JP4048643B2 - Method for manufacturing magnetic recording medium - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、斜方蒸着法を適用した磁気記録媒体の製造方法関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、磁気テープの記録密度は急速に高密度化が図られている。この過程で、磁気テープは高抗磁力、高磁束密度を有する酸化鉄テープ、メタルテープ、及び薄膜磁気テープへと高性能なものに移行している。この磁気テープの応用として、VTR(ビデオ・テープ・レコーダ)分野では今後、ディジタル化、高精細度化を達成するために、特に薄膜磁気テープが注目されている。
【0003】
この薄膜磁気テープとしては磁性膜が斜方蒸着法により形成された、いわゆる蒸着磁気テープが実用化されている。これは、具体的には真空中でピアス型電子銃を用いて、ピアス型電子銃から出射した電子ビームをルツボ中のCo,CoNiなどの磁性材料に照射して、これらのCo,CoNiなどの磁性材料を溶融、蒸発させ、酸素を導入しながら、PET、PEN、PI(ポリイミド)、PA(アラミド)などのベースフィルム上にCoO、CoNiOなどよりなる磁性膜を薄膜に形成することにより製造される。
【0004】
図8は斜方蒸着法を適用した一般的な磁気記録媒体の製造装置を示した図、
図9は一般的な磁気記録媒体の製造装置において、シャッターの変形例を説明するための図である。
【0005】
図8に示した一般的な磁気記録媒体の製造装置では、真空槽1内に、供給ロール2、巻取りロール3、供給側の金属ガイドローラ4、巻取り側の金属ガイドローラ5、及び冷却キャンロール6が配置されている。そして、供給ロール2から送り出したベ−スフィルム7は冷却キャンロール6に沿って図中矢印方向に連続走行しており、供給側のガイドローラ4を経て回転自在な冷却キャンロール6に沿いながら更に巻取り側の金属ガイドロール5を経て巻取りロール3に巻き取られている。この際、回転自在な冷却キャンロール6の内部には、図示しない冷却器が内蔵されており、上記ベ−スフィルム7への蒸着時に、このベ−スフィルム7の温度上昇による変形等を防止している。
【0006】
また、冷却キャンロール6の下方には、Coなどの磁性材料11を収容したルツボ12が配置されており、真空槽1の供給側の側壁にはこの磁性材料11を溶融させて、蒸発磁性材料を蒸発させるための加熱器として、例えばピアス型電子銃13が斜め下方に向かって設置されている。
【0007】
また、ルツボ12からの蒸発磁性材料のベ−スフィルム7への最大入射角θmaxを規制する最大入射角規制マスク8と、ルツボ12からの蒸発磁性材料のベ−スフィルム7への最小入射角θminを規制する最小入射角規制マスク9とが冷却キャンロール6に沿って固定して取り付けられており、且つ、冷却キャンロール6に沿って上流側に設けた最大入射角規制マスク8と冷却キャンロール6に沿って下流側に設けた最小入射角規制マスク9とは所定距離離れて取り付けられていると共に、両マスク8,9間に形成された開口部を開閉するためにシャッター10が両マスク8,9に沿いながら移動自在に設けられている。
【0008】
そして、ベ−スフィルム7が冷却キャンロール6に沿って走行している時に、シャッター10を矢印方向に移動して両マスク8,9間を開口すると、ピアス型電子銃13からの電子ビーム14によってルツボ12内の磁性材料11が溶融して蒸発し、両マスク8,9間に形成された開口部から蒸発磁性材料がベ−スフィルム7に付着することで、ベ−スフィルム7上に磁性膜が膜付けされる。この際、一般に最大入射角θmax=90゜、最小入射角θmin=40゜でベ−スフィルム7上に磁性膜を形成している。
【0009】
また、ピアス型電子銃13からの電子ビーム14の制御は、ピアス型電子銃13に取り付けた偏向マグネット15と、ルツボ12に近接して設置されて電子ビーム14の軌道で偏向磁界を印加する偏向マグネット16とにより行われている。また、電子ビーム14の照射位置はルツボ12の中央部で、ベ−スフィルム7の幅方向に所定の周期で走査され、ルツボ12内の磁性材料11を溶解し、蒸発させている。
【0010】
更に、シャッター10は、ルツボ12内の磁性材料11の温度が所定の状態になるまで最小入射角θminと最大入射角θmaxとの間に形成した口部の領域を遮蔽し、所定の温度状態に達し、蒸着が可能となるとシャッター10は矢印の方向に移動し、ベ−スフィルム7上に磁性膜が所定の膜厚で膜付けされる。上記したシャッター10は図8では冷却キャンロール6に沿って移動するタイプであるが、図9に示したようにルツボ12の上方にシャッター17を水平移動可能に設置し、このシャッター17で蒸発磁気材料を遮断する方法でも良い。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記した一般的な磁気記録媒体の製造装置では、ルツボ12内の磁性材料11が所定の温度状態に達して、シャッター10を開ける際に以下の問題が生じていた。
【0012】
即ち、電子ビーム14がCoなどの磁性材料に照射されると2次電子(後方散乱電子)が大量に発生し、両マスク8,9間の開口部よりベースフィルム7に到達する。この2次電子はベースフィルム7の表面に帯電し、静電気力によりベースフィルム7は冷却キャンロール6に密着する。この密着力は両マスク8,9間の開口部の面積が広い程、大きくなる。このため、シャッター10を開口する際は密着力がフィルム走行方向で、急激に変化して、不均一になり、ベースフィルム7上でのシワの発生原因となる。またベースフィルム7は溶融した磁性材料11からの輻射熱、蒸発磁性材料がベースフィルム7上で薄膜の磁性膜となる際の凝縮熱、到達2次電子による熱により加熱される。この際、冷却キャンロール6によりベースフィルム7は冷却されているが、ベースフィルム7の耐熱温度以下の範囲で、ベースフィルム7はシャッター10の開口時に温度が上昇し、開口面積が広くなると温度上昇は大きくなる。このため、シャッター10の開口時にはフィルム温度がフィルム走行方向で、急激に変化して、不均一になり、ベースフィルム7の熱収縮、熱膨張によりベースフィルム7上でのシワの発生原因となる。両マスク8,9間の開口部で発生したシワはシャッター10が所定の状態まで移動終了後も、一度発生したシワが原因で引き続き発生する。また膜付け過程でシワの発生がなくなる場合もあるが、既に巻き取ったベースフィルム7の表面には凸状の累積したシワがあり、開口部でシワの発生がなくなった後は、凸状の累積シワの上に巻かれるため、これが転写され、巻き出された際に転写シワとして残るなどの問題が生じている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題に鑑みてなされたたものであり、第1の発明は、ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールと所定の間隔を有して順次配置された第1入射角規制マスクと第2入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第1、第2入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロール巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、前記シャッターを調節して、前記開口部の一部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成した後、前記第1の磁性膜の製造開始時の前記第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、前記シャッターを再び調整して、前記開口部の全部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム上に第2の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【0014】
また、第2の発明は、ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールとの間に所定の間隔を有して順次配置された窓部を備えた第1入射角規制マスクと第2入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第1、第2入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロール巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、前記シャッターを調節して、前記開口部を露出させない状態にし、前記窓部から露出した前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成し、前記第1の磁性膜の製造開始時の前記第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達する時間経過後に、前記シャッターを調節して、前記開口部を全部露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記第1の磁性膜上に第2の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下に本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置の一実施形態を図1乃至図7を参照して<第1実施形態>,<第2実施形態>の順に詳細に説明する。
【0018】
<第1実施形態>
図1は本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部をシャッターで一部覆った状態を示した図、
図2は本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部を完全に開いた状態を示した図、
図3は本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第1実施形態の実施例1によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図、
図4は実施例1,実施例2,比較例1の結果を示した図である。
尚、説明の便宜上、先に示した構成部材と同一構成部材に対しては同一の符号を付して説明する。
【0019】
本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置では、先に説明した一般的な磁気記録媒体の製造装置を一部改良して、冷却キャンロール6に沿って取り付けた最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部の開口面積をシャッター10により調整可能に構成し、且つ、巻取り側の金属ガイドローラ5を接地(アース)している。
【0020】
図1に示した如く、第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置では斜方蒸着法を適用しており、真空槽1内で供給ロール2から送り出したベ−スフィルム7が供給側のガイドローラ4,回転転自在な冷却キャンロール6,接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール5を順次経て巻取りロール3に巻き取られている。上記した巻取り側の金属ガイドロール5は、後述するようにベ−スフィルム7上に膜付けした磁性膜の表面に帯電した電子を電気的にグランドに落とす接地手段である。
