JP4057895B2

JP4057895B2 - Photosensitive transfer material

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Publication number: JP4057895B2
Application number: JP2002340960A
Authority: JP
Inventors: 英範後藤
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2002-11-25
Filing date: 2002-11-25
Publication date: 2008-03-05
Anticipated expiration: 2022-11-25
Also published as: JP2004177489A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、凹凸のある基体に乾式転写するのに好適な感光性転写材料に関する。本発明に成る感光性転写材料は、液晶表示体等に使用するカラーフィルターの作製や、プリント配線基板の作製に特に好適に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】
基体に感光性樹脂層を転写するための感光性転写材料は公知である（例えば、特許文献１参照。）。これはプリント配線、凹版凸版印刷版、ネームプレート、多色試し刷り見本、オフセット印刷版及びスクリーン印刷ステンシル等の製造に用いられる。転写材料は仮支持体、中間層、光重合性層から成り、基体と光重合性層を張合わせ、その後仮支持体のみを引き剥がし、分離層を通して露光、現像し基体の上に画像を形成する。この場合、分離層は酸素遮断の役割を果し、空気中の露光に対して有利に働き、またその厚みも０．５μｍから５μｍ程度と非常に薄いので解像力の面でも問題はない。
【０００３】
しかしながら、近年、コストの観点から高速転写適性への要求がますます強くなっており、転写される基体上にある程度の凹凸が存在する場合その上に非常に薄い光重合性層を高速で転写する際に光重合性層と基体の間に気泡等がとじ込められてしまい、転写不良を起こしてしまっていた。例えば、カラーフィルターの作製のように、多色の画像形成時には、第一色目の画素（以下、先行画素と略す）の上に第二色目の感光性樹脂層を転写する場合が該当する。また、プリント基板の作製のように、銅張り積層板の銅表面が整面により生ずる微小な傷や打痕を有するときに、ドライフィルムレジスト層を転写する場合が該当する。
【０００４】
永久支持体（以下、「基体」ともいう。）上の微少な不規則性または、永久支持体上もしくは転写層上または両者の上にある微少なゴミ、ホコリ等の粒子により永久支持体に対する転写層の十分な接着が妨げられるので、転写不良を生じること、また、この好ましくない接着不良の防止のために圧縮性の一時支持体を使用することが記載されている（例えば、特許文献２参照。）。この方法は確かに有効ではあるが、室温で非粘着性の感光性樹脂層をその層の厚みと同様な厚みの凹凸を持った永久支持体上に気泡を生じる事なく転写するにはまだまだ不十分であった。
【０００５】
仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層をこの順に設けた感光性転写材料が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、転写速度を向上させるために、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層に用いる樹脂に柔軟な素材を用いたり、可塑剤を多量に添加した場合、加熱により溶融した熱可塑性樹脂層が転写用加熱ローラー等に付着するなど、工程を汚染させていた。
【０００６】
【特許文献１】
特公昭５６−４０８２４号公報
【特許文献２】
特開昭６３−３０９９４６号公報
【特許文献３】
特願平３−１５３２２７号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の第１の目的は、感光性転写材料の感光性樹脂層を仮支持体上から永久支持体上へ転写する際に、永久支持体のキズや上記先行画素に基づく段差等に起因する転写不良（気泡の発生）が無く、高速で転写する事が可能で、かつ仮支持体と申し分のない分離ならびに空気中の露光を可能ならしめ、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層をアルカリ水溶液で迅速に除去することのできる感光性転写材料、及びその材料を用いたカラーフィルターを提供することである。
本発明の第２の目的は、溶融した熱可塑性樹脂層による転写用加熱ローラーなどの工程汚染を防止することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、以下の感光性転写材料によって達成される。
＜１＞仮支持体上に、少なくとも熱可塑性樹脂層、中間層及び感光記録層をこの順に設けた感光性転写材料において、前記熱可塑性樹脂層が該熱可塑性樹脂層の全固形分に対して少なくともポリマーラテックスを５質量％以上５０質量％以下含有し、前記ポリマーラテックスがＳＢＲ（スチレンーブタジエン系）、ＭＢＲ（ＭＭＡ／ブタジエン、アクリル／ブタジエン）、ＮＢＲ（アクリロニトリル／ブタジエン）、ＮＲ（天然ゴム）、ＣＲ（クロロプレンゴム）、ＶＰ（ＳＢＲ／ジビニルピリジン）及びこれらの共重合体からなるポリマーラテックスであることを特徴とする感光性転写材料。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に、少なくとも熱可塑性樹脂層、中間層及び感光記録層をこの順に設けた感光性転写材料において、前記熱可塑性樹脂層が該熱可塑性樹脂層の全固形分に対して少なくともポリマーラテックスを５質量％以上５０質量％以下含有し、前記ポリマーラテックスがＳＢＲ（スチレンーブタジエン系）、ＭＢＲ（ＭＭＡ／ブタジエン、アクリル／ブタジエン）、ＮＢＲ（アクリロニトリル／ブタジエン）、ＮＲ（天然ゴム）、ＣＲ（クロロプレンゴム）、ＶＰ（ＳＢＲ／ジビニルピリジン）及びこれらの共重合体からなるポリマーラテックスであることを特徴とする。前記感光性転写材料は、さらに、必要に応じてその他の層が設けられていても良い。
【００１０】
＜熱可塑性樹脂層＞
本発明に係る前記熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶であって、少なくともポリマーラテックスを含んで構成され、好ましくは、該熱可塑性樹脂層を構成する樹脂としてアルカリ可溶性の樹脂をも含んで構成される。更に、前記ポリマーラテックスはゴム系ポリマーラテックスである。
【００１１】
（ポリマーラテックス）
本発明に係る前記ポリマーラテックスとは、水不溶のポリマーの微粒子が水に分散したものである。ポリマーラテックスについては、例えば、「高分子ラテックスの化学」（室井宗一著、高分子刊行会発行（昭和４８年））に記載されている。また、前記ゴム系とは、応力がかかったとき壊れないで大きな変形に耐え、応力を取り除いたら元の形に変えることができる、いわゆるゴム弾性を有するゴムの機能を有する全般の系統のものを意味し、その機能を有するものであれば、特に限定することが無く使用することができるということである。
【００１２】
前記ポリマーラテックスとしては、ゴム系、例えばＳＢＲ（スチレンーブタジエン系）、ＭＢＲ（ＭＭＡ／ブタジエン、アクリル／ブタジエン）、ＮＢＲ（アクリロニトリル／ブタジエン）、ＮＲ（天然ゴム）、ＣＲ（クロロプレンゴム）、ＶＰ（ＳＢＲ／ジビニルピリジン）及びこれらの共重合体からなるポリマーラテックスである。これらの中でも、特にガラス転移温度（Ｔｇ）が、６０℃以下、より好ましく４５℃以下のものが好ましい。該Ｔｇが６０℃を超えるものであると、レチキュレーション防止効果が小さすぎることがある。
【００１３】
前記ポリマーラテックスの好ましい具体例としては、スチレン／ブタジエン＝０／１００、５／９５、２５／７５、３０／７０、４０／６０、７０／３０、９０／１０，１００／０（共重合比）のラテックス（平均粒径０．０１〜０．３μｍ）、スチレン／ブタジエン／２−ビニルピリジン＝１２／８５／３、１５／７０／１５（共重合比）のラテックス（平均粒径０．０１〜０．３μｍ）、ブタジエン／２−ビニルピリジン＝７５／２５（共重合比）のラテックス（平均粒径０．０１〜０．３μｍ）、アクリロニトリル／ブタジエン＝８／９２、１６／８４、２０／８０、２５／７５、３０／７０、３５／６５、４０／６０（共重合比）のラテックス（平均粒径０．０１〜０．３μｍ）、スチレン／ブタジエン／アクリル酸＝４０／５８／２（共重合比）のラテックス（平均粒径０．１５μｍ）、１，４ポリイソプレラテックス（ＩＲラテックス、シス含有量９２モル％、平均粒径０．４μｍ）、メチルメタクリレート／ブタジエン／アクリル酸＝５５／４２．５／２．５、６５／３２．５／２．５（共重合比）のラテックス（平均粒径０．１５μｍ）、メチルメタクリレート／ブタジエン／イタコン酸＝５５／４２．５／２．５、６５／３２．５／２．５（共重合比）のラテックス（平均粒径０．１μｍ）、メチルメタクリレート／ブタジエン／メタクリル酸＝５５／４３／２、６５／３２．５／２．５（共重合比）のラテックス（平均粒径０．１μｍ）が挙げられる。尚、上記の各種ポリマーラテックスの共重合比はモル（数）比を表す。また、該ポリマーラテックスには、種類の異なるポリマーラテックスを併用して使用することもできる。併用できるポリマーラテックスとしては、上記に示したポリマーラテックスを２種以上混合して使用できる。例えば、ＳＢＲとＮＲ、ＩＲとＮＲ、ＣＲとＮＲ、ＮＢＲでニトリル量が異なるもの、ＳＢＲでスチレン量が異なるもの、ＳＢＲとＶＰ、ＮＢＲとＭＢＲ、ＳＢＲとＮＢＲ、ＳＢＲとＭＢＲ、ＮＢＲとＶＰ、ＣＲとＶＰなどアニオン性とカチオン性の組み合わせ以外が好ましい。
【００１４】
前記ポリマーラテックスは、一部のアルコール類及びケトン類に溶解しないことが好ましく、更に、ポリマーラテックス内のポリマーの凝集を起こさないことが好ましい。溶媒混和安定性の観点からソープフリーで、アルカリ可溶性樹脂等で粒子を安定化させたものが好ましい。前記一部のアルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、グリセリンが挙げられる。一部のケトン類としては、例えば、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。前記一部のアルコール類及びケトン類にポリマーラテックスが溶解すると、アルカリ性現像液による現像工程に不具合を来し現像ができなくなることがある。前記一部のアルコール類及びケトン類にポリマーラテックスが凝集してしまうとアルカリ性現像液による現像工程において、永久支持体から中間層と共に熱可塑性樹脂層を除去する際に、該永久支持体から取れなくなり、アルカリ性現像液による現像工程に不具合を来し現像ができなくなることがある。
【００１５】
ポリマーラテックスの添加量は、熱可塑性樹脂層を構成する全固形分の５〜５０重量％、より好ましくは１０から４０重量％が好ましい。添加量が、５重量％未満であると加熱ローラー汚染防止効果が不充分になり、５０重量％を超えると熱可塑性樹脂層の面状及び現像性が悪化する。
【００１６】
本発明に係る前記熱可塑性樹脂層のポリマーラテックスとしては、凝集物が少ないものが好ましい。特に、１０００ｃｍ³中に含まれる粒径５μｍ以上の凝集物が１０個未満であるものを含有することが好ましい。さらに、８個以下であることが好ましく、特に、４個以下であることが好ましい。ここでの粒径とは、任意の形状からなる凝集物の個々の最大径をいう。この条件を満たすためには、合成方法の工夫も効果がある。
【００１７】
前記熱可塑性樹脂層に含有したポリマーラテックス中における、最大径５μｍ以上の凝集物が１０個／１０００ｃｍ³未満であると、画素の透過性や画質を損なうことがなく、高品質のカラーフィルタを形成することができる。凝集物が１０個／１０００ｃｍ³を超える場合には、最終的に作製されるカラーフィルタの品質に支障を来す画素欠陥の発生を効果的に回避することができない。
さらに、凝集物の粒径も３μｍ以上のものの個数が、上記範囲にあることが特に好ましい。
【００１８】
ポリマーラテックス中の凝集物としては、▲１▼ポリマーラテックス合成時に生成したポリマーの凝集物、▲２▼ポリマーラテックスの保存中にできた乾燥物（皮ばり）がポリマーラテックス液の中に混入したもの、▲３▼外部から混入した異物（例えば、繊維、微小な砂粒など）、等のものがある。これら凝集物を含むポリマーラテックス中の、最大径５μｍ以上の凝集物の個数を１０個／１０００ｃｍ³未満とするには、合成方法の工夫が効果的である。しかし、合成方法の工夫のみでは、上記▲１▼の凝集物は除去できるが、合成後に混入する▲２▼、▲３▼の凝集物は除去できない。したがって、合成後に凝集物を除去する方法が好ましい。
【００１９】
