JP4122579B2 - 照明領域設定装置、露光装置及び露光方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レチクルへ照射されるビームの照明領域を設定する照明領域設定装置および光源からのビームを照明領域設定手段を介してレチクル上に照射し、照明されたレチクルの像を感光基板の転写領域に投影露光する露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、パソコンやテレビ等の表示素子としては、薄型化を可能とする液晶表示基板が多用されるようになっている。この種の液晶表示基板は、平面視矩形状の感光基板上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターニングすることにより製造されている。そして、このフォトリソグラフィの装置として、レチクル上に形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上のフォトレジスト層に露光する露光装置が用いられている。
【０００３】
従来、この種の露光装置、例えばステッパ方式の露光装置では、露光対象となる感光基板の大型化に対応するために、感光基板の露光領域を複数の単位領域に分割して各単位領域に応じた露光を繰り返し、最終的に所望のパターンを合成する画面合成の手法が用いられている。そして、この画面合成により露光を行う際には、レチクル上に照射される光源からのビームを照明領域設定装置によって、上記単位領域に応じて照明領域を設定している。
【０００４】
一般に、上記の照明領域設定装置では、レチクルに対して略共役の位置に配置されるレチクルブラインドが用いられている。
従来、この種のレチクルブラインドは、金属材料で形成された直交する二辺の基準辺を有するユニット（以後、ブラインド羽根と呼ぶ）を対向して配置し、これらブラインド羽根を光軸と直交する方向であるＸＹ方向に移動させることにより開口の位置と大きさ、すなわち照明領域を設定するものである。
【０００５】
ところが、このレチクルブラインドでは、設定された開口により複数の単位領域毎に露光するため、隣接する単位領域においてレチクルの描画誤差や投影光学系のレンズの収差、感光基板を位置決めする基板ステージの位置決め誤差等が起因して、パターンの継ぎ目部分に段差が発生し、デバイスの特性が損なわれることがある。さらに、画面合成された単層のパターンを多層に重ね合わせた場合、各層の単位領域の重ね誤差やパターンの線幅差がパターンの継ぎ目部分で不連続に変化し、特にアクティブマトリックス液晶デバイスでは、パターン継ぎ目部分でコントラストが不連続に変化してデバイスの品質が低下することになる。
【０００６】
上記のような画面合成上の不都合を解消する手段の一例として、特開平７−２３５４６６号公報に開示されているものがある。
これは、上記ブラインド羽根をガラスにて形成し、その基準片をＣｒ蒸着により形成するものである。ここで、基準片の一辺は、所定の範囲でＣｒ濃度が０〜１００％まで徐々に変化するように形成されている。
【０００７】
このガラスブラインドにより単位領域を設定し露光する際には、上記Ｃｒ濃度が変化する一辺側、いわゆる濃度ウェッジ側において露光量が０〜１００％まで徐々に変化することになる。ここで、濃度ウェッジ部が重なるように隣接する単位領域を露光すると、濃度変化が逆になっているため、濃度ウェッジ部では全ての露光範囲で１００％の露光量となる。
【０００８】
その結果、パターン継ぎ目が見えてしまう原因である重ね誤差や線幅差が存在しても、それが徐々に変化するために人間の目では認識されなくなる。ここで、濃度ウェッジ部と直交する辺においては、ガラスブラインドを所定速度でスキャンすることにより露光量を０〜１００％まで徐々に変化させることができ、濃度ウェッジと同様の効果が得られる。この結果、開口部の四辺において継ぎ目が見えるという不具合は解消される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来の照明領域設定装置および露光装置には、以下のような問題が存在する。
レチクルへ照射されるビームはガラスプレートを透過するが、このガラスプレート上の開口部または濃度ウェッジ部に異物が付着する可能性がある。
【００１０】
この異物が、ある大きさ以上の場合、異物の像が感光基板に結像し転写されてしまい不良品を出すことになる。そこで、従来はＣｒ蒸着面側に水銀光等の検出光を投射するとともに、このときに発生する散乱光の光量を計測することにより異物の有無を検出していた。
【００１１】