【0021】
一方、真空槽1内に酸素を導入した状態で、真空槽1の供給側の側壁に取り付けたピアス型電子銃13からの電子ビーム14は、冷却キャンロール6の下方に設置したルツボ12内のCoなどの磁性材料11を溶解し、蒸発磁性材料を冷却キャンロール6に向かって蒸発させている。
【0022】
また、冷却キャンロール6に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク8と、冷却キャンロール6に沿って下流側に取り付けた最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部には、シャッター10がこの開口部の開口面積を調節可能に設けられている。
【0023】
次に、上記のように構成した第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を用いてベ−スフィルム7上に磁性膜を膜付けする第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【0024】
まず、膜付け開始時に、冷却キャンロール6に沿って取り付けた最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部の開口面積が小さな開口面積Sとなるようにシャッター10を操作する。そして、ベ−スフィルム7を冷却キャンロール6に沿って矢印方向に連続走行させて、膜付け開始直後の僅かな期間中には、ルツボ12内から蒸発した蒸発磁性材料が上記小さな開口面積Sの部位だけを通過できるので、ベ−スフィルム7上に膜付け目標量となる所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされる。
【0025】
ここで、膜付け開始直後の僅かな期間中は、後述する実施例1ではベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達する期間であり、一方、後述する実施例2ではベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5の手前に到達する期間である。 そして、後述する実施例1では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム7上に100Å〜800Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、このベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達した後、巻取り側の金属ガイドロール5によって薄い磁性膜の表面に帯電した電子が電気的にグランドに落とされ、この後は常にベ−スフィルム7が巻取りロール3に巻き取られる途中で磁性膜の表面がグランドに落とされている。
【0026】
一方、後述する実施例2では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム7上に100Å〜400Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、この膜付け開始直後の僅かな期間中ではこのベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達していない。
【0027】
次に、後述する実施例1,2において、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後、ここで図2に示したように、シャッター10を全開させて、最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部を全て露出させているので、全開した開口部を通過した蒸発磁性材料によりベ−スフィルム7上に所定の膜厚の磁性膜が通常通りに膜付けされる。
【0028】
この後、後述する実施例1,2では、ベ−スフィルム7上に所定の膜厚で膜付けされた磁性膜の表面を巻取り側の金属ガイドロール5でグランドに落としている。
【0029】
(実施例1)
図1,図2に示した磁気記録媒体の製造装置で、直径1000mmの冷却キャンロール6を用いて、酸素を導入しながら長さ10000m、幅300mm、厚み6μmのPETフィルム(ベースフィルム)6を50m/minで冷却キャンロール6に沿って連続走行させて、酸素を導入しながらCoO膜(磁性膜)を所定の膜厚として略0.2μm膜付けした。この際に、従来のようなシャッター10の開口時から略0.2μmを直ちに膜付けせず、フィルム走行速度50m/minでCoO膜の膜厚が所定の膜厚より薄い膜厚XÅになるように図1に示すようにシャッター10を全開せず途中で停止し、開口部の開口面積Sにより磁性膜の膜厚を調整した。即ち、この実施例1では、ベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール5に到達する期間を、膜付け開始直後の僅かな期間として設定している。
【0030】
この際にCoO膜の蒸発速度は、シャッター10を全開、フィルム走行速度50m/minの条件下で、CoO膜が略0.2μm成膜される速度である。成膜長さは成膜した薄い膜厚XÅのCoO膜が冷却キャンロール6より離れ、PETフィルム7上の薄いCoO膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドローラ5に達成し、CoO膜の表面が電気的にグランドに落ちるまで行った。この後、シャッター10を図2に示すように全開し、略0.2μmのCoO膜を9000m成膜した。また、略0.2μmのCoO膜の成膜時の蒸発磁気材料の入射角は、初期最大入射角は90゜、最小入射角は40゜である。
【0031】
ここで、膜付け開始直後の僅かな期間ではベ−スフィルム7上に所定の膜厚よりも薄いCoO膜を膜付けした時の薄い膜厚XÅとして100Å,200Å,400Å,600Å,800Å,1000Å膜付けを行った。
【0032】
上記実施例1の膜付け状態を図3に示すと、膜付け開始直後の僅かな期間に、ベ−スフィルム7上に所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされ、この後、通常の膜付け期間となりベ−スフィルム7上に所定の膜厚で磁性膜が膜付けされている。
【0033】
(実施例2)
実施例1で、薄い膜厚で膜付けした初期のCoO膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドローラ5により電気的にグランドに落ちる前に、シャッター10を全開し、略0.2μmのCoO膜を9000m成膜した以外は同一条件で行った。即ち、この実施例2では、ベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール5の手前に到達する期間を、膜付け開始直後の僅かな期間して設定としている。
【0034】
(比較例1)
膜付け開始からシャッター10を全開し、略0.2μmのCoO膜を9000m成膜した以外は実施例1と同一条件で行った。
【0035】
上記した実施例1,2及び比較例1の結果を図4に示す。図4から明らかのように、比較例1ではシワが発生するが、実施例1では初期のCoO膜の膜厚が100Å〜800Åでは、シャッター10を部分開口した時及びシャッター10を全開した時にシワが発生していない。即ち、実施例1よりPETフィルム7上の薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール5を通過する際に、薄い磁性膜の表面をグランドに落とすことにより前記開口部での帯電量を減少させることができ、成膜時にシャッター10を全開する際のフィルム走行方向でのPETフィルム7の冷却キャンロール6への密着力及びPETフィルム7の温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなることが分かる。上記のことから、実施例1では初期のCoO膜の膜厚が100Å〜800Åになるような開口部の開口面積Sにシャッター10を調節すれば良いものである。
【0036】
また、実施例2では初期のCoO膜の膜厚が100Å〜400Åでは、シャッター10を部分開口した時及びシャッター10を全開した時にシワが発生していない。の実施例2では、膜付け開始直後の僅かな期間中にPETフィルム7上に膜付けした薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール5に到達しないものの、金属磁性膜が膜付けされているため、ヤング率が高くなっており、シャッター10を全開した時にPETフィルム7の急激な温度上昇を押さえることができると共に、温度の不均一が緩和されるためにPETフィルム7のシワの発生を防止できる。
【0037】
初期の膜厚が800Åまでの膜付けではPETフィルム7の温度上昇や帯電による密着力の走行方向の不均一によりシワが発生していなが、1000Åではシワが発生している点から、800Åでは、この膜付け直後にシャッター10を全開して0.2μmを膜付けする際にはシワの発生に関して厳しい状況にある。
【0038】
実施例1ではシャッター10を全開し、0.2μmを膜付けする際にはグランドに落ちているため、帯電量を減少させることができ、初期の膜厚が800Åではシワの発生に関して厳しい状況でも、0.2μm膜付け時にはシワは発生していない。
【0039】
実施例2ではシャッター10を全開し、0.2μmを膜付けする際にはグランドに落ちていないため、帯電量の不均一量が増加し、初期の膜厚が800Åではシワの発生に関して厳しい状況のため、0.2μm膜付け時にシワが発生している。初期の膜厚600Åでも同様にシワが発生し、初期の膜厚が400Åでは、初期の膜付け直後のシャッター全開時にはシワ発生に関して余裕があるため、0.2μm膜付け時にシワが発生していない。
【0040】
<第2実施形態>
図5は本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを閉じた状態を示した図、
図6は本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを開いた状態を示した図、
図7は本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第2実施形態の実施例1によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
尚、説明の便宜上、先に示した構成部材と同一構成部材に対しては同一の符号を付して説明する。
【0041】
本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置では、先に説明した一般的な磁気記録媒体の製造装置を一部改良して、冷却キャンロール6に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク8の下方の一部を僅かに開口して窓部8aを形成し、且つ、巻取り側の金属ガイドローラ5を接地(アース)している。
