の噴流ボックスへ導くための管路を設けたことを特徴としている。無害化された有機排ガスを外部に放散させることなく有効に利用できることで効果がある。
【００２６】
本発明１４の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６ないし９から選択される１において、
前記光触媒装置は、１８５から３８０ｎｍの紫外光を有する紫外線照射源とアルミ鏡面仕上げ光触媒のハニカム構造体とを有する反射板を介し光照射を施すダクト形式の装置であることを特徴としている。紫外線照射源を有する室はハニカム構造体の間に形成され、且つ、ダクト装置の両端部に複数の通気開口部を形成した反射板が配置されている。個々の紫外線照射源を互いに空気の流路方向に対して千鳥状に配設するとよい。又、反射板は複数配置するとよい。
本発明１５の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明１１において、
前記気液分離函、又は前記サイクロンから空気が上段の前記噴流発生室に戻される管路を設けたことを特徴としている。より効率的に汚染水の処理が可能である。
【００２７】
本発明１６の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６ないし１５から選択される１において、
前記無害化された有機排ガスを前記空気供給管に接続された管路を介して供給し、その供給管路の途中に圧力調整弁を設け、無害化された有機排ガス以外の空気の供給も可能とする構成にしたことを特徴としている。
本発明１７の汚染水及び有機排ガスの処理システムは、本発明６ないし１４から選択される１において、
前記無害化された有機排ガスを前記空気供給管に接続された管路を介して供給し、その供給管路の途中に有機排ガス分析計を設け、無害化された有機排ガスの量又は空気の量を制御して供給することを可能とする構成にしたことを特徴としている。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に従って説明する。図１は、本発明の揮発性有機化合物の処理システムの実施の形態を示すブロック図である。図１は地下水から汲み上げた汚染水を分離し有機排ガスと処理水にする噴流ボックス７を有する噴流式曝気装置１と、分離された有機排ガス即ち、揮発性有機化合物等を無害化する光触媒装置２とから構成された処理システムを示している。図２から図６に示すのは、噴流式曝気装置１の実施形態図である。図７から図１３に示すのは、光触媒装置２の実施形態図である。
【００２９】
この処理システムは、地下水浄化装置として、噴流式曝気装置１を用い、井戸３から汲み上げられた地下水を沈砂槽４、原水槽５を介してポンプ６を通して噴流ボックス７に送り込み気液分離函８により気水分離を行う。一方は有機排ガス１０として揮発性有機化合物に、又他方は処理水として分離される。この分離するための装置が噴流式曝気装置１であるが、噴流ボックス７と気液分離函８のセットが４組設けられ、４段階の分離工程を経て汚染水を暫時浄化している。分離された揮発性有機化合物等は、活性炭を使用せず光触媒装置２のＵＶ・ハニカム光触媒によって完全分解の上無害化される。無害化された有機排ガスは無害の気体としてブロア９を介して噴流式曝気装置１へ還流され再利用される。この無害化された有機排ガスは、後述する圧力調整弁Ａ又は有機排ガス分析計Ｂを介して、空気供給管に供給され前述のとおり噴流式曝気装置１へ還流される。次に個々の装置について詳述する。
【００３０】
［噴流式曝気装置］
噴流式曝気装置１を図２から図６に示す。図２（ａ）は、噴流式曝気装置１の平面図で、図２（ｂ）は、正面図である。
【００３１】
［ブロワ１２］
台１１上に搭載されたブロワ１２は、二葉形ブロワと呼ばれているタイプの回転送風機であり、ケーシング内に二葉形ロータ（図示せず）を２個互いに位相をずらして取付け、これを同期歯車を介して逆方向に回転させて空気を圧送するものである。このタイプの送風機は、機能、構造は公知のものであり、本発明の要旨でもないのでこでは構造、機能については詳記しない。なお、本実施の形態に使用される送風機は、二葉形ロータであるが空気を加圧できるものであれば、このタイプ以外の回転送風機であっても良い。本例のブロワ１２は、ゲージ圧で約０．０２〜０．０５Ｍpaの圧力の空気圧を発生させる。
【００３２】
