JP4079033B2 - 電子ビーム加工装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、イオンビームエッチングを行うための電子ビーム加工装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
【特許文献1】
特開2002−75232号公報
従来、圧電セラミック発振子などの圧電部品の周波数調整において、電極をエッチングするためにイオンビームが用いられている。イオンビームを発生する電子ビーム加工装置の基本原理は図1,図2に記載の通りである。
図において、1はプラズマ生成室、2は複数の細孔2aを有する遮蔽グリッド、3は遮蔽グリッド2の細孔2aに対応する細孔3aを有する加速グリッド、4は加速グリッド3を保持する加速グリッドベースである。遮蔽グリッド2の外周部はプラズマ生成室1に固定され、加速グリッド3の外周部は加速グリッドベース4に固定され、加速グリッドベース4はプラズマ生成室1に取り付けられている。加速グリッド3と遮蔽グリッド2との間には、一定の隙間L(例えば約0.4mm)が設けられている。加速グリッド3の下方には、遮蔽マスク5、シャッタ6、シャッタ受け7、照射マスク8が順次配置され、照射マスク8の背後に被加工物Wが配置されている。
【0003】
プラズマ生成室1ではAr等の不活性ガスを真空放電し、+イオンを得る。この+イオンは、加速グリッド3から電位エネルギーを受けることにより、プラズマ生成室1から引き出され、被加工物Wに衝突し、削り加工を行う。この際、加速グリッド3は+イオン衝突による摩耗を避けるため、プラズマ生成室1と同電位の遮蔽グリッド2によりカバーされている。遮蔽グリッド2と加速グリッド3との間隔Lが適正であれば、+イオンは被加工物Wに向かって直進し、高精度な加工を行うことができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
昨今、電子ビーム加工装置の処理能力向上を目的として、電子ビームの照射エリアの拡大が求められている。そのためには、プラズマ生成室1、遮蔽グリッド2および加速グリッド3のサイズ拡大が必要となるが、これに伴う弊害として、厚み0.4mm程度の低剛性部品である遮蔽グリッド2および加速グリッド3が、図3に示すようにプラズマ熱により変形(主に厚み方向の変形)を起こすことが挙げられる。つまり、遮蔽グリッド2および加速グリッド3の周囲は拘束されているので、細孔2a,3aを設けた部分(多孔部)がプラズマ熱により加熱されると、その熱応力によって平面方向に延びる結果、厚み方向に変形するからである。厚み方向の変形量は、グリッドサイズが拡大するほど大きくなる。これらの部品に変形が発生すると、グリッド間隔Lが変動し、+イオンの直進性が失われてしまう。その結果、加工装置としての加工精度が悪化することにつながる。
【0005】
特許文献1には、遮蔽グリッドの温度上昇および熱による歪みを抑制するシールド板を設けるとともに、遮蔽グリッドおよび加速グリッドにそれぞれ水冷ジャケットを取り付けた電子ビーム加工装置が提案されている。
しかしながら、遮蔽グリッドおよび加速グリッドの最も熱変形が大きな部分は多孔部であり、遮蔽グリッドおよび加速グリッドの周囲を水冷ジャケットで冷却しても、多孔部は高温のままであり、その部分の熱変形を効果的に抑制できない。
【0006】
そこで、本発明の目的は、遮蔽グリッドおよび加速グリッドの熱変形を抑制し、加工精度の悪化を防止できる電子ビーム加工装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1に係る発明は、Arガスの+イオンを生成するプラズマ生成室と、プラズマ生成室の開口部に外周部が固定され、中央部に複数の細孔を有する1枚の金属板よりなる遮蔽グリッドと、遮蔽グリッドの前面に間隔をあけて配置され、外周部がプラズマ生成室に固定され、中央部に遮蔽グリッドの細孔と一致する形状の複数の細孔を有する1枚の金属板よりなる加速グリッドとを備えた電子ビーム加工装置において、上記遮蔽グリッドおよび加速グリッドの細孔を設けた領域の周囲であって、プラズマ生成領域より外側領域でかつ上記プラズマ生成室に固定された外周部より内周側に、スロット構造を持つ熱変形吸収部を設けたことを特徴とする電子ビーム加工装置を提供する。
【0008】
遮蔽グリッドおよび加速グリッドの周囲は拘束されているので、細孔を設けた部分(多孔部)がプラズマ熱により加熱されると、その熱応力は厚み方向への変形として現れる。本発明では、多孔部の周囲にスロット構造を持つ熱変形吸収部を設けてある。このスロット部分は多孔部より強度が低く、熱応力を受けると、スロット部分が平面方向の変形を起こすので、多孔部は厚み方向の変形に至らない。その結果、グリッド間隔がほぼ一定に保たれ、+イオンの引出状態が安定し、加工精度の悪化を防止できる。
加速グリッドはプラズマ熱により直接加熱される訳ではないが、遮蔽グリッドからの伝導熱を受けるため、熱変形を起こす。遮蔽グリッドと同様な熱変形吸収部を設けることで、厚み方向の変形を抑制できる。