【0042】
図5に示した如く、第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置でも斜方蒸着法を適用しており、真空槽1内で供給ロール2から送り出したベ−スフィルム7が供給側のガイドローラ4,回転転自在な冷却キャンロール6,接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール5を順次経て巻取りロール3に巻き取られている。
【0043】
一方、真空槽1の供給側の側壁に取り付けたピアス型電子銃13からの電子ビーム14は、冷却キャンロール6の下方に設置したルツボ12内のCoなどの磁性材料11を溶解し、蒸発磁性材料を冷却キャンロール6に向かって蒸発させている。
【0044】
また、冷却キャンロール6に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク8の下方の一部を僅かに開口して窓部8aを形成し、ルツボ12内で蒸発した蒸発磁性材料のうちの一部が回り込んで窓部8a内に進入して、回り込んだ蒸発磁性材料によりベ−スフィルム7上に磁性膜を所定の膜厚より薄い膜厚で膜付けできるようになっている。
【0045】
次に、上記のように構成した第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を用いてベ−スフィルム7上に磁性膜を膜付けする第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【0046】
まず、図5に示した如く、膜付け開始時に冷却キャンロール6に沿って取り付けた最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部をシャッター10で閉じて、ベ−スフィルム7を冷却キャンロール6に沿って矢印方向に連続走行させさせながら、冷却キャンロール6の上流側に設置した最大入射角規制マスク8の窓部8aから回り込んだ蒸発磁性材料を進入させて、膜付け開始直後の僅かな期間にこの回り込んだ蒸発磁性材料によりベ−スフィルム7上に磁性膜が所定の膜厚より薄い膜厚でまず膜付けされる。
【0047】
ここで、第2実施形態の実施例1,2に対して先に説明した第1実施形態の実施例1,2にそれぞれ対応させて説明すると、第1実施形態と同様に、膜付け開始直後の僅かな期間中は、第2実施形態の実施例1ではベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達する期間であり、一方、第2実施形態の実施例2ではベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5の手前に到達する期間である。
【0048】
そして、実施例1では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム7上に100Å〜800Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、このベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達した後、巻取り側の金属ガイドロール5によって薄い磁性膜の表面に帯電した電子が電気的にグランドに落とされ、この後は常にベ−スフィルム7が巻取りロール3に巻き取られる途中で磁性膜の表面がグランドに落とされている。
【0049】
一方、実施例2では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム7上に100Å〜400Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、この膜付け開始直後の僅かな期間中ではこのベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達していない。
【0050】
次に、上記した実施例1,2において、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後、ここで図6に示したように、シャッター10を全開させて、最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部を全て露出させると共に、最大入射角規制マスク8の窓部8aが開いているため、窓部8aより下流に形成した開口部を通過した蒸発磁性材料によりベ−スフィルム7上の薄い磁性膜の上に更に磁性膜が所定の膜厚で通常通りに膜付けされる。この後、ベ−スフィルム7上に所定の膜厚で膜付けされた磁性膜の表面を巻取り側の金属ガイドロール5でグランドに落としている。
【0051】
上記実施例1の膜付け状態を図7に示すと、膜付け開始直後の僅かな期間にベ−スフィルム7上に所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされ、この状態でベ−スフィルム7上の薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール5を通過する際に、薄い磁性膜の表面を電気的にグランドに落とすことにより前記開口部での帯電量を減少させることができ、成膜時にシャッター10を全開する際のフィルム走行方向でのベ−スフィルム7の冷却キャンロール6への密着力及びベ−スフィルム7の温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなる。
【0052】
一方、実施例2では、膜付け開始直後の僅かな期間中にベ−スフィルム7上に膜付けした薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール5に到達しないものの、金属磁性膜が膜付けされているため、ヤング率が高くなっており、シャッター10を全開した時にベ−スフィルム7の急激な温度上昇を押さえることができると共に、温度の不均一が緩和されるためにベ−スフィルム7のシワの発生を防止できる。
【0053】
言い換えると、実施例1,2では、膜付け開始直後の僅かな期間に冷却キャンロール6の上流側でベースフィルム7上に磁性膜を所定の膜厚より薄い膜厚で膜付けし、且つ、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後に、冷却キャンロール6の上流側より下方の下流側でベースフィルム7上に薄い膜厚で膜付けした磁性膜の上に更に磁性膜を所定の膜厚で膜付けしている。
【0054】
尚、第2実施形態の実施例1,2の結果は、先に説明した図4を用いて説明した第1実施形態の実施例1,2と対応して同様の結果となるので、図示を省略する。
【0055】
この際、実施例1では初期の磁性膜の膜厚が100Å〜800Åに、実施例2では初期の磁性膜の膜厚が100Å〜400Åになるように最大入射角規制マスク8の窓部8aを形成すれば良いものである。
【0056】
【発明の効果】
本発明によれば、以上詳述した本発明に係る磁気記録媒体の製造方法おいて、請求項によると、磁性膜を厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜の製造開始時の第1の磁性膜の先端部位が接地された金属ガイドロールに到達する時間経過後に、第2の磁性膜を形成して得るので、磁性膜の帯電量を減少させることができるため、ベースフィルの冷却キャンロールへの密着力及びベースフィルの温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなり、磁気記録媒体の歩留まりを向上することができる。
【0057】
更に、請求項によると、磁性膜を、厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成しながら、第1の磁性膜の製造開始時の第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、第1の磁性膜上に第2の磁性膜を形成して得るので、請求項1と同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部をシャッターで一部覆った状態を示した図である。
【図2】本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部を完全に開いた状態を示した図である。
【図3】本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第1実施形態の実施例1によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
【図4】実施例1,実施例2,比較例1の結果を示した図である。
【図5】本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを閉じた状態を示した図である。
【図6】本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを開いた状態を示した図である。
【図7】本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第2実施形態の実施例1によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
【図8】斜方蒸着法を適用した一般的な磁気記録媒体の製造装置を示した図である。
【図9】一般的な磁気記録媒体の製造装置において、シャッターの変形例を説明するための図である。
【符号の説明】
1…真空槽、2…供給ロール、3…巻取りロール、
4…供給側のガイドローラ、5…巻取り側のガイドローラ(接地手段)、
6…冷却キャンロール、7…ベ−スフィルム(PETフィルム)、
8…最大入射角規制マスク、8a…窓部、9…最小入射角規制マスク、
10…シャッター、11…磁性材料、12…ルツボ、
13…ピアス型電子銃。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium to which oblique deposition is applied.InRelated.
[0002]
[Prior art]
In recent years, the recording density of magnetic tape has been rapidly increased. In this process, the magnetic tape has shifted to high-performance ones such as iron oxide tape, metal tape, and thin film magnetic tape having high coercive force and high magnetic flux density. As an application of this magnetic tape, in the field of VTR (video tape recorder), in order to achieve digitalization and high definition, a thin film magnetic tape is particularly attracting attention.
[0003]