ブロワ１２に取り入れる空気は、フィルター（図示せず）を通されて粉塵等の異物が除去される。ブロワ１２の二葉形ロータは、電動機１４により回転駆動される。電動機１４は、この出力軸のプーリ１５、Ｖベルト１６、ブロワ１２のプーリ１７を介して、ブロワ１２のロータを駆動する。ブロワ１２の吸込み口には、円筒状の形をしたサイレンサ１８が配置固定され運転中の騒音を減少させる。なお、吐出口１３にもサイレンサ（図示せず）を配置すると騒音を低くすることができる。
【００３３】
ブロワ１２で加圧された空気は、吐出口１３から出て分岐器３１に入る。分岐器３１の加圧空気は、分岐されて複数の吐出口である４本の継手管３０から吐出される。ブロワ１２で加圧された空気は、４本の継手管３０から後述するようにそれぞれの噴流発生函２３に送られる。
【００３４】
［ポンプ２０］
ポンプ２０は、汚染された地下水等を加圧するためのポンプである。本例では、４台のポンプ２０が並列して配置されている。本実施の形態で使用したポンプ２０は、渦巻きポンプ形式のものである。本実施の形態では、ゲージ圧で約０．０５Ｍpa程度の圧力で汚染水を加圧する。加圧された汚染水は、前述した加圧空気と共に後述する噴流発生室２４に噴射される。
【００３５】
［噴流発生函２３］
図３（ａ）、及び図３（ｂ）は、噴流発生室の原理を示す図であり、図３（ａ）は正面で切断した断面図、及び図３（ｂ）は側面で切断した断面図である。噴流発生函２３は、扁平の長方体状の箱形であり、その長手方向が鉛直になるように配置されている。噴流発生函２３の下面には、加圧された汚染水を下方に噴射する噴射ノズル２５が固定されている。
【００３６】
噴射ノズル２５は、断面が円筒の環状空間である。噴流発生函２３の内部には区画された噴流発生室２４が形成されている。噴流発生室２４の内部空間Ｖは、３次元の箱状の空間で扁平であり、空間の概ねの水平方向の厚さＨで、それの概ねの幅をＷ、鉛直（垂直）方向の長さをＬとし、噴射ノズル２５の開口の有効直径をＤ₁とすると、概略するとＤ₁＜Ｈ、Ｗ／Ｈ＞４、且つＷ＜Ｌの関係にある。
【００３７】
噴射ノズル２５から噴出された主噴流は、鉛直方向で内部空間Ｖの概ねの中心線の方向で鉛直方向上向きに噴射される。主噴流が噴射されると噴流発生室２４の８隅にはコアンダ効果により低圧うずである付着うずが発生し、主噴流には付着噴流が発生する。従って、噴流発生室２４には、図３（ａ）、又は図３（ｂ）に図示したような２方向（図示上）の何れかに主噴流の流れが発生することになる。
【００３８】
この主噴流は、一定で安定したものではなく、概略幅Ｗ方向の面内で揺れるよう動きの流れになる。即ち、主噴流は不安定であり揺れながら流れが発生することになる。これらの主噴流、付着うず等の噴流は、粒径が極めて微少な空気を発生すると共に、汚染水とこの粒径が極めて微少な多数の空気と均一に混合、攪拌する機能がある。
【００３９】
汚染水は、粒径が極めて小さい空気と接触することによって、小さい空気粒は表面積（粒径の３乗の表面積となる。）を飛躍的に増大させるので汚染水と接触する確立が高くなり、汚染水に含まれる揮発性の高い成分が気相に移行し浄化される。しかも、汚染水と空気が同一方向に噴射されているので、空気量を増加させることが容易であり、しかも空気量を増加させると流速が上がり、攪拌効果を増大する利点がある。
【００４０】
この作用により、地下水、土壌等を汚染する揮発性有機化合物（ＶＯＣ）で汚染物質として知られているジクロロメタン、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、1,1-ジクロロエチレン、シス-1,2-ジクロロエチレン、シス-1,2-ジクロロエチレン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、1,3-ジクロロプロパン、ベンゼン、クロロホルム、トランス-1,2-ジクロロエチレン、1,2ジクロロプロパン、p-ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン等が、気相に移動する。
【００４１】
噴流発生室２４のコアンダ効果は、前述した寸法条件でなくても良いが、好ましくは前述した寸法条件にすれば図に示すように、内部空間Ｖに２つの噴流の何れかの方向に揺れるように主噴流が発生する。噴射ノズル２５の中心には、空気供給管２７が配置固定されている。空気供給管２７は、ブロワ１２の吐出口１３に連結された継手管３０に接続されているので、この口から空気を吐出する。