ところが、この検出光では、ガラスプレートの表面側を検出することは可能だが、裏面側に検出光を投射することは構造上困難であり、現実的には裏面側の異物の有無を検出することはできなかった。
【００１２】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、レチクルブラインドの裏面側に異物が付着することを防止できる照明領域設定装置および異物の像が感光基板に転写されてしまうことを防止できる露光装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図４に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の照明領域設定装置は、ビーム（Ｂ）を透過する透過部（４３）の表面側にビーム（Ｂ）の少なくとも一部を遮光する遮光部（４４）が形成され、遮光部（４４）を用いてビーム（Ｂ）が照明する領域を設定する照明領域設定装置（１１）において、ビーム（Ｂ）を透過するとともに、透過部（４３）の裏面側に所定の空間である閉空間（３８，４２）を形成するカバープレート（３７，４１）を設けたことを特徴とするものである。
【００１４】
従って、本発明の照明領域設定装置では、透過部（４３）およびカバープレート（３７，４１）を透過するビーム（Ｂ）に対して遮光部（４４）を用いることによって、ビーム（Ｂ）が照明する領域を設定することができる。また、カバープレート（３７，４１）によって、透過部（４３）の裏面側が閉空間（３８，４２）になっているので、透過部（４３）の裏面側に異物が付着することを防止できる。
【００１５】
また、本発明の露光装置は、光源（２）からのビーム（Ｂ）を照明領域設定装置（１１）を介してレチクル（Ｒ）上に照射し、照明されたレチクル（Ｒ）のパターンを感光基板（Ｐ）に転写する露光装置（１）において、照明領域設定装置（１１）としては、請求項１から３のいずれかに記載された照明領域設定装置（１１）が、透過部（４３）の表面側をレチクル（Ｒ）の共役面（Ｆ）の近傍に位置させて用いられ、照明領域設定装置（１１）によりレチクル（Ｒ）に照射されるビーム（Ｂ）の照明領域が設定されることを特徴とするものである。
【００１６】
従って、本発明の露光装置では、透過部（４３）の裏面側が閉空間になっているので、異物がこの透過部（４３）の裏面側に付着して感光基板（Ｐ）に転写されることを防止できる。また、異物が透過部（４３）の裏面側に付着する場合はカバープレート（３７，４１）に付着するが、カバープレート（３７，４１）はレチクル（Ｒ）の共役面（Ｆ）に対して閉空間（３８，４２）を隔てた距離の位置に配置されているので、異物の像が感光基板（Ｐ）に結像することを防止できる。
また、本発明の露光方法は、先に記載の露光装置を用いて前記レチクルのパターンを前記感光基板上の単位領域に転写する露光方法において、前記感光基板はガラスプレートであることを特徴とするものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の照明領域設定装置および露光装置の実施の形態を、図１ないし図４を参照して説明する。
図２は、露光装置１の概略構成図である。
露光装置１は、レチクルＲに形成されたパターンを感光基板Ｐ上へ投影転写するものであって、水銀ランプ（光源）２と照明光学系３と投影光学系４と基板ステージ５とから構成されている。
【００１８】
水銀ランプ２は、照明光としてのビームＢを発するものである。この水銀ランプ２には、楕円鏡６が付設されている。楕円鏡６は、水銀ランプ２が発する照明光を集光するものである。
【００１９】
照明光学系３は、反射ミラー７，８と、波長選択フィルタ９と、フライアイインテグレータ１０と、照明領域設定装置１１と、レンズ系１２とから概略構成されている。反射ミラー７は、楕円鏡６で集光されたビームＢを波長選択フィルタ９へ向けて反射するものである。反射ミラー８は、照明領域設定装置１１を通過したビームＢをレンズ系１２へ向けて反射するものである。
【００２０】
波長選択フィルタ９は、ビームＢのうち露光に必要な波長（ｇ線やｉ線）のみを通過させるものである。フライアイインテグレータ１０は、波長選択フィルタ９を通過したビーム５の照度分布を均一にするものである。レンズ系１２は、照明領域設定装置１１で設定された照明領域の像をレチクルＲで結像させるものである。
【００２１】
照明領域設定装置１１は、フライアイインテグレータ１０を通過したビームＢが照明する領域を設定するものであって、図１に示すように、ベース１３、中板１４，１５、ホルダ（保持体）１６，１７、レチクルブラインド１８，１９および異物検査装置２０を主体として構成されている。
