JP4078163B2

JP4078163B2 - Substrate processing equipment

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Publication number: JP4078163B2
Application number: JP2002269075A
Authority: JP
Inventors: 勝彦宮; 昭泉
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2002-09-13
Filing date: 2002-09-13
Publication date: 2008-04-23
Anticipated expiration: 2022-09-13
Also published as: JP2004111487A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体基板や液晶表示装置用ガラス基板などの基板を保持する基板保持部を洗浄液で洗浄できる基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図４は、従来の基板処理装置の構成を示す図解的な断面図である。この基板処理装置は、半導体基板の一例である半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」という。）Ｗの下面に処理液を供給して処理することができる。
この基板処理装置は、筒状のチャンバ５１と、その内部に配されウエハＷをほぼ水平に保持して回転するスピンチャック７０と、平面視においてスピンチャック７０を取り囲むように配されたスプラッシュガード５３とを含んでいる。
【０００３】
スピンチャック７０は、円板状でほぼ水平に配されたスピンベース５２と、スピンベース５２の下面中心部に、スピンベース５２にほぼ垂直に取り付けられた回転軸５７とを備えている。スピンベース５２の上面５２ａはほぼ水平な面となっており、上面５２ａの周縁部には複数のチャックピン５６が周方向に間隔をあけて立設されている。チャックピン５６は、ウエハＷの下面周縁部を支持する支持部５６ａと、ウエハＷの端面（周面）を挟持する挟持部５６ｂとを有している。
【０００４】
回転軸５７には、回転軸５７をその軸のまわりに回転させるための回転駆動機構５８が結合されており、スピンベース５２に保持されたウエハＷを回転させることができるようになっている。
回転軸５７は管状であり、回転軸５７の内部には、処理液を流すための処理液供給路５９を内部に有する処理液配管６４が挿通されている。処理液配管６４の上端は、スピンベース５２の上面５２ａからわずかに突出している。
【０００５】
処理液配管６４の上端は、処理液供給路５９に連通した吐出口を有する処理液ノズル６３となっている。処理液供給路５９には、薬液とウエハ用洗浄液（たとえば、純水）とを切り換えて導入可能であり、処理液ノズル６３から、薬液またはウエハ用洗浄液を選択的に吐出できるようになっている。これにより、スピンチャック７０に保持されたウエハWの下面に、薬液またはウエハ用洗浄液を供給して、薬液処理や洗浄ができるようになっている。
【０００６】
スプラッシュガード５３は、上下方向に配された２つの回収ポート６１ａ，６１ｂを含んでいる。回収ポート６１ａ，６１ｂは、いずれも、スプラッシュガード５３の全周に渡って設けられており、スプラッシュガード５３の中心部に向かって開口している。回収ポート６１ａは、回収ポート６１ｂより高い位置に配されている。回収ポート６１ｂの下には、スプラッシュガード５３の中心部に向かって開口した断面がほぼコの字形の案内部６１ｄが、スプラッシュガード５３の全周に渡って設けられている。
【０００７】
回収ポート６１ａの上には、洗浄ノズル６２がほぼ水平に取り付けられている。洗浄ノズル６２は吐出口を有しており、吐出口はスプラッシュガード５３の中心部に向けられている。洗浄ノズル６２には、純水などのチャック用洗浄液を導入可能であり、吐出口からチャックピン５６やスピンベース５２の上面５２ａに向けてチャック用洗浄液を吐出できるようになっている。これにより、チャックピン５６や上面５２ａを洗浄可能である。
【０００８】
スプラッシュガード５３には昇降機構６０が結合されており、スプラッシュガード５３および洗浄ノズル６２を同時に昇降できるようになっている。
処理液ノズル６３から薬液を吐出させてウエハＷの処理をするときは、昇降機構６０により、上面５２ａの側方に、たとえば、回収ポート６１ａが位置するようにされる。この場合、回転するウエハＷの遠心力により振り切られた薬液は、回収ポート６１ａを介して回収される。回収された薬液は、処理能力が低下していない場合には再利用される。
【０００９】
上記の薬液と異なる種類の薬液を用いてウエハＷの下面を処理するときは、スピンベース５２の上面５２ａと回収ポート６１ｂとがほぼ同じ高さになるようにされ、回収ポート６１ｂを介して薬液を回収できる。回収ポート６１ｂを用いることにより、回収ポート６１ａを介して回収された薬液と分別して、薬液を回収できる。
また、処理液ノズル６３からウエハ用洗浄液を吐出させてウエハＷの洗浄をするときは、昇降機構６０により、上面５２ａの側方に案内部６１ｄが位置するようにされる。この場合、回転するウエハＷの遠心力により振り切られたウエハ用洗浄液は、案内部６１ｄで受けられ下方に流れ落ちて回収された後、廃棄される。
【００１０】
ウエハＷを薬液で処理する際、スピンベース５２の上面５２ａやチャックピン５６も、薬液で汚れる。これらの薬液は、ウエハＷをウエハ用洗浄液で洗浄する際には、完全に除去できない。そこで、スピンベース５２の側方に配された洗浄ノズル６２により、上面５２ａやチャックピン５６が洗浄される。
この際、昇降機構６０により、スプラッシュガード５３が下降されて、洗浄ノズル６２とチャックピン５６とがほぼ同じ高さになるようにされる。この状態で、スピンベース５２の上面５２ａは、スプラッシュガード５３の上端よりわずかに高くなっている。
【００１１】
続いて、洗浄ノズル６２からチャック用洗浄液が吐出される。洗浄ノズル６２から吐出されたチャック用洗浄液は、主として、スピンベース５２の上面５２ａを流れ、回転するスピンベース５２の遠心力により振り切られて、チャンバ５１の内壁に当たる（図４に矢印Ｂ１，Ｂ２で示す。）。このようなチャック用洗浄液は、さらに、チャンバ５１とスプラッシュガード５３との間を流れ落ちて下方で回収されて廃棄される。
【００１２】
以上のように、ウエハＷ処理時に使用される薬液、ウエハ用洗浄液、およびチャック用洗浄液を分別回収できるようになっている。
図５は、従来の基板処理装置の他の構成を示す図解的な断面図である。図４の基板処理装置の構成要素に対応する構成要素には、図５中に図４の場合と同一符号を付して説明を省略する。
この基板処理装置では、スプラッシュガード５３の代わりにスプラッシュガード７３が設けられている。スプラッシュガード７３は、平面視において環状であり、スプラッシュガード７３の内面上部には、断面がほぼコの字形でスプラッシュガード７３の中心に向かって開口した溝状の第１案内部７３ａが形成されている。また、スプラッシュガード７３の下方には、スプラッシュガード７３の中心側および下方に開いた断面４分の１円弧状の第２案内部７３ｂと、第２案内部７３ｂの内方に鉛直方向に刻設され円環状の溝７３ｃとが形成されている。
【００１３】
溝７３ｃの下方には、ほぼ鉛直方向に配された筒状の仕切部材７５が配されている。溝７３ｃは、スプラッシュガード７３が下降されているときには、仕切部材７５の上部に遊嵌し、スプラッシュガード７３が上昇されているときには、仕切部材７５から離れる。
スプラッシュガード７３の上には、洗浄ノズル７４が取り付けられている。洗浄ノズル７４は、チャック用洗浄液Ｓを鉛直方向に広角に拡がるように吐出することができる。これにより、鉛直方向に延びるチャックピン５６に均一にチャック用洗浄液Ｓが当てられるから、チャックピン５６を効率的に洗浄できる。
【００１４】
ウエハＷの下面を薬液で処理するときには、昇降機構６０によりスプラッシュガード７３が移動されて、スピンベース５２の上面５２ａの側方に第２案内部７３ｂが位置するようにされる。ウエハＷの遠心力により振り切られた薬液は、第２案内部７３ｂに当たり、スプラッシュガード７３を伝って下方へと流れ落ちて回収される。回収された薬液は、処理能力が低下していない場合には再利用される。
【００１５】
ウエハＷの下面をウエハ用洗浄液で洗浄するときは、昇降機構６０によりスプラッシュガード７３が移動されて、スピンベース５２の上面５２ａの側方に第１案内部７３ａが位置するようにされる。ウエハＷの遠心力により側方に振り切られたウエハ用洗浄液は、第１案内部７３ａに当たり、下方へ流れ落ちて回収され廃棄される。ウエハ用洗浄液と薬液とは、仕切部材７５により分別して回収可能である。
【００１６】
また、洗浄ノズル７４からチャック用洗浄液を吐出して、チャックピン５６やスピンベース５２の上面５２ａを洗浄するときは、図５に示すように、昇降機構６０によりスプラッシュガード７３が移動されて、上面５２ａとスプラッシュガード７３の上端とがほぼ同じ高さになるようにされる。この場合、回転するスピンベース５２の遠心力により振り切られたりチャックピン５６に跳ね返されたりしたチャック用洗浄液は、チャンバ５１の内壁に当たって（図５に矢印Ｃ１で示す。）下方へと流れ落ちて回収され廃棄される。
【００１７】
【特許文献１】
特開２０００−１８５２６４号公報
【特許文献２】
特開平１０−１９９８５２号公報
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、洗浄ノズル６２，７４から吐出されたすべてのチャック用洗浄液がスプラッシュガード５３，７３とチャンバ５１との間を流れて回収されるわけではない。チャック用洗浄液の一部は、たとえば、図４の基板処理装置において、斜め下方に飛んで回収ポート６１ａや回収ポート６１ｂに入り込む（それぞれ、矢印Ｂ３，Ｂ４で示す。）。特に、スピンベース５２が低速で回転している場合には、チャック用洗浄液には十分大きな遠心力が与えられず、下方へと落下しながら側方へと飛ばされるから、回収ポート６１ａ，６１ｂにチャック用洗浄液が混入しやすい。
【００１９】
その結果、回収ポート６１ａ，６１ｂを介して回収された薬液に、チャック用洗浄液が混入することになる。回収された薬液は、後にウエハＷの薬液処理を行う際に再利用されるので、チャック用洗浄液の混入により回収された薬液の組成が変化すると、薬液の処理能力が落ち再利用に適さなくなる。すなわち、薬液を再利用できる回数が少なくなり、薬液使用量（消費量）は多くなる。
また、図４および図５に示す基板処理装置において、スピンベース５２の回転数を上げ、スピンベース５２上のチャック用洗浄液を遠心力により効率的に側方へ振り切り、チャンバ５１とスプラッシュガード５３，７３との間に入るようにすることも考えられる。しかし、この場合、チャック用洗浄液は、スピンベース５２やチャックピン５６に対して相対的に大きな速度でぶつかるため、ミスト（霧）となって上方に飛散しやすくなる。
【００２０】
特に、図５に示す基板処理装置では、チャック用洗浄液が洗浄ノズル７４から広い角度で吐出されるために、チャックピン５６により跳ね返されるチャック用洗浄液も、広い角度で飛散しやすい。このため、上方に飛散するチャック用洗浄液の量も多くなる。
その結果、チャック用洗浄液は、チャンバ５１の内壁などの構造物に付着する（図４および図５に、矢印Ｂ５，Ｂ６で示す。）。このようなチャック用洗浄液は薬液を溶解しているので、乾燥すると薬液成分が結晶化するからパーティクルの原因となる。特に、チャンバ５１内を自動的に洗浄（セルフクリーニング）できない構造の基板処理装置では、一旦、チャンバ５１内の構造物に付着したパーティクルは、容易に除去できず蓄積汚染となる。
【００２１】
さらに、ミスト状のチャック用洗浄液は、基板の上方で滞留した後に、たとえば、洗浄後にウエハＷを高速回転して乾燥させる際などに、ウエハＷに付着し、乾燥によりパーティクルとなってウエハＷを汚染するおそれもある。
そこで、この発明の目的は、薬液などの処理液の使用量を低減できる基板処理装置を提供することである。
この発明の他の目的は、蓄積汚染を低減できる基板処理装置を提供することである。
【００２２】
この発明のさらに他の目的は、処理対象の基板がパーティクルに汚染されにくい基板処理装置を提供することである。
【００２３】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
上記の課題を解決するための請求項１記載の発明は、基板（Ｗ）をほぼ水平に保持する基板保持部（３０）と、この基板保持部を回転させるための回転駆動機構（８）と、上記基板保持部に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出手段（１２，１８，１８Ａ，４０，４１，４１Ａ）と、上記基板保持部の側方を取り囲むように配置可能で、上記回転駆動機構による上記基板保持部の回転に伴って側方へ飛ばされる洗浄液を受けて回収するための洗浄液回収部（３ａ，３８ａ）とを含み、上記洗浄液吐出手段が上記洗浄液回収部内に設けられた吐出口（１２ｔ，４０ｔ）を有し、上記洗浄液回収部に、上記回転駆動機構の回転中心に向かって開いた開口（３ａ，３８ａ）が形成されており、上記洗浄液吐出手段が、先端に上記吐出口を有する洗浄ノズル（１２，４０））を含み、この洗浄ノズルの吐出口が、上記開口の内部に配置されており、上記開口を介して上記洗浄ノズルの上記吐出口から吐出された洗浄液により、上記基板保持部が洗浄されることを特徴とする基板処理装置である。
請求項２記載の発明は、基板をほぼ水平に保持する基板保持部と、この基板保持部を回転させるための回転駆動機構と、上記基板保持部に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出手段と、上記基板保持部の側方を取り囲むように配置可能で、上記回転駆動機構による上記基板保持部の回転に伴って側方へ飛ばされる洗浄液を受けて回収するための洗浄液回収部とを含み、上記洗浄液吐出手段が上記洗浄液回収部内に設けられた吐出口を有し、上記洗浄液回収部に、上記回転駆動機構の回転中心に向かって開いた開口が形成されており、上記洗浄液吐出手段の上記吐出口が設けられた上記洗浄液回収部の上記開口は、上記洗浄液吐出手段側に跳ね返された洗浄液を受けて回収するものであることを特徴とする基板処理装置である。
請求項３記載の発明は、上記洗浄液吐出手段が、先端に上記吐出口を有する洗浄ノズルを含み、この洗浄ノズルの吐出口が、上記開口の内部に配置されていることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置である。
