JP4054850B2 - 有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法に関するものである。
【従来の技術】
従来、フラットパネルディスプレイとしては通常液晶ディスプレイが使われているが、最近、密閉された環境下でモノマーを蒸着したり、或いは高分子を塗ることによって作られる自発光性の有機乱露光装置が使用されるようになってきている。
モノマーを利用したものは、ガラスを適切な形状のマスクで覆い、単分子膜を蒸著して作製される。このとき、モノマーは容易に剥がれる欠点がある。
また、最近、高分子を利用する高分子有機ＥＬ露光装置が創作されている。この場合は、高分子であるため、パターニングは不可能であるので、ガラスに高分子を塗ってから機械的に切断して作製する。
【発明が解決しようとする課題】
通常、液晶ディスプレイでは、Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメントを順次蒸着していくが、低分子蒸着膜、高分子塗布の場合は、蒸着に使用される物質がいずれも水に弱く（化学反応して、膜が破壊されたり、不透明になる）、空気中の水蒸気によって、反応が起こるので通常行われるＲ，Ｇ，Ｂを蒸着又は塗布しそれに現像液をかけ露光し現像する操作は不可能である。
そこで、超高真空下、若しくは密封条件下の乾燥した環境下で蒸着又は塗布することになる。このとき、通常のように、マスクを替えて、Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメントを順次蒸着又は塗布することは困難である。
また、有機ＥＬ露光装置を動画、静止画の表示装置とするためには、塗布したＲ、Ｇ、Ｂ（赤、緑、青）の各ＥＬ層をパターニングする必要があるが、パターニングする最も一般的で生産性の高い方法は、半導体や液晶の分野で使用されている露光プロセスである。しかし、現状の露光プロセスはウェット方式がほとんどである。従って、空気中の水蒸気すら嫌う有機ＥＬ材料にウェットの露光を適用することはできない。この事が有機ＥＬ表示装置の量産に関して大きな障害になっている。
一方、ウェット露光方式の代わりに、ドライ露光のプロセスを使用することも考えられが、ドライ露光ブロセスは基本的にポジ型であるためにＲ、Ｇ、Ｂ各層をパターン化できないという問題がある。
図１４乃至図１８に従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法の一例を示す。
まず、ガラス基板１０１上にＩＴＯ電極膜１０２を蒸着し（図１４）、次にＩＴＯ電極膜１０２上にＲセグメント部を形成するための有機ＥＬ材１１１を塗布する（図１５）。次に、マスク１０３を使用し紫外線（ＵＶ）照射による露光を行いＲセグメント部のパターン化を実施する（図１６）。これにより、マスクに遮光されない有機ＥＬ材は光分解して消失する。
次に、ガラス基板１０１上にＧセグメント部を形成するための有機ＥＬ材１１２を塗布する（図１７）。
この状態で、紫外線（ＵＶ）照射をして、Ｇセグメント部を形成する有機ＥＬ材１１２をパターン化しようとしても、Ｒセグメント部を形成する有機ＥＬ材１１１を残そうとすると、有機ＥＬ材１１１上に有機ＥＬ材１１２が残ってしまう（図１８）。又は、有機ＥＬ材１１１の上の有機ＥＬ材１１２に紫外線を照射すると、有機ＥＬ材１１１も消失し又はダメージを受けてしまう。
このように、単純なドライプロセスは有機ＥＬ材のパターン化には適用できない。また、前記有機ＥＬ材１１１の上に前記有機ＥＬ材１１２が塗布され重なると、有機ＥＬ材１１１の発光が成立しなくなり、有機エレクトロルミネッセンス露光装置としての意味をなさないので、上述したような重なりを防ぐ工夫が必要となる。
本発明は、上記従来の事情に鑑みて開発されたものであり、ドライプロセスでＲ、Ｇ、Ｂ各層のパターン化も確実に実現できる有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方 法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明に係る有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法は、基板上に陽極電極膜を形成してから、陽極電極膜上にＲセグメント部を形成する有機ＥＬ材を塗布する工程と、前記基板上のＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材をマスクしてそれ以外の部分の有機ＥＬ材を紫外線照射によって除去してから、基板の全面に撥水膜を塗布する工程と、前記基板上のＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分の撥水膜を紫外線照射によって除去してから、撥水膜が除去され陽極電極膜が露出した領域にＧセグメント部を形成する有機ＥＬ材及び撥水膜を重ねて塗布する工程と、前記Ｒセグメント部分と必要なＧ各セグメント部分上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分のＧセグメント部及び撥水膜を紫外線照射によって除去した後、撥水膜が除去され陽極電極膜が露出した領域にＢセグメント部を形成する有機ＥＬ材及び撥水膜を重ねて塗布する工程と、前記Ｒセグメント部分及びＧセグメント部分並びに必要なＢセグメント部分上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分のＢセグメント部及び撥水膜を除去する工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメント部分の上部に陰極電極膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