As this thin film magnetic tape, a so-called vapor-deposited magnetic tape in which a magnetic film is formed by an oblique vapor deposition method has been put into practical use. Specifically, a pierce-type electron gun is used in a vacuum, and an electron beam emitted from the pierce-type electron gun is irradiated to a magnetic material such as Co or CoNi in the crucible, so that these Co, CoNi, etc. Manufactured by forming a magnetic film made of CoO, CoNiO, etc. on a base film such as PET, PEN, PI (polyimide), PA (aramid), etc., while melting and evaporating the magnetic material and introducing oxygen. The
[0004]
FIG. 8 is a diagram showing a general magnetic recording medium manufacturing apparatus to which oblique vapor deposition is applied,
FIG. 9 is a diagram for explaining a modified example of a shutter in a general magnetic recording medium manufacturing apparatus.
[0005]
In the general magnetic recording medium manufacturing apparatus shown in FIG. 8, a supply roll 2, a take-up roll 3, a supply-side metal guide roller 4, a take-up-side metal guide roller 5, and cooling are provided in a vacuum chamber 1. A can roll 6 is arranged. The base film 7 fed out from the supply roll 2 continuously travels along the cooling can roll 6 in the direction of the arrow in the figure, and passes along the cooling can roll 6 that is rotatable through the guide roller 4 on the supply side. Furthermore, it is wound around the winding roll 3 through the metal guide roll 5 on the winding side. At this time, a cooler (not shown) is built in the rotatable cooling can roll 6 to prevent deformation of the base film 7 due to a temperature rise during vapor deposition on the base film 7. is doing.
[0006]
A crucible 12 containing a magnetic material 11 such as Co is disposed below the cooling can roll 6. The magnetic material 11 is melted on the supply side wall of the vacuum chamber 1 to evaporate the magnetic material. For example, a pierce-type electron gun 13 is installed obliquely downward as a heater for evaporating water.
[0007]
Further, a maximum incident angle restriction mask 8 for restricting the maximum incident angle θmax of the evaporated magnetic material from the crucible 12 to the base film 7, and a minimum incident angle of the evaporated magnetic material from the crucible 12 to the base film 7. A minimum incident angle regulating mask 9 that regulates θmin is fixedly attached along the cooling can roll 6, and the maximum incident angle regulating mask 8 provided on the upstream side along the cooling can roll 6 and the cooling can roll. Along with the minimum incident angle restriction mask 9 provided on the downstream side along the roll 6, the mask 10 is attached at a predetermined distance, and the shutter 10 is used to open and close the opening formed between the masks 8 and 9. 8 and 9 are provided so as to be movable.
[0008]
When the base film 7 is traveling along the cooling can roll 6, if the shutter 10 is moved in the direction of the arrow to open between the masks 8 and 9, the electron beam 14 from the pierce-type electron gun 13 is obtained. As a result, the magnetic material 11 in the crucible 12 melts and evaporates, and the evaporated magnetic material adheres to the base film 7 from the opening formed between the masks 8 and 9. A magnetic film is deposited. At this time, the magnetic film is generally formed on the base film 7 with the maximum incident angle θmax = 90 ° and the minimum incident angle θmin = 40 °.
[0009]
The electron beam 14 from the pierce-type electron gun 13 is controlled by a deflection magnet 15 attached to the pierce-type electron gun 13 and a deflection magnet installed near the crucible 12 and applying a deflection magnetic field in the trajectory of the electron beam 14. This is performed by the magnet 16. The irradiation position of the electron beam 14 is scanned at a predetermined period in the width direction of the base film 7 at the center of the crucible 12, and the magnetic material 11 in the crucible 12 is dissolved and evaporated.
[0010]
Further, the shutter 10 shields the region of the mouth formed between the minimum incident angle θmin and the maximum incident angle θmax until the temperature of the magnetic material 11 in the crucible 12 reaches a predetermined state, so that the predetermined temperature state is obtained. When the vapor deposition is possible, the shutter 10 moves in the direction of the arrow, and a magnetic film is deposited on the base film 7 with a predetermined thickness. The shutter 10 described above is of the type that moves along the cooling can roll 6 in FIG. 8, but as shown in FIG. 9, a shutter 17 is installed above the crucible 12 so as to be horizontally movable. A method of blocking the material may be used.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in the above-described general magnetic recording medium manufacturing apparatus, when the magnetic material 11 in the crucible 12 reaches a predetermined temperature state and the shutter 10 is opened, the following problems occur.