なお、熱変形吸収部はプラズマ生成領域より外側領域に設ける必要がある。もし、プラズマ生成領域より内側領域に設けると、スロットを介して+イオンが漏れるからである。
【0009】
請求項2のように、熱変形吸収部は、多孔部を取り囲むように周回状に配列された複数本の第1スロットと、第1スロットの外周側に隣接して配列された複数本の第2スロットとを含み、第2スロットは第1スロットの切れ目の外側に配置されている構造としてもよい。
熱変形吸収部を、多孔部を取り囲むように周回状に配列された複数本の第1スロットのみで構成した場合、第1スロットの切れ目の部分では平面方向の変形ができないので、多孔部が厚み方向に多少変形する可能性がある。
これに対し、第1スロットとその外側に第2スロットを二重に配列し、第1スロットの切れ目を第2スロットで覆うようにすれば、第1スロットの切れ目における変形を第2スロットが吸収するので、多孔部の厚み方向の変形を一層効果的に抑制できる。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明にかかる電子ビーム加工装置の構成は、遮蔽グリッド10および加速グリッド20を除き、図1に示されたものと基本的に同じであるため、重複説明を省略する。
図4は遮蔽グリッドを示し、図5は加速グリッドを示す。
遮蔽グリッド10および加速グリッド20は共に、厚さ0.4mm程度の薄肉金属板で形成されている。
【0011】
遮蔽グリッド10の中央部には、多数の細孔12を設けた多孔部11が設けられている。細孔12は、例えばφ0.85mm、約1mmピッチで千鳥状に配列されている。遮蔽グリッド10には、多孔部11を取り囲むように、周回状に配列された複数本の第1スロット14と、第1スロット14の外周側に隣接して配列された複数本の第2スロット15とからなる熱変形吸収部13が設けられている。第2スロット15は隣合う第1スロット14の間になる切れ目14aの外側をカバーするように配置されている。熱変形吸収部13の強度は、多孔部11に比べて低く設定されている。
この実施例では、第1スロット14は、幅0.3〜0.7mm、長さ10〜20mmの大きさで、かつ各第1スロット14の切れ目14aの間隔は0.3〜0.7mmに設定され、第2スロット15は、幅0.3〜0.7mm、長さ7〜15mmの大きさに設定されている。
遮蔽グリッド10の外周部には、プラズマ生成室に固定するためのねじ挿通孔16と、加速グリッドベースをプラズマ生成室に固定するためのねじ挿通孔17と、加速グリッド20を加速グリッドベースに固定するためのねじ頭部の逃げ溝18とが形成されている。ねじ挿通孔17は、遮蔽グリッド10の4つのコーナ部に形成されている。
【0012】
加速グリッド20の中央部には、多数の細孔22を設けた多孔部21が設けられている。細孔22は、遮蔽グリッド10の細孔12と対応するように、同一配列、同一形状に形成されている。加速グリッド20には、多孔部21を取り囲むように、周回状に配列された複数本の第1スロット24と、第1スロット24の外周側に隣接して配列された複数本の第2スロット25とからなる熱変形吸収部23が設けられており、この熱変形吸収部23の形状も遮蔽グリッド10の熱変形吸収部13と同一形状に形成されている。なお、遮蔽グリッド10の熱変形吸収部13と加速グリッド20の熱変形吸収部23とは必ずしも同一形状である必要はない。
加速グリッド20の外周部には、加速グリッドベースに固定するためのねじ挿通孔26と、加速グリッドベースをプラズマ生成室に固定するためのねじ挿通孔27と、遮蔽グリッド10をプラズマ生成室に固定するためのねじ頭部の逃げ溝28とが形成されている。ねじ挿通孔27は、加速グリッド20の4つのコーナ部に形成されている。
この実施例では、ねじ挿通孔16,26および逃げ溝18,28を除き、加速グリッド20と遮蔽グリッド10とは全く同一形状としてある。
【0013】
図6は遮蔽グリッド10とプラズマ生成室1との分解図を示す。
遮蔽グリッド10の多孔部11はプラズマ生成室1の開口部1aに対応しており、遮蔽グリッド10の外周部はプラズマ生成室1にねじにより固定され、拘束されている。プラズマ熱を受けるのは、遮蔽グリッド10の中心部である多孔部11である。したがって、遮蔽グリッド10の熱変形モードは、多孔部11において厚み方向の変位が主となる。多孔部11は+イオンを引き出す上での重要部分であり、この厚み方向の変形を抑制することが安定したイオン引出しにおいて重要である。
本発明では、多孔部11の周囲にスロット14,15からなる熱変形吸収部13を設けてあり、このスロット部分は多孔部11より強度が低い。熱ストレスを受けた場合、まずスロット14,15が平面方向の変形を起こすため、多孔部11が厚み方向に変形しない。特に、第1スロット14の切れ目14aの外側をカバーするように第2スロット15が配置されているので、熱変形吸収部13は全周に亘って平面方向に変形でき、多孔部11に厚み方向の変形を発生させない。