このような請求項１記載の発明によれば、ドライプロセスで、有機ＥＬ材、撥水膜の塗布、マスクを使用した紫外線照射の組み合わせによって、Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメント部分を形成する有機ＥＬ材が重なり合うことのないパターン化を確実に実現することができる。
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法の実施の形態を図面を参照して詳述する。
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１の有機エレクトロルミネッセンス露光装置を示す概略断面図である
この有機エレクトロルミネッセンス露光装置１は、ガラス基板２、透明導電膜（ＩＴＯ）３、陽極４、発光層５、陰極６、保護層７、保護基板８により概略構成される。
次に、本発明の実施の形態１の有機エレクトロルミネッセンス露光装置１の製造方法について図２を参照して説明する。
まず、図２（１）に示すように、透明導電膜３、陽極４が形成されたガラス基板２を用意し、ガラス基板２に対して図２（２）に示すように、マスク板１１によるマスクをしてＲセグメント部を形成する発光層２１を塗布する。発光層２１が塗布された状態を図２（３）に示す。
次に、図２（４）に示すように、ガラス基板２の全面に剥離防止層である撥水性フッ素コーティング３１を施す。
次に、図２（５）に示すように、ガラス基板２上のＲセグメント部分をマスク板１２によりマスクして、紫外線を照射して、それ以外の部分の撥水性フッ素コーティング３１を劣化して除去する。紫外線を照射して、それ以外の部分の撥水性フッ素コーティング３１を除去した状態を図２（６）に示す。
次に、図２（７）に示すように、Ｒセグメント部分をマスク板１３によりマスクしてＧセグメント部分を形成する発光層２２を塗布する。発光層２２を塗布したときの状態を図２（８）に示す。
次に、図２（９）示すように、Ｒ，Ｇセグメント部分をマスク板１４によりマスクしてガラス基板２の全面に撥水性フッ素コーティング３１を施す。撥水性フッ素コーティング３１を施した状態を図２（１０）に示す。
次に、図２（１１）に示すように、ガラス基板２上のＲセグメント部分、Ｇセグメント部分をマスク板１５によりマスクして、紫外線を照射して、それ以外の部分の撥水性フッ素コーティング３１を劣化して除去する。撥水性フッ素コーティング３１を除去した状態を図２（１２）に示す。
次に、図２（１３）に示すように、Ｒセグント，Ｇセグメント部分をマスク板１６によりマスクしてＢセグメントを形成する発光層２３を塗布する。発光層２３を塗布したときの状態を図２（１４）に示す。
本実施の形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法によれば、ガラス基板２上に、発光層５を構成することになるＲ，Ｇ，Ｂセグメント部分を形成する発光層２１，２２，２３を互いに重なり合うことなく、且つ、剥離の惧れなく確実に形成することができる。
この後、陰極６、保護層７、保護基板８を順次積層して有機エレクトロルミネッセンス露光装置１とするものである。
（実施の形態２）
次に、本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置５０の製造方法について図３乃至図１３を参照して説明する。
本実施の形態２の製造方法は、まず、基板（ガラス基板）６０上に陽極電極膜（ＩＴＯ膜）６１を蒸着する（図３）。次に、陽極電極膜６１上にＲセグメント部を形成する有機ＥＬ材５１を塗布する（図４）。次に、必要なＲセグメント部を形成する有機ＥＬ材５１の部分をマスク（フォトマスク）７１によりマスクし、紫外線（ＵＶ）照射による露光を行い、遮光されない有機ＥＬ材５１を光分解して消失させ、Ｒセグメント部分のパターン化を行う（図５）。
次に、パターン化されたＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材５１上及び陽極電極膜６１上に撥水膜（撥水、撥油等濡れ性の微小な膜）５４を塗布した後、マスク７１によりマスクし、紫外線（ＵＶ）照射による露光を行い（図６）、遮光されない撥水膜５４を光分解して消失させて必要なＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材５１及びその上の撥水膜５４を残存させ、他の部分は陽極電極膜６１が露出した状態とする（図７）。
次に、陽極電極膜６１が露出した部分にＧセグメント部を形成する有機ＥＬ材５２を塗布し、更にその上に撥水膜５４を塗布する（図８）。
次に、前記Ｒセグメント部分及び必要なＧセグメント部分を形成する有機ＥＬ材５２の部分をマスク（フォトマスク）７２によりマスクし、紫外線（ＵＶ）照射による露光を行い、遮光されない有機ＥＬ材５２及び撥水膜５４を光分解して消失させ、その部分に陽極電極膜６１が露出した状態としてＧセグメント部分のパターン化を行う（図９）。
次に、陽極電極膜６１が露出した部分にＢセグメント部を形成する有機ＥＬ材５３を塗布し、更にその上に撥水膜５４を塗布する（図１０）。
次に、前記Ｒセグメント部分及びＧセグメント部分並びに必要なＢセグメント部を形成する有機ＥＬ材５３の部分をマスク（フォトマスク）７３によりマスクし、紫外線（ＵＶ）照射による露光を行い、遮光されない有機ＥＬ材５３及び撥水膜５４を光分解して消失させ、その部分に陽極電極膜６１が露出した状態としてＢセグメント部分のパターン化を行う（図１１）。
