JP4088283B2 - 回折光学素子およびそれを備える光学系並びに光学装置 - Google Patents
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Description
(I)非球面波を容易に生成することができるので、収差を効果的に補正することができる。
(II)実質的に厚みを持たないので、設計の自由度が高く、コンパクトな光学系を実現することができる。
(III)屈折レンズでのアッベ数に相当する量が、回折レンズでは負の値となるので、屈折素子との組み合わせによって、色収差を効果的に補正することができる。
で与えられる。
で定義される量である。ここで、波長λ0で、m0次回折効率が100%となるように最適化した溝深さd0は、
となるので、このときの位相振幅aは、
となる。
Binary Optics Technology; The Theory and Design of Multi-Level Diffractive Optical Element, Gary J.Swanson, Technical Report 854,MIT Lincoln Laboratory, August 1989.
で与えられる。ただし、n1(λ) は、高屈折率低分散の光学材料10aの屈折率を示し、n2(λ) は、低屈折率高分散の光学材料10bの屈折率を示す。
前記第1、第2および第3の領域は、いずれも使用する波長に対して実質的に透明で、互いに異なる屈折率を有し、
前記第1および第2のレリーフパターンは、面内に存在する共通の回転対称軸を通る断面形状がそれぞれ鋸歯波状で、前記回転対称軸を中心にして、それぞれ同心円状に交互に連続して形成された複数の第1の傾斜部および複数の第2の傾斜部を有し、
前記第1の傾斜部は前記第2の傾斜部よりも傾斜が緩やかになっていると共に、前記回転対称軸から外周部に向けて傾斜部の長さが徐々に短くなっており、
前記第1の傾斜部のうち、最も長い傾斜部の一端が前記回転対称軸と一致していることを特徴とするものである。
前記第1および第2のレリーフパターンのそれぞれの溝深さを、d1およびd2、それらの比を、α=d2/d1として、
ただし、λ:光の波長
とするとき、
ただし、λ1:使用する光の波長域の短波長端の波長
λ2:使用する光の波長域の長波長端の波長
を満たすことを特徴とするものである。
となり、第2のレリーフパターン22の位相振幅a2(λ) は、
となる。
のように表すことができる。
となる。ただし、αは、以下のように、第1のレリーフパターン21の溝深さd1と、第2のレリーフパターン22の溝深さd2との比で定義される量である。
のように表すことができる。この(11)式は、図1に示す構成の位相振幅を表す(9)式に相当するもので、パラメータαも、第1のレリーフパターン23の溝深さd1と、第2のレリーフパターン24の溝深さd2とにより、(10)式で定義されるものである。
としたとき、ΔN(λ)が波長λの増加に伴って増加するように、材料の組み合わせと、溝深さの比とを最適に設定するのが効果的である。
で与えられるQ値がよく知られており、一般に、Q<1のとき、その回折光学素子は薄型に分類される。ただし、(13)式において、λは波長、Tは周期構造のピッチ、Dは周期構造の深さ、n0は周期構造の平均屈折率である。したがって、後述するこの発明に係る回折光学素子においても、Q<1を満たすように構成することが好ましい。
で与えられる。また、図2に示した構成の回折光学素子における、周期構造の深さDおよび平均屈折率n0は、
で与えられる。
で表され、そのときのm次回折効率ηmは、
で与えられる。上記(18)式で表される位相振幅は、(9)式で表される位相振幅に、係数1/2が掛かっただけであるので、第1実施例の場合と全く同じ作用で、位相振幅の波長依存を低減することができる。
12,15,102,105,108,112 第2の領域
13,16,103,106,113 第3の領域
21,23,201,203,205,207,211 第1のレリーフパターン
22,24,202,204,206,208,212 第2のレリーフパターン
Claims (8)
- 第1の領域と第2の領域との境界に形成された第1のレリーフパターンと、前記第2の領域と第3の領域との境界に形成された第2のレリーフパターンとを有する回折光学素子であって、
前記第1、第2および第3の領域は、いずれも使用する波長に対して実質的に透明で、互いに異なる屈折率を有し、
前記第1および第2のレリーフパターンは、面内に存在する共通の回転対称軸を通る断面形状がそれぞれ鋸歯波状で、前記回転対称軸を中心にして、それぞれ同心円状に交互に連続して形成された複数の第1の傾斜部および複数の第2の傾斜部を有し、
前記第1の傾斜部は前記第2の傾斜部よりも傾斜が緩やかになっていると共に、前記回転対称軸から外周部に向けて傾斜部の長さが徐々に短くなっており、
前記第1の傾斜部のうち、最も長い傾斜部の一端が前記回転対称軸と一致していることを特徴とする回折光学素子。 - 前記第1および第2のレリーフパターンは、前記回転対称軸を通る断面形状が実質的に同一形状であることを特徴とする請求項1に記載の回折光学素子。
- 前記第3の領域側から見て、前記第1の傾斜部は、前記外周部に向かって高さが低くなるように傾斜していることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の回折光学素子。
- 前記第1の領域の前記第1のレリーフパターンを有する面とは反対側の面は、曲率を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の回折光学素子。
- 前記第3の領域の前記第2のレリーフパターンを有する面とは反対側の面は、曲率を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の回折光学素子。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の回折光学素子を備える光学系。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の回折光学素子または請求項7に記載の光学系を備える光学装置。
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