一方、加速グリッド20も遮蔽グリッド10から伝導熱を受けるので、熱変形を起こすが、遮蔽グリッド10と同様なスロット24,25を有するので、多孔部21の変形を抑制することができる。
そのため、遮蔽グリッド10と加速グリッド20のサイズが拡大し、熱応力が大きくなっても、グリッド間隔が変動せず、+イオンの直進性を維持できる。
なお、スロット14,15および24,25は、プラズマ生成領域より外側領域に設けてあるので、スロットを介して+イオンが漏れるのを防止できる。
【0014】
図7は遮蔽グリッド10の他の例を示す。スロット19以外の形状は、図4と同様であるため、同一部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
この例のスロット19は、一端部19aがクランク状に屈曲しており、この一端部19aが直線状に延びる他端部19bの外側に被さる形状となっている。この場合には、熱変形吸収部13が周回状に配列された一種類のスロット19で構成されているが、スロット19の切れ目19cをクランク部19aが覆うことで、切れ目19cが平面方向に変形することができる。
この例の場合も、多孔部11が熱ストレスを受けると、スロット19が全周に亘って平面方向に変形できるので、多孔部11の厚み方向の変形を確実に防止することができる。
【0015】
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更可能である。
本発明における遮蔽グリッドおよび加速グリッドのスロット形状は、図4,図5,図7に示されたものに限定されず、多孔部で発生する熱応力を平面方向の変位で吸収し、多孔部での厚み方向変形を抑制できるスロット形状であればよい。
また、遮蔽グリッドと加速グリッドのスロット形状は、必ずしも同一である必要はない。
さらに、図4,図5では第1スロットと第2スロットとを設けたが、その内側つまり多孔部11との間の領域に第3スロット、第4スロットなどの複数列のスロットを設けてもよい。
【0016】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、請求項1に記載の発明によれば、遮蔽グリッドおよび加速グリッドの多孔部の周囲であってプラズマ生成領域より外側領域に、スロット構造を持つ熱変形吸収部を設けたので、多孔部が熱応力を受けると、スロット部分が平面方向に変形し、多孔部の厚み方向の変形を抑制できる。その結果、グリッド間隔がほぼ一定に保たれ、+イオンの引出状態が安定し、精度のよいイオンビームエッチングを実施できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】電子ビーム加工装置の基本原理を示す図である。
【図2】図1に示す電子ビーム加工装置の主要部の分解斜視図である。
【図3】図1に示すグリッドが熱変形したときの電子ビーム加工装置の構造図である。
【図4】本発明にかかる遮蔽グリッドの一例の平面図である。
【図5】本発明にかかる加速グリッドの一例の平面図である。
【図6】本発明にかかる電子ビーム加工装置の主要部の分解斜視図である。
【図7】本発明にかかる遮蔽グリッドの他の例の平面図である。
【符号の説明】
1 プラズマ生成室
10 遮蔽グリッド
11 多孔部
12 細孔
13 熱変形吸収部
14 第1スロット
15 第2スロット
20 加速グリッド
21 多孔部
22 細孔
23 熱変形吸収部
24 第1スロット
25 第2スロット
Claims (2)
- Arガスの+イオンを生成するプラズマ生成室と、プラズマ生成室の開口部に外周部が固定され、中央部に複数の細孔を有する1枚の金属板よりなる遮蔽グリッドと、遮蔽グリッドの前面に間隔をあけて配置され、外周部がプラズマ生成室に固定され、中央部に遮蔽グリッドの細孔と一致する形状の複数の細孔を有する1枚の金属板よりなる加速グリッドとを備えた電子ビーム加工装置において、
上記遮蔽グリッドおよび加速グリッドの細孔を設けた領域の周囲であって、プラズマ生成領域より外側領域でかつ上記プラズマ生成室に固定された外周部より内周側に、スロット構造を持つ熱変形吸収部を設けたことを特徴とする電子ビーム加工装置。 - 上記熱変形吸収部は、上記細孔を設けた領域を取り囲むように周回状に配列された複数本の第1スロットと、第1スロットの外周側に隣接して配列された複数本の第2スロットとを含み、
第2スロットは第1スロットの切れ目の外側に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム加工装置。
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JP2003142432A JP4079033B2 (ja) | 2003-05-20 | 2003-05-20 | 電子ビーム加工装置 |
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