[0012]
That is, when the electron beam 14 is irradiated onto a magnetic material such as Co, a large amount of secondary electrons (backscattered electrons) are generated and reach the base film 7 through the opening between the masks 8 and 9. The secondary electrons are charged on the surface of the base film 7, and the base film 7 comes into close contact with the cooling can roll 6 by electrostatic force. This adhesion force increases as the area of the opening between the masks 8 and 9 increases. For this reason, when the shutter 10 is opened, the adhesion force changes suddenly in the film running direction and becomes non-uniform, which causes generation of wrinkles on the base film 7. The base film 7 is heated by radiant heat from the melted magnetic material 11, heat of condensation when the evaporated magnetic material becomes a thin magnetic film on the base film 7, and heat from reaching secondary electrons. At this time, the base film 7 is cooled by the cooling can roll 6, but the temperature of the base film 7 rises when the shutter 10 is opened within the range of the heat resistance temperature of the base film 7, and the temperature rises when the opening area is widened. Becomes bigger. For this reason, when the shutter 10 is opened, the film temperature changes abruptly in the film traveling direction and becomes non-uniform, which causes wrinkles on the base film 7 due to thermal contraction and thermal expansion of the base film 7. The wrinkles generated at the opening between the masks 8 and 9 continue to be generated due to the wrinkles once generated even after the shutter 10 has been moved to a predetermined state. In addition, the generation of wrinkles may be eliminated during the filming process, but the surface of the base film 7 that has already been wound has convex wrinkles, and after the generation of wrinkles at the openings, Since it is wound on the cumulative wrinkle, there is a problem that it is transferred and left as a transfer wrinkle when unwound.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
  The present invention has been made in view of the above problems, and the first invention isA supply roll that feeds out the base film, a cooling can roll that travels the base film fed from the supply roll along the circumference, and a base film that travels on the cooling can roll while being kept at ground potential. A metal guide roll, a winding roll that winds up the base film that has traveled the metal guide roll, and a traveling direction of the base film of the cooling can roll, and has a predetermined distance from the cooling can roll. The opening area of the opening formed between the first incident angle restricting mask and the second incident angle restricting mask which are sequentially arranged, and the first and second incident angle restricting masks provided along the cooling can roll. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: a shutter for adjusting the magnetic field; and an electron gun for melting a magnetic material housed in the crucible. There, theSent from the supply rollSaidBase filmSaidCooling can rollCircumferenceRun alongEvaporating the magnetic material by an electron beam emitted from the electron gun;Magnetic film on the base filmAfter forming, through the metal guide rollWinding rollsoIn the method of manufacturing a magnetic recording medium to be wound,
  The magnetic film adjusts the shutter to expose a part of the opening, and evaporates the magnetic material by the electron beam on the base film to form a first film having a thickness of 100 to 800 mm. After the magnetic film is formed, the shutter is adjusted again after a lapse of time until the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacturing the first magnetic film, It is obtained by forming a second magnetic film on the base film by exposing the entire opening and evaporating the magnetic material by the electron beam on the base film.A method of manufacturing a magnetic recording medium.
[0014]
  In addition, the second invention,A supply roll that feeds out the base film, a cooling can roll that travels the base film fed from the supply roll along the circumference, and a base film that travels on the cooling can roll while being kept at ground potential. A predetermined distance is provided between the metal guide roll, the winding roll that winds the base film that has traveled the metal guide roll, and the cooling can roll along the traveling direction of the base film of the cooling can roll. And a first incident angle restriction mask and a second incident angle restriction mask provided with sequentially arranged windows, and the first and second incident angle restriction masks provided along the cooling can roll. Magnetic recording device comprising a shutter for adjusting the opening area of the formed opening and an electron gun for melting the magnetic material housed in the crucible. Using the manufacturing apparatus of the medium, theSent from the supply rollSaidBase filmSaidCooling can rollCircumferenceRun alongEvaporating the magnetic material by an electron beam emitted from the electron gun;Magnetic film on the base filmAfter forming, through the metal guide rollWinding rollsoIn the method of manufacturing a magnetic recording medium to be wound,
  The magnetic film adjusts the shutter so as not to expose the opening, and evaporates the magnetic material by the electron beam on the base film exposed from the window, and has a thickness of 100 to 800 mm. The first magnetic film is formed, and after the time that the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacture of the first magnetic film, the shutter is adjusted to adjust the opening. And the second magnetic film is formed on the first magnetic film by evaporating the magnetic material with the electron beam on the base film.A method of manufacturing a magnetic recording medium.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of a magnetic recording medium manufacturing method and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention will be described in detail in the order of <first embodiment> and <second embodiment> with reference to FIGS. explain.
[0018]
<First Embodiment>
FIG. 1 is a diagram for explaining a magnetic recording medium manufacturing method according to a first embodiment and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention, and a maximum incident angle restricting mask and a minimum incident angle restricting mask. The figure which showed the state which covered a part of opening part between with a shutter,
FIG. 2 is a view for explaining the magnetic recording medium manufacturing method according to the first embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. The figure which showed the state which opened completely the opening part between,
FIG. 3 is a diagram for explaining a state in which a magnetic film is formed on a base film according to Example 1 of the first embodiment by applying the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 4 is a diagram showing the results of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1.
For convenience of explanation, the same reference numerals are given to the same constituent members as those shown above.
[0019]
In the magnetic recording medium manufacturing method of the first embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the first embodiment according to the present invention, the general magnetic recording medium manufacturing apparatus described above is partially improved and cooled. The opening area of the opening formed between the maximum incident angle restricting mask 8 and the minimum incident angle restricting mask 9 attached along the can roll 6 is configured to be adjustable by the shutter 10, and the winding side metal The guide roller 5 is grounded.
[0020]
As shown in FIG. 1, the oblique recording method is applied to the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the first embodiment, and the base film 7 fed from the supply roll 2 in the vacuum chamber 1 is a supply-side guide. The roller 4 is wound around the winding roll 3 through a winding roller 3 which can rotate and roll, and a metal guide roll 5 on the winding side which is grounded. The winding-side metal guide roll 5 described above is a grounding means for electrically dropping electrons charged on the surface of the magnetic film formed on the base film 7 to the ground as will be described later.
[0021]
On the other hand, in a state where oxygen is introduced into the vacuum chamber 1, the electron beam 14 from the pierce-type electron gun 13 attached to the supply side wall of the vacuum chamber 1 passes through the crucible 12 installed below the cooling can roll 6. The magnetic material 11 such as Co is dissolved, and the evaporated magnetic material is evaporated toward the cooling can roll 6.