請求項４記載のように、請求項１および３の発明において、上記洗浄ノズルは、上記開口の天井から突出するように設けられていてもよい。
【００２４】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この基板処理装置は、たとえば、基板保持部に保持された基板に薬液を供給して基板の処理を行うものであってもよい。この場合、基板保持部は、薬液により汚れる。この発明によれば、洗浄液吐出手段により、このように汚れた基板保持部に洗浄液を吐出して洗浄できる。
【００２５】
洗浄液吐出手段の吐出口は、洗浄液回収部に設けられているので、基板保持部の側方に洗浄液吐出手段の吐出口を配した場合、基板保持部の側方には洗浄液回収部が存在している。この状態で、回転駆動機構により基板保持部を回転させながら、洗浄液吐出手段から基板保持部に向けて洗浄液を吐出すると、洗浄液は側方へと飛ばされる。基板保持部の側方には、洗浄液回収部が存在しているので、このような洗浄液は洗浄液回収部に受けられる（トラップされる。）。
【００２６】
これにより、たとえば、基板保持部が収容されたチャンバの内壁などに、薬液を含んだ洗浄液が付着することを抑制できる。したがって、チャンバ内壁などの構造物の表面でこのような薬液が乾燥して生じるパーティクル、すなわち、蓄積汚染を低減できる。
洗浄液回収部は、たとえば、溝状の凹所として形成されていてもよく、この場合、一旦凹所で受けられた洗浄液は、さらに下方へと流れ落ちて回収されるように構成されていてもよい。
請求項１および３の発明において、吐出口、すなわち、洗浄ノズルの先端は開口内に配されているので、洗浄ノズルの先端が他の部材と干渉することはない。
請求項１および３の発明において、洗浄ノズルは、たとえば、１本であってもよく、この場合、回転駆動機構により基板保持部を回転させることにより、洗浄液が基板保持部に当たる領域を、基板保持部の周方向に移動させて、基板保持部を良好に洗浄できる。洗浄ノズルは、複数本備えられていてもよい。
【００２７】
請求項５記載の発明は、上記基板保持部に保持された基板に向けて処理液を吐出する処理液ノズル（１３，３４）をさらに含み、上記洗浄液回収部が、上記処理液ノズルから吐出され上記回転駆動機構による遠心力により側方へ飛ばされた処理液を受けるためのスプラッシュガード（３，３８）に形成されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置である。
処理液ノズルは、たとえば、基板保持部に保持された基板の下面または／および上面中心部に向けて、薬液や洗浄液などの処理液を吐出可能なものであってもよい。この場合、回転駆動機構により、基板保持部に保持された基板を回転させることにより、基板中心部に吐出された処理液を遠心力により、基板の下面または／および上面に沿って外方に向かって流れるようにすることができる。これにより、基板の下面または／および上面が処理液により処理される。
【００２８】
基板周縁部に至った処理液は、側方へと振り切られて、スプラッシュガードに受けられる。
洗浄液吐出手段から吐出された洗浄液を受けるための洗浄液回収部は、スプラッシュガードに形成されているので、スプラッシュガードを利用して、洗浄液を受けることもできる。したがって、装置の構造を簡単にすることができる。
請求項６記載の発明は、上記スプラッシュガードが、処理液を回収するための処理液回収部（１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，３８ｂ）を含むことを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
【００２９】
この発明によれば、処理液回収部により、処理液ノズルから吐出され側方に飛ばされた処理液を回収できる。これにより、回収された処理液が薬液である場合など、この薬液を再利用することができる。再利用する処理液は、たとえば、エッチング液などの薬液とすることができる。
請求項７記載の発明は、上記処理液回収部が、上下方向に複数個積層されて設けられていることを特徴とする請求項６記載の基板処理装置である。
【００３０】
この発明によれば、基板保持部に対する処理液回収部の高さ位置を変えることにより、使用される処理液の種類ごとに異なる処理液回収部を用いて、分別回収できる。
請求項８記載の発明は、上記洗浄液回収部が、最下部の上記処理液回収部（１１ｃ）より低い高さ位置に設けられていることを特徴とする請求項６または７記載の基板処理装置である。
【００３１】
この発明によれば、洗浄液回収部より低い高さ位置には、処理液回収部は設けられていない。このため、洗浄液が洗浄液回収部で受けられた後、下方へ流れ落ちて回収される場合や、洗浄液が基板保持部から斜め下方に飛び出し、洗浄液回収部より低い高さ位置でスプラッシュガードに当たった場合でも、洗浄液が処理液回収部に入ることはない。
このため、回収された処理液の有効成分の濃度が薄くなるなどの事態を回避することができる。すなわち、この基板処理装置によれば、処理液の処理能力が低下することを抑制できるから、処理液の再利用可能な回数を増やすことができ、処理液の使用量（消費量）を低減できる。
【００３３】
請求項９記載の発明は、上記基板保持部に保持された基板に近接して対向配置可能な遮断板（２７）をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載の基板処理装置である。
【００３４】
この発明によれば、遮断板により、基板保持部で跳ね返され、たとえば、ミストとなって上方に飛散する洗浄液の量を低減できる。これにより、洗浄液が基板の上方で滞留した後、基板に付着してパーティクルとなることや、チャンバ内壁などの構造物の表面に生じる蓄積汚染を抑制できる。
遮断板は、基板より大きいことが好ましい。これにより、基板の上方に飛散する洗浄液の量を効率的に低減できる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下では、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す図解的な断面図である。この基板処理装置は、半導体基板の一例である半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」という。）Ｗの下面に薬液を供給して処理することができる。
【００３６】
この基板処理装置は、ほぼ鉛直方向に沿った中心軸を有する円筒状のチャンバ１と、その内部に配されウエハＷをほぼ水平に保持してウエハＷのほぼ中心を通る鉛直軸線まわりに回転するスピンチャック３０と、平面視においてスピンチャック３０を取り囲むように配されたスプラッシュガード３とを含んでいる。
スプラッシュガード３は、チャンバ１と同心状に外方から内方に向かって配された４つの円筒部材４８ａ〜４８ｄを含んでいる。４つの円筒部材４８ａ〜４８ｄは、最外部の円筒部材４８ａから最内部の円筒部材４８ｄに向かって、順に高さが低くなるようになっている。円筒部材４８ａ〜４８ｄの上端からは、中心側（スピンベース２側）に向かって斜め上方に突出部４９ａ〜４９ｄがそれぞれ突出している。突出部４９ａ〜４９ｄの先端は、ほぼ鉛直な面にのる。
【００３７】
突出部４９ａと突出部４９ｂとにより、回収ポート１１ａが形成されており、突出部４９ｂと突出部４９ｃとにより、回収ポート１１ｂが形成されており、突出部４９ｃと突出部４９ｄとにより、回収ポート１１ｃが形成されている。回収ポート１１ａ〜１１ｃは、上下方向に積層されている。
円筒部材４８ｂの下部は、同心状の２つの円筒体４８ｅ，４８ｆとなっている。円筒体４８ｅは円筒体４８ｆより外側にある。同様に、円筒部材４８ｃの下部は、同心状の２つの円筒体４８ｇ，４８ｈとなっている。円筒体４８ｇは円筒体４８ｈより外側にある。円筒部材４８ｃの下部は、同心状の２つの円筒体４８ｉ，４８ｊとなっている。円筒体４８ｉは円筒体４８ｊより外側にある。
【００３８】
円筒体４８ｊは、円筒部材４８ｄから中心側斜め下方に延びる傾斜部４８ｋの先端に下方に延びるように設けられている。突出部４９ｄ、円筒部材４８ｄ、および傾斜部４８ｋにより、スプラッシュガード３の中心部に向かって開口した断面がほぼコの字形の案内部３ａが形成されている。案内部３ａは、回収ポート１１ｃの下方に位置している。
スプラッシュガード３の下方には、チャンバ１の下部を塞ぐように底板３５がほぼ水平に配されている。底板３５からは、円筒状の５つの分離壁２５ａ〜２５ｅが立設されている。分離壁２５ａ〜２５ｅは同心状に、外方から内方に向かって、分離壁２５ａ、分離壁２５ｂ、分離壁２５ｃ、分離壁２５ｄ、分離壁２５ｅの順で配されている。平面視において、分離壁２５ｅの径はスピンベース２の径よりわずかに小さい。
【００３９】
分離壁２５ａおよび分離壁２５ｂを側壁として、第１薬液回収槽２１が形成されており、分離壁２５ｂおよび分離壁２５ｃを側壁として、第２薬液回収槽２２が形成されており分離壁２５ｃおよび分離壁２５ｄを側壁として、第３薬液回収槽２３が形成されており、分離壁２５ｄおよび分離壁２５ｅを側壁として、洗浄液回収槽２６が形成されている。また、チャンバ１および分離壁２５ａを側壁として、洗浄液回収槽２４が形成されている。
【００４０】
スプラッシュガード３には、昇降機構１０が結合されている。昇降機構１０は、スプラッシュガード３に結合された結合部材１０ａ、結合部材１０ａに結合されほぼ鉛直方向に沿う昇降軸１０ｂ、および昇降軸１０ｂに結合され昇降軸１０ｂを昇降可能な昇降駆動部１０ｃを含んでいる。分離壁２５ａには、案内部材１０ｄが結合されており、昇降軸１０ｂは案内部材１０ｄに挿通されている。昇降駆動部１０ｃにより昇降軸１０ｃを昇降させて、スプラッシュガード３をほぼ鉛直方向に昇降できるようになっている。
【００４１】
スプラッシュガード３が下降されると、円筒部材４８ａの下部および円筒体４８ｅが、分離壁２５ａと分離壁２５ｂとの間に挿入され、円筒体４８ｆ，４８ｇが、分離壁２５ｂと分離壁２５ｃとの間に挿入され、円筒体４８ｈ，４８ｉが、分離壁２５ｃと分離壁２５ｄとの間に挿入され、円筒体４８ｊが分離壁２５ｄと分離壁２５ｅとの間に挿入される。
図２は、図１の基板処理装置の構造および制御を説明するための図解的な断面図である。
【００４２】
チャンバ１の上端を塞ぐようにフィルタ４が取り付けられている。チャンバ１の下部を貫通して排液／排気配管５が設けられている。排液／排気配管５は、チャンバ１の外で、図示しない気液分離部を介して排気用のポンプＰに接続されている。ポンプＰを作動させることにより、チャンバ１外の空気は、フィルタ４で異物が除去されてチャンバ１内に導かれ、ポンプＰからチャンバ１外に排出されるようになっている。
【００４３】
スピンチャック３０は、円板状でほぼ水平に配されたスピンベース２と、スピンベース２の中心下部に鉛直方向に沿って取り付けられた回転軸７とを含んでいる。スピンベース２の上面２ａはほぼ水平な面となっており、上面２ａの周縁部には複数のチャックピン６が周方向に間隔をあけて立設されている。チャックピン６は、ウエハＷの下面周縁部を支持する支持部６ａと、この支持部６ａよりもスピンベース２の半径方向外方側において鉛直に立ち上がり、ウエハＷの端面（周面）に当接し、他のチャックピン６と協働してウエハＷを挟持する挟持部６ｂとを有している。
【００４４】
回転軸７には、回転軸７をその軸のまわりに回転させる回転駆動機構８が結合されている。以上の構成により、回転駆動機構８により、スピンベース２に保持されたウエハＷを回転させることが可能である。
回転軸７は管状であり、回転軸７の内部には、処理液配管１４が挿通されている。処理液配管１４の内部は処理液供給路９となっている。処理液配管１４の上端は、スピンベース２の上面２ａからわずかに突出しており、処理液供給路９に連通した開口を有して処理液を吐出する下ノズル１３となっている。下ノズル１３の先端には、回転半径方向外方側へと張り出した鍔部が形成されている。
【００４５】
処理液配管１４の下端は、第１薬液配管１６、第２薬液配管１９、第３薬液配管２０、および洗浄液配管１７に分岐している。第１薬液配管１６は第１の薬液が収容された第１の薬液供給源に接続されており、第２薬液配管１９は第２の薬液が収容された第２の薬液供給源に接続されており、第３薬液配管２０は第３の薬液が収容された第３の薬液供給源に接続されている。洗浄液配管１７は純水などのウエハ用洗浄液が収容されたウエハ用洗浄液供給源に接続されている。第１ないし第３の薬液は、たとえば、エッチング液であってもよく、互いに種類が異なるものとすることができる。
【００４６】
第１薬液配管１６にはバルブ１６Ａが介装されており、第２薬液配管１９にはバルブ１９Ａが介装されており、第３薬液配管２０にはバルブ２０Ａが介装されており、洗浄液配管１７にはバルブ１７Ａが介装されている。
バルブ１９Ａ，２０Ａ，１７Ａを閉じバルブ１６Ａを開くことにより、第１の薬液を処理液供給路９に導入することができる。バルブ１６Ａ，２０Ａ，１７Ａを閉じバルブ１９Ａを開くことにより、第２の薬液を処理液供給路９に導入することができる。バルブ１６Ａ，１９Ａ，１７Ａを閉じバルブ２０Ａを開くことにより、第３の薬液を処理液供給路９に導入することができる。そして、バルブ１６Ａ，１９Ａ，２０Ａを閉じバルブ１７Ａを開くことにより、ウエハ用洗浄液を処理液供給路９に導入することができる。したがって、バルブ１６Ａ，１９Ａ，２０Ａ，１７Ａの開閉により、第１ないし第３の薬液、およびウエハ用洗浄液を切り換えて下ノズル１３からウエハＷの下面中央に向けて吐出できる。
【００４７】
スピンチャック３０の上方には、円板状の遮断板２７が配されている。遮断板２７の径は、ウエハＷの径より大きい。遮断板２７の中心上部には、回転軸２８が取り付けられており、回転軸２８には、回転軸２８をその軸のまわりに回転させる回転駆動機構２９が結合されている。回転駆動機構２９により、遮断板２７を、たとえば、スピンベース２と同一方向に同じ回転数で同期回転させることが可能である。
【００４８】
回転軸２８は管状であり、回転軸２８の内部には、処理液配管３１が挿通されている。処理液配管３１の内部は、処理液を流すための処理液供給路３２となっている。処理液配管３１の下端は、処理液供給路３２に連通した開口を有し、ウエハＷの上面中央に向けて処理液を吐出する上ノズル３４となっている。処理液供給路３２には、図示しない処理液供給源から、薬液や洗浄液などの処理液を導入できるようになっている。
【００４９】
上ノズル３４からは、処理液として、たとえば、ウエハ用洗浄液のみを吐出可能に構成されていてもよく、下ノズル１３と同様、第１ないし第３の薬液、およびウエハ用洗浄液を切り換えて吐出可能に構成されていてもよい。