【００２２】
ベース１３は、ビームＢ方向に収容空間２３を隔てて互いに対向する対向壁２１，２２を有する断面視Ｕ字形状をなしている。そして、収容空間２３には、上記中板１４、ホルダ１６、レチクルブラインド１８を備えるユニットおよび中板１５、ホルダ１７、レチクルブラインド１９を備えるユニットがレチクルＲに対する共役面Ｆを挟んでそれぞれ収容されている。
【００２３】
対向壁２１，２２には、ビームＢが貫通する貫通孔２４，２５がそれぞれ形成されている。対向壁２１の内面には、Ｙ軸方向に伸長する一対のガイドレール２６，２６（図１では一ヶ所のみ表示）が設けられている。また、対向壁２２の外面には、Ｙ軸方向に伸長する一対のガイドレール２７，２７（図１では一ヶ所のみを表示）が設けられている。そして、対向壁２２の内面にも、Ｙ軸方向に伸長する一対のガイドレール２８，２８（図１では一ヶ所のみ表示）が設けられている。
【００２４】
中板１４には、ビームＢが貫通する貫通孔２９が形成されるとともに、Ｙ軸ガイド３０，３０およびガイドレール３１，３１がそれぞれ一対で設けられている。Ｙ軸ガイド３０，３０は、ガイドレール２６，２６に移動自在に嵌合するものである。ガイドレール３１，３１は、ホルダ１６に臨む面にＸ軸方向に伸長するように設けられている。
【００２５】
中板１５には、ビームＢが貫通する貫通孔３２が形成されるとともに、Ｙ軸ガイド３３，３３およびガイドレール３４，３４がそれぞれ一対で設けられている。Ｙ軸ガイド３３，３３は、ガイドレール２８，２８に移動自在に嵌合するものである。ガイドレール３４，３４は、ホルダ１７に臨む面にＸ軸方向に伸長するように設けられている。
【００２６】
ホルダ１６には、ビームＢが貫通する貫通孔３５が形成されるとともに、一対のＸ軸ガイド３６，３６が設けられている。Ｘ軸ガイド３６，３６は、ガイドレール３１，３１に移動自在に嵌合するものである。また、ホルダ１６には、レチクルブラインド１８およびカバープレート３７がそれぞれ貼設されて保持されている。レチクルブラインド１８は、その裏面がホルダ１６の共役面Ｆ側から貫通孔３５を覆うように貼設されている。カバープレート３７は、レチクルブラインド１８と逆側から貫通孔３５を覆うように貼設されている。そして、これらホルダ１６およびカバープレート３７により、レチクルブラインド１８の裏面側に閉空間３８が形成されている。
【００２７】
カバープレート３７は、ビームＢを透過するガラス等の透過性材料で形成されている。また、カバープレート３７の上記裏面側は、共役面Ｆから所定距離離間するように設定されている。
【００２８】
ホルダ１７には、ビームＢが貫通する貫通孔３９が形成されるとともに、一対のＸ軸ガイド４０，４０が設けられている。Ｘ軸ガイド４０，４０は、ガイドレール３４，３４に移動自在に嵌合するものである。また、ホルダ１７には、レチクルブラインド１９およびカバープレート４１がそれぞれ貼設されて保持されている。レチクルブラインド１９は、その裏面がホルダ１７の共役面Ｆ側から貫通孔３９を覆うように貼設されている。カバープレート４１は、レチクルブラインド１９と逆側から貫通孔３９を覆うように貼設されている。そして、これらホルダ１７およびカバープレート４１により、レチクルブラインド１９の裏面側に閉空間４２が形成されている。
【００２９】
カバープレート４１は、ビームＢを透過するガラス等の透過性材料で形成されている。また、カバープレート４１の上記裏面側は、共役面Ｆから所定距離離間するように設定されている。これらカバープレート３７，４１の共役面ＦからのビームＢ方向の離間距離は、ビームＢの光路上の光学特性、すなわち水銀ランプ２、投影光学系４、レンズ系１２および感光基板Ｐへの露光面積に基づいて設定されている。
【００３０】
一方、図３に示すように、レチクルブラインド１８，１９のそれぞれは、照明光のビームＢを透過する透明なガラス基板（透過部）４３を備えている。二枚のガラス基板４３の表面側は、共役面Ｆを挟んで互いに対向するように、且つ該共役面Ｆの近傍に位置している。
【００３１】
ガラス基板４３上には、遮光部４４と減光部４６と開口４８とが備えられている。遮光部４４は、ビームＢを遮光するようにビームＢの透過率を減少させるものであって、ガラス基板４３上の表面側にクロムを蒸着することにより形成されている。
【００３２】
減光部４６には、上記クロムが露光装置１の解像限界以下の大きさのドット状でガラス基板４３上の表面側に蒸着されている。そして、このドット状のクロム膜の密度は、開口４８から遮光部４４へ向かうにしたがって漸次大きくなるように設定されることにより、ビームＢの減光率が漸次変化する構成になっている。また、開口４８は、クロムが蒸着されない平面視矩形状をなすものである。