[0022]
Further, in an opening formed between the maximum incident angle restriction mask 8 attached upstream along the cooling can roll 6 and the minimum incident angle restriction mask 9 attached downstream along the cooling can roll 6. The shutter 10 is provided so that the opening area of the opening can be adjusted.
[0023]
Next, a method of manufacturing the magnetic recording medium according to the first embodiment in which a magnetic film is formed on the base film 7 using the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment configured as described above will be described. .
[0024]
First, at the start of film formation, the opening area of the opening formed between the maximum incident angle restriction mask 8 and the minimum incident angle restriction mask 9 attached along the cooling can roll 6 is set to a small opening area S. The shutter 10 is operated. Then, the base film 7 is continuously run along the cooling can roll 6 in the direction of the arrow, and during a short period immediately after the start of film formation, the evaporated magnetic material evaporated from the crucible 12 has the small opening area S. Therefore, a magnetic film thinner than a predetermined film thickness, which is the target film deposition amount, is deposited on the base film 7.
[0025]
Here, during a short period immediately after the start of film deposition, in the first embodiment to be described later, the winding-side metal guide roll in which the leading portion of the thin magnetic film deposited on the base film 7 is grounded (grounded). (Grounding means) 5 is a period of time to reach 5 and, on the other hand, in Example 2 to be described later, the winding side metal guide roll in which the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 is grounded. (Grounding means) This is a period of time before reaching 5. In Example 1 to be described later, a thin magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm is formed on the base film 7 during a short period immediately after the start of filming. After the leading portion of the thin magnetic film formed reaches the winding-side metal guide roll (grounding means) 5 that is grounded (grounded), the surface of the thin magnetic film is charged by the winding-side metal guide roll 5. The electrons are electrically dropped to the ground, and thereafter, the surface of the magnetic film is always dropped to the ground while the base film 7 is being wound around the winding roll 3.
[0026]
On the other hand, in Example 2, which will be described later, a thin magnetic film with a thickness of 100 to 400 mm is formed on the base film 7 during a short period immediately after the start of film formation. During the period, the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 does not reach the winding-side metal guide roll (grounding means) 5 that is grounded.
[0027]
Next, in Examples 1 and 2 described later, after a lapse of a short period immediately after the start of film deposition, the shutter 10 is fully opened, as shown in FIG. Since all the openings formed between the incident angle restricting mask 9 are exposed, the magnetic film having a predetermined film thickness is normally formed on the base film 7 by the evaporated magnetic material that has passed through the fully opened openings. It is filmed.
[0028]
Thereafter, in Examples 1 and 2 to be described later, the surface of the magnetic film formed with a predetermined film thickness on the base film 7 is dropped to the ground by the metal guide roll 5 on the winding side.
[0029]
Example 1
1 and 2, a PET film (base film) 6 having a length of 10000 m, a width of 300 mm, and a thickness of 6 μm is introduced while introducing oxygen using a cooling can roll 6 having a diameter of 1000 mm. The film was continuously run along the cooling can roll 6 at 50 m / min, and a CoO film (magnetic film) was formed to a predetermined film thickness of approximately 0.2 μm while introducing oxygen. At this time, a film of about 0.2 μm is not immediately formed from the time of opening of the shutter 10 as in the prior art, and the film thickness of the CoO film is less than a predetermined film thickness XÅ at a film traveling speed of 50 m / min. As shown in FIG. 1, the shutter 10 was stopped halfway without being fully opened, and the film thickness of the magnetic film was adjusted by the opening area S of the opening. That is, in the first embodiment, a period in which the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 reaches the winding-side metal guide roll 5 that is grounded (grounded) is a period immediately after the start of film formation. A short period is set.
[0030]
At this time, the evaporation speed of the CoO film is a speed at which the CoO film is formed to be approximately 0.2 μm under the condition that the shutter 10 is fully opened and the film traveling speed is 50 m / min. The film thickness of the CoO film having a thin film thickness XÅ is separated from the cooling can roll 6, and the leading portion of the thin CoO film on the PET film 7 is achieved by the metal guide roller 5 on the winding side. This was done until the surface electrically fell to ground. Thereafter, the shutter 10 was fully opened as shown in FIG. 2, and a CoO film having a thickness of about 0.2 μm was formed to 9000 m. In addition, the incident angle of the evaporated magnetic material when forming the CoO film of about 0.2 μm is 90 ° for the initial maximum incident angle and 40 ° for the minimum incident angle.
[0031]
  Here, in a short period of time immediately after the start of film formation, a thin film thickness XÅ when a CoO film thinner than a predetermined film thickness is formed on the base film 7 is 100 mm, 200 mm, 400 mm, 600 mm, 800 mm, 1000 mm.soFilming was performed.
[0032]
When the film application state of Example 1 is shown in FIG. 3, a magnetic film thinner than a predetermined film thickness is formed on the base film 7 in a short period immediately after the start of film application. The magnetic film is formed on the base film 7 with a predetermined film thickness.
[0033]
(Example 2)
In Example 1, the shutter 10 is fully opened before the leading portion of the initial CoO film deposited with a thin film thickness is electrically dropped to the ground by the metal guide roller 5 on the winding side, and the CoO of about 0.2 μm is formed. The film was formed under the same conditions except that a film of 9000 m was formed. That is, in the second embodiment, during the period in which the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 reaches before the metal guide roll 5 on the winding side that is grounded (grounded), the film formation starts. It is set for a short period immediately after.
[0034]
(Comparative Example 1)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the shutter 10 was fully opened from the start of film formation and a CoO film of approximately 0.2 μm was formed to 9000 m.
[0035]
The results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 are shown in FIG. As apparent from FIG. 4, wrinkles occur in Comparative Example 1, but in Example 1, when the initial CoO film thickness is 100 to 800 mm, the wrinkles are generated when the shutter 10 is partially opened and when the shutter 10 is fully opened. Has not occurred. That is, when the leading portion of the thin magnetic film on the PET film 7 from Example 1 passes through the metal guide roll 5 on the winding side, the charge amount at the opening is reduced by dropping the surface of the thin magnetic film to the ground. Wrinkles are generated due to the abrupt change in the adhesion of the PET film 7 to the cooling can roll 6 and the temperature of the PET film 7 in the film running direction when the shutter 10 is fully opened during film formation. It turns out that it becomes difficult to do. From the above, in Example 1, the shutter 10 may be adjusted to the opening area S of the opening so that the initial thickness of the CoO film is 100 to 800 mm.
[0036]
  In Example 2, when the initial thickness of the CoO film is 100 to 400 mm, no wrinkle is generated when the shutter 10 is partially opened and when the shutter 10 is fully opened.ThisIn Example 2, although the leading portion of the thin magnetic film formed on the PET film 7 does not reach the winding-side metal guide roll 5 during a short period immediately after the start of film formation, the metal magnetic film is formed on the film. Therefore, the Young's modulus is high, and when the shutter 10 is fully opened, the rapid temperature rise of the PET film 7 can be suppressed, and the unevenness of temperature is alleviated. Occurrence can be prevented.