回転軸２８には昇降機構３３が結合されており、回転軸２８に結合された遮断板２７を昇降できるようになっている。
スプラッシュガード３を貫通して、洗浄ノズル１２がほぼ水平に取り付けられている。洗浄ノズル１２は、円筒部材４８ｄを貫通して案内部３ａ内に突出しており、その先端には吐出口１２ｔが形成されている。吐出口１２ｔは、たとえば、円形のものとすることができ、この場合、吐出口１２ｔの直径は８ｍｍ以下とすることが好ましい。
【００５０】
この吐出口１２ｔは、案内部３ａの内壁（円筒部材４８ｄ）からわずかに突出した位置にあり、案内部３ａの内部（好ましくは、奥まった位置）に配置され、この位置から、スピンチャック３０の回転半径方向内方へ向けて、ほぼ水平にチャック用洗浄液を吐出する。このような吐出口１２ｔの配置により、スプラッシュガード３が昇降されても、洗浄ノズル１２の先端がスピンベース２などの他の部材と干渉することはない。
【００５１】
洗浄ノズル１２は、洗浄液配管１８を介して純水などのチャック用洗浄液が収容されたチャック用洗浄液供給源に接続されている。ウエハ用洗浄液とチャック用洗浄液とが同種のもの（たとえば、純水）である場合、ウエハ用洗浄液供給源とチャック用洗浄液供給源とは同じものであってもよい。
洗浄液配管１８にはバルブ１８Ａが介装されており、バルブ１８Ａを開くことにより、洗浄ノズル１２からチャックピン６やスピンベース２の上面２ａに向けてチャック用洗浄液を棒状に吐出できるようになっている。
【００５２】
バルブ１６Ａ〜２０Ａの開閉や、回転駆動機構８，２９および昇降機構１０，３３の動作は、制御部１５により制御される。
この基板処理装置でウエハＷの処理をするときは、先ず、制御部１５の制御によりすべてのバルブ１６Ａ〜２０Ａが閉じた状態とされる。また、制御部１５により昇降機構３３が制御されて、遮断板２７がスピンチャック３０に保持されたウエハＷ上方に近接して対向配置される。そして、制御部１５により、回転駆動機構８，２９が制御されて、スピンチャック３０に保持されたウエハＷおよび遮断板２７が回転される。
【００５３】
その後、制御部１５により昇降機構１０が制御されて、スピンベース２の上面２ａと回収ポート１１ａとがほぼ同じ高さになるように、スプラッシュガード３が移動される。
この状態で、制御部１５の制御により、バルブ１６Ａが開かれて第１の薬液が下ノズル１３から吐出される。第１の薬液は、ウエハＷの遠心力により、ウエハWの下面に沿って外方に向かって流れる。これにより、ウエハＷの下面が処理される。第１の薬液がエッチング液であるときは、この工程は、ウエハＷの上面周縁部に第１の薬液を回り込ませてエッチングまたは洗浄する、いわゆる、ベベルエッチングまたはベベル洗浄であってもよい。
【００５４】
ウエハWの外周部に達した第１の薬液は、回転しているウエハWの遠心力により側方に振り切られ、回収ポート１１ａに入って、円筒部材４８ａと円筒部材４８ｂとの間を通り、第１薬液回収槽２１に回収される。一定時間、第１の薬液によるウエハＷの処理が継続された後、制御部１５の制御によりバルブ１６Ａが閉じられ、第１の薬液の吐出が停止される。
処理対象のウエハＷの種類によっては、第１の薬液の代わりに、第２の薬液によりウエハWの下面が処理される。その場合は、先ず、制御部１５により昇降機構１０が制御されて、スピンベース２の上面２ａと回収ポート１１ｂとがほぼ同じ高さになるように、スプラッシュガード３が移動される。この状態で、制御部１５の制御によりバルブ１９Ａが開かれて、第２の薬液が下ノズル１３から吐出される。第２の薬液はウエハWの下面に沿って外方に向かって流れる。これにより、ウエハＷの下面が第２の薬液により処理される。この工程も、ベベルエッチングまたはベベル洗浄であってもよい。
【００５５】
回転しているウエハWの遠心力により側方に振り切られた第２の薬液は、回収ポート１１ｂに入り、円筒部材４８ｂと円筒部材４８ｃとの間を通り、第２薬液回収槽２２に回収される。一定時間、このような操作が継続された後、制御部１５の制御によりバルブ１９Ａが閉じられる。
さらに、処理対象のウエハＷの種類によっては、第１または第２の薬液の代わりに、第３の薬液によりウエハWの下面が処理される。その場合は、先ず、制御部１５により昇降機構１０が制御されて、スピンベース２の上面２ａと回収ポート１１ｃとがほぼ同じ高さになるように、スプラッシュガード３が移動される。この状態で、制御部１５の制御によりバルブ２０Ａが開かれて、第３の薬液が下ノズル１３から吐出される。第３の薬液はウエハWの下面に沿って外方に向かって流れる。これにより、ウエハＷの下面が第３の薬液により処理される。この工程も、ベベルエッチングまたはベベル洗浄であってもよい。
【００５６】
回転しているウエハWの遠心力により側方に振り切られた第３の薬液は、回収ポート１１ｃに入り、円筒部材４８ｃと円筒部材４８ｄとの間を通り、第３薬液回収槽２３に回収される。一定時間、このような操作が継続された後、制御部１５の制御によりバルブ２０Ａが閉じられる。
ウエハＷが第１、第２、または第３の薬液により処理される際、第１、第２、または第３の薬液の一部はスピンベース２の上面２ａに落ちる。したがって、第１、第２、または第３の薬液による処理が終了した後、スピンベース２の上面２ａおよびチャックピン６は、第１、第２、または第３の薬液により汚れた状態となっている。
【００５７】
その後、制御部１５により昇降機構１０が制御されて、スプラッシュガード３が移動され、スピンベース２の上面２ａと案内部３ａとがほぼ同じ高さになるようにされる。この状態で、遮断板２７と突出部４９ｄの先端（案内部３ａの上端）とはほぼ同じ高さ位置になり近接する。回転駆動機構８，２７によるウエハＷおよび遮断板２７の回転は維持される。
そして、制御部１５の制御によりバルブ１７Ａが開かれて、ウエハ用洗浄液が下ノズル１３から吐出される。同様に、上ノズル３４からもウエハ用洗浄液が吐出される。ウエハ用洗浄液は、ウエハＷの遠心力により、ウエハWの下面および上面に沿って外方に向かって流れる。これにより、ウエハＷの下面および上面が洗浄される。ウエハＷの周縁部に至ったウエハ用洗浄液は、側方へと振り切られて、スプラッシュガード３の案内部３ａに受けられ（トラップされ）、さらに、下方へと流れて洗浄液回収槽２６に回収される。
【００５８】
続いて、制御部１５により回転駆動機構８，２９が制御されて、スピンチャック３０および遮断板２７の回転数が小さくされる。その結果、下ノズル１３から吐出されたウエハ用洗浄液は、ウエハＷにより十分大きな遠心力が与えられなくなり、下ノズル１３に向かって落ちるようになる。これにより、下ノズル１３がウエハ用洗浄液で洗浄される。
スピンチャック３０が低速回転されることにより、スピンベース２の上面２ａやウエハＷの上面を流れるウエハ用洗浄液には大きな遠心力が働かなくなる。このため、スピンベース２やウエハＷから振り切られるウエハ用洗浄液は、十分大きな速度で側方へと飛び出すことができず、図２に矢印Ａ１で示すように、案内部３ａに届かずに下方へと落下する。しかし、回収ポート１１ａ〜１１ｃは、案内部３ａより低い高さ位置には配されていないので、ウエハ用洗浄液が第１、第２、または第３の薬液に混入することはない。
【００５９】
以上の工程により、チャックピン６やスピンベース２の上面２ａの大部分も、ウエハ用洗浄液により洗浄されるが、上面２ａの中心部から見て、チャックピン６の反対側の部分およびその近傍の上面２ａなどは、十分洗浄されずに第１、第２、または第３の薬液が残った状態となる。
チャックピン６やスピンベース２の上面に残った第１、第２、または第３の薬液が乾燥すると、薬液成分が結晶化してパーティクルとなり汚染の原因となるので、次に、チャックピン６やスピンベース２の上面２ａのうち第１、第２、または第３の薬液が残った部分が洗浄される。
【００６０】
先ず、制御部１５により回転駆動機構８，２９が制御されて、ウエハＷおよび遮断板２７の回転数が、ウエハＷ洗浄時の回転数に戻される。そして、制御部１５の制御によりバルブ１８Ａが開かれ、洗浄ノズル１２からチャック用洗浄液が吐出される。洗浄ノズル１２から吐出されるチャック用洗浄液の流量は、３リットル／分以下とされることが好ましい。
回転駆動機構８，２９によるスピンベース２および遮断板２７の回転、ならびに下ノズル１３および上ノズル３４からのウエハ用洗浄液の吐出は継続される。洗浄ノズル１２が、たとえば、１本のみ設けられていた場合でも、スピンベース２が回転することにより、すべてのチャックピン６およびその近傍の上面２ａにチャック用洗浄液が当てられる。これにより、スピンベース２の上面２ａおよびチャックピン６において、第１、第２、または第３の薬液が残っている部分が洗浄される。
【００６１】
この際、遠心力によりスピンベース２から側方に振り切られたりチャックピン６に当たって洗浄ノズル１２側に跳ね返されたチャック用洗浄液は、案内部３ａ内の洗浄ノズル１２近傍で受けられ（トラップされ；図２に矢印Ａ２〜Ａ４で示す。）た後、下方へと流れ落ちて洗浄液回収槽２６に回収される。また、チャックピン６で跳ね返り、ミストとなって上方へと飛散しようとするチャック用洗浄液も、遮断板２７の下面で受けられ（トラップされ；図２に矢印Ａ５で示す。）、側方へ振り切られて、案内部３ａを経て洗浄液回収槽２６に回収される。遮断板２７の径はウエハＷの径より大きいので、チャックピン６から斜め上方に飛散したチャック用洗浄液も効率的に受けることができる。
【００６２】
このように、この基板処理装置は第１ないし第３の薬液および洗浄液（ウエハ用洗浄液、チャック用洗浄液）を個別に回収できるようになっている。また、チャック用洗浄液を受けるための案内部３ａが、第１ないし第３の薬液およびウエハ用洗浄液を受けるためのスプラッシュガードに設けられていることにより、この基板処理装置は構造が単純になっている。
また、回収ポート１１ａ〜１１ｃは、案内部３ａより低い高さ位置には配されていないので、チャック用洗浄液が回収ポート１１ａ〜１１ｃに入ることはほとんどない。したがって、第１ないし第３薬液回収槽２１〜２３に回収された第１ないし第３の薬液に、チャック用洗浄液が混入しないから、第１ないし第３の薬液の有効成分の濃度が薄くなるなどの事態を回避することができる。すなわち、この基板処理装置によれば、第１ないし第３の薬液の再利用可能な回数を増やすことにより、第１ないし第３の薬液の使用量を低減できる。
【００６３】
また、第１、第２、または第３の薬液を溶解したチャック用洗浄液が、チャンバ１の内壁やフィルタ４下面などの構造物に付着し、乾燥して薬液成分の結晶を生じることもほとんどない。これにより、蓄積汚染の量も低減できる。
一定時間、チャック用洗浄液によるチャックピン６や上面２ａの洗浄が続けられた後、制御部１５の制御によりバルブ１８Ａが閉じられて、チャック用洗浄液の吐出が停止される。そして、一定時間、下ノズル１３および上ノズル３４からのウエハ用洗浄液の吐出が継続された後、制御部１５の制御によりバルブ１７Ａが閉じられて、下ノズル１３からのウエハ用洗浄液の吐出が停止される。同様に、上ノズル３４からのウエハ用洗浄液の吐出も停止される。
【００６４】
その後、制御部１５により昇降機構１０が制御されて、スプラッシュガード３が下降され、スプラッシュガード３の上端がスピンベース２の上面２ａより低い位置にされる。この状態で、制御部１５により回転駆動機構８，２９が制御され、スピンチャック３０に保持されたウエハＷおよび遮断板２７が、一定時間高速回転されて振り切り乾燥される。回転するウエハＷやスピンベース２の遠心力によって側方に振り切られたウエハ用洗浄液やチャック用洗浄液は、チャンバ１の内壁に当たり、チャンバ１とスプラッシュガード３との間の空間と通って下方へと流れ落ち、洗浄液回収槽２４に回収される。
【００６５】
ウエハＷ、上面２ａ、チャックピン６などの洗浄時に生じたウエハ用洗浄液およびチャック用洗浄液のミストは、遮断板２７に遮られるため、遮断板２７の上方にはほとんど滞留していない。これらのミストは、主にスプラッシュガード３の内部に存在している。このため、上述のようにスプラッシュガード３の上端より高い位置で乾燥を行うと、ウエハ用洗浄液やチャック用洗浄液のミストがウエハＷに付着することはない。したがって、ウエハＷ上でウエハ用洗浄液やチャック用洗浄液が乾燥することにより、薬液成分の結晶によるパーティクルが発生することはない。
【００６６】
以上で、１枚のウエハＷの処理が終了する。
図３は、本発明の第２の実施形態に係る基板処理装置の構成を示す図解的な断面図である。図１および図２の基板処理装置の構成要素に対応する構成要素には、図３に図１および図２の場合と同一符号を付して説明を省略する。
この実施形態の基板処理装置は、スプラッシュガード３の代わりにスプラッシュガード３８が設けられている。図３では、スピンチャック３０およびスプラッシュガード３８に関係する部分のみ示すが、これら以外の部分は第１の実施形態の基板処理装置と同様である。
【００６７】
スプラッシュガード３８は平面視において環状の形状を有している。スプラッシュガード３８の内面上部には、断面がほぼコの字形で内方に開いた溝状の第１案内部３８ａが全周に渡って形成されている。第１案内部３８ａの内面は、ほぼ鉛直方向に沿う内壁面３８ｄ、内壁面３８ｄの上端からスプラッシュガード３８の中心側に向かって斜め上方に延びる天井３８ｅ、および内壁面３８ｄの下端からスプラッシュガード３８の中心側に向かって斜め下方に延びる底面３８ｆを含んでいる。
【００６８】
また、スプラッシュガード３８の下部には、内方および下方に開いた断面がほぼ４分の１円弧状の第２案内部３８ｂと、第２案内部３８ｂの内方に鉛直方向に刻設され円環状の溝３８ｃとが形成されている。
平面視において、スプラッシュガード３８の内縁近傍には、円筒状の仕切部材３９ａがほぼ鉛直方向に沿って立設されている。仕切部材３９ａの内側には、円筒状で仕切部材３９ａと同心状の仕切部材３９ｂがほぼ鉛直方向に沿って立設されている。また、仕切部材３９ａの外側には、円筒状で仕切部材３９ａと同心状の仕切部材３９ｃがほぼ鉛直方向に沿って立設されている。仕切部材３９ｃは、平面視においてスプラッシュガード３８の外側に位置している。仕切部材３９ａおよび仕切部材３９ｃを側壁として、薬液回収槽４２が形成されており、仕切部材３９ａおよび仕切部材３９ｂを側壁として、洗浄液回収槽４３が形成されている。
【００６９】
スプラッシュガード３８には昇降機構１０が結合されており、昇降自在とされている。スプラッシュガード３８が下降されているときには、溝３８ｃは仕切部材３９ａの上部に遊嵌する。