【００３３】
異物検査装置２０は、ガラス基板４３の表面に異物が付着しているかどうかを検出するものであって、照明ユニット４９とディテクタ５０とから構成されている。照明ユニット４９は、レチクルブラインド１８，１９間に共役面Ｆに沿って水銀光等の検出光を投射するものであって、ベース１３のＹ軸方向上方に取り付けられている。
【００３４】
ディテクタ５０は、照明ユニット４９が投射した検出光の散乱光を検出するものであって、対向壁２１の貫通孔２４に対して進出、退避するように、ガイドレール２７に沿って移動自在とされている。
【００３５】
投影光学系４は、レチクルＲの照明領域に存在するパターンの像を感光基板Ｐ上に結像させるものである。
基板ステージ５は、感光基板Ｐを保持するものであって、互いに直交する方向へ移動自在とされている。この基板ステージ５上には、移動鏡５１が設けられている。移動鏡５１には、不図示のレーザ干渉計からレーザ光５２が射出され、その反射光と入射光との干渉に基づいて移動鏡５１とレーザ干渉計との間の距離、すなわち基板ステージ５の位置が検出される構成になっている。
【００３６】
上記の構成の照明領域設定装置および露光装置のうち、まず照明領域設定装置１１の作用について以下に説明する。
露光処理前に、レチクルブラインド１８，１９に対する異物検査を行う際には、まず水銀ランプ２からのビームＢを遮断するとともに、異物検査装置２０のディテクタ５０をガイドレール２７に沿って移動させて、図１に示すように、ベース１３の貫通孔２４に臨む位置に進出させる。
【００３７】
次に、照明ユニット４９が、レチクルブラインド１８，１９間に検出光を投射する。そして、ディテクタ５０は、検出光の散乱光を検出する。ここで、レチクルブラインド１８，１９のガラス基板４３の表面に異物が付着していた場合は、異物が付着していない場合に比較して散乱光の光量が変化するので異物の存在を検出できる。
【００３８】
異物が検出されたときには、ホルダ１６またはホルダ１７を、ガイドレール３１，３１またはガイドレール３４，３４に沿ってＸ軸方向に移動させることによりベース１３から突出させる。これにより、レチクルブラインド１８，１９のガラス基板４３を清掃することができる。
【００３９】
ここで、ガラス基板４３の裏面側は、上記の異物検査装置２０では検出できないが、レチクルブラインド１８，１９の裏面側がそれぞれ閉空間３８，４２になっているので異物が付着することはない。また、カバープレート３７，４１に付着した異物も異物検査装置２０では検出できないが、カバープレート３７，４１が共役面Ｆに対してビームＢ方向に、光路上の光学特性に基づいて離間しているので、上記カバープレート３７，４１に付着した異物の像が感光基板Ｐに結像して転写されることはない。
【００４０】
例えば、上記の構成の露光装置１において、カバープレート３７，４１の裏面（共役面Ｆ側と逆側の面）と共役面Ｆとの間のビームＢ方向の距離が１３．５ｍｍの場合、感光基板Ｐ上の照度むらに３％以上の影響力を及ぼしてしまう異物の大きさは直径１．１ｍｍ程度である。通常、露光装置１は、クリーンルーム内に設置されているので、この大きさ以上の異物が付着する可能性はほとんどない。したがって、カバープレート３７，４１を共役面Ｆに対して光路上の光学特性に基づいた距離離間させることにより、カバープレート３７，４１に付着した異物の像は、感光基板Ｐに転写されない。
【００４１】
異物検査が完了すると、照明ユニット４９からの検出光の投射を停止するとともに、ディテクタ５０をガイドレール２７に沿って移動させて、貫通孔２４に臨む位置から退避させる。
【００４２】
次に、照明領域設定装置１１により、ビームＢの照明領域を設定する手順について説明する。なお、照明領域の設定については、特開平７−２３５４６６号公報に開示されており、ここでは簡単に説明する。
まず、例えば中板１４，１５、ホルダ１６，１７をそれぞれ移動させて、レチクルブラインド１８，１９を図４（ａ）に示すように設定すると、上下辺に減光部４６を有する開口５３が形成される。
【００４３】
また、図４（ａ）の状態から露光中にホルダ１６，１７を駆動してレチクルブラインド１８を＋Ｘ方向に、レチクルブラインド１９を−Ｘ方向に移動させると、図４（ｂ）に示すように、レチクルブラインド１８の開口４８の右辺およびレチクルブラインド１９の開口４８の左辺に、減光領域である減光部５６がそれぞれ形成される。
【００４４】