[0037]
  When the initial film thickness is up to 800 mm, wrinkles are not generated due to the temperature increase of the PET film 7 or unevenness in the running direction of the adhesion due to charging.NoHowever, since wrinkles are generated at 1000 mm, at 800 mm, when the shutter 10 is fully opened immediately after film formation and 0.2 μm film is formed, there is a severe situation regarding the generation of wrinkles.
[0038]
In Example 1, since the shutter 10 is fully opened and the film is deposited to a thickness of 0.2 μm, it falls to the ground, so the amount of charge can be reduced. Even when the initial film thickness is 800 mm, wrinkle generation is severe. No wrinkles were generated when 0.2 μm film was applied.
[0039]
In Example 2, when the shutter 10 is fully opened and 0.2 μm is deposited, it does not fall to the ground, so the amount of charge unevenness increases, and when the initial film thickness is 800 mm, the situation is severe with respect to wrinkles. Therefore, wrinkles are generated when a 0.2 μm film is formed. Wrinkles are similarly generated even at an initial film thickness of 600 mm, and when the initial film thickness is 400 mm, there is a margin for the generation of wrinkles when the shutter is fully opened immediately after the initial film formation, so no wrinkles are generated when a 0.2 μm film is formed. .
[0040]
Second Embodiment
FIG. 5 is a view for explaining the magnetic recording medium manufacturing method according to the second embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. The figure which formed the state and showed the state which closed the shutter,
FIG. 6 is a view for explaining the magnetic recording medium manufacturing method according to the second embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. The figure which formed the state and showed the state which opened the shutter,
FIG. 7 is a diagram for explaining a state in which a magnetic film is formed on a base film according to Example 1 of the second embodiment by applying the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the second embodiment according to the present invention. is there.
For convenience of explanation, the same reference numerals are given to the same constituent members as those shown above.
[0041]
In the magnetic recording medium manufacturing method of the second embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the second embodiment according to the present invention, the general magnetic recording medium manufacturing apparatus described above is partially improved and cooled. A window 8a is formed by slightly opening a portion below the maximum incident angle restriction mask 8 attached upstream along the can roll 6, and the metal guide roller 5 on the winding side is grounded (earth). is doing.
[0042]
As shown in FIG. 5, the oblique vapor deposition method is also applied to the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the second embodiment, and the base film 7 fed from the supply roll 2 in the vacuum chamber 1 is the supply side guide. The roller 4 is wound around the winding roll 3 through a winding roller 3 which can rotate and roll, and a metal guide roll 5 on the winding side which is grounded.
[0043]
On the other hand, the electron beam 14 from the pierce-type electron gun 13 attached to the supply side wall of the vacuum chamber 1 dissolves the magnetic material 11 such as Co in the crucible 12 installed below the cooling can roll 6 to evaporate magnetism. The material is evaporated toward the cooling can roll 6.
[0044]
Of the evaporated magnetic material evaporated in the crucible 12, the window 8 a is formed by slightly opening a part below the maximum incident angle restriction mask 8 attached upstream along the cooling can roll 6. A part of the magnetic film enters the window portion 8a, and the magnetic film can be deposited on the base film 7 with a film thickness smaller than a predetermined film thickness by the evaporated magnetic material.
[0045]
Next, a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the second embodiment in which a magnetic film is formed on the base film 7 using the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment configured as described above will be described. .
[0046]
First, as shown in FIG. 5, the opening formed between the maximum incident angle restriction mask 8 and the minimum incident angle restriction mask 9 attached along the cooling can roll 6 at the start of film formation is closed by the shutter 10. The evaporative magnetic material wraps around from the window portion 8a of the maximum incident angle regulating mask 8 installed on the upstream side of the cooling can roll 6 while continuously moving the base film 7 along the cooling can roll 6 in the direction of the arrow. In a short period immediately after the start of film deposition, the magnetic film is first deposited on the base film 7 with a film thickness smaller than a predetermined film thickness by the evaporated magnetic material.
[0047]
Here, when describing the first and second embodiments corresponding to the first and second embodiments described above with respect to the first and second embodiments, as in the first embodiment, immediately after the start of film deposition. During a short period of time, in Example 1 of the second embodiment, the winding-side metal guide roll (grounding means) in which the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 is grounded (grounded) On the other hand, in Example 2 of the second embodiment, on the winding side metal guide roll (the ground portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 is grounded) This is a period of time before reaching the grounding means 5.
[0048]
In Example 1, a thin magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm is formed on the base film 7 during a short period immediately after the start of film formation, and the film is formed on the base film 7. After the leading portion of the thin magnetic film reaches the winding-side metal guide roll (grounding means) 5 that is grounded (grounded), electrons charged on the surface of the thin magnetic film by the winding-side metal guide roll 5 The surface of the magnetic film is dropped to the ground while the base film 7 is always wound around the winding roll 3.
[0049]
On the other hand, in Example 2, a thin magnetic film with a film thickness of 100 to 400 mm was formed on the base film 7 during a short period immediately after the start of film formation, and during a short period immediately after the start of film formation. Then, the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 does not reach the winding-side metal guide roll (grounding means) 5 that is grounded.
[0050]
Next, in Examples 1 and 2 described above, after a short period immediately after the start of film deposition, as shown in FIG. 6, the shutter 10 is fully opened, and the maximum incident angle restriction mask 8 and the minimum All the openings formed between the incident angle restriction mask 9 are exposed and the window 8a of the maximum incident angle restriction mask 8 is open, so that the evaporation that has passed through the opening formed downstream from the window 8a. A magnetic film is further formed on the thin magnetic film on the base film 7 by a magnetic material as usual with a predetermined film thickness. Thereafter, the surface of the magnetic film formed with a predetermined film thickness on the base film 7 is dropped to the ground by the metal guide roll 5 on the winding side.
[0051]
FIG. 7 shows the state of film formation in Example 1 described above. A magnetic film thinner than a predetermined film thickness is formed on the base film 7 in a short period immediately after the start of film formation. When the leading portion of the thin magnetic film on the film 7 passes through the metal guide roll 5 on the winding side, the charge amount at the opening is reduced by electrically dropping the surface of the thin magnetic film to the ground. The film is wrinkled against a rapid change in the adhesion force of the base film 7 to the cooling can roll 6 and the temperature of the base film 7 when the shutter 10 is fully opened during film formation. Less likely to occur.
[0052]
On the other hand, in Example 2, although the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 does not reach the winding-side metal guide roll 5 during a short period immediately after the start of film formation, the metal magnetic film Since the film is attached, the Young's modulus is high, and when the shutter 10 is fully opened, the rapid temperature rise of the base film 7 can be suppressed and the unevenness of temperature is alleviated. -Generation | occurrence | production of the wrinkle of the film 7 can be prevented.