スプラッシュガード３８を貫通し第１案内部３８ａの天井２８ｅから突出するように、ほぼ水平に第１洗浄ノズル４０が設けられている。第１洗浄ノズル４０の先端には、直径が８ｍｍ以下の円形の吐出口４０ｔが形成されている。この吐出口４０ｔは、天井３８ｅからわずかに突出した位置にあり、第１案内部３８ａの内部に配置され、この位置から、スピンチャック３０の回転半径方向内方へ向けて、ほぼ水平にチャック用洗浄液を吐出する。
【００７０】
第１洗浄ノズル４０は、洗浄液配管４１を介して純水などのチャック用洗浄液が収容されたチャック用洗浄液供給源に接続されている。洗浄液配管４１にはバルブ４１Ａが介装されており、バルブ４１Ａを開くことにより、第１洗浄ノズル４０の吐出口４０ｔからスピンベース２の上面２ａやチャックピン６に向けてチャック用洗浄液を棒状に吐出できるようになっている。
回転軸７の周囲には、処理液などから回転軸７等を保護するための保護部材４５が設けられている。
【００７１】
この基板処理装置は、さらに、遮断板２７の上方に配置可能で、遮断板２７の上面にセルフクリーニング用洗浄液を供給するための第２洗浄ノズル４６を備えている。第２洗浄ノズル４６には、洗浄液配管４７を介してセルフクリーニング用洗浄液供給源が接続されている。セルフクリーニング用洗浄液供給源には、純水などのセルフクリーニング用洗浄液が収容されている。洗浄液配管４７には、バルブ４７Ａが介装されており、バルブ４７Ａを開くことにより、第２洗浄ノズル４６から、セルフクリーニング用洗浄液を吐出することが可能である。バルブ４１Ａ，４７Ａの開閉は、制御部１５により制御される。
【００７２】
この基板処理装置でウエハＷの処理をするときは、先ず、制御部１５の制御により、遮断板２７がスピンチャック３０に保持されたウエハＷ上方に近接して対向配置される。そして、制御部１５の制御により、スピンチャック３０に保持されたウエハＷおよび遮断板２７が回転される。
その後、制御部１５により昇降機構１０が制御されて、スピンベース２の上面２ａと第２案内部３８ｂとがほぼ同じ高さになるように、スプラッシュガード３８が移動される。仕切部材３９ａの高さ位置は変わらないので、この状態で、上面２ａと第２案内部３８ｂとの間には、仕切部材３９ａは存在しない。
【００７３】
続いて、制御部１５の制御により、下ノズル１３および上ノズル３４から薬液が吐出される。ウエハＷの遠心力により、薬液はウエハWの下面および上面に沿って外方に向かって流れる。これにより、ウエハＷの下面および上面が処理される。
ウエハWの外周部に達した薬液は、回転しているウエハWの遠心力により側方に振り切られてスプラッシュガード３８の第２案内部３８ｂに受けられ（トラップされ）た後、下方に流れ落ち薬液回収槽４２に回収される。一定時間、ウエハＷ上下面の薬液処理が継続された後、制御部１５の制御により、下ノズル１３および上ノズル３４からの薬液の吐出は停止される。
【００７４】
ウエハＷが薬液により処理される際、薬液の一部はスピンベース２の上面２ａに落ちる。したがって、薬液による処理が終了した後、スピンベース２の上面２ａおよびチャックピン６は、薬液により汚れた状態となっている。
その後、制御部１５により昇降機構１０が制御されて、スプラッシュガード３が下降され、チャックピン６と第１洗浄ノズル４０とがほぼ同じ高さになるようにされる。この状態で、スピンベース２の上面２ａの側方には、第１案内部３８ａが存在しており、仕切部材３９ａは溝３８ｃに遊嵌する。また、遮断板２７は、第１案内部３８ａの上端に近接し、遮断板２７の上面とスプラッシュガード３８の上端とは、ほぼ同じ高さになる。ウエハＷおよび遮断板２７の回転は維持される。
【００７５】
そして、制御部１５の制御により、下ノズル１３および上ノズル３４から、ウエハ用洗浄液が吐出される。ウエハ用洗浄液は、ウエハＷの遠心力により、ウエハWの下面および上面に沿って外方に向かって流れる。これにより、ウエハＷの下面および上面が洗浄される。ウエハＷの周縁部に至ったウエハ用洗浄液は、側方へと振り切られて、スプラッシュガード３８の第１案内部３８ａに受けられ、さらに、下方へと流れて洗浄液回収槽４３に回収される。洗浄液は、薬液を回収するのに用いられる第２案内部３８ｂより高い位置に配された第１案内部３８ａに案内されて回収されるが、仕切部材３９ａにより、薬液回収槽４２に回収された薬液に洗浄液が混入しないようにされている。
【００７６】
続いて、制御部１５の制御により、スピンチャック３０および遮断板２７の回転数が小さくされる。その結果、下ノズル１３から吐出されたウエハ用洗浄液は、ウエハＷにより十分大きな遠心力が与えられなくなり、下ノズル１３に向かって落ちるようになる。これにより、下ノズル１３がウエハ用洗浄液で洗浄される。このときも、ウエハ用洗浄液は洗浄液回収槽４３に回収される。
次に、制御部１５の制御により、ウエハＷおよび遮断板２７の回転数が、ウエハＷ洗浄時の回転数に戻される。そして、制御部１５の制御によりバルブ４１Ａが開かれ、第１洗浄ノズル４０からチャック用洗浄液が吐出される。第１洗浄ノズル４０から吐出されるチャック用洗浄液の流量は、３リットル／分以下とされることが好ましい。スピンベース２および遮断板２７の回転、ならびに下ノズル１３および上ノズル３４からのウエハ用洗浄液の吐出は継続される。これにより、スピンベース２の上面２ａおよびチャックピン６において、薬液が残っている部分が洗浄される。
【００７７】
この際、チャックピン６に当たって洗浄ノズル４０側に跳ね返されたチャック用洗浄液は、第１案内部３８ａ内で受けられ（トラップされ；図３に矢印Ｄ１〜Ｄ４で示す。）た後、下方へと流れ落ちて洗浄液回収槽４３に回収される。また、チャックピン６で跳ね返り、ミストとなって上方へと飛散しようとするチャック用洗浄液も、遮断板２７の下面で受けられ（トラップされ；図３に矢印Ｄ５で示す。）、側方へ振り切られて、第１案内部３８ａを経て洗浄液回収槽４３に回収される。
【００７８】
このように、この基板処理装置は１種類の薬液と、洗浄液（ウエハ用洗浄液、チャック用洗浄液）とを個別に回収できるようになっている。また、チャック用洗浄液は薬液回収槽４２に回収された薬液に混入することはないから、回収された薬液の組成が変化することを回避することができる。したがって、この実施形態の基板処理装置によっても、再利用可能な薬液の量を増やすことができるから、薬液の使用量（消費量）を低減できる。
【００７９】
また、薬液を溶解したチャック用洗浄液は、チャンバ１の内壁などの構造物に付着し、乾燥して薬液成分の結晶を生じることもほとんどない。これにより、蓄積汚染の量も低減できる。
スピンベース２の上面２ａやチャックピン６がチャック用洗浄液により洗浄された後、制御部１５の制御によりバルブ４１Ａが閉じられて、チャック用洗浄液の吐出が停止される。そして、一定時間、下ノズル１３および上ノズル３４からのウエハ用洗浄液の吐出が継続された後、制御部１５の制御により、ウエハ用洗浄液の吐出が停止される。
【００８０】
次に、制御部１５の制御により、スピンチャック３０に保持されたウエハＷおよび遮断板２７が、一定時間高速回転されて振り切り乾燥される。回転するウエハＷやスピンベース２の遠心力によって側方に振り切られたウエハ用洗浄液やチャック用洗浄液は、第１案内部３８ａに受けられ、下方へと流れ落ちて洗浄液回収槽４３に回収される。
以上で、１枚のウエハＷの処理が終了する。
【００８１】
上述のように、この基板処理装置によれば蓄積汚染を低減できるが、この基板処理装置は、チャンバ１内壁等を洗浄して蓄積汚染を除去するセルフクリーニングも可能である。セルフクリーニングは、スピンチャック３０にウエハＷは保持されていない状態で行われる。
先ず、制御部１５の制御により、スピンチャック３０および遮断板２７が回転され、スプラッシュガード３８が、ウエハＷ洗浄時と同じ高さ位置に、すなわち、スピンベース２の上面２ａと第１案内部３８ａとがほぼ同じ高さ位置になるようにされる。続いて、制御部１５の制御により、遮断板２７がスピンベース２に近接される。これにより、遮断板２７の上面とスプラッシュガード３８の上端とがほぼ同じ高さ位置にされる。
【００８２】
次に、制御部１５の制御により、バルブ４７Ａが開かれて、第２洗浄ノズル４６から遮断板２７の上面に向けて、セルフクリーニング用洗浄液が吐出される。また、下ノズル１３および上ノズル３４からのウエハ用洗浄液の吐出、ならびに第１洗浄ノズル４０からのチャック用洗浄液の吐出も開始される。
セルフクリーニング用洗浄液は、遮断板２７の遠心力により側方へと振り切られて、チャンバ１の内壁に当たり（図３に、矢印Ｅで示す。）、下方へと流れ落ちる。これにより、チャンバ１の内壁が洗浄される。スピンベース２の上面２ａやチャックピン６などの表面は、ウエハ用洗浄液やチャック用洗浄液に覆われているので、セルフクリーニング用洗浄液のミスト等が付着することはない。
【００８３】
一定時間、このような処理が行われた後、制御部１５の制御により、第２洗浄ノズル４６からのセルフクリーニング用洗浄液の吐出、下ノズル１３および上ノズル３４からのウエハ用洗浄液の吐出、ならびに、第１洗浄ノズル４０からのチャック用洗浄液の吐出が停止される。続いて、制御部１５の制御により、スピンチャック３０および遮断板２７が、一定時間高速回転されて振り切り乾燥される。
【００８４】
スピンベース２の上面２ａやチャックピン６の洗浄は、ウエハＷを１枚処理するごとに行われるが、セルフクリーニングは、ウエハＷが所定枚数処理されるごとに行うものとすることができる。
本発明は、以上の実施形態に限定されるものではなく、たとえば、第１の実施形態において、回収ポート１１ａ〜１１ｃの数は、使用する薬液の種類の数に応じて、任意に構成することができる。この場合でも、案内部３ａを最も低い位置にある回収ポート１１ｃより低い位置に設けることにより、回収ポート１１ａ〜１１ｃを経て回収された薬液に洗浄液が混入することを防止できる。
【００８５】
洗浄液が、常に十分大きな初速度で側方に飛び出すようにされる場合は、洗浄液は、回収ポート１１ａ〜１１ｃのいずれかを介して回収されるものとしてもよい。
第１および第２の実施形態において、スプラッシュガード３，３８が固定されており、スピンチャック３０が昇降するように構成されていてもよい。また、スプラッシュガード３，３８およびスピンチャック３０の双方が昇降可能に構成されていてもよい。
【００８６】
洗浄ノズル１２および第１洗浄ノズル４０は、案内部３ａ内や第１案内部３８ａ内に、複数本備えられていてもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す図解的な断面図である。
【図２】図１の基板処理装置の構造および制御を説明するための図解的な断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る基板処理装置の構成を示す図解的な断面図である。
【図４】従来の基板処理装置の構成を示す図解的な断面図である。
【図５】従来の基板処理装置の他の構成を示す図解的な断面図である。
【符号の説明】
２スピンベース
３，３８スプラッシュガード
３ａ案内部
６チャックピン
８回転駆動機構
１１ａ〜１１ｃ回収ポート
１２洗浄ノズル
１２ｔ，４０ｔ吐出口
１３下ノズル
１５制御部
２７遮断板
３０スピンチャック
３４上ノズル
３８ａ第１案内部
３８ｂ第２案内部
４０第１洗浄ノズル
Ｗウエハ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate processing apparatus capable of cleaning a substrate holding unit that holds a substrate such as a semiconductor substrate or a glass substrate for a liquid crystal display device with a cleaning liquid.
[0002]
[Prior art]
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a configuration of a conventional substrate processing apparatus. This substrate processing apparatus can perform processing by supplying a processing liquid to the lower surface of a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as “wafer”) W which is an example of a semiconductor substrate.
This substrate processing apparatus includes a cylindrical chamber 51, a spin chuck 70 that rotates while holding the wafer W substantially horizontally, and a splash guard 53 that is disposed so as to surround the spin chuck 70 in plan view. Including.
[0003]
The spin chuck 70 includes a disk-shaped spin base 52 arranged substantially horizontally, and a rotation shaft 57 attached substantially vertically to the spin base 52 at the center of the lower surface of the spin base 52. The upper surface 52a of the spin base 52 is a substantially horizontal surface, and a plurality of chuck pins 56 are erected at intervals in the circumferential direction on the peripheral edge of the upper surface 52a. The chuck pin 56 includes a support portion 56 a that supports the peripheral portion of the lower surface of the wafer W, and a holding portion 56 b that holds an end surface (peripheral surface) of the wafer W.