【００４２】
空気供給管２７は、噴射ノズル２５から汚染水が噴流発生室２４に吐出されるとき、この負圧により空気を引き込む、これと同時に加圧された空気をブロワ１２から引き込むためのものである。従って、ポンプ２０で加圧された汚染水は、汚染水供給パイプ２１を通して、噴射ノズル２５に送られる。噴射ノズル２５から噴射される汚染水と共に、空気供給管２７の下端からブロワ１２で加圧された空気が供給される。
【００４３】
図３（ｃ）は、他の構造の噴射ノズルの例を示す噴流発生函の断面図である。汚染水供給パイプ２１をポンプ２０で加圧された汚染水は、汚染水供給パイプ２１を通して、噴射ノズル２５に送られる。噴射ノズル２５から噴射される汚染水と共に、空気供給管２７の下端からブロワ１２で加圧された空気が供給される。この構造では、汚染水の負圧作用により空気供給管２７から空気を吸入する作用は少ない。
【００４４】
図４（ａ）、図４（ｂ）及び図４（ｃ）は、本実施の形態の前述した噴流発生函２３を示すものであり、図４（ａ）は正断面図、図４（ｂ）は右側断面図、及び図４（ｃ）は底面図である。吐出管２６は、この上端は鉛直方向に向けて配置され、これに連続して水平方向に曲げて配置されている。噴流発生函２３は、内部に噴流発生室２４が形成された箱状の本体２９からなる。本体２９の機械的強度を高めるために、本体の外周を巻くように上下の端部と中間位置に、強化帯２８が溶接により一体に固定されている。図４に示す噴射ノズル２５は、図３（ｃ）に示す構造のものである。
【００４５】
［揮発性有機化合物の回収装置３４］
噴流発生函２３で汚染水に含まれる揮発性の高い物質の成分が気相に移行する。この揮発性の高い物質は、回収しなくてはならない。揮発性有機化合物は、回収装置３４で回収される（図２参照）。図５は、図２に示すように台１１上に並列して配置された４台のポンプ２０と４台の噴流発生函２３であり、これらの接続関係を示すための展開図である。
【００４６】
４台の噴流発生函２３は、各噴流発生函支持台３５上に固定配置されている。噴流発生函支持台３５の下部空間に噴射ノズル２５、空気供給管２７等が配置されている。ポンプ２０で加圧された汚染水は、汚染水供給パイプ２１により噴射ノズル２５に供給される。噴流発生函２３の上端には、Ｌ字状に曲げられた吐出管２６の一端が連結されている。吐出管３６には、噴流発生函２３内の噴流発生室２４で汚染水と、分離した揮発性有機化合物の成分を含んだ空気が混合された状態で流れる。
【００４７】
この混合された空気と汚染水は、吐出管３６の吐出口３７から吐出する。吐出口３７から吐出された空気と汚染水は、１段目気液分離函３８ａに吐出される。１段目気液分離函３８ａは、汚染水と揮発性有機化合物を含んだ空気とを分離するためのものである。揮発性有機化合物を含んだ空気は、１段目気液分離函３８ａの上部の開口４４からパイプ４５を介して、光触媒装置２の吸入口４６に導かれる。
【００４８】
従って、汚染水に含まれている揮発性有機化合物等は、空気と共に汚染水から除去されて揮発性有機化合物の少ないものに変わる。揮発性有機化合物が減少した汚染水は、１段目気液分離函３８ａの下部に貯まる。この汚染水は、再び２台目のポンプ２０で加圧されて、前述した同様の作用で２段目の噴流発生函２３に送られて、揮発性有機化合物が分離・除去される。この減少割合は、後述するように各段階で１／５〜１／２０以下となる。
【００４９】
同様に、２段目気液分離函３８ｂ、３段目気液分離函３８ｃ、３段目気液分離函３８ｃ、及び最終段目気液分離函４９の４段階で処理が完了した後の汚染水は、最終的に処理済の汚染水としては環境基準以下に無害化されており、最終段目気液分離函４９から排出パイプ５０を介して公共下水道等に流される。
【００５０】
［実験例１］
図６は、前述した噴流式曝気装置１の実施の形態で実験したデータを示す表である。実験に用いたテトラクロロエチレン汚染水の濃度が噴流発生函２３で処理する度に１／５〜１／２０程度かこれ以下に低下していることがわかる。また、図６には比較例として、従来の曝気方式の実験例を示した。
【００５１】
この例では、曝気塔の容量は約１２００Ｌであった。一方、本発明の試験例では曝気塔に相当する噴流発生室の総容量は、実施の形態の（試験No.１，No.２）で７６Ｌ、（試験No.３）で５７Ｌである。従って、本発明では従来の曝気塔方式に比べて、曝気室の容量を１／１６〜１／２１に削減でき、大幅な省スペースを実現できる。