このようにして、図１２に示すように、基板６０上に、Ｒ、Ｇ、Ｂ各セグメント部分を形成する有機ＥＬ材５１、５２、５３をパターン化した状態で形成する（図１２）。
この後、図１３に示すように、有機ＥＬ材５１、５２、５３上に陰極電極膜６２を形成し、更に、陽極電極膜６１、陰極電極膜６２に電源部８０を接続することで、本実施の形態２に係る有機エレクトロルミネッセンス露光装置５０を得る。
【発明の効果】
以上説明した本発明によれば、ドライプロセスで、且つ、有機ＥＬ材、撥水膜の塗布、マスクを使用した紫外線照射の組み合わせによって、Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメント部を形成する有機ＥＬ材が重なり合うことのないパターン化を確実に実現することができる有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１の有機エレクトロルミネッセンス露光装置を示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程を示す工程図である。
【図３】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（陽極電極膜塗布）を示す工程図である。
【図４】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（有機ＥＬ材）を示す工程図である。
【図５】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（露光によるパターン化）を示す工程図である。
【図６】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（撥水膜露光）を示す工程図である。
【図７】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｒセグメント用ＥＬ材パターン終了）を示す工程図である。
【図８】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｇセグメント用ＥＬ材塗布）を示す工程図である。
【図９】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｇセグメント用ＥＬ材露光）を示す工程図である。
【図１０】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｂセグメント用ＥＬ材塗布）を示す工程図である。
【図１１】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｂセグメント用ＥＬ材露光）を示す工程図である。
【図１２】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置のＥＬ材のパタニング終了状態を示す断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置を示す概略断面図である。
【図１４】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（陽極電極膜塗布）を示す工程図である。
【図１５】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（有機ＥＬ材塗布）を示す工程図である。
【図１６】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（露光によるパターン化）を示す工程図である。
【図１７】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（２色目の有機ＥＬ材塗布）を示す工程図である。
【図１８】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程における有機ＥＬ材の重なりを示す断面図である。
【符号の説明】
１ 有機エレクトロルミネッセンス露光装置
２ ガラス基板
３ 透明導電膜
４ 陽極
５ 発光層
６ 陰極
７ 保護層
８ 保護基板
１１ マスク板
１２ マスク板
１３ マスク板
１４ マスク板
１５ マスク板
１６ マスク板
１７ マスク板
２１ 発光層
２２ 発光層
２３ 発光層
３１ 撥水性フッ素コーティング
５０ 有機エレクトロルミネッセンス露光装置
５１ 有機ＥＬ材
５２ 有機ＥＬ材
５３ 有機ＥＬ材
５４ 撥水膜
６０ 基板
６１ 陽極電極膜
６２ 陰極電極膜
８０ 電源部
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法に関するものである。
【従来の技術】
従来、フラットパネルディスプレイとしては通常液晶ディスプレイが使われているが、最近、密閉された環境下でモノマーを蒸着したり、或いは高分子を塗ることによって作られる自発光性の有機乱露光装置が使用されるようになってきている。
モノマーを利用したものは、ガラスを適切な形状のマスクで覆い、単分子膜を蒸著して作製される。このとき、モノマーは容易に剥がれる欠点がある。
また、最近、高分子を利用する高分子有機ＥＬ露光装置が創作されている。この場合は、高分子であるため、パターニングは不可能であるので、ガラスに高分子を塗ってから機械的に切断して作製する。
【発明が解決しようとする課題】