[0004]
The rotation shaft 57 is coupled to a rotation drive mechanism 58 for rotating the rotation shaft 57 about the axis, so that the wafer W held on the spin base 52 can be rotated.
The rotating shaft 57 is tubular, and a processing liquid pipe 64 having a processing liquid supply path 59 for flowing the processing liquid is inserted into the rotating shaft 57. The upper end of the processing liquid pipe 64 slightly protrudes from the upper surface 52 a of the spin base 52.
[0005]
The upper end of the processing liquid pipe 64 is a processing liquid nozzle 63 having a discharge port communicating with the processing liquid supply path 59. A chemical liquid and a wafer cleaning liquid (for example, pure water) can be switched and introduced into the processing liquid supply path 59, and the chemical liquid or the wafer cleaning liquid can be selectively discharged from the processing liquid nozzle 63. . As a result, the chemical solution or the cleaning solution for the wafer can be supplied to the lower surface of the wafer W held by the spin chuck 70 to perform chemical treatment or cleaning.
[0006]
The splash guard 53 includes two recovery ports 61a and 61b arranged in the vertical direction. The recovery ports 61 a and 61 b are both provided over the entire circumference of the splash guard 53 and open toward the center of the splash guard 53. The collection port 61a is arranged at a position higher than the collection port 61b. Under the recovery port 61 b, a guide portion 61 d having a substantially U-shaped cross section that opens toward the center of the splash guard 53 is provided over the entire circumference of the splash guard 53.
[0007]
A cleaning nozzle 62 is mounted substantially horizontally on the recovery port 61a. The cleaning nozzle 62 has a discharge port, and the discharge port is directed toward the center of the splash guard 53. A cleaning liquid for chuck such as pure water can be introduced into the cleaning nozzle 62, and the cleaning liquid for chuck can be discharged from the discharge port toward the chuck pin 56 and the upper surface 52 a of the spin base 52. Thereby, the chuck pin 56 and the upper surface 52a can be cleaned.
[0008]
An elevator mechanism 60 is coupled to the splash guard 53 so that the splash guard 53 and the cleaning nozzle 62 can be raised and lowered simultaneously.
When processing the wafer W by discharging the chemical liquid from the processing liquid nozzle 63, the recovery port 61a is positioned by the elevating mechanism 60 on the side of the upper surface 52a, for example. In this case, the chemical liquid shaken off by the centrifugal force of the rotating wafer W is recovered via the recovery port 61a. The collected chemical solution is reused when the processing capacity is not lowered.
[0009]
When the lower surface of the wafer W is processed using a different type of chemical solution from the above-described chemical solution, the upper surface 52a of the spin base 52 and the recovery port 61b are set to have substantially the same height, and the chemical solution is provided via the recovery port 61b. Can be recovered. By using the recovery port 61b, the chemical solution can be recovered separately from the chemical solution recovered via the recovery port 61a.
When the wafer cleaning liquid is discharged from the processing liquid nozzle 63 to clean the wafer W, the guide mechanism 61d is positioned on the side of the upper surface 52a by the elevating mechanism 60. In this case, the wafer cleaning liquid shaken off by the centrifugal force of the rotating wafer W is received by the guide portion 61d, flows down and is collected, and then discarded.
[0010]
When the wafer W is processed with a chemical solution, the upper surface 52a of the spin base 52 and the chuck pins 56 are also stained with the chemical solution. These chemicals cannot be completely removed when the wafer W is cleaned with the wafer cleaning liquid. Therefore, the upper surface 52 a and the chuck pin 56 are cleaned by the cleaning nozzle 62 disposed on the side of the spin base 52.
At this time, the splash guard 53 is lowered by the elevating mechanism 60 so that the cleaning nozzle 62 and the chuck pin 56 have substantially the same height. In this state, the upper surface 52 a of the spin base 52 is slightly higher than the upper end of the splash guard 53.
[0011]
Subsequently, the cleaning liquid for chuck is discharged from the cleaning nozzle 62. The cleaning liquid for chuck discharged from the cleaning nozzle 62 mainly flows on the upper surface 52a of the spin base 52, is shaken off by the centrifugal force of the rotating spin base 52, and hits the inner wall of the chamber 51 (indicated by arrows B1 and B2 in FIG. 4). Show.) Such chuck cleaning liquid further flows down between the chamber 51 and the splash guard 53 and is collected and discarded in the lower part.
[0012]
As described above, the chemical liquid, the wafer cleaning liquid, and the chuck cleaning liquid used during the wafer W processing can be separately collected.
FIG. 5 is a schematic sectional view showing another configuration of the conventional substrate processing apparatus. Components corresponding to those of the substrate processing apparatus of FIG. 4 are denoted by the same reference numerals as those of FIG. 4 in FIG.
In this substrate processing apparatus, a splash guard 73 is provided instead of the splash guard 53. The splash guard 73 has an annular shape in plan view, and a groove-shaped first guide portion 73 a having a substantially U-shaped cross section and opening toward the center of the splash guard 73 is formed on the upper inner surface of the splash guard 73. Yes. Further, below the splash guard 73, a second guide portion 73b having a circular arc shape with a quarter cross section opened to the center side and below the splash guard 73, and an inward direction of the second guide portion 73b in a vertical direction. An annular groove 73c is formed.
[0013]
Below the groove 73c, a cylindrical partition member 75 disposed in a substantially vertical direction is disposed. The groove 73c is loosely fitted on the upper part of the partition member 75 when the splash guard 73 is lowered, and is separated from the partition member 75 when the splash guard 73 is raised.
A cleaning nozzle 74 is attached on the splash guard 73. The cleaning nozzle 74 can discharge the chuck cleaning liquid S so as to spread in the vertical direction at a wide angle. Accordingly, the chuck cleaning liquid S is uniformly applied to the chuck pins 56 extending in the vertical direction, so that the chuck pins 56 can be efficiently cleaned.
[0014]
When the lower surface of the wafer W is processed with a chemical solution, the splash guard 73 is moved by the lifting mechanism 60 so that the second guide portion 73b is positioned on the side of the upper surface 52a of the spin base 52. The chemical liquid shaken off by the centrifugal force of the wafer W hits the second guide portion 73b, flows down through the splash guard 73, and is collected. The collected chemical solution is reused when the processing capacity is not lowered.
[0015]
When the lower surface of the wafer W is cleaned with the wafer cleaning liquid, the splash guard 73 is moved by the lifting mechanism 60 so that the first guide portion 73a is positioned on the side of the upper surface 52a of the spin base 52. The wafer cleaning liquid shaken off to the side by the centrifugal force of the wafer W hits the first guide portion 73a, flows down and is collected and discarded. The wafer cleaning liquid and the chemical liquid can be separated and collected by the partition member 75.
[0016]
Further, when the chuck cleaning liquid is discharged from the cleaning nozzle 74 to clean the upper surface 52a of the chuck pin 56 or the spin base 52, the splash guard 73 is moved by the lifting mechanism 60 as shown in FIG. 52a and the upper end of the splash guard 73 are set to have substantially the same height. In this case, the chuck cleaning liquid shaken off by the centrifugal force of the rotating spin base 52 or bounced back to the chuck pin 56 hits the inner wall of the chamber 51 (indicated by an arrow C1 in FIG. 5) and flows down to be recovered. Discarded.
[0017]
[Patent Document 1]
JP 2000-185264 A
[Patent Document 2]
JP-A-10-199852
[0018]
[Problems to be solved by the invention]
However, not all of the chuck cleaning liquid discharged from the cleaning nozzles 62 and 74 flows between the splash guards 53 and 73 and the chamber 51 and is collected. For example, in the substrate processing apparatus of FIG. 4, a part of the chuck cleaning liquid flies obliquely downward and enters the recovery port 61a and the recovery port 61b (indicated by arrows B3 and B4, respectively). In particular, when the spin base 52 rotates at a low speed, a sufficiently large centrifugal force is not applied to the cleaning liquid for chuck, and the spin base 52 is blown to the side while falling downward. The cleaning solution for chuck is easy to mix.
[0019]
As a result, the cleaning solution for chuck is mixed into the chemical solution recovered through the recovery ports 61a and 61b. Since the collected chemical solution is reused when the wafer W is processed later, if the composition of the collected chemical solution changes due to mixing of the chuck cleaning solution, the processing capability of the chemical solution is reduced and is not suitable for reuse. That is, the number of times that the chemical solution can be reused decreases, and the amount (consumption) of the chemical solution increases.
In the substrate processing apparatus shown in FIGS. 4 and 5, the rotation speed of the spin base 52 is increased, the chuck cleaning liquid on the spin base 52 is efficiently spun off to the side by centrifugal force, and the chamber 51 and the splash guard 53, It is also conceivable to enter the space between 73. However, in this case, since the chuck cleaning liquid collides with the spin base 52 and the chuck pin 56 at a relatively high speed, the chuck cleaning liquid is easily scattered upward as mist.
[0020]
In particular, in the substrate processing apparatus shown in FIG. 5, since the chuck cleaning liquid is discharged from the cleaning nozzle 74 at a wide angle, the chuck cleaning liquid bounced off by the chuck pins 56 is likely to be scattered at a wide angle. For this reason, the amount of cleaning liquid for chucks scattered upward also increases.
As a result, the chuck cleaning liquid adheres to structures such as the inner wall of the chamber 51 (indicated by arrows B5 and B6 in FIGS. 4 and 5). Since such a cleaning solution for chucks dissolves the chemical solution, the chemical component is crystallized when dried, which causes particles. In particular, in a substrate processing apparatus having a structure in which the inside of the chamber 51 cannot be automatically cleaned (self-cleaning), particles once attached to the structure in the chamber 51 cannot be easily removed and become accumulated contamination.
[0021]
Further, the mist-like cleaning liquid for chuck adheres to the wafer W after it stays above the substrate, for example, when the wafer W is rotated at high speed after drying, and becomes a particle by drying to form the wafer W. There is a risk of contamination.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus that can reduce the amount of a processing solution such as a chemical solution used.
Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of reducing accumulated contamination.
[0022]
Still another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus in which a substrate to be processed is not easily contaminated by particles.
[0023]
[Means for Solving the Problems and Effects of the Invention]
 The invention as set forth in claim 1 for solving the above-mentioned problems is a substrate holding portion (30) for holding the substrate (W) substantially horizontally, and a rotation drive mechanism (8) for rotating the substrate holding portion. The cleaning liquid discharging means (12, 18, 18A, 40, 41, 41A) that discharges the cleaning liquid toward the substrate holding portion can be disposed so as to surround the side of the substrate holding portion, and is based on the rotation driving mechanism. A cleaning liquid recovery section (3a, 38a) for receiving and recovering a cleaning liquid that is blown to the side along with the rotation of the substrate holding section, and a discharge port in which the cleaning liquid discharge means is provided in the cleaning liquid recovery section ( 12t, 40t)An opening (3a, 38a) that opens toward the rotation center of the rotary drive mechanism is formed in the cleaning liquid recovery section, and the cleaning liquid discharge means has a cleaning nozzle (12, 40)), and the discharge port of the cleaning nozzle is disposed inside the opening, and the substrate holder is cleaned by the cleaning liquid discharged from the discharge port of the cleaning nozzle through the opening. RuThis is a substrate processing apparatus.
The invention according to claim 2 is a substrate holding part for holding the substrate substantially horizontally, a rotation drive mechanism for rotating the substrate holding part, a cleaning liquid discharging means for discharging the cleaning liquid toward the substrate holding part, A cleaning liquid recovery unit that can be disposed so as to surround the side of the substrate holding unit, and receives and recovers the cleaning liquid that is blown to the side along with the rotation of the substrate holding unit by the rotation drive mechanism; The cleaning liquid discharge means has a discharge port provided in the cleaning liquid recovery section, and the cleaning liquid recovery section is formed with an opening that opens toward the rotation center of the rotation drive mechanism. In the substrate processing apparatus, the opening of the cleaning liquid recovery section provided with the outlet receives and recovers the cleaning liquid bounced back to the cleaning liquid discharge means.
The invention according to claim 3 is characterized in that the cleaning liquid discharge means includes a cleaning nozzle having the discharge port at the tip, and the discharge port of the cleaning nozzle is disposed inside the opening. 2. The substrate processing apparatus according to 2.
According to a fourth aspect of the present invention, in the first and third aspects of the invention, the cleaning nozzle may be provided so as to protrude from the ceiling of the opening.
[0024]
In addition, the alphanumeric characters in parentheses represent corresponding components in the embodiments described later. The same applies hereinafter.
For example, the substrate processing apparatus may supply a chemical solution to the substrate held by the substrate holding unit to process the substrate. In this case, the substrate holder is soiled by the chemical solution. According to the present invention, the cleaning liquid can be cleaned by discharging the cleaning liquid onto the substrate holding portion thus dirty.
[0025]
 Since the discharge port of the cleaning liquid discharge means is provided in the cleaning liquid recovery part, when the discharge port of the cleaning liquid discharge means is arranged on the side of the substrate holding part, the cleaning liquid recovery part exists on the side of the substrate holding part. ing. In this state, when the cleaning liquid is discharged from the cleaning liquid discharge means toward the substrate holding part while rotating the substrate holding part by the rotation driving mechanism, the cleaning liquid is~ sideIt is thrown away. Since the cleaning liquid recovery unit exists on the side of the substrate holding unit, such cleaning liquid is received (trapped) by the cleaning liquid recovery unit.
[0026]
 Thereby, for example, it is possible to prevent the cleaning liquid containing the chemical liquid from adhering to the inner wall of the chamber in which the substrate holding part is accommodated. Therefore, particles generated by drying such a chemical on the surface of a structure such as the inner wall of the chamber, that is, accumulated contamination can be reduced.
 The cleaning liquid recovery unit may be formed as, for example, a groove-shaped recess, and in this case, the cleaning liquid once received in the recess may be configured to further flow down and be recovered. .
In the first and third aspects of the invention, since the discharge port, that is, the tip of the cleaning nozzle is arranged in the opening, the tip of the cleaning nozzle does not interfere with other members.
In the first and third aspects of the present invention, the number of cleaning nozzles may be one, for example. In this case, by rotating the substrate holding part by a rotation drive mechanism, the region where the cleaning liquid hits the substrate holding part is held by the substrate holding part. The substrate holding part can be satisfactorily cleaned by moving in the circumferential direction of the part. A plurality of cleaning nozzles may be provided.