【００５２】
［噴流式曝気装置に関わるその他の実施形態］
前記揮発性有機化合物の除去システムは、噴流発生函２３を直列に接続して３ないし４段階で汚染水を処理するものであったが、汚染水の種類によってはこれ以下で、又はこれ以上の段階で処理を行うものであっても良い。
【００５３】
［光触媒装置の概要］
本発明に関わる光触媒装置２は、図７から図１３に示す。光触媒装置２は、紫外線照射源を配設した紫外線照射室と、内部に光触媒が担持されたハニカム構造体と、内部に前者を後者の間に配置したダクト装置と、その両端部に配置した反射板とからなっているもので、有機排ガス１０である揮発性有機化合物等を分解し無害化するものである。この光触媒装置２は、例えばアルミニウムやステンレス、銅等で構成されたハニカム構造の金属表面に絶縁処理等がなされている。
【００５４】
特にアルミハニカムは、軽量な素材であり、通気性、通水性に優れ、光触媒を被着する表面積を広くすることができ、又、透明の酸化チタンを使用することにより、ハニカム内部まで光を反射させ届かせることができる。これを原理的に示したのが図７である。ハニカム光触媒鏡面体５１に入射した紫外光は、エネルギーを損失することなく反射する。そこへ拡散してくる有機排ガス１０の分子と衝突をして、効率よく光触媒反応を繰り返す。
【００５５】
図８は、光触媒装置に適用した原理的な構成を示す実施例であって、紫外線ランプ（ＵＶランプ）５２の一端に絶縁性を施したアルミニウム表面に光触媒を被着した光触媒体５３を配置し、他端にも同様の光触媒体５３を配置したことを特徴としている。揮発性有機化合物は送風ファン５４により外部より装置内部に送られ紫外線ランプ５２の光照射を反射板５５を介して行うことにより、光触媒体５３の表面上で酸化分解され無害化される。
【００５６】
［光触媒装置の構造］
光触媒装置はダクト構造をなしている。この装置を構成する紫外線照射室は、２つのハニカム構造体間のダクト装置内部の空間から形成され、ハニカム構造体との境界に通気抵抗となる仕切板を特に設けるものではなく、この照射室には紫外線照射源が配設される。紫外線照射源は、特に限定されるものではないが、ダクト装置の直径方向又は短手方向に適宜の間隔で配設された棒状の紫外線ランプが通常使用される。
【００５７】
紫外線照射源の間隔は、紫外線ランプの照射量、光触媒反応の酸化反応速度、汚染物質の濃度、汚染空気の流速、ダクト装置の容量に依存して決定されるが、本発明の対象は揮発性有機化合物である。又、棒状の紫外線ランプに代えて、球状又は楕円状のランプをランダムに又は整列させて使用してもよい。紫外線ランプとしては、例えば、波長360nm中心の冷陰極ランプ、波長320nm中心のブラックライト、波長254nm中心の低圧水銀ランプ等の波長400nm以下の紫外線を放射するランプが使用される。波長としては、185nmから380nmのものが好ましい。
【００５８】
光触媒装置を構成するハニカム構造体は、前述のとおり、通気性に優れ、光触媒が担持されるハニカム孔の表面積は広くなっている。このハニカム構造体は、空気の流路方向に関して紫外線照射室の両側に配置される。ハニカム孔の大きさはダクト装置の大きさに依存するが、そのコアは小さいほど表面積が広くとれ光触媒活性には有利である。ハニカム壁の厚みは、装置に組み込まれたハニカム構造体が変形しない程度又はそれ以上の強度があればよく、特に限定されるものではない。
【００５９】
又、紫外線照射室の両側に配置される各ハニカム構造体は必ずしも同じ長さである必要はない。例えば上流側のハニカム構造体を下流側のものより長くしてもよい。ハニカム孔表面に担持される光触媒としては、酸化還元電位が高くバンドギャップの高い酸化チタンが好適である。
【００６０】
前記紫外線照射室及びハニカム構造体が内部に配置されるダクト装置は、断面が任意の形状のものが使用される。例えば円形等である。ダクト装置の両端部には、紫外線を有効利用するために反射板が配置される。反射板としては、反射率の高いものであればよく、アルミ板やステンレス鋼板等が使用される。又、反射性フィルムで被覆するかあるいは反射性の材質をメッキ又は蒸着した板体であってもよい。一般には、アルミ板が好適である。
【００６１】