このように、レチクルブラインドの減光部の位置、およびレチクルブラインドの移動により、照明領域内の任意の辺に減光領域を形成することができる。なお、特開平７−２３５４６６号公報に開示されているように、レチクルブラインドに減光部の位置が異なる複数の開口を設けて、適宜選択して使用するようにしてもよい。
【００４５】
こうして、レチクルブラインド１８，１９により設定された照明領域は、隣接する単位領域同士が減光領域で重複するように設定される。これにより、画面合成時に発生する重ね誤差や線幅差が存在しても、それが徐々に変化するために継ぎ目がぼかされ人間の目では認識されなくなり、パターン継ぎ目が見えるという事態は回避される。
なお、隣接する照明領域が無い辺は、レチクルの遮光帯によりマスキングされる。
【００４６】
そして、上記の照明領域設定装置１１を備えた露光装置１では、水銀ランプ２からの照明光であるビームＢが楕円鏡６で集光され、反射ミラー７で反射されて波長選択フィルタ９に入射する。波長選択フィルタ９で露光に必要な波長のみが通過したビームＢは、フライアイインテグレータ１０で均一な照度分布にされた後、照明領域設定装置１１に到達する。
【００４７】
照明領域設定装置１１で設定された開口を通過したビームＢは、反射ミラー８で反射されてレンズ系１２に入射する。このレンズ系１２によってレチクルブラインド１８，１９で設定された開口の像が、レチクルＲ上で結像し、レチクルＲの照明領域が照明される。この照明領域に存在するレチクルＲのパターンの像は、投影光学系４によって感光基板Ｐ上に結像し、これにより感光基板Ｐ上の単位領域が露光される。なお、感光基板Ｐは、半導体集積回路の製造過程であればウエハであり、液晶表示素子製造過程であればガラスプレートである。
【００４８】
一回の露光が終了した後、レチクルＲを交換するとともに基板ステージ５を駆動して、感光基板Ｐ上の別の単位領域が次回の露光領域に位置するように、基板ステージ５の位置をレーザ干渉計で検出しながら設定する。また、この単位領域に対応する開口を照明領域設定装置１１によって設定する。以下、露光終了毎に同様手順を繰り返すことにより、感光基板Ｐ上の全領域が露光される。
【００４９】
本実施の形態の照明領域設定装置では、レチクルブラインド１８，１９のガラス基板４３の表面については異物検査装置２０が異物の付着を検出することができ、ガラス基板４３の裏面については裏面側がホルダ１６，１７およびカバープレート３７，４１により閉空間３８，４２になっているので異物が付着することを防止できる。そのため、異物が付着した場合の清掃作業も表面側だけで済むのでメンテナンス時間の短縮も実現することができる。
【００５０】
また、本実施の形態の照明領域設定装置では、共役面Ｆを挟んでガラス基板４３を二枚用いているが、それぞれの裏面側がカバープレート３７，４１によって閉空間３８，４２になっているので両ガラス基板４３共、裏面に異物が付着することを防止できる。
【００５１】
一方、本実施の形態の露光装置では、レチクルＲの共役面Ｆ近傍に位置するレチクルブラインド１８，１９の両面に異物が付着しないので、レチクルＲに形成されたパターンを所定通り感光基板Ｐ上へ転写することができる。また、本実施の形態の露光装置では、カバープレート３７，４１が共役面Ｆに対してビームＢの光路上の光学特性に基づいた距離離間しているので、上記閉空間３８，４２を形成するこれらカバープレート３７，４１に異物が付着した場合でも、感光基板Ｐ上に問題となる照度むらを起こすことや、この異物の像が感光基板Ｐへ転写されてしまうことを防止でき、レチクルＲに形成された所定のパターンを正確に感光基板Ｐ上へ転写することができる。
【００５２】
さらに、異物の付着する可能性がある面がガラス基板４３の表面だけなので、異物付着による感光基板Ｐの不良率も半減させることもできる。
そして、上記光学特性を構成するパラメータが変更された場合は、想定される異物の大きさに基づいて、共役面Ｆとカバープレートとの間の離間距離を適宜設定することも可能である。
【００５３】
なお、上記実施の形態において、異物検査装置２０が照明領域設定装置１１を構成するものとしたが、これに限られることなく、照明領域設定装置１１の外部に設けられる構成でもよい。また、この異物検査装置２０のディテクタ５０をベース１３の対向壁２１に設ける構成としたが、対向壁２２側に設けるような構成であってもよい。
【００５４】
また、上記実施の形態において、感光基板Ｐ上の単位領域毎にレチクルＲを交換する構成としたが、これに限定されるものではなく、例えばレチクルに複数回分のパターンを形成し、感光基板上の露光領域の変更に連係してレチクル内の照明領域を変更する構成であってもよい。
【００５５】