[0053]
In other words, in Examples 1 and 2, the magnetic film is deposited on the base film 7 on the upstream side of the cooling can roll 6 in a short period immediately after the start of film deposition, with a film thickness smaller than a predetermined film thickness, and After a short period immediately after the start of film formation, a predetermined film is further formed on the magnetic film formed on the base film 7 with a thin film thickness on the downstream side below the upstream side of the cooling can roll 6. It is coated with a thickness.
[0054]
The results of Examples 1 and 2 of the second embodiment are similar to the results of Examples 1 and 2 of the first embodiment described with reference to FIG. Omitted.
[0055]
At this time, the window portion 8a of the maximum incident angle restricting mask 8 is set so that the initial magnetic film thickness is 100 to 800 mm in Example 1 and the initial magnetic film thickness is 100 to 400 mm in Example 2. What is necessary is just to form.
[0056]
【The invention's effect】
  According to the present invention, the method of manufacturing the magnetic recording medium according to the present invention described in detail above.InClaim1according to,The second magnetic film is formed after a lapse of time until the tip portion of the first magnetic film reaches the grounded metal guide roll at the start of manufacturing the first magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm. Because you getCan reduce the amount of charge on the magnetic filmBecauseBase fillMuAdhesive strength to the cooling can roll and base fillMuThus, wrinkles are less likely to occur due to a sudden change in temperature, and the yield of magnetic recording media can be improved.
[0057]
  Further claims2according to,While the first magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm is formed as the magnetic film, the time elapses until the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacturing the first magnetic film. Since the second magnetic film is formed on the first magnetic film later,Similar effectcan get.
[Brief description of the drawings]
BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a diagram for explaining a magnetic recording medium manufacturing method according to a first embodiment and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. It is the figure which showed the state which partially covered the opening part between masks with the shutter.
FIGS. 2A and 2B are diagrams for explaining the magnetic recording medium manufacturing method according to the first embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment, and are a maximum incident angle restriction mask and a minimum incident angle restriction; FIGS. It is the figure which showed the state which opened the opening part between masks completely.
FIG. 3 is a diagram for explaining a state in which a magnetic film is formed on a base film according to Example 1 of the first embodiment by applying the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the first embodiment according to the present invention. It is.
4 is a graph showing the results of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1. FIG.
FIG. 5 is a view for explaining a magnetic recording medium manufacturing method according to a second embodiment and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. It is the figure which showed the state which formed the part and closed the shutter.
FIG. 6 is a view for explaining a magnetic recording medium manufacturing method according to a second embodiment and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention; It is the figure which showed the state which formed the part and opened the shutter.
FIG. 7 is a diagram for explaining a state in which a magnetic film is formed on a base film according to Example 1 of the second embodiment by applying the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the second embodiment according to the present invention. It is.
FIG. 8 is a diagram showing a general magnetic recording medium manufacturing apparatus to which oblique vapor deposition is applied.
FIG. 9 is a diagram for explaining a modified example of a shutter in a general magnetic recording medium manufacturing apparatus.
[Explanation of symbols]
1 ... Vacuum tank, 2 ... Supply roll, 3 ... Winding roll,
4 ... Guide roller on the supply side, 5 ... Guide roller on the take-up side (grounding means),
6 ... Cooling can roll, 7 ... Base film (PET film),
8 ... Maximum incident angle regulating mask, 8a ... Window, 9 ... Minimum incident angle regulating mask,
10 ... shutter, 11 ... magnetic material, 12 ... crucible,
13 ... Piercing electron gun.

Claims (2)

ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールと所定の間隔を有して順次配置された第1入射角規制マスクと第2入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第1、第2入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロール巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、
前記シャッターを調節して、前記開口部の一部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成した後、前記第1の磁性膜の製造開始時の前記第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、前記シャッターを再び調整して、前記開口部の全部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム上に第2の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
A supply roll that feeds out the base film, a cooling can roll that travels the base film fed from the supply roll along the circumference, and a base film that travels on the cooling can roll while being kept at ground potential. A metal guide roll, a winding roll that winds up the base film that has traveled the metal guide roll, and a traveling direction of the base film of the cooling can roll, and has a predetermined distance from the cooling can roll. The opening area of the opening formed between the first incident angle restricting mask and the second incident angle restricting mask which are sequentially arranged, and the first and second incident angle restricting masks provided along the cooling can roll. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: a shutter for adjusting the magnetic field; and an electron gun for melting a magnetic material housed in the crucible. There, the base film fed from the supply roll to run along the circumference of the cooling can roll, wherein evaporated the magnetic material by the electron beam emitted from an electron gun, a magnetic layer on the base film After forming, in the method for manufacturing a magnetic recording medium wound up by the winding roll through the metal guide roll ,
The magnetic film is
The shutter was adjusted to expose a part of the opening, and the magnetic material was evaporated by the electron beam on the base film to form a first magnetic film having a thickness of 100 mm to 800 mm. Thereafter, after the elapse of time until the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacture of the first magnetic film, the shutter is adjusted again so that the entire opening is the state of being exposed, said by electron beam evaporation of the magnetic material to the base film, manufacturing a magnetic recording medium characterized Rukoto obtained by forming a second magnetic layer on the base film Method.
ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールとの間に所定の間隔を有して順次配置された窓部を備えた第1入射角規制マスクと第2入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第1、第2入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロール巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、
前記シャッターを調節して、前記開口部を露出させない状態にし、前記窓部から露出した前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成し、前記第1の磁性膜の製造開始時の前記第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達する時間経過後に、前記シャッターを調節して、前記開口部を全部露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記第1の磁性膜上に第2の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
A supply roll that feeds out the base film, a cooling can roll that travels the base film fed from the supply roll along the circumference, and a base film that travels on the cooling can roll while being kept at ground potential. A predetermined distance is provided between the metal guide roll, the winding roll that winds the base film that has traveled the metal guide roll, and the cooling can roll along the traveling direction of the base film of the cooling can roll. And a first incident angle restriction mask and a second incident angle restriction mask provided with sequentially arranged windows, and the first and second incident angle restriction masks provided along the cooling can roll. Magnetic recording device comprising a shutter for adjusting the opening area of the formed opening and an electron gun for melting the magnetic material housed in the crucible. Using the manufacturing apparatus of the medium, the base film fed from the supply roll to run along the circumference of the cooling can roll, evaporate the magnetic material by the electron beam emitted from the electron gun, the base film In the method of manufacturing a magnetic recording medium, after forming a magnetic film on the winding film, the winding roll is wound through the metal guide roll .
The magnetic film is
The shutter is adjusted so that the opening is not exposed, and the magnetic material is evaporated by the electron beam on the base film exposed from the window, so that a first magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm is obtained. After the elapse of time when the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacturing the first magnetic film, the shutter is adjusted to expose all the openings. and the state, said base film by the electron beam on the evaporation of the magnetic material, the magnetic recording medium characterized obtain isosamples forming a second magnetic layer on the first magnetic layer Production method.
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