反射板には、空気が通過する通気開口部を形成しておく必要がある。通常、紫外線照射源と平行な短冊状のスリットが反射板に複数個形成される。通気開口部の形状は、短冊状のスリットに限定されるものではなく、中央部が膨らんだ長楕円形又は平行四辺形等のスリットであってもよい。又、円形、星形、性四角形、長方形、五角形以上の多角形等の通気開口部をランダムに又は整列させて多数形成することもできる。
【００６２】
反射板全体に対する上記通気開口部の面積割合は、３０〜６５％の範囲にあることが好ましい。開口割合が３０％未満であると、反射板による通気抵抗が大きくなる。一方、開口割合が６５％より大きいと、反射板による紫外線反射光を充分に利用することができなくなる。
【００６３】
ダクト装置からの紫外線の漏洩をできるだけ少なくするために、前記紫外線照射源と通気開口部とは、空気の流路方向に対して、互いに千鳥状に位置することが好ましい。一方、紫外線を有効利用するためには、反射板に光散乱用の凹状溝又は凸状溝を形成するか、あるいは反射板表面全体にサンドブラスト等による粗面加工を施しておくことが効果的である。即ち、紫外線を反射板で乱反射させると、ハニカム孔表面をほぼ均一に紫外線を照射させることが可能であるので、光触媒反応の効率が大幅に向上する。
【００６４】
紫外線をより一層有効利用するために、反射板による通気抵抗をある程度許容して、反射板を複数枚間隔を介してダクト装置の一端部又は両端部に配置してもよい。その場合、通気開口部からダクト装置の外部に紫外線が漏洩するのを極力防止するために、各反射板に形成されたそれぞれの通気開口部は、空気の流路方向に対して、例えば円筒状のダクト装置では直径方向に、互いに千鳥状に穿設することが好ましい。中でも、２枚の反射板をダクト装置の両端部に配置することが好ましい。
【００６５】
更に、反射板とハニカム構造体端面との間のダクト装置の内面及び紫外線照射室を形成するダクト装置の内面の少なくとも１つを、反射板や反射性フィルムで被覆したりあるいはメッキ又は蒸着処理することも効果的である。ダクト装置の一端には、揮発性有機化合物を導入する導管に接続する揮発性有機化合物の流入室が形成されている。又、ダクト装置の他端には、浄化され無害化された揮発性有機化合物等を排出する導管に接続する流出室が形成されている。これらの流入室及び流出室に揮発性有機化合物の整流機能を具備させることが好ましい。
【００６６】
［光触媒装置の実施例］
次に、図面を参照しながら光触媒装置２の実施例を具体的に説明する。図９は、一部を断面図にした光触媒装置２の縦断面図で、図１０は、一部を断面図にしたその横断面図である。光触媒装置２は、断面が四角形をなすダクト装置５６からなり、その一端に汚染物質を含有する空気の導入管（図示せず）に接続する接続部５７を取り付けた空気流入室５８、及び他端に浄化された空気の排出管（図示せず）に接続する接続部５９を取り付けた空気流出室６０が付設されている。
【００６７】
ダクト装置５６の内部には、紫外線照射室６１と、ハニカム構造体６２と、反射板６３とが配置されている。紫外線照射室６１には、複数の棒状の紫外線ランプ６４が配設されている。この紫外線ランプ６４は、低圧の水銀ランプで185から380nmの紫外光を有するものが好ましい。ハニカム構造体６２は、紫外線照射室６１の両側に配置され、図１１に示すように、光触媒を担持したハニカム孔６５が内部に多数形成されている。ハニカム構造体６２はアルミ鏡面仕上げ光触媒のハニカムを有するものである。反射板６３は、ダクト装置５６の両端面とこれに対向するハニカム構造体６２の各端面との間に配置され、図１２に示すように空気が通過可能な通気スリット６６と凹状に湾曲した反射部６７とが交互に形成されている。
【００６８】
この光触媒装置２の作用は次の通りである。前記導入管から汚染空気が空気流入室５８に流入する。汚染空気は、空気流入室５８で整流された後、一方の反射板６３に形成された通気スリット６６を通り、一方のハニカム構造体６２、紫外線照射室６１、他方のハニカム構造体６２、及び他方の反射板６３に形成された通気スリット６６の順にダクト装置５６の内部を通過して、空気流出室６０に至る。
【００６９】
この間、紫外線ランプ６４から紫外線がハニカム孔６５表面に照射されているので、空気中の汚染物質がハニカム孔６５に担持された光触媒と接触する際に酸化分解される。例えば、汚染物質がアンモニアの場合は、水と窒素ガスの無臭のガスに分解される。又、ダクト装置５６内に存在する紫外線は、通気スリット６６からダクト装置５６の外部に放射される一方で、ダクト装置５６の両端部に配置された反射板６３の凹状反射部６７により乱反射が繰り返される。