通常、液晶ディスプレイでは、Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメントを順次蒸着していくが、低分子蒸着膜、高分子塗布の場合は、蒸着に使用される物質がいずれも水に弱く（化学反応して、膜が破壊されたり、不透明になる）、空気中の水蒸気によって、反応が起こるので通常行われるＲ，Ｇ，Ｂを蒸着又は塗布しそれに現像液をかけ露光し現像する操作は不可能である。
そこで、超高真空下、若しくは密封条件下の乾燥した環境下で蒸着又は塗布することになる。このとき、通常のように、マスクを替えて、Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメントを順次蒸着又は塗布することは困難である。
また、有機ＥＬ露光装置を動画、静止画の表示装置とするためには、塗布したＲ、Ｇ、Ｂ（赤、緑、青）の各ＥＬ層をパターニングする必要があるが、パターニングする最も一般的で生産性の高い方法は、半導体や液晶の分野で使用されている露光プロセスである。しかし、現状の露光プロセスはウェット方式がほとんどである。従って、空気中の水蒸気すら嫌う有機ＥＬ材料にウェットの露光を適用することはできない。この事が有機ＥＬ表示装置の量産に関して大きな障害になっている。
一方、ウェット露光方式の代わりに、ドライ露光のプロセスを使用することも考えられが、ドライ露光ブロセスは基本的にポジ型であるためにＲ、Ｇ、Ｂ各層をパターン化できないという問題がある。
図１４乃至図１８に従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法の一例を示す。
まず、ガラス基板１０１上にＩＴＯ電極膜１０２を蒸着し（図１４）、次にＩＴＯ電極膜１０２上にＲセグメント部を形成するための有機ＥＬ材１１１を塗布する（図１５）。次に、マスク１０３を使用し紫外線（ＵＶ）照射による露光を行いＲセグメント部のパターン化を実施する（図１６）。これにより、マスクに遮光されない有機ＥＬ材は光分解して消失する。
次に、ガラス基板１０１上にＧセグメント部を形成するための有機ＥＬ材１１２を塗布する（図１７）。
この状態で、紫外線（ＵＶ）照射をして、Ｇセグメント部を形成する有機ＥＬ材１１２をパターン化しようとしても、Ｒセグメント部を形成する有機ＥＬ材１１１を残そうとすると、有機ＥＬ材１１１上に有機ＥＬ材１１２が残ってしまう（図１８）。又は、有機ＥＬ材１１１の上の有機ＥＬ材１１２に紫外線を照射すると、有機ＥＬ材１１１も消失し又はダメージを受けてしまう。
このように、単純なドライプロセスは有機ＥＬ材のパターン化には適用できない。また、前記有機ＥＬ材１１１の上に前記有機ＥＬ材１１２が塗布され重なると、有機ＥＬ材１１１の発光が成立しなくなり、有機エレクトロルミネッセンス露光装置としての意味をなさないので、上述したような重なりを防ぐ工夫が必要となる。
本発明は、上記従来の事情に鑑みて開発されたものであり、ドライプロセスでＲ、Ｇ、Ｂ各層のパターン化も確実に実現できる有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方 法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明に係る有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法は、基板上に陽極電極膜を形成してから、陽極電極膜上にＲセグメント部を形成する有機ＥＬ材を塗布する工程と、前記基板上のＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材をマスクしてそれ以外の部分の有機ＥＬ材を紫外線照射によって除去してから、基板の全面に撥水膜を塗布する工程と、前記基板上のＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分の撥水膜を紫外線照射によって除去してから、撥水膜が除去され陽極電極膜が露出した領域にＧセグメント部を形成する有機ＥＬ材及び撥水膜を重ねて塗布する工程と、前記Ｒセグメント部分と必要なＧ各セグメント部分上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分のＧセグメント部及び撥水膜を紫外線照射によって除去した後、撥水膜が除去され陽極電極膜が露出した領域にＢセグメント部を形成する有機ＥＬ材及び撥水膜を重ねて塗布する工程と、前記Ｒセグメント部分及びＧセグメント部分並びに必要なＢセグメント部分上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分のＢセグメント部及び撥水膜を除去する工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメント部分の上部に陰極電極膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
このような請求項１記載の発明によれば、ドライプロセスで、有機ＥＬ材、撥水膜の塗布、マスクを使用した紫外線照射の組み合わせによって、Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメント部分を形成する有機ＥＬ材が重なり合うことのないパターン化を確実に実現することができる。
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法の実施の形態を図面を参照して詳述する。
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１の有機エレクトロルミネッセンス露光装置を示す概略断面図である