なお、露光装置としては、レチクルとウエハとを静止した状態でレチクルのパターンを露光し、ウエハを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート型の露光装置でも、レチクルとウエハとを同期移動してレチクルのパターンを露光する走査型の露光装置にも適用することができる。
【００５６】
露光装置の種類としては、半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適用できる。
【００５７】
また、照明光学系の光源としては、水銀ランプから発生する輝線（ｇ線、ｉ線）、に限られず、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ₂レーザ（１５７ｎｍ）を用いることができる。
【００５８】
投影光学系４の倍率は、縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよい。
また、投影光学系としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用いる。
【００５９】
レチクルステージや基板ステージにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。
また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００６０】
この場合、基板ステージの移動により発生する反力は、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。また、レチクルステージの移動により発生する反力は、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。
【００６１】
なお、複数のレンズから構成される照明光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整をするとともに、多数の機械部品からなるレチクルステージや基板ステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより本実施の形態の露光装置を製造することができる。この露光装置の製造は、温度およびクリーン度が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６２】
半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施の形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに露光するステップ、デバイス組み立てステップ、（ダイシング工程、ボンディング工程、パＰッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。
【００６３】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に係る照明領域設定装置は、ビームを透過するとともに透過部の裏面側に閉空間を形成するカバープレートを設ける構成となっている。
これにより、この照明領域設定装置では、透過部の裏面に異物が付着することを防止できるという効果が得られるとともに、異物が付着した場合の清掃作業も表面側だけで済みメンテナンス時間も短縮できるという効果が得られる。
【００６４】
請求項２に係る照明領域設定装置は、閉空間が透過部の裏面側を保持する保持体とカバープレートとにより形成される構成となっている。
これにより、この照明領域設定装置では、カバープレートを設けることだけで透過部の裏面側に容易に閉空間を形成することができ、上記透過部の裏面に異物が付着することを防止するという効果やメンテナンス時間を短縮できるという効果を奏するものである。
【００６５】
請求項３に係る照明領域設定装置は、カバープレートが複数の透過部のそれぞれに配置される構成となっている。
これにより、この照明領域設定装置では、透過部が複数配置された場合でも、いずれの透過部の裏面にも異物の付着を防止できるという優れた効果を奏する。
【００６６】
請求項４に係る露光装置は、請求項１から３のいずれかに記載された照明領域設定装置が、透過部の表面側をレチクル共役面の近傍に位置させて用いられており、この照明領域設定装置によりレチクルに照射されるビームの照明領域を設定する構成となっている。
これにより、この露光装置では、透過部の両面に異物が付着しないので、レチクルに形成されたパターンを所定通り感光基板上へ確実に転写できるという効果が得られる。また、カバープレートに異物が付着した場合でも、感光基板上に問題となる照度むらを起こすことや、この異物の像が感光基板へ転写されてしまうことを防止でき、レチクルに形成された所定のパターンを正確に感光基板上へ転写できるという優れた効果が得られる。