[0027]
 Claim5The described invention further includes a processing liquid nozzle (13, 34) that discharges the processing liquid toward the substrate held by the substrate holding unit, and the cleaning liquid recovery unit is discharged from the processing liquid nozzle and driven to rotate. 2. A splash guard (3, 38) for receiving a processing liquid blown to the side by a centrifugal force by a mechanism.Or any of 4It is a substrate processing apparatus of description.
 The processing liquid nozzle may be capable of discharging a processing liquid such as a chemical liquid or a cleaning liquid toward the lower surface or / and the center of the upper surface of the substrate held by the substrate holding unit, for example. In this case, by rotating the substrate held by the substrate holder by the rotation driving mechanism, the processing liquid discharged to the center of the substrate is directed outward along the lower surface and / or upper surface of the substrate by centrifugal force. Can be made to flow. Thereby, the lower surface or / and the upper surface of the substrate are processed with the processing liquid.
[0028]
 The processing liquid that has reached the peripheral edge of the substrate is shaken off to the side and received by the splash guard.
 Since the cleaning liquid recovery part for receiving the cleaning liquid discharged from the cleaning liquid discharging means is formed in the splash guard, it is also possible to receive the cleaning liquid using the splash guard. Therefore, the structure of the apparatus can be simplified.
 Claim6In the described invention, the splash guard includes a processing liquid recovery unit (11a, 11b, 11c, 38b) for recovering the processing liquid.Item 6. The substrate processing apparatus according to Item 5.
[0029]
 According to this invention, the processing liquid discharged from the processing liquid nozzle and flew to the side can be recovered by the processing liquid recovery unit. Thereby, this chemical | medical solution can be reused, when the collect | recovered process liquid is a chemical | medical solution. The processing liquid to be reused can be a chemical liquid such as an etching liquid.
 Claim7The invention described in the above is characterized in that a plurality of the treatment liquid recovery units are provided in a vertically stacked manner.6It is a substrate processing apparatus of description.
[0030]
 According to this invention, by changing the height position of the processing liquid recovery part with respect to the substrate holding part, it is possible to separate and recover using the different processing liquid recovery parts for each type of processing liquid used.
 Claim8The described invention is characterized in that the cleaning liquid recovery section is provided at a lower position than the lowermost processing liquid recovery section (11c).6Or7It is a substrate processing apparatus of description.
[0031]
According to this invention, the processing liquid recovery part is not provided at a lower position than the cleaning liquid recovery part. For this reason, when the cleaning liquid is received by the cleaning liquid recovery section and then recovered by flowing down, or when the cleaning liquid jumps diagonally downward from the substrate holding section and hits the splash guard at a lower position than the cleaning liquid recovery section However, the cleaning liquid does not enter the processing liquid recovery unit.
For this reason, the situation where the density | concentration of the active ingredient of the collect | recovered process liquid becomes thin can be avoided. That is, according to this substrate processing apparatus, it is possible to suppress a decrease in the processing capacity of the processing liquid, so that the number of times that the processing liquid can be reused can be increased, and the amount (consumption) of the processing liquid can be reduced. .
[0033]
Claim9The invention described in claim 1 further includes a blocking plate (27) that can be disposed opposite to and close to the substrate held by the substrate holding portion.8The substrate processing apparatus according to any one of the above.
[0034]
According to this invention, it is possible to reduce the amount of the cleaning liquid which is rebounded by the substrate holding portion and scattered as mist, for example, by the blocking plate. Thereby, after the cleaning liquid stays above the substrate, it adheres to the substrate to become particles, and accumulated contamination that occurs on the surface of a structure such as a chamber inner wall can be suppressed.
The blocking plate is preferably larger than the substrate. As a result, the amount of cleaning liquid scattered above the substrate can be efficiently reduced.
[0035]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the overall configuration of a substrate processing apparatus according to a first embodiment of the present invention. This substrate processing apparatus can perform processing by supplying a chemical solution to the lower surface of a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as “wafer”) W which is an example of a semiconductor substrate.
[0036]
This substrate processing apparatus rotates around a vertical axis passing through the approximate center of the wafer W while holding the wafer W substantially horizontally disposed inside the cylindrical chamber 1 having a central axis substantially along the vertical direction. The spin chuck 30 and the splash guard 3 disposed so as to surround the spin chuck 30 in plan view are included.
The splash guard 3 includes four cylindrical members 48 a to 48 d that are arranged concentrically with the chamber 1 from the outside toward the inside. The four cylindrical members 48a to 48d are configured such that the height decreases in order from the outermost cylindrical member 48a toward the innermost cylindrical member 48d. From the upper ends of the cylindrical members 48a to 48d, projecting portions 49a to 49d project obliquely upward toward the center side (spin base 2 side), respectively. The tips of the protrusions 49a to 49d are on a substantially vertical surface.
[0037]
The recovery port 11a is formed by the protrusion 49a and the protrusion 49b, the recovery port 11b is formed by the protrusion 49b and the protrusion 49c, and the recovery port 11d is formed by the protrusion 49c and the protrusion 49d. 11c is formed. The collection ports 11a to 11c are stacked in the vertical direction.
The lower part of the cylindrical member 48b has two concentric cylindrical bodies 48e and 48f. The cylindrical body 48e is outside the cylindrical body 48f. Similarly, the lower part of the cylindrical member 48c is two concentric cylindrical bodies 48g and 48h. The cylindrical body 48g is outside the cylindrical body 48h. The lower part of the cylindrical member 48c is two concentric cylindrical bodies 48i and 48j. The cylindrical body 48i is outside the cylindrical body 48j.
[0038]
The cylindrical body 48j is provided so as to extend downward from the tip of an inclined portion 48k that extends obliquely downward from the cylindrical member 48d. The projecting portion 49d, the cylindrical member 48d, and the inclined portion 48k form a guide portion 3a having a substantially U-shaped cross section that opens toward the center of the splash guard 3. The guide 3a is located below the collection port 11c.
A bottom plate 35 is disposed substantially horizontally below the splash guard 3 so as to close the lower portion of the chamber 1. From the bottom plate 35, five cylindrical separation walls 25a to 25e are erected. The separation walls 25a to 25e are arranged concentrically from the outside toward the inside in the order of the separation wall 25a, the separation wall 25b, the separation wall 25c, the separation wall 25d, and the separation wall 25e. In a plan view, the diameter of the separation wall 25 e is slightly smaller than the diameter of the spin base 2.
[0039]
The first chemical recovery tank 21 is formed with the separation wall 25a and the separation wall 25b as side walls, and the second chemical recovery tank 22 is formed with the separation wall 25b and the separation wall 25c as side walls. A third chemical recovery tank 23 is formed using the wall 25d as a side wall, and a cleaning liquid recovery tank 26 is formed using the separation wall 25d and the separation wall 25e as side walls. A cleaning liquid recovery tank 24 is formed with the chamber 1 and the separation wall 25a as side walls.
[0040]
A lift mechanism 10 is coupled to the splash guard 3. The elevating mechanism 10 includes a coupling member 10a coupled to the splash guard 3, an elevating shaft 10b coupled to the coupling member 10a substantially along the vertical direction, and an elevating drive unit 10c coupled to the elevating shaft 10b and capable of elevating the elevating shaft 10b. Contains. A guide member 10d is coupled to the separation wall 25a, and the elevating shaft 10b is inserted through the guide member 10d. The elevating shaft 10c is moved up and down by the elevating drive unit 10c so that the splash guard 3 can be moved up and down in a substantially vertical direction.
[0041]
When the splash guard 3 is lowered, the lower portion of the cylindrical member 48a and the cylindrical body 48e are inserted between the separation wall 25a and the separation wall 25b, and the cylindrical bodies 48f and 48g are formed between the separation wall 25b and the separation wall 25c. The cylinders 48h and 48i are inserted between the separation wall 25c and the separation wall 25d, and the cylinder 48j is inserted between the separation wall 25d and the separation wall 25e.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining the structure and control of the substrate processing apparatus of FIG.
[0042]
A filter 4 is attached so as to close the upper end of the chamber 1. A drainage / exhaust pipe 5 is provided through the lower part of the chamber 1. The drainage / exhaust pipe 5 is connected to an exhaust pump P outside the chamber 1 via a gas-liquid separation unit (not shown). By operating the pump P, foreign matter is removed from the air from the chamber 1 by the filter 4 and guided into the chamber 1, and is discharged from the pump P to the outside of the chamber 1.
[0043]
The spin chuck 30 includes a disk-shaped spin base 2 that is disposed substantially horizontally and a rotating shaft 7 that is attached to the lower center of the spin base 2 along the vertical direction. The upper surface 2a of the spin base 2 is a substantially horizontal surface, and a plurality of chuck pins 6 are erected at intervals in the circumferential direction on the peripheral edge of the upper surface 2a. The chuck pin 6 rises vertically at a support portion 6a that supports the peripheral edge of the lower surface of the wafer W, and radially outward of the spin base 2 with respect to the support portion 6a, and abuts against an end surface (peripheral surface) of the wafer W. In addition, it has a clamping part 6b that clamps the wafer W in cooperation with other chuck pins 6.
[0044]
The rotary shaft 7 is coupled to a rotary drive mechanism 8 that rotates the rotary shaft 7 about the axis. With the above configuration, the wafer W held on the spin base 2 can be rotated by the rotation drive mechanism 8.
The rotating shaft 7 is tubular, and a processing liquid pipe 14 is inserted into the rotating shaft 7. Inside the processing liquid pipe 14 is a processing liquid supply path 9. The upper end of the processing liquid pipe 14 slightly protrudes from the upper surface 2 a of the spin base 2, has an opening communicating with the processing liquid supply path 9, and serves as a lower nozzle 13 that discharges the processing liquid. At the tip of the lower nozzle 13, a flange portion that protrudes outward in the rotational radial direction is formed.
[0045]
The lower end of the processing liquid pipe 14 is branched into a first chemical liquid pipe 16, a second chemical liquid pipe 19, a third chemical liquid pipe 20, and a cleaning liquid pipe 17. The first chemical liquid pipe 16 is connected to a first chemical liquid supply source containing a first chemical liquid, and the second chemical liquid pipe 19 is connected to a second chemical liquid supply source containing a second chemical liquid. The third chemical liquid pipe 20 is connected to a third chemical liquid supply source in which the third chemical liquid is accommodated. The cleaning liquid pipe 17 is connected to a wafer cleaning liquid supply source in which a wafer cleaning liquid such as pure water is accommodated. The first to third chemical liquids may be, for example, etching liquids, and may be different from each other.
[0046]
The first chemical liquid pipe 16 is provided with a valve 16A, the second chemical liquid pipe 19 is provided with a valve 19A, the third chemical liquid pipe 20 is provided with a valve 20A, and the cleaning liquid pipe is provided. 17 is provided with a valve 17A.
By closing the valves 19A, 20A, and 17A and opening the valve 16A, the first chemical liquid can be introduced into the processing liquid supply path 9. By closing the valves 16A, 20A, and 17A and opening the valve 19A, the second chemical liquid can be introduced into the processing liquid supply path 9. By closing the valves 16A, 19A, and 17A and opening the valve 20A, the third chemical liquid can be introduced into the processing liquid supply path 9. Then, the wafer cleaning liquid can be introduced into the processing liquid supply path 9 by closing the valves 16A, 19A, 20A and opening the valve 17A. Therefore, by opening and closing the valves 16A, 19A, 20A, and 17A, the first to third chemical liquids and the wafer cleaning liquid can be switched and discharged from the lower nozzle 13 toward the center of the lower surface of the wafer W.
[0047]
A disc-shaped blocking plate 27 is disposed above the spin chuck 30. The diameter of the blocking plate 27 is larger than the diameter of the wafer W. A rotary shaft 28 is attached to the upper center of the blocking plate 27, and a rotary drive mechanism 29 that rotates the rotary shaft 28 about the axis is coupled to the rotary shaft 28. With the rotation drive mechanism 29, the blocking plate 27 can be synchronously rotated at the same rotational speed in the same direction as the spin base 2, for example.
[0048]
The rotating shaft 28 is tubular, and a processing liquid pipe 31 is inserted into the rotating shaft 28. Inside the processing liquid pipe 31 is a processing liquid supply path 32 for flowing the processing liquid. The lower end of the processing liquid pipe 31 has an opening communicating with the processing liquid supply path 32, and serves as an upper nozzle 34 that discharges the processing liquid toward the center of the upper surface of the wafer W. A treatment liquid such as a chemical liquid or a cleaning liquid can be introduced into the treatment liquid supply path 32 from a treatment liquid supply source (not shown).
[0049]
The upper nozzle 34 may be configured so that, for example, only the wafer cleaning liquid can be discharged as the processing liquid. Similarly to the lower nozzle 13, the first to third chemical liquids and the wafer cleaning liquid can be switched and discharged. It may be configured.
An elevating mechanism 33 is coupled to the rotating shaft 28 so that the blocking plate 27 coupled to the rotating shaft 28 can be moved up and down.
A cleaning nozzle 12 is attached substantially horizontally through the splash guard 3. The cleaning nozzle 12 passes through the cylindrical member 48d and protrudes into the guide portion 3a, and a discharge port 12t is formed at the tip thereof. The discharge port 12t can be, for example, circular, and in this case, the diameter of the discharge port 12t is preferably 8 mm or less.
[0050]
The discharge port 12t is located at a position slightly projecting from the inner wall (cylindrical member 48d) of the guide portion 3a, and is disposed inside the guide portion 3a (preferably at a deep position). The cleaning liquid for chuck is discharged almost horizontally toward the inside in the rotational radius direction. With the arrangement of the discharge port 12t, the tip of the cleaning nozzle 12 does not interfere with other members such as the spin base 2 even when the splash guard 3 is moved up and down.
[0051]
The cleaning nozzle 12 is connected via a cleaning liquid pipe 18 to a chuck cleaning liquid supply source that stores a cleaning liquid for chuck such as pure water. When the wafer cleaning liquid and the chuck cleaning liquid are of the same type (for example, pure water), the wafer cleaning liquid supply source and the chuck cleaning liquid supply source may be the same.
The cleaning liquid pipe 18 is provided with a valve 18A. By opening the valve 18A, the cleaning liquid for chuck can be discharged from the cleaning nozzle 12 toward the chuck pin 6 or the upper surface 2a of the spin base 2 in a rod shape. Yes.