凝集物の除去方法としては、特に制限はないが、効果の完全性やコストの点から、以下に述べるミクロフィルター濾過による方法が好ましい。ミクロフィルター濾過とは、１０ｎｍから数μｍの孔径を有する膜（ミクロフィルター）を用いて物質を濾過する濾過方法である。ミクロフィルター濾過については、例えば「高度膜分離技術ハンドブック」（川崎順二郎等編集、（株）サイエンスフォーラム発行（昭和６２年）)に記載されている。
【００２０】
本発明で用いるミクロフィルターの孔径としては、５μｍ以下が好ましく、特に、３〜５μｍの範囲がより好ましい。前記孔径が、５μｍを超えるものは、凝集物の除去能が低下し、本発明の効果を十分に奏し得ないことがあり、逆に３μｍ未満のものは、処理速度が低下し生産能率が低下する。ミクロフィルターの孔の形状には制限はないが、円形とするのが好ましい。
尚、濾過時の供給側と濾過側（出口側）との圧の差（差圧）としては、用いるミクロフィルタの種類にもよるが、０．０１〜１Ｋｇ／ｃｍ²程度とするのが好ましい。
【００２１】
前記ミクロフィルターの素材としては、ポリマーラテックスに溶解する等の特に制限はなく、例えば、ポリサルフォン、セルロースアセテートなどが挙げられ、市販のミクロフィルターを用いることができる。好ましいミクロフィルターの例としてはＦＭ−３００（孔径３μｍ、富士写真フイルム（株）製）等が挙げられる。
【００２２】
（熱可塑性樹脂）
本発明に係る熱可塑性樹脂層としては、少なくとも樹脂成分を含んで構成される。熱可塑性樹脂層を構成する樹脂としては、膜強度を維持する樹脂（以下、「樹脂（Ａ）」ともいう。）と加熱時の溶融性付与する樹脂（以下、「樹脂（Ｂ）」ともいう。）を併用するのが好ましい。前記樹脂（Ａ）としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレン／（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステル３元共重合体、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものなどから少なくとも１つを、重量平均分子量５万〜５０万（Ｔｇ＝０〜１４０℃）の範囲で、更に好ましくは重量平均分子量６万〜２０万（Ｔｇ＝３０〜１１０℃）の範囲で選択して使用することができる。
【００２３】
前記樹脂（Ａ）の具体例としては、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５５−３８９６１号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭６１−１３４７５６号、特公昭５９−４４６１５号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５４−９９４１８号、特開昭５４−１３７０８５号、特開昭５７−２０７３２号、特開昭５８−９３０４６号、特開昭５９−９７１３５号、特開昭６０−１５９７４３号、ＯＬＳ３５０４２５４号、特開昭６０−２４７６３８号、特開昭６０−２０８７４８号、特開昭６０−２１４３５４号、特開昭６０−２３０１３５号、特開昭６０−２５８５３９号、特開昭６１−１６９８２９号、特開昭６１−２１３２１３号、特開昭６３−１４７１５９号、特開昭６３−２１３８３７号、特開昭６３−２６６４４８号、特開昭６４−５５５５１号、特開昭６４−５５５５０号、特開平２−１９１９５５号、特開平２−１９９４０３号、特開平２−１９９４０４号、特開平２−２０８６０２号、特願平４−３９６５３号の各明細書に記載されているアルカリ水溶液に可溶な樹脂を挙げることができる。特に好ましいのは、特開昭６３−１４７１５９号明細書に記載されたメタクリル酸／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メチルメタクリレート共重合体である。
【００２４】
前記樹脂（Ｂ）としては、上に掲げた種々の樹脂の中から重量平均分子量３千〜３万（Ｔｇ＝３０〜１７０℃）の範囲で、更に好ましくは重量平均分子量４千〜２万（Ｔｇ＝６０〜１４０℃）の範囲で選択して使用することができる。好ましい具体例は、上記の特許明細書に記載されているものの中から選ぶことができるが、特に好ましくは、特公昭５５−３８９６１号、特願平４−３９６５３号明細書に記載のスチレン／（メタ）アクリル酸共重合体が挙げられる。
【００２５】
熱可塑性樹脂層を構成する前記樹脂（Ａ）の重量平均分子量が５万未満またはＴｇが０℃未満であると、レチキュレーションの発生や転写中に熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して永久支持体を著しく汚染する。また、樹脂（Ａ）の重量平均分子量が５０万を超え、またはＴｇが１４０℃を超えると、転写時に画素間に気泡が入ったり、熱可塑性樹脂のアルカリ水溶液除去性が低下することがある。
【００２６】
熱可塑性樹脂層を構成する前記樹脂（Ｂ）の重量平均分子量が３千未満またはＴｇが３０℃未満では、レチキュレーションの発生や転写中に熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して永久支持体を著しく汚染する。また、前記樹脂（Ｂ）の重量平均分子量が３万を超え、またはＴｇが１７０℃を超えると、転写時に画素間に気泡が入ったり、熱可塑性樹脂のアルカリ水溶液除去性が低下することがある。
【００２７】
前記樹脂（Ａ）と（Ｂ）との混合比において、（Ａ）の比率が９５％を超えると転写時に画素間に気泡が入りやすくなることがあり、５％未満であると、熱可塑性樹脂が周囲にはみ出したり、熱可塑性樹脂層が脆くなって、裁断工程で微細な切り屑が飛散し易くなることがある。
【００２８】
熱可塑性樹脂層には、仮支持体との接着力及び／又は転写性を調節する目的で、上記の樹脂と共に、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、増粘剤、ゲル化剤、橋かけ剤、離型剤等の可塑剤を加えることによって、熱可塑性樹脂層のＴｇを微調整することができる。
【００２９】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェートビフェニルジフェニルフォスフェート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂とポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、ビスフェノールＡとポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの縮合反応生成物、等が挙げられる。
【００３０】
前記可塑剤の添加量としては、熱可塑性樹脂層を構成する樹脂Ａ及びＢの合計量（質量）に対して、０〜２００質量％が好ましく、２０〜１００質量％がより好ましい。
【００３１】
熱可塑性樹脂層の厚みは６μｍ以上が好ましい。この理由としては熱可塑性樹脂層の厚みが６μｍ未満であると、１μｍ以上の下地の凹凸を完全に吸収することが不可能であるためである。また、熱可塑性樹脂層の厚みの上限については、アルカリ水溶液除去性、製造適性から約１００μｍ以下が好ましく、より好ましくは約５０μｍ以下である。
【００３２】
熱可塑性樹脂層形成用の塗布液を調製する場合、一般に溶剤が用いられるが、該溶剤としては、この層を構成する樹脂を溶解する限り特に制限なく使用でき、例えば、メタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルエチルケトン、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等が挙げられる。
【００３３】
＜中間層＞
中間層としては、水またはアルカリ水溶液に分散または溶解し、低い酸素透過性を示すものであれば良く、公知のものが使用できる。例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各明細書に記載のポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、およびマレイネート樹脂さらにこれらの２種以上の組み合わせが挙げられる。特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組み合わせである。ポリビニルアルコールは鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量は中間層全固形分の１質量％〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１質量％〜６０質量％、更に好ましくは１０質量％〜５０質量％である。１質量％以上であると、感光性樹脂層との十分な密着性を有し、７５質量％未満であると、酸素遮断能が低下しにくい。中間層の厚みは非常に薄く、約０．１〜５μｍ、特に０．５〜２μｍである。約０．１μｍ以上であると、酸素の透過性が抑制でき、かつ約５μｍ未満であると、現像時または中間層除去時に時間を要しない。
【００３４】
＜感光性樹脂層＞
感光性樹脂層は少なくとも１５０℃以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。公知の光重合性組成物を用いた層の大部分はこの性質を有するが、公知層の一部は、熱可塑性結合剤の添加あるいは相溶性の可塑剤の添加によって更に改質することができる。本発明の感光性樹脂層の素材としては公知の、例えば特願平２−８２２６２に記載されている感光性樹脂がすべて使用できる。具体的には、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダーかなる感光性樹脂層、光重合性組成物、アジド化合物とバインダーとからなる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が挙げられる。その中でも特に好ましいのは光重合性樹脂である。その光重合性樹脂は光重合開始剤、光重合性モノマーおよびバインダーを基本構成要素として含む。感光性樹脂としてはアルカリ水溶液により現像可能なものと、有機溶剤により現像可能なものが知られているが、公害防止、労働安全性の確保の観点からアルカリ水溶液現像可能なものが好ましい。
【００３５】
感光性樹脂層には更に、染料、顔料を添加することができる。すべての顔料は感光性樹脂層中に均一に分散されており、好ましくは５μｍ以下の粒径、特に好ましくは１μｍ以下の粒径を有していなければならない。カラーフィルターの作成に当たっては、顔料としては０．５μｍ以下の粒径のものが好ましい。好ましい染料ないし顔料の例は次の通りである。ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメントエロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１３８、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン。さらにカラーフィルターを形成するのに適当な顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４を挙げることができる。
【００３６】
感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄い被覆シートを設けることが好ましい。被覆シートは仮支持体と同じかまたは類似の材料からなっても良いが、感光性樹脂層から容易に分離されねばならない。被覆シート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオルエチレンシートが適当である。被覆シートの厚みは約５〜１００μｍであるのが好ましい。特に好ましくは１０〜３０μｍ厚のポリエチレンまたはポリプロピレンフィルムである。
【００３７】
＜仮支持体＞
本発明の感光性転写材料の仮支持体としては、熱可塑性樹脂層と申し分の無い剥離性を有し、化学的および熱的に安定であって、また可撓性の物質で構成されるべきであり、具体的には、テフロン（Ｒ）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の薄いシートもしくはこれらの積層物が好ましく、さらに帯電が少ないことが好ましい。良好な剥離性を得るためには、グロー放電等の表面処理はせず、またゼラチン等の下塗も設けないことが好ましい。仮支持体の厚みは５μｍ〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０μｍ〜１５０μｍである。
【００３８】