この有機エレクトロルミネッセンス露光装置１は、ガラス基板２、透明導電膜（ＩＴＯ）３、陽極４、発光層５、陰極６、保護層７、保護基板８により概略構成される。
次に、本発明の実施の形態１の有機エレクトロルミネッセンス露光装置１の製造方法について図２を参照して説明する。
まず、図２（１）に示すように、透明導電膜３、陽極４が形成されたガラス基板２を用意し、ガラス基板２に対して図２（２）に示すように、マスク板１１によるマスクをしてＲセグメント部を形成する発光層２１を塗布する。発光層２１が塗布された状態を図２（３）に示す。
次に、図２（４）に示すように、ガラス基板２の全面に剥離防止層である撥水性フッ素コーティング３１を施す。
次に、図２（５）に示すように、ガラス基板２上のＲセグメント部分をマスク板１２によりマスクして、紫外線を照射して、それ以外の部分の撥水性フッ素コーティング３１を劣化して除去する。紫外線を照射して、それ以外の部分の撥水性フッ素コーティング３１を除去した状態を図２（６）に示す。
次に、図２（７）に示すように、Ｒセグメント部分をマスク板１３によりマスクしてＧセグメント部分を形成する発光層２２を塗布する。発光層２２を塗布したときの状態を図２（８）に示す。
次に、図２（９）示すように、Ｒ，Ｇセグメント部分をマスク板１４によりマスクしてガラス基板２の全面に撥水性フッ素コーティング３１を施す。撥水性フッ素コーティング３１を施した状態を図２（１０）に示す。
次に、図２（１１）に示すように、ガラス基板２上のＲセグメント部分、Ｇセグメント部分をマスク板１５によりマスクして、紫外線を照射して、それ以外の部分の撥水性フッ素コーティング３１を劣化して除去する。撥水性フッ素コーティング３１を除去した状態を図２（１２）に示す。
次に、図２（１３）に示すように、Ｒセグント，Ｇセグメント部分をマスク板１６によりマスクしてＢセグメントを形成する発光層２３を塗布する。発光層２３を塗布したときの状態を図２（１４）に示す。
本実施の形態１に係る有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法によれば、ガラス基板２上に、発光層５を構成することになるＲ，Ｇ，Ｂセグメント部分を形成する発光層２１，２２，２３を互いに重なり合うことなく、且つ、剥離の惧れなく確実に形成することができる。
この後、陰極６、保護層７、保護基板８を順次積層して有機エレクトロルミネッセンス露光装置１とするものである。
（実施の形態２）
次に、本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置５０の製造方法について図３乃至図１３を参照して説明する。
本実施の形態２の製造方法は、まず、基板（ガラス基板）６０上に陽極電極膜（ＩＴＯ膜）６１を蒸着する（図３）。次に、陽極電極膜６１上にＲセグメント部を形成する有機ＥＬ材５１を塗布する（図４）。次に、必要なＲセグメント部を形成する有機ＥＬ材５１の部分をマスク（フォトマスク）７１によりマスクし、紫外線（ＵＶ）照射による露光を行い、遮光されない有機ＥＬ材５１を光分解して消失させ、Ｒセグメント部分のパターン化を行う（図５）。
次に、パターン化されたＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材５１上及び陽極電極膜６１上に撥水膜（撥水、撥油等濡れ性の微小な膜）５４を塗布した後、マスク７１によりマスクし、紫外線（ＵＶ）照射による露光を行い（図６）、遮光されない撥水膜５４を光分解して消失させて必要なＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材５１及びその上の撥水膜５４を残存させ、他の部分は陽極電極膜６１が露出した状態とする（図７）。
次に、陽極電極膜６１が露出した部分にＧセグメント部を形成する有機ＥＬ材５２を塗布し、更にその上に撥水膜５４を塗布する（図８）。
次に、前記Ｒセグメント部分及び必要なＧセグメント部分を形成する有機ＥＬ材５２の部分をマスク（フォトマスク）７２によりマスクし、紫外線（ＵＶ）照射による露光を行い、遮光されない有機ＥＬ材５２及び撥水膜５４を光分解して消失させ、その部分に陽極電極膜６１が露出した状態としてＧセグメント部分のパターン化を行う（図９）。
次に、陽極電極膜６１が露出した部分にＢセグメント部を形成する有機ＥＬ材５３を塗布し、更にその上に撥水膜５４を塗布する（図１０）。
次に、前記Ｒセグメント部分及びＧセグメント部分並びに必要なＢセグメント部を形成する有機ＥＬ材５３の部分をマスク（フォトマスク）７３によりマスクし、紫外線（ＵＶ）照射による露光を行い、遮光されない有機ＥＬ材５３及び撥水膜５４を光分解して消失させ、その部分に陽極電極膜６１が露出した状態としてＢセグメント部分のパターン化を行う（図１１）。
このようにして、図１２に示すように、基板６０上に、Ｒ、Ｇ、Ｂ各セグメント部分を形成する有機ＥＬ材５１、５２、５３をパターン化した状態で形成する（図１２）。
この後、図１３に示すように、有機ＥＬ材５１、５２、５３上に陰極電極膜６２を形成し、更に、陽極電極膜６１、陰極電極膜６２に電源部８０を接続することで、本実施の形態２に係る有機エレクトロルミネッセンス露光装置５０を得る。
【発明の効果】
以上説明した本発明によれば、ドライプロセスで、且つ、有機ＥＬ材、撥水膜の塗布、マスクを使用した紫外線照射の組み合わせによって、Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメント部を形成する有機ＥＬ材が重なり合うことのないパターン化を確実に実現することができる有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１の有機エレクトロルミネッセンス露光装置を示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程を示す工程図である。