【００７０】
従って、ハニカム構造体６２内部に紫外線がほぼ均一に照射されるので、従来の同種の処理装置と比較して、光触媒反応の効率が大幅に向上する。ダクト装置５６の内部で汚染物質が分解処理された空気は、空気流出室６０で整流された後、前記排出管を介して系外に放出される。この光触媒装置２は、ダクト装置５６内に紫外線照射室６１とハニカム構造体６２とが１組のものとして説明したが、これを複数組みのものとして配置してもよい。汚染物質の濃度が高い場合、あるいは無害化をより促進するために有効である。
【００７１】
［無害化された有機排ガスの処置］
無害化された有機排ガスは、管路を介して噴流式曝気装置１の空気供給管に導かれ、再利用される。この管路の途中に前述したとおり圧力調整弁Ａ又は有機排ガス分析計Ｂを設けるとよい。噴流式曝気装置１の空気供給管に供給される無害化された有機排ガスは、一部は地下水中に溶存して流出するので量が不足する。これを補う形で管路の途中に圧力調整弁Ａを設け、圧力が減じたとき自動的に外部から空気を吸引し所定量の気体を確保する。
【００７２】
又、地下水中の有機塩素系溶剤は、一定の分圧で気相濃度と液相濃度で釣り合う性質がある（Ｈｅｎｒｙ法則）。そこで一定の気相濃度以下であれば分離能力次第で液相濃度が予測できるので、管路の途中に有機排ガス分析計Ｂを設け、その計測された有機排ガス濃度値に応じ、有機排ガスの供給量を制御することができる。これら圧力調整弁Ａ又は有機排ガス分析計Ｂは別々に設けてもよく、一緒に設けてもよい。
【００７３】
更に、無害化された有機排ガスは、再利用せず放散させてもよいが、この場合吐出圧力を確保するのにブロア等を採用する。しかし急激な空気の吸引力のため騒音となる。このためサイレンサー（消音設備）を要する。本発明の場合は、前述のとおり還流方式を採用しているので、空気量は大きく変化しない。このため騒音が発生しないのでサイレンサーを必要とせず、構成が簡素となる。
本発明は以上のように構成され、特に有機排ガスを揮発性有機化合物として主に説明したが、この揮発性有機化合物以外の例えば臭気を伴うその他の排ガスであっても適用できる。本実施例に限定されないことはいうまでもない。
【００７４】
［実験例２］
図１３に、有機排ガスを無害化した場合の原ガスと無害化後の排ガスの濃度を分析した結果を表で示している。３回試験を試み、ＰＣＥ（テトラクロロエチレン）、ＴＣＥ（トリクロロエチレン）、ＤＣＥ（ジクロロエチレン）について、光触媒装置への流入前と後の有機排ガスを各々試験した。結果は表に示すように大幅な濃度減少率を示し無害化されていることが実証された。
【００７５】
【発明の効果】
以上詳記したように、本発明の汚染水及び有機排ガスの処理方法とその処理システムは、噴流式の曝気装置によって強制的に気水分離する方式としたことで、簡単な構造でしかも少ないエネルギーで汚染水から有機排ガスである揮発性有機化合物を効率的に除去できる装置となった。又、分離された有機排ガスは高効率の光触媒装置により、紫外線照射室の両側に配置された光触媒の担持されたハニカム構造体に導かれ、反射板を介して紫外線が照射され無害化された。このように地下水等の汚染水は、排ガスを含めシステムとして一連の浄化行程の中で一貫して効率よく完全無害化することができるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、汚染水及び有機排ガスの処理システムの実施形態概要を示すブロック図である。
【図２】図２（ａ）は、実施の形態を示す噴流式曝気装置を示す平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）の正面図である。
【図３】図３は、図３（ａ）、及び図３（ｂ）は、噴流発生室の原理を示す図であり、図３（ａ）は正面で切断した断面図、及び図３（ｂ）は側面で切断した断面図である。図３（ｃ）は、他の構造の噴射ノズルの例を示す噴流発生函の断面図である。
【図４】図４（ａ）、図４（ｂ）及び図４（ｃ）は、本実施の形態の前述した噴流発生函を示すものであり、図４（ａ）は正断面図、図４（ｂ）は右側断面図、及び図４（ｃ）は底面図である。