感光性転写材料の転写条件によつては、転写中に熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して永久支持体を汚染することがある。この汚染の悪影響を無くすためには、これらの熱可塑性樹脂の内、アルカリ水溶液に溶解するものが好ましい。アルカリ水溶液に溶解するものであれば、後の処理により容易に除去することが可能だからである。アルカリ水溶液は本発明の感光性樹脂のアルカリ現像液と同じものでもよいし、異なっていてもよい。また、本発明のアルカリ水溶液とはアルカリ性物質の希薄水溶液であるが、さらに水と混和性の有機溶剤を少量添加したものも含まれる。適当なアルカリ性物質はアルカリ金属水酸化物類（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）アルカリ金属メタケイ酸塩類（メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド）または燐酸三ナトリウムである。アルカリ性物質の濃度は、０．０１質量％〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【００３９】
水と混和性の有る適当な有機溶剤は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンである。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。またさらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【００４０】
＜導電性＞
前記帯電は、感光性転写材料の感光性樹脂層を永久支持体上に張り合わせた後、仮支持体を剥そうとするときにフイルムと人体との間で発生し、不快な電撃シヨツクとして受けることがあり、更に、この帯電のために周囲からゴミを吸い寄せて引き続く露光工程で未露光部が生じ、ピンホールの原因となることがある。
本発明の感光性転写材料において、前記帯電により生ずる前記ピンホール及び静電ショックを防止するためには、仮支持体自体に導電性を付与してその表面電気抵抗を１０¹³Ω以下としたものを用いるするか、あるいは仮支持体の少なくとも一方の面に導電性層を設けてその表面電気抵抗を１０¹³Ω以下としたものを用いることが好ましい。
仮支持体に導電性を付与するには、仮支持体中に導電性物質を含有させることが好ましい。導電性物質としては、例えば、金属酸化物の微粒子や帯電防止剤等が挙げられ、それらから選ばれた１種または２種以上を練り込んでおく方法が好適に用いられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化モリブデンの中から選ばれた少なくとも１種の結晶性金属酸化物、及び／またはその複合酸化物の微粒子である。帯電防止剤としては、例えば、アニオン性界面活性剤としてアルキル燐酸塩系（例えば、花王石鹸（株）のエレクトロストリッパーＡ、第一工業製薬（株）のエレノンＮｏ１９等が、両性界面活性剤としてベタイン系（例えば、第一工業製薬（株）のアモーゲンＫ、等）が、非イオン性界面活性剤としてポリオキシエチレン脂肪酸エステル系（例えば、日本油脂（株）のニツサンノニオンＬ、等）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系（例えば、花王石鹸（株）のエマルゲン１０６、１２０、１４７、４２０、２２０、９０５、９１０、日本油脂（株）のニツサンノニオンＥ、等）が有用である。その他、非イオン性界面活性剤としてポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル系、多価アルコール脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンアルキルアミン系等のものが用いられる。
支持体上に導電性層を設ける場合には、導電性層としては公知のものの中から適宜選択して用いる事ができるが、特に導電性物質として、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｉｎ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₃ の中から選ばれた少なくとも１種の結晶性金属酸化物、及び／またはその複合酸化物の微粒子を含有させる方法が、湿度に影響されない導電性を示すので好ましい。結晶性金属酸化物またはその複合酸化物の微粒子は、その体積抵抗が１０⁷ Ω・ｃｍ以下である事が好ましく、特に１０⁵Ω・ｃｍ以下である事が好ましい。その粒子サイズは、０．０１〜０．７μｍ、特に０．０２〜０．５μｍである事が好ましい。
【００４１】
導電性の結晶性金属酸化物及びその複合酸化物の微粒子の製造方法については、特開昭５６−１４３４３０号に詳細に記載されているが、それらについて略述すれば、第１に金属酸化物微粒子を焼成により作製し、導電性を向上させる異種原子の存在下で熱処理する方法、第２に焼成により金属酸化物微粒子を製造するときに導電性を向上させる為の異種原子を共存させる方法、第３に焼成により金属微粒子を製造する際に雰囲気中の酸素濃度を下げて、酸素欠陥を導入する方法等である。異種原子を含む例としてはＺｎＯに対してＡｌ、Ｉｎ等、ＴｉＯ₂に対してはＮｂ、Ｔａ等、ＳｎＯ₂に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等が挙げられる。異種原子の添加量は０．０１〜３０ｍｏｌ％の範囲が好ましく、０．１〜１０ｍｏｌ％が特に好ましい。導電性粒子の使用量は０．０５ｇ／ｍ²〜２０ｇ／ｍ²がよく、０．１ｇ／ｍ²〜１０ｇ／ｍ²が特に好ましい。
【００４２】
本発明に係る導電性層には、バインダーとして、ゼラチン、セルロースナイトレート、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のようなセルロースエステル、塩化ビニリデン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アルキル（アルキル基Ｃ1〜Ｃ4）アクリレート、ビニルピロリドン等を含むホモポリマーまたは、共重合体、可溶性ポリエステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド等を使用することができる。これらのバインダー中への導電性粒子の分散に際しては、チタン系分散剤或いはシラン系分散剤のような分散液を添加してもよい。またバインダー架橋剤等を加えても何らさしつかえはない。チタン系分散剤としては、米国特許４，０６９，１９２号、同４，０８０，３５３号等に記載されているチタネート系カップリング剤、及びプレンアクト（商品名：味の素（株）製）等を挙げる事ができる。シラン系分散剤としては、例えばビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が知られており「シランカップリング剤」として信越化学（株）等から市販されている。バインダー架橋剤としては、例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤等を挙げる事ができる。本発明における好ましい導電性層は、導電性微粒子をバインダーに分散させ仮支持体上に設けることにより、または仮支持体に下引処理をほどこし、その上に伝導性微粒子を被着させることにより設けることができる。
【００４３】
本発明において、導電性層が仮支持体の感光性樹脂層とは反対側の面に設けられる場合には、耐傷性を良好なものとするために、導電性層の上に、更に疎水性重合体層を設ける事が好ましい。この場合、疎水性重合体層は、有機溶剤に溶解した溶液または水性ラテックスの状態で塗布すればよく、塗布量は乾燥質量にして０．０５ｇ／ｍ²〜１ｇ／ｍ²程度がよい。疎水性重合体としては、セルロースエステル（例えばニトロセルロース、セルロースアセテート）、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルアクリレート等を含むビニル系ポリマーや有機溶剤可溶性ポリアミド、ポリエステル等のポリマーを挙げる事ができる。この層には、すべり性を付与するためのすべり剤、例えば特開昭５５−７９４３５号に記載があるような有機カルボン酸アミド等を使用しても差しつかえないし、またマット剤等を加えることも何ら支障はない。このような疎水性重合体層を設けても本発明の導電性層の効果は実質的に影響を受けない。
【００４４】
滑り性を良化するため、または該感光性樹脂層の仮支持体裏面との不都合な接着を防止するため、仮支持体の裏面に公知の微粒子含有滑り性組成物や、シリコーン化合物を含有する離型剤組成物、等を塗布することも有用である。
【００４５】
導電性層を、仮支持体フィルムと同一または異なったプラスチック原料に含有せしめ、仮支持体用フィルムを押し出す際に、同時に共に、押し出しした場合には、接着性、耐傷性に優れた導電性層を容易に得る事ができるので、この場合には前記の疎水性重合体層や下塗層を設ける必要がなく、本発明における導電性層の特に好ましい実施態様である。導電性層を塗布する場合には、ローラーコート、エアナイフコート、グラビアコート、バーコート、カーテンコート等、通常の方法が採用できる。
【００４６】
仮支持体の、熱可塑性樹脂層を設けない側の面に導電性層を設ける場合には、該熱可塑性樹脂層と支持体の接着力を上げるため、仮支持体に、例えばグロー放電処理、コロナ処理、紫外線照射処理などの表面処理、フェノール性物質、ポリ塩化ビニリデン樹脂、スチレンブタジエンゴム、ゼラチン等の下塗り処理、さらにこれらの処理を組み合わせた処理を行うことができる。熱可塑性樹脂がアルカリ可溶性である場合には、これらの中で、コロナ処理後にゼラチンを下塗りしたポリエチレンテレフタレートフィルムが特に優れた密着を与えるので好ましい。その場合のゼラチン層の好ましい厚みは０．０１μｍ〜２μｍである。
【００４７】
本発明においては、また、特開昭５６−８２５０４号、特開昭５６−１４３４４３号、特開昭５７−１０４９３１号、特開昭５７−１１８２４２号、特開昭５８−６２６４７号、特開昭６０−２５８５４１号等に示されている導電性層も適宜用いる事ができる。
【００４８】
前記下塗層を設ける場合には、特開昭５１−１３５５２６号、米国特許３，１４３，４２１号、同３，５８６，５０８号、同２，６９８，２３５号、同３，５６７，４５２号等に記載されているような塩化ビニリデン系共重合体、特開昭５１−１１４１２０号、米国特許３，６１５，５５６号等に記載されているようなブタジエン等のジオレフイン系共重合体、特開昭５１−５８４６９号等に記載されているようなグリシジルアクリレートまたはグリシジルメタアクリレート含有共重合体、特開昭４８−２４９２３号等に記載されているようなポリアミド・エピクロルヒドリン樹脂、特開昭５０−３９５３６号に記載されているような無水マレイン酸含有共重合体等を用いる事ができる。
【００４９】
本発明の感光性転写材料を使用して帯電による静電ショックを防止するためには、導電性層または導電性を付与した仮支持体の表面電気抵抗値を１０¹³Ω以下とする事が必要であり、特に１０¹²Ω以下とする事が好ましい。
【００５０】
＜感光性転写材料の製造方法＞
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層溶液を施し、乾燥することにより熱可塑性樹脂層を設け、その後熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤からなる中間層材料の溶液を塗布し、乾燥し、その後感光性樹脂層を中間層を溶解しない溶剤で塗布、乾燥して設け、更に、必要に応じて、被覆シートを前記感光性樹脂層に圧着することにより、製造することができる。または別の被覆シート上に感光性樹脂層を設けて、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層及び中間層を有するシートの両方のシートを中間層と感光性樹脂層が接するように相互に貼り合わせること、または、別の被覆シートとして、熱可塑性樹脂層を有する仮支持体を用意し、この熱可塑性樹脂層を、被覆シート上の感光性樹脂層及び中間層からなるシートの中間層とを貼り合わせることにより有利に製造される。
【００５１】
＜画像形成方法＞
次に、本発明の感光性転写材料を用いた画像形成方法について説明する。先ず、感光性転写材料の被覆シートを取除き、感光性樹脂層を加圧、加温下で基体上に貼り合わせる。貼り合わせには、従来公知のラミネーター、真空ラミネーターが使用でき、より生産性を高めるためには、オートカツトラミネーターの使用も可能である。その後仮支持体を剥がした後で、所定のマスク、熱可塑性樹脂層、及び中間層を介して露光し、次いで除去する。除去は公知の方法で溶剤もしくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液に浸漬するか、スプレーからの処理液の噴霧を与えること、さらにブラシでのこすりまたは超音波を照射しつつ処理することで行なわれる。異なる色に着色した感光性樹脂層を有する感光性転写材料を用い、この工程を複数回繰り返せば多色画像を形成することができる。
【００５２】