【００６７】
請求項５に係る露光装置は、閉空間のビーム方向の離間距離が光路上の光学特性に基づいて設定される構成となっている。
これにより、この露光装置では、カバープレートに異物が付着した場合でも、感光基板上に問題となる照度むらを起こすことや、この異物の像が感光基板へ転写されてしまうことを防止できるとともに、光学特性を構成するパラメータが変更された場合でも、想定される異物の大きさに基づいて、レチクル共役面とカバープレートとの間の離間距離を適宜設定できるという効果が得られる。
【００６８】
請求項６に係る露光装置は、透過部の表面に異物が付着しているかどうかを検出する異物検査装置を備える構成となっている。
これにより、この露光装置では、裏面に異物が付着しない透過部の表面を検出できるので、露光時には表面、裏面とも異物が付着していない状態で照明領域の設定が行え、レチクルに形成された所定のパターンを正確に感光基板上へ転写できるという優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施の形態を示す図であって、レチクルブラインドの裏面側に閉空間を形成するカバープレートが設けられた照明領域設定装置の断面図である。
【図２】 同照明領域設定装置を備えた露光装置の概略構成図である。
【図３】 本発明の照明領域設定装置を構成するレチクルブラインドの平面図である。
【図４】 同レチクルブラインドにより開口を形成する手順を説明する説明図である。
【符号の説明】
Ｂ ビーム
Ｆ 共役面
Ｐ 感光基板
Ｒ レチクル
１ 露光装置
２ 水銀ランプ（光源）
１１ 照明領域設定装置
１６，１７ ホルダ（保持体）
２０ 異物検査装置
３７，４１ カバープレート
３８，４２ 閉空間
４３ ガラス基板（透過部）
４４ 遮光部

Claims (8)

1. ビームを透過する透過部の表面側に前記ビームの少なくとも一部を遮光する遮光部が形成され、該遮光部を用いて前記ビームが照明する領域を設定する照明領域設定装置において、
   前記ビームを透過するとともに、前記透過部の裏面側に所定の空間である閉空間を形成するカバープレートを設け、
   前記閉空間は、前記透過部の裏面側を保持する保持体と前記カバープレートとにより形成され、
   前記透過部は、前記表面側を対向させて複数配置され、
   前記カバープレートは、前記複数の透過部のそれぞれに配置されることを特徴とする照明領域設定装置。
2. 請求項１記載の照明領域設定装置において、
   前記透過部の前記表面側に前記遮光部と隣接して、前記ビームの減光率を漸次変化させる減光部が形成されていることを特徴とする照明領域設定装置。
3. 請求項１または２記載の照明領域設定装置において、
   前記複数の透過部は、前記透過部の前記表面に沿った方向に移動可能であることを特徴とする照明領域設定装置。
4. 光源からのビームを照明領域設定装置を介してレチクル上に照射し、照明された該レチクルのパターンを感光基板に転写する露光装置において、
   前記照明領域設定装置としては、請求項１から３のいずれかに記載された照明領域設定装置が、前記透過部の表面側を前記レチクルの共役面の近傍に位置させて用いられ、
   前記照明領域設定装置により前記レチクルに照射される前記ビームの照明領域が設定されることを特徴とする露光装置。
5. 請求項４記載の露光装置において、
   前記閉空間の前記ビーム方向の離間距離は、該ビームの光路上の光学特性に基づいて設定されることを特徴とする露光装置。
6. 請求項４または５記載の露光装置において、
   前記透過部の表面側に対して検出光を投射して、該表面に異物が付着しているかどうかを検出する異物検査装置を備えることを特徴とする露光装置。
7. 請求項４乃至６の何れか一項記載の露光装置を用いて前記レチクルのパターンを前記感光基板上の単位領域に転写する露光方法において、
   前記感光基板はガラスプレートであることを特徴とする露光方法。
8. 請求項７記載の露光方法において、
   前記照明領域設定装置の前記透過部の前記表面側に前記遮光部と隣接して、前記ビームの減光率を漸次変化させる減光部が形成され、
   前記感光基板上には複数の単位領域が露光され、
   隣接する前記単位領域同士が重複する領域は前記減光部を介した光で露光されることを特徴とする露光方法。

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