[0052]
The controller 15 controls the opening and closing of the valves 16A to 20A and the operations of the rotation driving mechanisms 8 and 29 and the lifting mechanisms 10 and 33.
When processing the wafer W with this substrate processing apparatus, first, all the valves 16A to 20A are closed under the control of the control unit 15. Further, the control mechanism 15 controls the elevating mechanism 33 so that the blocking plate 27 is disposed close to and above the wafer W held by the spin chuck 30. Then, the rotation drive mechanisms 8 and 29 are controlled by the control unit 15, and the wafer W and the blocking plate 27 held by the spin chuck 30 are rotated.
[0053]
Thereafter, the lifting mechanism 10 is controlled by the control unit 15, and the splash guard 3 is moved so that the upper surface 2a of the spin base 2 and the recovery port 11a have substantially the same height.
In this state, under the control of the control unit 15, the valve 16 A is opened and the first chemical liquid is discharged from the lower nozzle 13. The first chemical liquid flows outward along the lower surface of the wafer W due to the centrifugal force of the wafer W. Thereby, the lower surface of the wafer W is processed. When the first chemical solution is an etching solution, this step may be so-called bevel etching or bevel cleaning in which etching is performed by cleaning the first chemical solution around the peripheral edge of the wafer W.
[0054]
The first chemical solution that has reached the outer periphery of the wafer W is swung to the side by the centrifugal force of the rotating wafer W, enters the recovery port 11a, passes between the cylindrical member 48a and the cylindrical member 48b, It is recovered in the first chemical recovery tank 21. After the processing of the wafer W with the first chemical solution is continued for a certain time, the valve 16A is closed under the control of the control unit 15, and the discharge of the first chemical solution is stopped.
Depending on the type of wafer W to be processed, the lower surface of the wafer W is processed by the second chemical solution instead of the first chemical solution. In that case, first, the elevating mechanism 10 is controlled by the control unit 15, and the splash guard 3 is moved so that the upper surface 2a of the spin base 2 and the recovery port 11b are substantially at the same height. In this state, the valve 19 A is opened under the control of the control unit 15, and the second chemical liquid is discharged from the lower nozzle 13. The second chemical liquid flows outward along the lower surface of the wafer W. Thereby, the lower surface of the wafer W is processed with the second chemical. This step may also be bevel etching or bevel cleaning.
[0055]
The second chemical liquid that has been swung to the side by the centrifugal force of the rotating wafer W enters the recovery port 11b, passes between the cylindrical member 48b and the cylindrical member 48c, and is recovered in the second chemical liquid recovery tank 22. The After such an operation is continued for a certain time, the valve 19A is closed under the control of the control unit 15.
Further, depending on the type of the wafer W to be processed, the lower surface of the wafer W is processed by the third chemical liquid instead of the first or second chemical liquid. In that case, first, the elevating mechanism 10 is controlled by the control unit 15, and the splash guard 3 is moved so that the upper surface 2 a of the spin base 2 and the recovery port 11 c have substantially the same height. In this state, the valve 20 A is opened under the control of the control unit 15, and the third chemical liquid is discharged from the lower nozzle 13. The third chemical liquid flows outward along the lower surface of the wafer W. Thereby, the lower surface of the wafer W is processed with the third chemical solution. This step may also be bevel etching or bevel cleaning.
[0056]
The third chemical liquid shaken off to the side by the centrifugal force of the rotating wafer W enters the recovery port 11c, passes between the cylindrical member 48c and the cylindrical member 48d, and is recovered in the third chemical liquid recovery tank 23. The After such an operation is continued for a certain time, the valve 20A is closed under the control of the control unit 15.
When the wafer W is processed with the first, second, or third chemical solution, a part of the first, second, or third chemical solution falls on the upper surface 2 a of the spin base 2. Therefore, after the processing with the first, second, or third chemical solution is completed, the upper surface 2a of the spin base 2 and the chuck pin 6 are contaminated with the first, second, or third chemical solution. Yes.
[0057]
Thereafter, the lifting mechanism 10 is controlled by the control unit 15 so that the splash guard 3 is moved so that the upper surface 2a of the spin base 2 and the guide unit 3a have substantially the same height. In this state, the blocking plate 27 and the tip of the protruding portion 49d (the upper end of the guide portion 3a) are substantially at the same height and are close to each other. The rotation of the wafer W and the blocking plate 27 by the rotation driving mechanisms 8 and 27 is maintained.
Then, under the control of the control unit 15, the valve 17 A is opened, and the wafer cleaning liquid is discharged from the lower nozzle 13. Similarly, the wafer cleaning liquid is also discharged from the upper nozzle 34. The wafer cleaning liquid flows outward along the lower and upper surfaces of the wafer W due to the centrifugal force of the wafer W. Thereby, the lower surface and upper surface of the wafer W are cleaned. The wafer cleaning liquid that has reached the peripheral edge of the wafer W is shaken off to the side and received (trapped) by the guide section 3a of the splash guard 3, and further flows downward to be recovered in the cleaning liquid recovery tank 26. The
[0058]
 Subsequently, the rotation drive mechanisms 8 and 29 are controlled by the control unit 15, and the rotation speeds of the spin chuck 30 and the blocking plate 27 are reduced. As a result, the wafer cleaning liquid discharged from the lower nozzle 13 is not given a sufficiently large centrifugal force by the wafer W and falls toward the lower nozzle 13. Thus, the lower nozzle 13 is cleaned with the wafer cleaning liquid.
 By rotating the spin chuck 30 at a low speed, a large centrifugal force does not act on the wafer cleaning liquid flowing on the upper surface 2 a of the spin base 2 or the upper surface of the wafer W. For this reason, the wafer cleaning liquid spun off from the spin base 2 and the wafer W cannot jump out to the side at a sufficiently high speed.2As shown by an arrow A1, it falls down without reaching the guide portion 3a. However, since the recovery ports 11a to 11c are not arranged at a lower position than the guide portion 3a, the wafer cleaning liquid is not mixed into the first, second, or third chemical liquid.
[0059]
Through the above steps, most of the chuck pins 6 and the upper surface 2a of the spin base 2 are also cleaned by the wafer cleaning liquid. However, when viewed from the central portion of the upper surface 2a, the portion on the opposite side of the chuck pins 6 and the vicinity thereof. The upper surface 2a and the like are in a state where the first, second, or third chemical liquid remains without being sufficiently cleaned.
When the first, second, or third chemical liquid remaining on the upper surface of the chuck pin 6 or the spin base 2 is dried, the chemical liquid components are crystallized to become particles and cause contamination. The portion of the upper surface 2a of the base 2 where the first, second, or third chemical solution remains is cleaned.
[0060]
First, the rotation drive mechanisms 8 and 29 are controlled by the control unit 15, and the rotational speeds of the wafer W and the blocking plate 27 are returned to the rotational speed at the time of cleaning the wafer W. Then, the valve 18 A is opened under the control of the control unit 15, and the chuck cleaning liquid is discharged from the cleaning nozzle 12. The flow rate of the chuck cleaning liquid discharged from the cleaning nozzle 12 is preferably 3 liters / minute or less.
The rotation of the spin base 2 and the blocking plate 27 by the rotation driving mechanisms 8 and 29 and the discharge of the wafer cleaning liquid from the lower nozzle 13 and the upper nozzle 34 are continued. Even when only one cleaning nozzle 12 is provided, the chuck cleaning liquid is applied to all the chuck pins 6 and the upper surface 2a in the vicinity thereof by rotating the spin base 2. As a result, portions of the upper surface 2a of the spin base 2 and the chuck pins 6 where the first, second, or third chemical liquid remains are cleaned.
[0061]
 At this time, the chuck cleaning liquid which is swung off from the spin base 2 to the side by centrifugal force or bounced back to the cleaning nozzle 12 by hitting the chuck pin 6 is received (trapped) in the vicinity of the cleaning nozzle 12 in the guide 3a.2Are indicated by arrows A2 to A4. After that, it flows downward and is recovered in the cleaning liquid recovery tank 26. Also, the chuck cleaning liquid that rebounds at the chuck pins 6 and tries to scatter upward as mist is also received (trapped;2Is indicated by an arrow A5. ), Swung to the side, and recovered in the cleaning liquid recovery tank 26 through the guide portion 3a. Since the diameter of the blocking plate 27 is larger than the diameter of the wafer W, the cleaning liquid for chucks scattered obliquely upward from the chuck pins 6 can also be efficiently received.
[0062]
As described above, the substrate processing apparatus can individually collect the first to third chemical liquids and the cleaning liquid (wafer cleaning liquid, chuck cleaning liquid). Further, since the guide 3a for receiving the chuck cleaning liquid is provided on the splash guard for receiving the first to third chemical liquids and the wafer cleaning liquid, the structure of the substrate processing apparatus is simplified. Yes.
Further, since the recovery ports 11a to 11c are not arranged at a height lower than the guide portion 3a, the chuck cleaning liquid hardly enters the recovery ports 11a to 11c. Accordingly, since the chuck cleaning liquid is not mixed in the first to third chemical liquids collected in the first to third chemical liquid recovery tanks 21 to 23, the concentration of the active ingredient in the first to third chemical liquids is reduced. Can be avoided. That is, according to this substrate processing apparatus, the usage amount of the first to third chemical solutions can be reduced by increasing the number of times the first to third chemical solutions can be reused.
[0063]
Further, the chuck cleaning solution in which the first, second, or third chemical solution is dissolved adheres to a structure such as the inner wall of the chamber 1 or the lower surface of the filter 4 and is hardly dried to produce crystals of the chemical component. . Thereby, the amount of accumulated contamination can also be reduced.
After the chuck pin 6 and the upper surface 2a are continuously cleaned with the chuck cleaning liquid for a certain time, the valve 18A is closed under the control of the control unit 15, and the discharge of the chuck cleaning liquid is stopped. Then, after the discharge of the wafer cleaning liquid from the lower nozzle 13 and the upper nozzle 34 is continued for a certain time, the valve 17A is closed under the control of the control unit 15, and the discharge of the wafer cleaning liquid from the lower nozzle 13 is stopped. Is done. Similarly, the discharge of the wafer cleaning liquid from the upper nozzle 34 is also stopped.
[0064]
Thereafter, the lifting mechanism 10 is controlled by the control unit 15, the splash guard 3 is lowered, and the upper end of the splash guard 3 is set to a position lower than the upper surface 2 a of the spin base 2. In this state, the rotation drive mechanisms 8 and 29 are controlled by the control unit 15, and the wafer W and the shielding plate 27 held by the spin chuck 30 are rotated at a high speed for a certain period of time and shaken and dried. Wafer cleaning liquid and chuck cleaning liquid spun off to the side by the centrifugal force of the rotating wafer W and spin base 2 hit the inner wall of the chamber 1 and pass downward through the space between the chamber 1 and the splash guard 3. It flows down and is recovered in the cleaning liquid recovery tank 24.
[0065]
Since the wafer cleaning liquid and the mist of the chuck cleaning liquid generated during cleaning of the wafer W, the upper surface 2a, the chuck pins 6 and the like are blocked by the blocking plate 27, they hardly stay above the blocking plate 27. These mists are mainly present inside the splash guard 3. For this reason, if drying is performed at a position higher than the upper end of the splash guard 3 as described above, mist of the wafer cleaning liquid or the chuck cleaning liquid does not adhere to the wafer W. Therefore, when the wafer cleaning liquid or the chuck cleaning liquid is dried on the wafer W, particles due to the crystal of the chemical component are not generated.
[0066]
Thus, the process for one wafer W is completed.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a substrate processing apparatus according to the second embodiment of the present invention. Components corresponding to the components of the substrate processing apparatus of FIGS. 1 and 2 are given the same reference numerals in FIG. 3 as in FIGS. 1 and 2 and description thereof is omitted.
In the substrate processing apparatus of this embodiment, a splash guard 38 is provided instead of the splash guard 3. In FIG. 3, only the portions related to the spin chuck 30 and the splash guard 38 are shown, but the other portions are the same as those of the substrate processing apparatus of the first embodiment.
[0067]
The splash guard 38 has an annular shape in plan view. At the upper part of the inner surface of the splash guard 38, a groove-shaped first guide portion 38a having a substantially U-shaped cross section and opened inward is formed over the entire circumference. The inner surface of the first guide portion 38a has an inner wall surface 38d extending substantially vertically, a ceiling 38e extending obliquely upward from the upper end of the inner wall surface 38d toward the center of the splash guard 38, and the splash guard 38 from the lower end of the inner wall surface 38d. A bottom surface 38f that extends obliquely downward toward the center side is included.
[0068]
Further, at the lower part of the splash guard 38, a second guide part 38b having a substantially arc-shaped cross section opened inward and downward, and a circularly engraved circle inwardly of the second guide part 38b. An annular groove 38c is formed.
In a plan view, a cylindrical partition member 39a is erected substantially along the vertical direction in the vicinity of the inner edge of the splash guard 38. Inside the partition member 39a, a cylindrical partition member 39b concentric with the partition member 39a is erected substantially along the vertical direction. A cylindrical partition member 39c concentric with the partition member 39a is erected on the outer side of the partition member 39a substantially along the vertical direction. The partition member 39c is located outside the splash guard 38 in plan view. A chemical recovery tank 42 is formed with the partition member 39a and the partition member 39c as side walls, and a cleaning liquid recovery tank 43 is formed with the partition member 39a and the partition member 39b as side walls.
[0069]
 The splash guard 38 is coupled to the elevating mechanism 10 so as to be movable up and down. When the splash guard 38 is lowered, the groove 38c is formed by the partition member 39.aIt fits loosely on the top.
 The first cleaning nozzle 40 is provided substantially horizontally so as to penetrate the splash guard 38 and protrude from the ceiling 28e of the first guide portion 38a. A circular discharge port 40t having a diameter of 8 mm or less is formed at the tip of the first cleaning nozzle 40. The discharge port 40t is located at a position slightly protruding from the ceiling 38e, and is disposed inside the first guide portion 38a. From the position, the discharge port 40t is substantially horizontally oriented toward the inside in the rotational radius direction of the spin chuck 30. Discharge the cleaning solution.