本発明の感光性樹脂層のアルカリ現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液であるが、さらに水と混和性の有機溶剤を少量添加したものも含まれる。適当なアルカリ性物質はアルカリ金属水酸化物類（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）アルカリ金属メタケイ酸塩類（メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド）または燐酸三ナトリウムである。アルカリ性物質の濃度は、０．０１質量％〜３０質量％であり、ｐＨは８〜１４が好ましい。水と混和性の適当な有機溶剤は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンである。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％である。またさらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。光重合性遮光材料層の未硬化部分を除去するには現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。現像液の液温度は通常室温付近から４０℃が好ましい。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【００５３】
現像は熱可塑性樹脂層、中間層および感光性樹脂層を一度に処理してもよいが、現像むらや感光性樹脂層現像時の現像液疲労を少なくするため熱可塑性樹脂層および中間層を先に溶解除去した後で感光性樹脂層の現像を行ってもよい。熱可塑性樹脂層および中間層の溶解現像液は、前記溶剤もしくは水性の現像液が用いられるが、該熱可塑性樹脂層および中間層の除去の際に感光性樹脂層に影響の少ない現像液を用いることが好ましい。この方法は熱可塑性樹脂層および中間層と感光性樹脂層との間に溶解速度の差を持つ現像液を選ぶことにより、また液温、スプレー圧、擦りの力など現像処理条件を組み合わせることによって達成できる。例えば、感光性樹脂層の現像に要する最小の時間が、熱可塑性樹脂層および中間層の現像に要する最小時間の２倍以上になるような現像液を熱可塑性樹脂層および中間層の現像液として選べば、感光性樹脂層が現像されることなく熱可塑性樹脂層および中間層のみを除去する事ができる。その後さらに感光性樹脂層用の現像液で現像することによって、該感光性樹脂用現像液が熱可塑性樹脂および中間層の除去で疲労することなく、さらに感光性樹脂層の現像の際前もって熱可塑性樹脂および中間層を除去しているので、同一現像液で一度に現像する場合に比べて、基板内での熱可塑性樹脂層の除去むらに起因する感光性樹脂層の現像むらは発生せず現像状態の均一な画像が得られる。また熱可塑性樹脂層および中間層は、水または前記現像液で剥離除去させてもよい。剥離除去の方法は浴液、スプレー、および現像液中で回転ブラシや湿潤したスポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。
【００５４】
本発明の感光性転写材料の主な用途は、プリント配線基板の作成の他、多色画像、特に液晶デイスプレー用等のカラーフィルター作成やカラーフィルターの保護層作成に都合が良い。プリント配線基板の作成には、基体として公知の銅張り積層板が用いられ、カラーフィルターの作成のためには、基体としては、公知のガラス板、表面に酸化珪素皮膜を形成したソーダガラス板などが用いられる。
【００５５】
以下、本発明を実施例を用いて更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００５６】
【実施例】
実施例１
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に下記の処方Ｃu１からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１６μｍの熱可塑性樹脂層を設けた。
熱可塑性樹脂層処方Ｃu１：
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
・メタノール４６．６質量部
・ＳＢＲラテックス*（平均粒径０．１μｍ、固形分濃度４５％）１０質量部
・メチルエチルケトン２３．３質量部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル
メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）
＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）５．８質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）
＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）１３．２質量部
・ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリートを２当量脱
水縮合した化合物（新中村化学(株)製ＢＰＥ−５００）９質量部
・弗素系ポリマー**
（メチルイソブチルケトン３０質量％溶液）０．５５質量部
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
*ＳＢＲラテックス（スチレン／ブタジエン＝４０／６０共重合組成比（モル比））は、ミクロフィルターＦＭ−３００（富士写真フイルム（株）製、孔径３μｍ、フィルター径１ｃｍφ、着圧０．０２ｋｇ／ｃｍ²）で濾過したものを使用した。
**弗素系ポリマーは；C₆F₁₃CH₂CH₂OCOCH=CH₂４０質量部と、H(O(CH₃)CHCH₂)₇OCOCH=CH₂５５質量部及びH(OCHCH₂)₇OCOCH=CH₂の５質量部の共重合体で、重量平均分子量が３万のものである。
【００５７】
次に上記熱可塑性樹脂層上に下記処方Ｐ１から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜1.6μｍの中間層を設け、仮支持体を作製した。
中間層処方Ｐ１：
・ＰＶＡ２０５
（クラレ（株）製ポリビニルアルコール、鹸化度＝88%、重合度550）１００質量部
・ポリビニルピロリドン（ＧＡＦコーポレーション社製ＰＶＰ、Ｋ−３０）５０質量部
・蒸留水１８５０質量部
・メタノール１０００質量部
【００５８】
上記熱可塑性樹脂層及び中間層を有する４枚の仮支持体の上に、それぞれ表１の処方を有する、黒色（Ｋ層用）、赤色（Ｒ層用）、緑色（Ｇ層用）及び青色（Ｂ層用）の４色の感光層用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの着色感光性樹脂層を形成した。
【００５９】
【表１】

【００６０】
さらに、上記感光性樹脂層の上にポリプロピレン（厚さ１２μｍ）の被覆シートを圧着し、赤色、青色、緑色および黒色感光性転写材料を作製した。
【００６１】
この感光性転写材料を用いて、以下の方法でカラーフィルターを作製した。赤色感光性転写材料の被覆シートを剥離し、感光性樹脂層面を透明ガラス基板（厚さ１．１ｍｍ）にラミネーター（大成ラミネータ（株）製ＶＰ−ＩＩ）を用いて加圧（１０ｋｇ／ｃｍ）、加熱（１３０℃）して貼り合わせ（速度０．７ｍ／ｍｉｎ）、続いて仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。次に、所定のフォトマスクを介して露光し、１％トリエタノールアミン水溶液で熱可塑性樹脂層および中間層を溶解除去した。これらの層を完全に除去できる最短除去時間は３０秒であった。次いで、１％炭酸ナトリウム水溶液で感光性樹脂層を現像して不要部を除去し、ガラス基板上に赤色画素パターンを形成した。
【００６２】
次いで、赤色画素パターンが形成されたガラス基板上に、緑色感光性転写材料を上記と同様にして貼り合わせ、剥離、露光、現像を行ない、緑色画素パターンを形成した。同様な工程を青色、黒色感光性転写材料で繰り返し、透明ガラス基板上にカラーフィルターを形成した。これらの工程において転写性、現像液への溶解性は問題なく、解像力・解像度も実用レベルであった。
【００６３】
［転写性の評価］
転写性は上記ラミネーターで貼り合わせた際の気泡のまきこみを観察して、ＡＡ，ＢＢ，ＣＣ，ＤＤ，ＥＥの５段階で評価をした。ＣＣ以上が実用レベルである。
AA:全く泡を巻き込まず、転写性極めて良好。
BB:非表示部である基板の４隅に極めてわずかの気泡が入るものの、その他は泡を巻き込まず、転写性良好。
CC: 非表示部である基板の４辺にわずかの気泡が入るものの、その他は泡を巻き込まず、転写性普通。
DD: 表示部に少し気泡が入り、転写性悪い。
EE:全面に気泡が入り、極めて転写性悪い。
【００６４】
［転写用加熱ローラー汚染の評価］
感光性転写材料をラミネートしたのち、転写用加熱ローラーを観察して、ＡＡ，ＢＢ，ＣＣ，ＤＤ，ＥＥの５段階にわけて評価した。ＣＣ以上が実用レベルである。
AA:熱可塑性樹脂層がしみ出さず、転写用加熱ローラーは全く汚れず、極めて良好。
BB: 熱可塑性樹脂層が僅かにしみ出すが、転写用加熱ローラーは汚れず、良好。
CC: 熱可塑性樹脂層が少ししみ出し、転写用加熱ローラーは僅かに汚れるが、汚れはこれ以上累積せず普通。
DD: 熱可塑性樹脂層がかなりしみ出し、転写用加熱ローラーの汚れが非常に多く、悪い。
EE: 熱可塑性樹脂層が強くしみ出し、転写用加熱ローラーの汚れが基盤に再転写し、極めて悪い。
【００６５】
［面状の評価］
感光性転写材料及びカラーフィルターを顕微鏡で観察し、ＡＡ，ＢＢ，ＣＣ，ＤＤ，ＥＥ５段階に分けて評価した。ＣＣ以上が実用レベルである。
AA:表面が平滑で光沢も高く、得られたカラーフィルターに全く影響なく極めて良好。
BB:表面に僅かな凹凸が観察されるが、得られたカラーフィルターに影響なく良好。
CC:表面に少し凹凸が観察され、得られたカラーフィルター表面に僅かな凹凸があり、普通。
DD:少し凝集物が発生し、得られたカラーフィルター表面に少し凹凸が観察され、悪い。
EE:全面に凝集物が発生し、得られたカラーフィルター表面に強い凹凸が観察され、極めて悪い。
【００６６】
実施例２〜４
実施例１のCu1において表２に示すようにポリマーラテックス添加量を１０質量部から、２０、３０及び６０質量部と変更した以外は実施例１と同様にして感光性転写材料を作製した。
【００６７】
実施例５〜１０
実施例２のCu２で使用したポリマーラテックスの代わりにそれぞれ、MMA／ブタジエン、アクリル／ブタジエン、NBR（アクリロニトリル／ブタジエン）、NR（天然ゴム）、 CR（クロロプレンゴム）、VP(SBR／ジビニルピリジン)に変更した以外は、実施例１と同様にして感光性転写材料を作製した。
但し、前記Cu２は、実施例２の熱可塑性樹脂層処方である。
【００６８】
比較例１
実施例１のCu1においてポリマーラテックスを使用しなかった以外は、実施例１と同様にして感光性転写材料を作製した。
【００６９】
比較例２
実施例１のCu1においてポリマーラテックス添加量を１０質量部から８０質量部と変更した以外は、実施例１と同様にして感光性転写材料を作製した。
【００７０】
前記各実施例及び各比較例の内容及び評価結果を表２に示す。
【００７１】
【表２】

【００７２】
上記表２により、実施例１〜３、５〜１０においては、転写性が良好で、かつ熱可塑性樹脂層からのしみ出しは殆ど見られず、転写用加熱ローラーは汚れなかった。また、面状についても、僅かに凹凸が観察されたものの良好であることが分かった。
一方、ポリマーラテックスの無添加の比較例１においては、熱可塑性樹脂層からのしみ出しがかなり見られ、転写性加熱ローラーの汚れが非常に多く悪かった。また、ポリマーラテックスの含有率が多い比較例２では、転写用加熱ローラーの汚れについては良好であったが、転写性及び面状については表示部に気泡が入りまた凝集物が発生する等、転写性及び面状ともに良くなかった。
【００７３】
【発明の効果】
本発明の感光性転写材料によれば、転写される感光性樹脂層及び中間層と仮支持体の間に転写性の改良された熱可塑性樹脂層を設けてあるので、基板、永久支持体のキズ、前記先行画素に基づく凹凸段差等に起因する転写不良（気泡の発生）が無く、高速で転写することが可能ある。さらに、溶融した熱可塑性樹脂層による転写用加熱ローラーなどの工程汚染を防止できる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photosensitive transfer material suitable for dry transfer onto an uneven substrate. The photosensitive transfer material according to the present invention is particularly preferably used for the production of a color filter used for a liquid crystal display or the like and the production of a printed wiring board.