【図５】図５は、実施の形態を示す噴流式曝気装置を示す平面図であり、４台のポンプと４台の噴流発生函の接続関係を示すための展開図である。
【図６】図６は、噴流式曝気装置で処理した汚染水の試験結果を示す表である。
【図７】図７は、ハニカム構造の反射原理を示す説明図である。
【図８】図８は、光触媒装置の基本原理を示す説明図である。
【図９】図９は、光触媒装置の縦断面図である。
【図１０】図１０は、光触媒装置の横断面図である。
【図１１】図１１は、ハニカム構造体の一例を示す斜視図である。
【図１２】図１２は、反射板の一例を示す平面図である。
【図１３】図１３は、光触媒装置で処理された有機排ガスの濃度を実験したデータを示す表である。
【符号の説明】
１…噴流式曝気装置
２…光触媒装置
７…噴流ボックス
８…気液分離函
１０…有機排ガス
２３…噴流発生函
２５…噴射ノズル
２７…空気供給管
５２…紫外線ランプ
５３…光触媒体
５５…反射板
５６…ダクト装置
Ａ…圧力調整弁
Ｂ…有機排ガス分析計

Claims

汚染水から揮発性有機化合物を含む有機排ガスを分離して無害化処理するための処理方法において、
前記汚染水を加圧して鉛直方向上方にノズルで噴射する行程と、
前記噴射と共に空気を吸引、又は圧入して区画された空間内で前記汚染水と前記空気を攪拌・混合するための噴流を形成する行程と、
前記空間の鉛直方向の上方の吐出口から前記攪拌・混合された前記汚染水、及び前記汚染水から分離された前記揮発性有機化合物である有機排ガスを含む汚染空気とを前記空間から吐出させる行程と、
前記空間から吐出された前記汚染空気と前記揮発性有機化合物が減少した前記汚染水の気液混合体を気液分離函で前記汚染空気と前記汚染水に分離する行程と、
前記気液分離函で分離された前記汚染空気を紫外線が照射された光触媒に接触させて前記有機排ガスを酸化分解させる行程とからなり、
前記汚染水から除去された前記有機排ガスを前記光触媒への紫外線照射により分解処理をして無害化する
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理方法。
請求項１に記載の汚染水及び有機排ガスの処理方法において、
前記空間への前記汚染水と前記空気の噴射は、同一方向に噴射する
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理方法。
請求項１又は２に記載の汚染水及び有機排ガスの処理方法において、
前記噴流は、前記汚染水が前記空間の壁面に付着する壁付着現象であるコアンダ効果を伴うものである
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理方法。
請求項１ないし３から選択される１項に記載の汚染水及び有機排ガスの処理方法において、
前記空間は、３次元の空間で扁平であり、
前記空間の概ねの高さをＨで、前記空間の概ねの幅をＷで表し、前記ノズルの開口の有効直径をＤ_１で表すと、
前記噴射は長さ方向に向いて前記空間の概ねの中心線の方向に射出され、前記噴流の発生条件として、
Ｄ_１＜Ｈ、且つ、Ｗ／Ｈ＞４
であることを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理方法。
請求項１ないし４から選択される１項に記載の汚染水及び有機排ガスの処理方法において、
前記光触媒は、前記光触媒を被着する前に金属表面に絶縁被膜処理の施されたものである
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理方法。
汚染水を加圧して鉛直方向上方に噴射するためのノズルと、
前記ノズルに配置され空気を供給するための空気供給管と、
前記ノズルに加圧された前記汚染水を供給するための加圧ポンプと、
前記噴射と共に空気を吸引して区画された空間を備え、前記汚染水と前記空気を攪拌・混合するための噴流を形成するための噴流発生室と、
前記噴流発生室には前記攪拌・混合された前記汚染水、及び前記汚染水から分離された前記揮発性有機化合物を含む汚染空気を排出するための吐出口と、
この吐出口から吐出された前記汚染水と前記汚染空気の気液混合体を受け入れ、前記汚染空気と前記汚染水に分離するための気液分離函と、
この気液分離函から吐出され前記汚染空気中の前記揮発性有機化合物を紫外線が照射された光触媒に接触させる光触媒装置と