[0070]
The first cleaning nozzle 40 is connected via a cleaning liquid pipe 41 to a chuck cleaning liquid supply source in which a cleaning liquid such as pure water is accommodated. A valve 41A is interposed in the cleaning liquid pipe 41. By opening the valve 41A, the cleaning liquid for chuck is formed in a rod shape from the discharge port 40t of the first cleaning nozzle 40 toward the upper surface 2a of the spin base 2 and the chuck pin 6. Can be discharged.
A protective member 45 is provided around the rotary shaft 7 to protect the rotary shaft 7 and the like from a processing liquid and the like.
[0071]
The substrate processing apparatus further includes a second cleaning nozzle 46 that can be disposed above the blocking plate 27 and supplies a cleaning liquid for self-cleaning to the upper surface of the blocking plate 27. A cleaning liquid supply source for self-cleaning is connected to the second cleaning nozzle 46 via a cleaning liquid pipe 47. The self-cleaning cleaning liquid supply source stores a self-cleaning cleaning liquid such as pure water. The cleaning liquid pipe 47 is provided with a valve 47A, and the cleaning liquid for self-cleaning can be discharged from the second cleaning nozzle 46 by opening the valve 47A. Opening and closing of the valves 41A and 47A is controlled by the control unit 15.
[0072]
 When processing the wafer W with this substrate processing apparatus, first, the blocking plate 27 is disposed close to and opposite to the upper side of the wafer W held by the spin chuck 30 under the control of the control unit 15. Then, under the control of the control unit 15, the wafer W and the shielding plate 27 held by the spin chuck 30 are rotated.
 After that, the lifting mechanism 10 is controlled by the control unit 15, and the splash guard 38 is moved so that the upper surface 2 a of the spin base 2 and the second guide unit 38 b are almost at the same height. Partition member 39aThe height position of the partition member 39 is not changed between the upper surface 2a and the second guide portion 38b in this state.aDoes not exist.
[0073]
Subsequently, the chemical liquid is discharged from the lower nozzle 13 and the upper nozzle 34 under the control of the control unit 15. Due to the centrifugal force of the wafer W, the chemical solution flows outward along the lower and upper surfaces of the wafer W. Thereby, the lower surface and the upper surface of the wafer W are processed.
The chemical solution that has reached the outer peripheral portion of the wafer W is swung to the side by the centrifugal force of the rotating wafer W and received (trapped) by the second guide portion 38b of the splash guard 38, and then flows downward and falls. It is recovered in the recovery tank 42. After the chemical liquid processing on the upper and lower surfaces of the wafer W is continued for a certain time, the discharge of the chemical liquid from the lower nozzle 13 and the upper nozzle 34 is stopped under the control of the control unit 15.
[0074]
 When the wafer W is processed with the chemical solution, a part of the chemical solution falls on the upper surface 2 a of the spin base 2. Therefore, after the treatment with the chemical solution is completed, the upper surface 2a of the spin base 2 and the chuck pin 6 are in a state of being contaminated with the chemical solution.
 Thereafter, the control mechanism 15 controls the elevating mechanism 10 to lower the splash guard 3 so that the chuck pin 6 and the first cleaning nozzle 40 have substantially the same height. In this state, the first guide portion 38a is present on the side of the upper surface 2a of the spin base 2, and the partition member 39 is present.aIs loosely fitted in the groove 38c. Further, the blocking plate 27 is close to the upper end of the first guide portion 38a, and the upper surface of the blocking plate 27 and the upper end of the splash guard 38 are substantially the same height. The rotation of the wafer W and the blocking plate 27 is maintained.
[0075]
 Then, under the control of the control unit 15, the wafer cleaning liquid is discharged from the lower nozzle 13 and the upper nozzle 34. The wafer cleaning liquid flows outward along the lower and upper surfaces of the wafer W due to the centrifugal force of the wafer W. Thereby, the lower surface and upper surface of the wafer W are cleaned. The wafer cleaning liquid reaching the peripheral edge of the wafer W is swung off to the side, received by the first guide portion 38a of the splash guard 38, and further flows downward and is recovered in the cleaning liquid recovery tank 43. The cleaning liquid is guided and collected by the first guide part 38a disposed at a position higher than the second guide part 38b used for collecting the chemical liquid.aThus, the cleaning liquid is prevented from being mixed into the chemical liquid collected in the chemical liquid collection tank 42.
[0076]
Subsequently, under the control of the control unit 15, the rotational speeds of the spin chuck 30 and the blocking plate 27 are reduced. As a result, the wafer cleaning liquid discharged from the lower nozzle 13 is not given a sufficiently large centrifugal force by the wafer W and falls toward the lower nozzle 13. Thus, the lower nozzle 13 is cleaned with the wafer cleaning liquid. Also at this time, the wafer cleaning liquid is recovered in the cleaning liquid recovery tank 43.
Next, under the control of the control unit 15, the rotation speed of the wafer W and the blocking plate 27 is returned to the rotation speed at the time of cleaning the wafer W. Then, the valve 41 A is opened under the control of the control unit 15, and the chuck cleaning liquid is discharged from the first cleaning nozzle 40. The flow rate of the chuck cleaning liquid discharged from the first cleaning nozzle 40 is preferably 3 liters / minute or less. The rotation of the spin base 2 and the blocking plate 27 and the discharge of the wafer cleaning liquid from the lower nozzle 13 and the upper nozzle 34 are continued. As a result, portions of the upper surface 2a of the spin base 2 and the chuck pins 6 where the chemical solution remains are cleaned.
[0077]
At this time, the chuck cleaning liquid bounced back to the cleaning nozzle 40 by hitting the chuck pin 6 is received in the first guide portion 38a (trapped; indicated by arrows D1 to D4 in FIG. 3) and then downward. It flows down and is recovered in the cleaning liquid recovery tank 43. Also, the chuck cleaning liquid that rebounds at the chuck pin 6 and tries to scatter upward as a mist is also received by the lower surface of the blocking plate 27 (trapped; indicated by arrow D5 in FIG. 3) and shaken off to the side. Then, it is recovered in the cleaning liquid recovery tank 43 via the first guide part 38a.
[0078]
As described above, this substrate processing apparatus can individually collect one type of chemical liquid and cleaning liquid (wafer cleaning liquid, chuck cleaning liquid). Further, since the cleaning liquid for chuck is not mixed into the chemical liquid collected in the chemical liquid collection tank 42, it is possible to avoid a change in the composition of the collected chemical liquid. Therefore, the substrate processing apparatus of this embodiment can also increase the amount of chemical solution that can be reused, thereby reducing the amount of chemical solution used (consumption).
[0079]
In addition, the chuck cleaning liquid in which the chemical solution is dissolved adheres to a structure such as the inner wall of the chamber 1 and hardly dries to produce crystals of the chemical component. Thereby, the amount of accumulated contamination can also be reduced.
After the upper surface 2a of the spin base 2 and the chuck pin 6 are cleaned with the chuck cleaning liquid, the valve 41A is closed under the control of the control unit 15, and the discharge of the chuck cleaning liquid is stopped. Then, after the discharge of the wafer cleaning liquid from the lower nozzle 13 and the upper nozzle 34 is continued for a certain time, the discharge of the wafer cleaning liquid is stopped under the control of the control unit 15.
[0080]
Next, under the control of the control unit 15, the wafer W and the shielding plate 27 held by the spin chuck 30 are rotated at a high speed for a certain period of time and shaken and dried. The wafer cleaning liquid and the chuck cleaning liquid shaken sideways by the rotating wafer W and the centrifugal force of the spin base 2 are received by the first guide portion 38 a, flowed downward, and recovered in the cleaning liquid recovery tank 43.
Thus, the process for one wafer W is completed.
[0081]
As described above, according to the substrate processing apparatus, accumulated contamination can be reduced. However, the substrate processing apparatus can also perform self-cleaning for cleaning the inner wall of the chamber 1 and the like to remove the accumulated contamination. The self-cleaning is performed in a state where the wafer W is not held on the spin chuck 30.
First, under the control of the control unit 15, the spin chuck 30 and the blocking plate 27 are rotated, and the splash guard 38 is at the same height as that during the wafer W cleaning, that is, the upper surface 2a of the spin base 2 and the first guide unit 38a. Are set to approximately the same height. Subsequently, under the control of the control unit 15, the blocking plate 27 is brought close to the spin base 2. As a result, the upper surface of the blocking plate 27 and the upper end of the splash guard 38 are brought to substantially the same height position.
[0082]
Next, under the control of the control unit 15, the valve 47 A is opened, and the self-cleaning cleaning liquid is discharged from the second cleaning nozzle 46 toward the upper surface of the blocking plate 27. Further, the discharge of the wafer cleaning liquid from the lower nozzle 13 and the upper nozzle 34 and the discharge of the chuck cleaning liquid from the first cleaning nozzle 40 are also started.
The cleaning liquid for self-cleaning is swung to the side by the centrifugal force of the blocking plate 27, hits the inner wall of the chamber 1 (indicated by an arrow E in FIG. 3), and flows downward. Thereby, the inner wall of the chamber 1 is cleaned. Since the upper surface 2a of the spin base 2 and the surface of the chuck pins 6 are covered with the wafer cleaning liquid or the chuck cleaning liquid, the mist of the self-cleaning cleaning liquid does not adhere.
[0083]
After such processing is performed for a certain period of time, the control unit 15 controls the discharge of the self-cleaning cleaning liquid from the second cleaning nozzle 46, the discharging of the wafer cleaning liquid from the lower nozzle 13 and the upper nozzle 34, and Then, the discharge of the chuck cleaning liquid from the first cleaning nozzle 40 is stopped. Subsequently, under the control of the control unit 15, the spin chuck 30 and the blocking plate 27 are rotated at a high speed for a certain period of time and shaken and dried.
[0084]
Cleaning of the upper surface 2a of the spin base 2 and the chuck pins 6 is performed every time one wafer W is processed, but self-cleaning can be performed every time a predetermined number of wafers W are processed.
The present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, in the first embodiment, the number of recovery ports 11a to 11c is arbitrarily configured according to the number of types of chemical liquids to be used. Can do. Even in this case, it is possible to prevent the cleaning liquid from being mixed into the chemical liquid recovered through the recovery ports 11a to 11c by providing the guide portion 3a at a position lower than the recovery port 11c at the lowest position.
[0085]
When the cleaning liquid always jumps to the side at a sufficiently high initial speed, the cleaning liquid may be recovered through any of the recovery ports 11a to 11c.
In the first and second embodiments, the splash guards 3 and 38 may be fixed, and the spin chuck 30 may be configured to move up and down. Moreover, both the splash guards 3 and 38 and the spin chuck 30 may be configured to be movable up and down.
[0086]
A plurality of the cleaning nozzles 12 and the first cleaning nozzles 40 may be provided in the guide part 3a or the first guide part 38a.
In addition, various modifications can be made within the scope of the matters described in the claims.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an illustrative sectional view showing an overall configuration of a substrate processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining the structure and control of the substrate processing apparatus of FIG.
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a configuration of a substrate processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a conventional substrate processing apparatus.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing another configuration of a conventional substrate processing apparatus.
[Explanation of symbols]
2 Spin base
3,38 splash guard
3a Guide
6 Chuck pin
8 Rotation drive mechanism
11a-11c recovery port
12 Cleaning nozzle
12t, 40t outlet
13 Lower nozzle
15 Control unit
27 Blocking plate
30 Spin chuck
34 Upper nozzle
38a 1st guide
38b 2nd guide
40 First cleaning nozzle
W wafer

Claims

A substrate holder for holding the substrate substantially horizontally;
A rotation drive mechanism for rotating the substrate holder;
Cleaning liquid discharge means for discharging the cleaning liquid toward the substrate holding portion;
A cleaning liquid recovery section for receiving and recovering a cleaning liquid that is blown to the side along with the rotation of the substrate holding section by the rotation drive mechanism, and can be disposed so as to surround the side of the substrate holding section;
The cleaning liquid discharge means have a discharge port provided in the washing liquid recovery portion,
An opening that opens toward the rotation center of the rotational drive mechanism is formed in the cleaning liquid recovery unit,
The cleaning liquid discharge means includes a cleaning nozzle having the discharge port at the tip,
The discharge port of this cleaning nozzle is arranged inside the opening,
The substrate processing apparatus , wherein the substrate holder is cleaned by a cleaning liquid discharged from the discharge port of the cleaning nozzle through the opening .

  A substrate holder for holding the substrate substantially horizontally;
  A rotation drive mechanism for rotating the substrate holder;
  Cleaning liquid discharge means for discharging the cleaning liquid toward the substrate holding portion;
  A cleaning liquid recovery section for receiving and recovering a cleaning liquid that is blown to the side along with the rotation of the substrate holding section by the rotation drive mechanism, and can be disposed so as to surround the side of the substrate holding section;
  The cleaning liquid discharge means has a discharge port provided in the cleaning liquid recovery unit,
  An opening that opens toward the rotation center of the rotational drive mechanism is formed in the cleaning liquid recovery unit,
  The substrate processing apparatus, wherein the opening of the cleaning liquid recovery section provided with the discharge port of the cleaning liquid discharge means receives and recovers the cleaning liquid bounced back to the cleaning liquid discharge means.

The cleaning liquid discharge means includes a cleaning nozzle having the discharge port at the tip,
The substrate processing apparatus according to claim 2 , wherein the discharge port of the cleaning nozzle is disposed inside the opening.

The cleaning nozzle is a substrate processing apparatus according to claim 1 or 3, characterized in that is provided so as to protrude from the ceiling of the opening.

A processing liquid nozzle that discharges the processing liquid toward the substrate held by the substrate holder;
The washing liquid recovery unit, claims 1, characterized in that it is formed in the splash guard for receiving a treatment liquid is blown laterally by centrifugal force generated by the rotation driving mechanism is discharged from the treatment liquid nozzle 4 The substrate processing apparatus according to any one of the above.

6. The substrate processing apparatus according to claim 5 , wherein the splash guard includes a processing liquid recovery unit for recovering the processing liquid.

The substrate processing apparatus according to claim 6 , wherein a plurality of the processing liquid recovery units are provided so as to be stacked in the vertical direction.

The washing liquid recovery unit, a substrate processing apparatus according to claim 6 or 7 further characterized in that provided at a height position lower than said processing liquid recovery section of the bottom.

The substrate processing apparatus according to any one of claims 1, further comprising an opposed shut-off plate in close proximity to the substrate held by the substrate holding portion 8.