[0002]
[Prior art]
A photosensitive transfer material for transferring a photosensitive resin layer to a substrate is known (for example, see Patent Document 1). This is used for the production of printed wiring, intaglio letterpress printing plates, name plates, multicolor test printing samples, offset printing plates, screen printing stencils and the like. The transfer material consists of a temporary support, an intermediate layer, and a photopolymerizable layer. The substrate and the photopolymerizable layer are bonded together, after which only the temporary support is peeled off, exposed and developed through a separation layer, and an image is formed on the substrate. To do. In this case, the separation layer plays a role of blocking oxygen and works favorably for exposure in the air, and its thickness is very thin, about 0.5 μm to 5 μm, so there is no problem in terms of resolving power.
[0003]
However, in recent years, the demand for high-speed transfer suitability has become stronger from the viewpoint of cost, and when a certain degree of unevenness exists on the substrate to be transferred, a very thin photopolymerizable layer is transferred at a high speed on the substrate. At this time, bubbles or the like were trapped between the photopolymerizable layer and the substrate, resulting in transfer failure. For example, when a multicolor image is formed, as in the case of producing a color filter, a case where a second color photosensitive resin layer is transferred onto a first color pixel (hereinafter abbreviated as a preceding pixel) corresponds. In addition, the case where the dry film resist layer is transferred when the copper surface of the copper-clad laminate has fine scratches or dents caused by the leveling as in the production of a printed circuit board is applicable.
[0004]
Transfer to the permanent support by minute irregularities on the permanent support (hereinafter also referred to as “substrate”) or fine dust, dust, or other particles on the permanent support or the transfer layer or both. It is described that a sufficient transfer of the layers is hindered to cause a transfer failure and that a compressible temporary support is used to prevent this undesirable bond failure (see, for example, Patent Document 2). .) Although this method is certainly effective, it is still insufficient for transferring a non-adhesive photosensitive resin layer at room temperature onto a permanent support having irregularities with a thickness similar to that of the layer without causing bubbles. It was enough.
[0005]
A photosensitive transfer material in which an alkali-soluble thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a photosensitive resin layer are provided in this order on a temporary support is disclosed (for example, see Patent Document 3). However, in order to improve the transfer speed, when a flexible material is used for the resin used for the alkali-soluble thermoplastic resin layer or when a large amount of plasticizer is added, the thermoplastic resin layer melted by heating is heated for transfer. The process was contaminated, such as adhering to a roller.
[0006]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Publication No. 56-40824
[Patent Document 2]
Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-309946
[Patent Document 3]
Japanese Patent Application No. 3-153227
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
The first object of the present invention is caused by scratches on the permanent support, steps based on the preceding pixels, and the like when the photosensitive resin layer of the photosensitive transfer material is transferred from the temporary support to the permanent support. There is no transfer defect (bubble generation), it is possible to transfer at high speed, and perfect separation from the temporary support and exposure in the air are possible. It is an object of the present invention to provide a photosensitive transfer material that can be quickly removed, and a color filter using the material.
A second object of the present invention is to prevent process contamination of a transfer heating roller or the like due to a molten thermoplastic resin layer.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
  The object of the present invention is achieved by the following photosensitive transfer material.
<1> In a photosensitive transfer material in which at least a thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a photosensitive recording layer are provided in this order on a temporary support, the thermoplastic resin layer is based on the total solid content of the thermoplastic resin layer. Contains at least 5 mass% and 50 mass% of polymer latexThe polymer latex is SBR (styrene-butadiene based), MBR (MMA / butadiene, acrylic / butadiene), NBR (acrylonitrile / butadiene), NR (natural rubber), CR (chloroprene rubber), VP (SBR / divinylpyridine). ) And copolymers of these copolymersA photosensitive transfer material.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The photosensitive transfer material of the present invention is a photosensitive transfer material in which at least a thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a photosensitive recording layer are provided in this order on a temporary support, wherein the thermoplastic resin layer is the thermoplastic resin layer. Containing at least 5% by mass to 50% by mass of polymer latex based on the total solid contentThe polymer latex is SBR (styrene-butadiene based), MBR (MMA / butadiene, acrylic / butadiene), NBR (acrylonitrile / butadiene), NR (natural rubber), CR (chloroprene rubber), VP (SBR / divinylpyridine). ) And copolymers of these copolymersIt is characterized by that. The photosensitive transfer material may further be provided with other layers as necessary.
[0010]
<Thermoplastic resin layer>
  The thermoplastic resin layer according to the present invention is alkali-soluble and includes at least a polymer latex, and preferably includes an alkali-soluble resin as a resin constituting the thermoplastic resin layer. The Further, the polymer latex is a rubber-based polymer latex.The
[0011]
(Polymer latex)
The polymer latex according to the present invention is obtained by dispersing water-insoluble polymer fine particles in water. The polymer latex is described, for example, in “Polymer Latex Chemistry” (by Soichi Muroi, published by Kobunshi Shuppankai (Showa 48)). In addition, the rubber system is a general system having a so-called rubber elasticity rubber function that can withstand large deformation without breaking when stress is applied, and can be changed to its original shape when the stress is removed. This means that any device having this function can be used without any particular limitation.
[0012]
  SaidExamples of the polymer latex include rubbers such as SBR (styrene-butadiene), MBR (MMA / butadiene, acrylic / butadiene), NBR (acrylonitrile / butadiene), and NR (natural rubber)., CR (chloroprene rubber), VP (SBR / divinylpyridine) and theirHeavyPolymer latex composed of coalescenceIs. Among these, those having a glass transition temperature (Tg) of 60 ° C. or lower, more preferably 45 ° C. or lower are particularly preferable. If the Tg exceeds 60 ° C., the effect of preventing reticulation may be too small.
[0013]
  Preferred examples of the polymer latex include styrene / butadiene = 0/100, 5/95, 25/75, 30/70, 40/60, 70/30, 90/10, 100/0 (copolymerization ratio). Latex (average particle size 0.01 to 0.3 μm), styrene / butadiene / 2-vinylpyridine = 12/85/3, 15/70/15 (copolymerization ratio) latex (average particle size 0.01 to 0.3 μm), butadiene / 2-vinylpyridine = 75/25 (copolymerization ratio) latex (average particle size 0.01 to 0.3 μm), acrylonitrile / butadiene = 8/92, 16/84, 20/80 25/75, 30/70, 35/65, 40/60 (copolymerization ratio) latex (average particle size 0.01 to 0.3 μm), styrene / butadiene / acrylic acid = 40/58/2 Copolymerization ratio) latex (average particle size 0.15 μm), 1,4 polyisoprelatex (IR latex, cis content 92 mol%, average particle size 0.4 μm), methyl methacrylate / butadiene / acrylic acid = 55 /42.5/2.5, 65 / 32.5 / 2.5 (copolymerization ratio) latex (average particle size 0.15 μm), methyl methacrylate / butadiene / itaconic acid = 55 / 42.5 / 2. 5, 65 / 32.5 / 2.5 (copolymerization ratio) latex (average particle size 0.1 μm), methyl methacrylate / butadiene / methacrylic acid = 55/43/2, 65 / 32.5 / 2.5 (Copolymerization ratio) latex (average particle size 0.1 μm). In addition, the copolymerization ratio of said various polymer latex represents molar (number) ratio. Further, different types of polymer latex can be used in combination with the polymer latex. As the polymer latex that can be used in combination, two or more of the polymer latexes shown above can be mixed and used. For example, SBR and NR, IR and NR, CR and NR, NBR with different nitrile amount, SBR with different styrene amount, SBR and VP, NBR and MBR, SBR and NBR, SBR and MBR, NOther than the combination of anionic and cationic properties such as BR and VP and CR and VP are preferable.
[0014]
The polymer latex is preferably not dissolved in some alcohols and ketones, and further preferably does not cause aggregation of the polymer in the polymer latex. From the viewpoint of solvent miscibility stability, it is preferably soap-free and particles stabilized with an alkali-soluble resin or the like. Examples of the partial alcohols include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, ethylene glycol, and glycerin. Examples of some ketones include methyl ethyl ketone, diethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. If the polymer latex is dissolved in some of the alcohols and ketones, the development process using an alkaline developer may cause problems and development may not be possible. If the polymer latex is agglomerated in the alcohols and ketones, it is impossible to remove the thermoplastic resin layer together with the intermediate layer from the permanent support in the development step using an alkaline developer. In some cases, the development process with an alkaline developer may cause problems and development may not be possible.
[0015]
The addition amount of the polymer latex is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight, based on the total solid content constituting the thermoplastic resin layer. When the addition amount is less than 5% by weight, the effect of preventing contamination of the heating roller is insufficient, and when it exceeds 50% by weight, the surface shape and developability of the thermoplastic resin layer are deteriorated.
[0016]
As the polymer latex of the thermoplastic resin layer according to the present invention, those having few aggregates are preferable. Especially 1000cm^ThreeIt is preferable to contain an aggregate containing less than 10 aggregates having a particle size of 5 μm or more. Further, it is preferably 8 or less, and particularly preferably 4 or less. The particle diameter here means the individual maximum diameter of an aggregate having an arbitrary shape. In order to satisfy this condition, the composition method is also effective.
[0017]
10 aggregates / 1000 cm of aggregates having a maximum diameter of 5 μm or more in the polymer latex contained in the thermoplastic resin layer.^ThreeIf it is less than the range, it is possible to form a high-quality color filter without impairing the transparency and image quality of the pixels. Aggregate 10 / 1000cm^ThreeIn the case of exceeding the above, it is impossible to effectively avoid the occurrence of pixel defects that impair the quality of the finally produced color filter.
Further, it is particularly preferable that the number of aggregates having a particle size of 3 μm or more is in the above range.
[0018]
The aggregates in the polymer latex include (1) polymer aggregates formed during the synthesis of the polymer latex, and (2) a dry substance (skin) formed during storage of the polymer latex mixed in the polymer latex liquid. And (3) foreign matter (for example, fibers, fine sand particles, etc.) mixed from the outside. The number of aggregates having a maximum diameter of 5 μm or more in the polymer latex containing these aggregates is 10/1000 cm.^ThreeIn order to make it less than this, the device of the synthesis method is effective. However, only by devising the synthesis method, the aggregate (1) can be removed, but the aggregates (2) and (3) mixed after the synthesis cannot be removed. Therefore, a method of removing aggregates after synthesis is preferable.
[0019]
The method for removing the agglomerates is not particularly limited, but from the viewpoint of completeness of effect and cost, the method by microfilter filtration described below is preferable. Microfilter filtration is a filtration method in which a substance is filtered using a membrane (microfilter) having a pore diameter of 10 nm to several μm. The microfilter filtration is described in, for example, “Advanced Membrane Separation Technology Handbook” (edited by Junjiro Kawasaki, published by Science Forum, Inc. (1987)).
[0020]
The pore size of the microfilter used in the present invention is preferably 5 μm or less, and more preferably in the range of 3 to 5 μm. When the pore diameter exceeds 5 μm, the ability to remove agglomerates is reduced, and the effects of the present invention may not be sufficiently achieved. Conversely, when the pore diameter is less than 3 μm, the processing speed decreases and the production efficiency decreases. To do. Although there is no restriction | limiting in the shape of the hole of a micro filter, It is preferable to make it circular.
The difference in pressure (differential pressure) between the supply side and the filtration side (outlet side) during filtration depends on the type of microfilter used, but is 0.01 to 1 kg / cm.²It is preferable to set the degree.