からなることを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記空気供給管に加圧された空気を供給するブロワと
を有するものであることを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６又は７に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記噴流ノズルと同軸に前記空気供給管が配置されている
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６又は７に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記噴流を発生する噴流発生室は、３次元の空間で扁平であり、
前記空間の概ねの高さをＨで、前記空間の概ねの幅をＷで表し、前記ノズルの開口の有効直径をＤ_１で表すと、
前記噴射は長さ方向に向いて前記空間の概ね中心線の方向に射出され、前記噴流の発生条件として、
Ｄ_１＜Ｈ、且つ、Ｗ／Ｈ＞４
であることを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６ないし９から選択される１項に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記噴流発生室は、多段階に直列に接続されている
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６ないし９から選択される１項に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記噴流発生室から吐出された前記汚染水と空気の気液混合体を受け入れ、空気と前記汚染水を分離するためのサイクロンと
からなることを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６ないし９から選択される１項に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記光触媒装置は、光触媒に行う光照射構成が多段階に直列に配置した構成になっていることを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６ないし９から選択される１項に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記光触媒装置から吐出される無害化された有機排ガスを前記噴流式曝気装置の噴流ボックスへ導くための管路を設けた
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６ないし９から選択される１項に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記光触媒装置は、１８５から３８０ｎｍの紫外光を有する紫外線照射源とアルミ鏡面仕上げ光触媒のハニカム構造体とを有する反射板を介し光照射を施すダクト形式の装置である
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項１１に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記気液分離函、又は前記サイクロンから空気が上段の前記噴流発生室に戻される管路を設けた
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６ないし１５から選択される１項に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記無害化された有機排ガスを前記空気供給管に接続された管路を介して供給し、その供給管路の途中に圧力調整弁を設け、無害化された有機排ガス以外の空気の供給も可能とする構成にした
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。
請求項６ないし１４から選択される１項に記載の汚染水及び有機排ガスの処理システムにおいて、
前記無害化された有機排ガスを前記空気供給管に接続された管路を介して供給し、その供給管路の途中に有機排ガス分析計を設け、無害化された有機排ガス量又は空気量を制御して供給することを可能とする構成にした
ことを特徴とする汚染水及び有機排ガスの処理システム。