【図３】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（陽極電極膜塗布）を示す工程図である。
【図４】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（有機ＥＬ材）を示す工程図である。
【図５】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（露光によるパターン化）を示す工程図である。
【図６】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（撥水膜露光）を示す工程図である。
【図７】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｒセグメント用ＥＬ材パターン終了）を示す工程図である。
【図８】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｇセグメント用ＥＬ材塗布）を示す工程図である。
【図９】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｇセグメント用ＥＬ材露光）を示す工程図である。
【図１０】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｂセグメント用ＥＬ材塗布）を示す工程図である。
【図１１】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（Ｂセグメント用ＥＬ材露光）を示す工程図である。
【図１２】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置のＥＬ材のパタニング終了状態を示す断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態２の有機エレクトロルミネッセンス露光装置を示す概略断面図である。
【図１４】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（陽極電極膜塗布）を示す工程図である。
【図１５】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（有機ＥＬ材塗布）を示す工程図である。
【図１６】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（露光によるパターン化）を示す工程図である。
【図１７】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程（２色目の有機ＥＬ材塗布）を示す工程図である。
【図１８】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造工程における有機ＥＬ材の重なりを示す断面図である。
【符号の説明】
１ 有機エレクトロルミネッセンス露光装置
２ ガラス基板
３ 透明導電膜
４ 陽極
５ 発光層
６ 陰極
７ 保護層
８ 保護基板
１１ マスク板
１２ マスク板
１３ マスク板
１４ マスク板
１５ マスク板
１６ マスク板
１７ マスク板
２１ 発光層
２２ 発光層
２３ 発光層
３１ 撥水性フッ素コーティング
５０ 有機エレクトロルミネッセンス露光装置
５１ 有機ＥＬ材
５２ 有機ＥＬ材
５３ 有機ＥＬ材
５４ 撥水膜
６０ 基板
６１ 陽極電極膜
６２ 陰極電極膜
８０ 電源部
Claims (1)
- 基板上に陽極電極膜を形成してから、陽極電極膜上にＲセグメント部を形成する有機ＥＬ材を塗布する工程と、
前記基板上のＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材をマスクしてそれ以外の部分の有機ＥＬ材を紫外線照射によって除去してから、基板の全面に撥水膜を塗布する工程と、
前記基板上のＲセグメント部分を形成する有機ＥＬ材上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分の撥水膜を紫外線照射によって除去してから、撥水膜が除去され陽極電極膜が露出した領域にＧセグメント部を形成する有機ＥＬ材及び撥水膜を重ねて塗布する工程と、
前記Ｒセグメント部分と必要なＧ各セグメント部分上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分のＧセグメント部及び撥水膜を紫外線照射によって除去した後、撥水膜が除去され陽極電極膜が露出した領域にＢセグメント部を形成する有機ＥＬ材及び撥水膜を重ねて塗布する工程と、
前記Ｒセグメント部分及びＧセグメント部分並びに必要なＢセグメント部分上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分のＢセグメント部及び撥水膜を除去する工程と、
前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各セグメント部分の上部に陰極電極膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法。
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