[0021]
There is no restriction | limiting in particular as a raw material of the said microfilter, such as melt | dissolving in a polymer latex, For example, a polysulfone, cellulose acetate, etc. are mentioned, A commercially available microfilter can be used. Examples of preferred microfilters include FM-300 (pore diameter 3 μm, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.).
[0022]
(Thermoplastic resin)
The thermoplastic resin layer according to the present invention includes at least a resin component. As the resin constituting the thermoplastic resin layer, a resin that maintains film strength (hereinafter also referred to as “resin (A)”) and a resin that imparts meltability during heating (hereinafter also referred to as “resin (B)”). .) Are preferably used in combination. Examples of the resin (A) include a saponified product of ethylene and an acrylic ester copolymer, a saponified product of styrene and a (meth) acrylic ester copolymer, styrene / (meth) acrylic acid / (meth) acrylic ester 3 Original copolymer, saponified product of vinyltoluene and (meth) acrylic acid ester copolymer, poly (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylic acid ester copolymer such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate, etc. Saponified products, "Plastic Performance Handbook" (edited by the Japan Plastics Industry Federation, edited by the All Japan Plastics Molding Industry Association, published by the Industrial Research Council, published on October 25, 1968) and soluble in alkaline aqueous solutions In the range of 50,000 to 500,000 (Tg = 0 to 140 ° C.), more preferably weight. Selected in the range of average molecular weight from 60,000 to 200,000 (Tg = 30~110 ℃) can be used.
[0023]
Specific examples of the resin (A) include JP-B 54-34327, JP-B 55-38961, JP-B 58-12577, JP-B 54-25957, JP-A 61-134756, JP-B 59. No. 44615, JP 54-92723, JP 54-99418, JP 54-137085, JP 57-20732, JP 58-93046, JP 59-97135. JP, 60-159743, OLS 3254254, JP 60-247638, JP 60-208748, JP 60-214354, JP 60-230135, JP 60- No. 258539, JP-A-61-169829, JP-A-61-213213, JP-A-63-147159, JP-A-63-213837, JP-A-63-2 6448, JP 64-55551, JP 64-55550, JP 2-191955, JP 2-199403, JP 2-199404, JP 2-208602, JP Examples thereof include resins that are soluble in an alkaline aqueous solution described in each specification of Japanese Patent No. 4-39653. Particularly preferred is a methacrylic acid / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methyl methacrylate copolymer described in JP-A-63-147159.
[0024]
The resin (B) is a resin having a weight average molecular weight of 3,000 to 30,000 (Tg = 30 to 170 ° C.), more preferably a weight average molecular weight of 4,000 to 20,000 (among the various resins listed above). Tg = 60 to 140 ° C.). Preferable specific examples can be selected from those described in the above-mentioned patent specifications. Particularly preferred are styrene / (described in Japanese Patent Publication Nos. 55-38961 and 4-39653. A meth) acrylic acid copolymer is mentioned.
[0025]
When the weight average molecular weight of the resin (A) constituting the thermoplastic resin layer is less than 50,000 or Tg is less than 0 ° C., the thermoplastic resin protrudes to the periphery during reticulation generation or transfer, and is a permanent support. Will significantly contaminate. Further, when the weight average molecular weight of the resin (A) exceeds 500,000 or Tg exceeds 140 ° C., bubbles may enter between pixels during transfer or the alkaline aqueous solution removability of the thermoplastic resin may deteriorate.
[0026]
When the weight average molecular weight of the resin (B) constituting the thermoplastic resin layer is less than 3,000 or Tg is less than 30 ° C., the thermoplastic resin protrudes to the periphery during reticulation generation or transfer, and the permanent support is remarkably formed. To contaminate. In addition, if the weight average molecular weight of the resin (B) exceeds 30,000 or Tg exceeds 170 ° C., bubbles may enter between pixels during transfer or the alkaline aqueous solution removability of the thermoplastic resin may deteriorate. .
[0027]
In the mixing ratio of the resins (A) and (B), if the ratio of (A) exceeds 95%, bubbles may easily enter between pixels at the time of transfer, and if it is less than 5%, the thermoplastic resin. May protrude to the surroundings, or the thermoplastic resin layer may become brittle, and fine chips may be easily scattered in the cutting process.
[0028]
For the purpose of adjusting the adhesive force and / or transferability with the temporary support, the thermoplastic resin layer has various polymers, supercooling substances, adhesion improvers or surfactants, thickeners, gels, as well as the above resins. The Tg of the thermoplastic resin layer can be finely adjusted by adding a plasticizer such as an agent, a crosslinking agent, and a release agent.
[0029]
Specific examples of preferred plasticizers include polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate biphenyl diphenyl phosphate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene Glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, addition reaction product of epoxy resin and polyethylene glycol mono (meth) acrylate, organic diisocyanate and polyethylene glycol mono (meta) ) Addition reaction product with acrylate, organic diisocyanate and polypropylene glycol mono (meth) acrylate Addition reaction products of over bets of a condensation product of bisphenol A and polyethylene glycol mono (meth) acrylate.
[0030]
The addition amount of the plasticizer is preferably 0 to 200% by mass and more preferably 20 to 100% by mass with respect to the total amount (mass) of the resins A and B constituting the thermoplastic resin layer.
[0031]
The thickness of the thermoplastic resin layer is preferably 6 μm or more. The reason for this is that if the thickness of the thermoplastic resin layer is less than 6 μm, it is impossible to completely absorb the unevenness of the foundation of 1 μm or more. In addition, the upper limit of the thickness of the thermoplastic resin layer is preferably about 100 μm or less, more preferably about 50 μm or less, from the viewpoint of alkaline aqueous solution removability and production suitability.
[0032]
When preparing a coating liquid for forming a thermoplastic resin layer, a solvent is generally used, and the solvent can be used without particular limitation as long as the resin constituting this layer is dissolved. For example, methanol, propylene glycol monomethyl ether , Methyl ethyl ketone, n-propanol, i-propanol and the like.
[0033]
<Intermediate layer>
Any intermediate layer may be used as long as it is dispersed or dissolved in water or an aqueous alkaline solution and exhibits low oxygen permeability. For example, polyvinyl ether / maleic anhydride polymers, water-soluble salts of carboxyalkyl cellulose, water-soluble cellulose ethers, and carboxyalkyl starch described in JP-A Nos. 46-2121 and 56-40824. Water soluble salt, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, various polyacrylamides, various water soluble polyamides, water soluble salts of polyacrylic acid, gelatin, ethylene oxide polymers, various starches and the like Examples include salts, styrene / maleic acid copolymers, and maleate resins, and combinations of two or more thereof. Particularly preferred is a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone. The polyvinyl alcohol preferably has a saponification rate of 80% or more, and the content of polyvinyl pyrrolidone is preferably 1% by mass to 75% by mass, more preferably 1% by mass to 60% by mass, still more preferably the total solid content of the intermediate layer. Is 10% by mass to 50% by mass. When it is 1% by mass or more, it has sufficient adhesiveness with the photosensitive resin layer, and when it is less than 75% by mass, the oxygen blocking ability is hardly lowered. The thickness of the intermediate layer is very thin, about 0.1-5 μm, especially 0.5-2 μm. If it is about 0.1 μm or more, oxygen permeability can be suppressed, and if it is less than about 5 μm, no time is required for development or removal of the intermediate layer.
[0034]
<Photosensitive resin layer>
The photosensitive resin layer is preferably softened or tacky at a temperature of at least 150 ° C., and is preferably thermoplastic. Most of the layers using known photopolymerizable compositions have this property, but some of the known layers can be further modified by the addition of thermoplastic binders or compatible plasticizers. . As the material for the photosensitive resin layer of the present invention, all known photosensitive resins described in, for example, Japanese Patent Application No. 2-82262 can be used. Specific examples include a photosensitive resin layer composed of a negative diazo resin and a binder, a photopolymerizable composition, a photosensitive resin composition composed of an azide compound and a binder, and a cinnamic acid type photosensitive resin composition. Among these, a photopolymerizable resin is particularly preferable. The photopolymerizable resin contains a photopolymerization initiator, a photopolymerizable monomer, and a binder as basic components. As the photosensitive resin, those that can be developed with an aqueous alkali solution and those that can be developed with an organic solvent are known, but those that can be developed with an aqueous alkali solution are preferred from the viewpoint of preventing pollution and ensuring occupational safety.
[0035]
A dye and a pigment can be further added to the photosensitive resin layer. All the pigments are uniformly dispersed in the photosensitive resin layer, and preferably have a particle size of 5 μm or less, particularly preferably 1 μm or less. In producing the color filter, the pigment preferably has a particle size of 0.5 μm or less. Examples of preferred dyes or pigments are as follows. Victoria Pure Blue BO (C.I. 42595), Auramin (C.I. 41000), Fat Black HB (C.I. 26150), Monolite Yellow GT (C.I. Pigment Yellow 12), Permanent Yellow GR (CI Pigment Yellow 17), Permanent Yellow HR (CI Pigment Yellow 83), C.I. I. Pigment Yellow 138, Permanent Carmine FBB (CI Pigment Red 146), Hoster Balm Red ESB (CI Pigment Violet 19), Permanent Ruby FBH (CI Pigment Red 11) Fastel -Pink B Supra (CI Pigment Red 81) Monastral First Blue (CI Pigment Blue 15), Monolite First Black B (CI Pigment Black 1) and Carbon. Further, as pigments suitable for forming a color filter, C.I. I. Pigment red 97, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 149, C.I. I. Pigment red 168, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 180, C.I. I. Pigment red 192, C.I. I. Pigment red 215, C.I. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment blue 15: 1, C.I. I. Pigment blue 15: 4, C.I. I. Pigment blue 15: 6, C.I. I. Pigment blue 22, C.I. I. Pigment blue 60, C.I. I. And CI Pigment Blue 64.
[0036]
It is preferable to provide a thin cover sheet on the photosensitive resin layer in order to protect it from contamination and damage during storage. The cover sheet may be made of the same or similar material as the temporary support, but it must be easily separated from the photosensitive resin layer. As the covering sheet material, for example, silicone paper, polyolefin or polytetrafluoroethylene sheet is suitable. The thickness of the covering sheet is preferably about 5 to 100 μm. Particularly preferred is a polyethylene or polypropylene film having a thickness of 10 to 30 μm.
[0037]
<Temporary support>
The temporary support for the photosensitive transfer material of the present invention should be composed of a flexible material that has a perfect releasability from the thermoplastic resin layer, is chemically and thermally stable, and is flexible. Specifically, a thin sheet such as Teflon (R), polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, or a laminate thereof is preferable, and it is preferable that there is little charge. In order to obtain good peelability, it is preferable that surface treatment such as glow discharge is not performed and an undercoat such as gelatin is not provided. The thickness of the temporary support is suitably 5 μm to 300 μm, preferably 20 μm to 150 μm.
[0038]
Depending on the transfer conditions of the photosensitive transfer material, the thermoplastic resin may ooze out during the transfer and contaminate the permanent support. In order to eliminate the adverse effect of this contamination, among these thermoplastic resins, those that dissolve in an alkaline aqueous solution are preferable. This is because it can be easily removed by a subsequent treatment as long as it is soluble in an alkaline aqueous solution. The alkaline aqueous solution may be the same as or different from the alkaline developer of the photosensitive resin of the present invention. The alkaline aqueous solution of the present invention is a dilute aqueous solution of an alkaline substance, and further includes a solution in which a small amount of an organic solvent miscible with water is added. Suitable alkaline substances are alkali metal hydroxides (eg sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkali metal carbonates (eg sodium carbonate, potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (sodium bicarbonate, potassium bicarbonate), Alkali metal silicates (sodium silicate, potassium silicate) Alkali metal metasilicates (sodium metasilicate, potassium metasilicate), triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, morpholine, tetraalkylammonium hydroxides (eg Tetramethylammonium hydroxide) or trisodium phosphate. The concentration of the alkaline substance is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, and the pH is preferably 8-14.
[0039]
Suitable organic solvents miscible with water are methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, benzyl alcohol. , Acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone. The concentration of the organic solvent miscible with water is preferably 0.1% by mass to 30% by mass. Furthermore, a known surfactant can be added. The concentration of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 10% by mass.
[0040]
<Conductivity>
The electrification occurs between the film and the human body when an attempt is made to peel off the temporary support after the photosensitive resin layer of the photosensitive transfer material is laminated on the permanent support, and is received as an unpleasant electric shock. Furthermore, due to this charging, unexposed portions may be generated in the subsequent exposure process by sucking dust from the surrounding area, which may cause pinholes.
In the photosensitive transfer material of the present invention, in order to prevent the pinhole and electrostatic shock caused by the charging, the temporary support itself is given conductivity and its surface electric resistance is 10.¹³Or a conductive layer is provided on at least one surface of the temporary support and the surface electric resistance is 10¹³It is preferable to use one having an Ω or less.
In order to impart conductivity to the temporary support, it is preferable to contain a conductive substance in the temporary support. Examples of the conductive material include metal oxide fine particles and antistatic agents, and a method of kneading one or more selected from them is suitably used. Examples of the metal oxide include at least one crystalline metal oxide selected from zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, aluminum oxide, indium oxide, silicon oxide, magnesium oxide, barium oxide, and molybdenum oxide, and / or Alternatively, fine particles of the composite oxide. Antistatic agents include, for example, alkyl phosphates as anionic surfactants (for example, Electro Stripper A from Kao Soap Co., Ltd., Elenon No19 from Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., and betaine as an amphoteric surfactant. Systems such as Amogen K from Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. are polyoxyethylene fatty acid ester systems (for example, Nippon Sanyo Nion L from Nippon Oil & Fats Co., Ltd.), poly Oxyethylene alkyl ether type (for example, Emulgen 106, 120, 147, 420, 220, 905, 910, Nippon Oil & Fats Co., Ltd., Nippon Sannon E, etc.) is useful. Polyoxyethylene alkylphenol ethers, polyhydric alcohol fatty acid esters, polyoxyethylenes as ionic surfactants Rensorubitan fatty acid esters, those of polyoxyethylene alkyl amine, or the like is used.
When the conductive layer is provided on the support, the conductive layer can be appropriately selected from known ones. In particular, as the conductive material, ZnO, TiO₂ , SnO₂, Al₂ O_Three , In₂O_Three , SiO₂ , MgO, BaO, MoO_Three The method of containing at least one crystalline metal oxide selected from the above and / or fine particles of the composite oxide is preferable because it exhibits conductivity that is not affected by humidity. Crystalline metal oxide or composite oxide fine particles have a volume resistance of 10⁷ Ω · cm or less is preferable, especially 10^FiveIt is preferable that it is below Ω · cm. The particle size is preferably 0.01 to 0.7 μm, particularly preferably 0.02 to 0.5 μm.
[0041]
The method for producing the conductive crystalline metal oxide and the composite oxide fine particles is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-143430. A method of producing fine particles by firing and heat-treating them in the presence of different atoms for improving conductivity; second, a method of coexisting different atoms for improving conductivity when producing metal oxide fine particles by firing; Thirdly, there is a method of introducing oxygen defects by reducing the oxygen concentration in the atmosphere when producing metal fine particles by firing. Examples containing different atoms include Zn, Al, In, etc., TiO₂Nb, Ta, etc., SnO₂In contrast, Sb, Nb, halogen elements and the like can be mentioned. The amount of different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, particularly preferably 0.1 to 10 mol%. The amount of conductive particles used is 0.05 g / m²~ 20g / m²0.1g / m²-10g / m²Is particularly preferred.
[0042]
In the conductive layer according to the present invention, as binder, cellulose ester such as gelatin, cellulose nitrate, cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, vinylidene chloride, vinyl chloride, styrene , Acrylonitrile, vinyl acetate, alkyl (alkyl group C1 to C4) acrylate, a homopolymer containing vinyl pyrrolidone or the like, a copolymer, a soluble polyester, a polycarbonate, a soluble polyamide, or the like can be used. In dispersing the conductive particles in these binders, a dispersion liquid such as a titanium-based dispersant or a silane-based dispersant may be added. There is no problem even if a binder cross-linking agent is added. Examples of titanium dispersants include titanate coupling agents described in U.S. Pat. Nos. 4,069,192 and 4,080,353, and preneact (trade name: manufactured by Ajinomoto Co., Inc.). I can do things. Examples of known silane dispersants include vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. It is commercially available from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. as a “silane coupling agent”. Examples of the binder crosslinking agent include an epoxy crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent, and an epoxy crosslinking agent. A preferred conductive layer in the present invention is provided by dispersing conductive fine particles in a binder and providing them on a temporary support, or by applying a subbing treatment to the temporary support and depositing the conductive fine particles thereon. be able to.
[0043]
In the present invention, when the conductive layer is provided on the surface of the temporary support opposite to the photosensitive resin layer, in order to improve the scratch resistance, the conductive layer is further hydrophobic. It is preferable to provide a polymer layer. In this case, the hydrophobic polymer layer may be applied in the form of a solution or aqueous latex dissolved in an organic solvent, and the coating amount is 0.05 g / m in dry mass.²~ 1g / m²The degree is good. Examples of the hydrophobic polymer include polymers such as vinyl polymers including cellulose esters (for example, nitrocellulose and cellulose acetate), vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acrylate, organic solvent-soluble polyamides, and polyesters. In this layer, a slipping agent for imparting slipperiness, for example, organic carboxylic acid amide as described in JP-A-55-79435 may be used, and a matting agent or the like is added. There is no problem. Even if such a hydrophobic polymer layer is provided, the effect of the conductive layer of the present invention is not substantially affected.
[0044]
In order to improve the slipperiness or to prevent inadvertent adhesion of the photosensitive resin layer to the backside of the temporary support, the backside of the temporary support contains a known fine particle-containing slipping composition or a silicone compound. It is also useful to apply a release agent composition or the like.
[0045]
When the conductive layer is contained in the same or different plastic raw material as the temporary support film, and the film for temporary support is extruded at the same time, the conductive layer has excellent adhesion and scratch resistance. In this case, it is not necessary to provide the hydrophobic polymer layer or the undercoat layer, which is a particularly preferable embodiment of the conductive layer in the present invention. When the conductive layer is applied, usual methods such as roller coating, air knife coating, gravure coating, bar coating, curtain coating, etc. can be employed.
[0046]
In the case where a conductive layer is provided on the surface of the temporary support that is not provided with the thermoplastic resin layer, in order to increase the adhesive force between the thermoplastic resin layer and the support, for example, glow discharge treatment, Surface treatments such as corona treatment and ultraviolet irradiation treatment, undercoating treatments such as phenolic substances, polyvinylidene chloride resins, styrene butadiene rubber, gelatin, and the combination of these treatments can be performed. Among these, when the thermoplastic resin is alkali-soluble, a polyethylene terephthalate film coated with gelatin after corona treatment is preferable because it provides particularly excellent adhesion. In this case, the preferred thickness of the gelatin layer is 0.01 μm to 2 μm.
[0047]
In the present invention, JP-A 56-82504, JP-A 56-143443, JP-A 57-104931, JP 57-118242, JP 58-62647, JP The electroconductive layer shown by 60-258541 etc. can also be used suitably.
[0048]
In the case of providing the undercoat layer, JP-A-51-135526, U.S. Pat. Nos. 3,143,421, 3,586,508, 2,698,235, and 3,567,452 are disclosed. A vinylidene chloride copolymer as described in JP-A No. 51-114120, a diolefin copolymer such as butadiene as described in US Pat. No. 3,615,556, etc. Glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate-containing copolymers as described in JP-A-51-58469, polyamide-epichlorohydrin resins as described in JP-A-48-24923, JP-A-50-39536 A maleic anhydride-containing copolymer as described in No. 1 can be used.
[0049]
In order to prevent electrostatic shock due to charging using the photosensitive transfer material of the present invention, the surface electrical resistance value of the conductive layer or the temporary support provided with conductivity is set to 10.¹³Ω or less is required, especially 10¹²It is preferable to set it to Ω or less.
[0050]
<Method for producing photosensitive transfer material>
The photosensitive transfer material of the present invention comprises a solvent that does not dissolve the thermoplastic resin layer on the thermoplastic resin layer, after applying the thermoplastic resin layer solution on the temporary support and drying to provide the thermoplastic resin layer. A solution of the intermediate layer material is applied and dried, and then the photosensitive resin layer is applied and dried with a solvent that does not dissolve the intermediate layer, and if necessary, the covering sheet is pressure-bonded to the photosensitive resin layer Can be manufactured. Alternatively, a photosensitive resin layer is provided on another coated sheet, and both the thermoplastic resin layer and the sheet having the intermediate layer are placed on the temporary support so that the intermediate layer and the photosensitive resin layer are in contact with each other. Bonding or preparing a temporary support having a thermoplastic resin layer as another coating sheet, and this thermoplastic resin layer is an intermediate layer of a sheet composed of a photosensitive resin layer and an intermediate layer on the coating sheet Are advantageously manufactured by bonding.
[0051]
<Image forming method>
Next, an image forming method using the photosensitive transfer material of the present invention will be described. First, the coating sheet of the photosensitive transfer material is removed, and the photosensitive resin layer is bonded onto the substrate under pressure and heating. Conventionally known laminators and vacuum laminators can be used for bonding, and an auto cut laminator can also be used in order to increase productivity. Thereafter, the temporary support is peeled off, and then exposed through a predetermined mask, a thermoplastic resin layer, and an intermediate layer, and then removed. Removal is performed by immersing in a solvent or an aqueous developer, particularly an alkaline aqueous solution, or by spraying the processing liquid from a spray, and further by rubbing with a brush or irradiating ultrasonic waves by a known method. . By using a photosensitive transfer material having a photosensitive resin layer colored in a different color and repeating this process a plurality of times, a multicolor image can be formed.
[0052]
The alkaline developer for the photosensitive resin layer of the present invention is a dilute aqueous solution of an alkaline substance, and further includes a small amount of an organic solvent miscible with water. Suitable alkaline substances are alkali metal hydroxides (eg sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkali metal carbonates (eg sodium carbonate, potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (sodium bicarbonate, potassium bicarbonate), Alkali metal silicates (sodium silicate, potassium silicate) Alkali metal metasilicates (sodium metasilicate, potassium metasilicate), triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, morpholine, tetraalkylammonium hydroxides (eg Tetramethylammonium hydroxide) or trisodium phosphate. The concentration of the alkaline substance is 0.01% by mass to 30% by mass, and the pH is preferably 8-14. Suitable organic solvents miscible with water include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, benzyl alcohol, Acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone. The concentration of the water-miscible organic solvent is 0.1% by mass to 30% by mass. Furthermore, a known surfactant can be added. The concentration of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 10% by mass. The developer can be used as a bath solution or a spray solution. To remove the uncured portion of the photopolymerizable light-shielding material layer, methods such as rubbing with a rotating brush or rubbing with a wet sponge can be combined in the developer. The liquid temperature of the developer is usually preferably from about room temperature to 40 ° C. It is also possible to put a water washing step after the development processing.
[0053]
For development, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer and the photosensitive resin layer may be processed at one time. However, the development of the thermoplastic resin layer and the intermediate layer may be reduced in order to reduce development unevenness and developer fatigue during development of the photosensitive resin layer. The photosensitive resin layer may be developed after being dissolved and removed. The solvent or aqueous developer is used as the dissolved developer for the thermoplastic resin layer and the intermediate layer, but a developer that has little influence on the photosensitive resin layer is used when removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer. It is preferable. This method involves selecting a developer having a difference in dissolution rate between the thermoplastic resin layer and the intermediate layer and the photosensitive resin layer, and combining development processing conditions such as liquid temperature, spray pressure, and rubbing force. Can be achieved. For example, a developer whose minimum time required for developing the photosensitive resin layer is at least twice the minimum time required for developing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer is used as the developer for the thermoplastic resin layer and the intermediate layer. If selected, only the thermoplastic resin layer and the intermediate layer can be removed without developing the photosensitive resin layer. Thereafter, development is further performed with a developer for the photosensitive resin layer, so that the developer for the photosensitive resin is not fatigued by the removal of the thermoplastic resin and the intermediate layer, and the thermoplastic resin is further developed in advance during the development of the photosensitive resin layer. Since the resin and the intermediate layer are removed, the development without uneven development of the photosensitive resin layer due to the removal unevenness of the thermoplastic resin layer in the substrate does not occur as compared with the case of developing at the same time with the same developer. A uniform image can be obtained. Further, the thermoplastic resin layer and the intermediate layer may be peeled and removed with water or the developer. The stripping and removing method can be combined with a bath solution, a spray, and a method of rubbing with a rotating brush or wet sponge in a developer.
[0054]
The main application of the photosensitive transfer material of the present invention is convenient for preparing a printed wiring board, creating a color filter for a multicolor image, particularly a liquid crystal display, and a protective layer for the color filter. A known copper-clad laminate is used as a substrate for the production of a printed wiring board, and a known glass plate, a soda glass plate with a silicon oxide film formed on the surface, etc., for the production of a color filter. Is used.
[0055]
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail using an Example, this invention is not limited to these Examples.
[0056]
【Example】
Example 1
A coating liquid comprising the following formulation Cu1 was applied on a 75 μm thick polyethylene terephthalate film temporary support and dried to provide a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 16 μm.
Thermoplastic resin layer formulation Cu1:
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
・ 46.6 parts by mass of methanol
・ SBR latex * (average particle size 0.1 μm, solid content concentration 45%) 10 parts by mass
・ Methyl ethyl ketone 23.3 parts by mass
・ Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl
Methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio))
= 55/30/10/5, weight average molecular weight = 100,000, Tg≈70 ° C.) 5.8 parts by mass
・ Styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio))
= 65/35, weight average molecular weight = 10,000, Tg≈100 ° C.) 13.2 parts by mass
・ Two equivalents of pentaethylene glycol monomethacrylate to bisphenol A
9 parts by mass of water-condensed compound (BPE-500, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・ Fluorine polymer **
(Methyl isobutyl ketone 30 mass% solution) 0.55 mass part
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
* SBR latex (styrene / butadiene = 40/60 copolymer composition ratio (molar ratio)) is a microfilter FM-300 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., pore diameter 3 μm, filter diameter 1 cmφ, pressure 0.02 kg / cm)²) Was used.
** Fluorine-based polymer; C₆F₁₃CH₂CH₂OCOCH = CH₂40 parts by mass and H (O (CH_Three) CHCH₂)₇OCOCH = CH₂55 parts by mass and H (OCHCH₂)₇OCOCH = CH₂5 parts by weight of a copolymer having a weight average molecular weight of 30,000.
[0057]
Next, a coating liquid having the following formulation P1 was applied on the thermoplastic resin layer and dried to provide an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, thereby preparing a temporary support.
Intermediate layer formulation P1:
・ PVA205
(Kuraray Co., Ltd. polyvinyl alcohol, saponification degree = 88%, polymerization degree 550) 100 parts by mass
-50 parts by mass of polyvinylpyrrolidone (GAP Corporation PVP, K-30)
・ Distilled water 1850 parts by mass
・ 1000 parts by mass of methanol
[0058]
On the four temporary supports having the thermoplastic resin layer and the intermediate layer, black (for the K layer), red (for the R layer), green (for the G layer), and blue having the formulations shown in Table 1 respectively. Four color photosensitive layer coating solutions (for layer B) were applied and dried to form a colored photosensitive resin layer having a dry film thickness of 2 μm.
[0059]
[Table 1]

[0060]
Further, a polypropylene (thickness: 12 μm) covering sheet was pressure-bonded onto the photosensitive resin layer to prepare red, blue, green and black photosensitive transfer materials.
[0061]
Using this photosensitive transfer material, a color filter was produced by the following method. The coated sheet of the red photosensitive transfer material is peeled off, and the photosensitive resin layer surface is pressurized (10 kg / cm) using a laminator (VP-II manufactured by Taisei Laminator Co., Ltd.) on a transparent glass substrate (thickness 1.1 mm). Then, heating (130 ° C.) and pasting (speed 0.7 m / min) were carried out, followed by peeling at the interface between the temporary support and the thermoplastic resin layer to remove the temporary support. Next, it exposed through the predetermined photomask and melt | dissolved and removed the thermoplastic resin layer and the intermediate | middle layer with 1% triethanolamine aqueous solution. The shortest removal time that could completely remove these layers was 30 seconds. Next, the photosensitive resin layer was developed with a 1% aqueous sodium carbonate solution to remove unnecessary portions, and a red pixel pattern was formed on the glass substrate.
[0062]
Next, a green photosensitive transfer material was bonded to the glass substrate on which the red pixel pattern was formed in the same manner as described above, and peeling, exposure, and development were performed to form a green pixel pattern. A similar process was repeated with blue and black photosensitive transfer materials to form a color filter on a transparent glass substrate. In these steps, there was no problem in transferability and solubility in the developer, and resolution and resolution were at practical levels.
[0063]
[Evaluation of transferability]
The transferability was evaluated in five stages of AA, BB, CC, DD, and EE by observing the entrainment of bubbles when bonded by the laminator. CC and above are practical levels.
AA: Very good transferability with no bubbles.
BB: Although very few bubbles enter the four corners of the non-display area, the others do not entrain bubbles and have good transferability.
CC: Although there are few bubbles on the four sides of the non-display area, the others do not entrain bubbles and transfer is normal.
DD: A little air bubbles enter the display area and transfer is poor.
EE: Bubbles enter the entire surface and transferability is extremely poor.
[0064]
[Evaluation of heat roller contamination for transfer]
After laminating the photosensitive transfer material, the transfer heating roller was observed and evaluated in five stages of AA, BB, CC, DD, and EE. CC and above are practical levels.
AA: The thermoplastic resin layer does not ooze out, the transfer heating roller does not get dirty at all, and is very good.
BB: The thermoplastic resin layer oozes out slightly, but the transfer heating roller is clean and good.
CC: The thermoplastic resin layer oozes out slightly and the transfer heating roller is slightly soiled, but the soil does not accumulate any more and is normal.
DD: The thermoplastic resin layer oozes out considerably and the transfer heating roller is very dirty and bad.
EE: The thermoplastic resin layer exudes strongly, and the transfer heat roller is retransferred to the substrate, which is extremely bad.
[0065]
[Surface evaluation]
The photosensitive transfer material and the color filter were observed with a microscope and evaluated by dividing into AA, BB, CC, DD, and EE stages. CC and above are practical levels.
AA: Smooth surface, high gloss, very good without any effect on the resulting color filter.
BB: Slight irregularities are observed on the surface, but it is good without affecting the color filter obtained.
CC: Some irregularities are observed on the surface, and there are slight irregularities on the surface of the obtained color filter.
DD: A little agglomerate is generated, and a slight unevenness is observed on the surface of the obtained color filter, which is bad.
EE: Aggregates are generated on the entire surface, and strong unevenness is observed on the surface of the obtained color filter, which is extremely bad.
[0066]
Examples 2-4
A photosensitive transfer material was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of polymer latex added was changed from 10 parts by mass to 20, 30, and 60 parts by mass as shown in Table 2 in Cu1 of Example 1.
[0067]
Examples 5-10
Instead of the polymer latex used in Cu 2 of Example 2, MMA / butadiene, acrylic / butadiene, NBR (acrylonitrile / butadiene), NR (natural rubber), respectively., CA photosensitive transfer material was produced in the same manner as in Example 1 except that R (chloroprene rubber) and VP (SBR / divinylpyridine) were used.
However, the Cu2 is the thermoplastic resin layer formulation of Example 2.
[0068]
Comparative Example 1
A photosensitive transfer material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polymer latex was not used in Cu1 of Example 1.
[0069]
Comparative Example 2
A photosensitive transfer material was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of polymer latex added in Cu1 of Example 1 was changed from 10 parts by mass to 80 parts by mass.
[0070]
Table 2 shows the contents and evaluation results of the examples and comparative examples.
[0071]
[Table 2]

[0072]
According to Table 2, in Examples 1 to 3, 5 to 10, the transferability was good, and no seepage from the thermoplastic resin layer was observed, and the transfer heating roller was not soiled. Also, the surface shape was found to be good although slight irregularities were observed.
On the other hand, in Comparative Example 1 to which no polymer latex was added, the seepage from the thermoplastic resin layer was considerably observed, and the transferable heating roller was very dirty and bad. Further, in Comparative Example 2 in which the content of the polymer latex is high, the transfer heating roller was dirty, but the transfer property and the surface shape were transferred such as bubbles in the display part and aggregates. Both property and surface shape were not good.
[0073]
【The invention's effect】
According to the photosensitive transfer material of the present invention, since the thermoplastic resin layer having improved transferability is provided between the photosensitive resin layer and intermediate layer to be transferred and the temporary support, the substrate and the permanent support There is no transfer failure (bubble generation) due to scratches, uneven steps due to the preceding pixels, etc., and transfer can be performed at high speed. Furthermore, it is possible to prevent process contamination of a transfer heating roller or the like due to the molten thermoplastic resin layer.

Claims

In a photosensitive transfer material in which at least a thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a photosensitive recording layer are provided in this order on a temporary support, the thermoplastic resin layer is at least a polymer latex with respect to the total solid content of the thermoplastic resin layer. 5 to 50% by mass , and the polymer latex is SBR (styrene-butadiene), MBR (MMA / butadiene, acrylic / butadiene), NBR (acrylonitrile / butadiene), NR (natural rubber), CR ( chloroprene rubber), VP (SBR / divinyl pyridine) and photosensitive transfer material characterized polymer latex der Rukoto consisting of copolymers.