JP4025017B2 - 粒子検出システム - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気インピーダンス測定技術と粒子からの蛍光の測定技術とを組み合わせたタイプの粒子検出器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
狭いオリフィスを通して粒子を挿通させその場合のオリフィスにわたってのインピーダンス変化を検出することによって、試料内の、例えば血球やイースト細胞といったような粒子を検出することが、公知である。加えて、適切な蛍光剤でもって試料を染色しすなわち着色し、その後、基本周波数のレーザー光といったような適切な光源でもって粒子を光照射し、さらに、粒子から発光される蛍光信号によって粒子の性質を検出することが、公知である。
【０００３】
しかしながら、それら公知のシステムは、非常に複雑であり、コスト高のものであり、絶え間ない調整を必要とするものであり、さらに、検出可能な最小粒子サイズには制限がある。本発明の目的は、粒子サイズに関する制限を改良すること、および、蛍光による粒子検出システムを改良することである。特に、本発明は、比較的小さな直径のオリフィスを使用可能として小さなサイズにまでの正確な粒子サイズ測定を可能とすること、しかもこれと同時に、蛍光検出を可能とし、オリフィスのところで起こりかねない詰まり（閉塞）を防止すること、を追求する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明のある見地においては、インピーダンス測定と蛍光測定とを組み合わせたタイプの粒子検出システムであって、
第１チャンバおよび第２チャンバを隔離するためのものであるとともに、両チャンバの間にわたっての液体試料の移動を可能とするための小さなオリフィス、好ましくは直径が１５０μｍ未満の小さなオリフィスを有したプレートと、
液体試料内の粒子のオリフィスを通っての移動に基づくオリフィスのところでのインピーダンス変化を決定するための手段と、
オリフィス内のまたはオリフィスの近傍の粒子に対して光照射するための光源と、
粒子から放射された放射光を受領するための検出器と、
を具備したシステムが提供される。
【０００５】
好ましくは、システムからプレートを取り外すことなくオリフィスをクリア（クリーニング）するための手段、および／または、オリフィスの詰まりを検出するための手段、が設けられる。他の好ましい特徴点は、従属請求項および以下の説明により与えられる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態につき、添付図面を参照しつつ、単なる例示のためのものとして、説明する。
【０００７】
図１には、本発明による、インピーダンス測定と蛍光測定とを組み合わせたタイプの粒子検出器１０の一部が示されている。粒子検出システム１０は、主ハウジング１２を具備している。主ハウジング１２からは、試料ハウジングチャンバ１４が突出しており、この試料ハウジングチャンバ１４は、シールド１５内に収容されている。シールド１５は、入口１６を備えている。この入口１６を通って、試料は、図４に示す第１チャンバ５２内へと流入する。シールド１５およびハウジング１４は、好ましくは光増倍管とすることができる後述の光検出器１１４を受領するための開口部を有している。加えて、桿体用ガイド部材１８が、ハウジング１２から突出している。桿体用ガイド部材１８は、ハンドヘルド式桿体２６のノズル２４を入口１６に対して位置合わせさせ得るような鉛直方向グルーブ２０を有している。ハンドヘルド式桿体２６は、さらに、着脱可能な先端部２８と、ボタン３０と、流体流入パイプ３２と、電気接続ライン３４と、を有している。図２に示しように、桿体用ガイド部材１８は、桿体ノズル２４がグルーブ２０内において適正位置にあるかどうかを決定するために、例えば光学式検出器といったような一対の検出器２２を有している。
【０００８】
図３には、装置１０において使用される流体制御システム３６が概略的に図示されている。流体制御システム３６においては、例えば３リットルの電解質を収容できるような希釈剤リザーバ３８が、１つの経路においては、３方バルブ４０へと接続されている。３方バルブ４０は、１つの出口が、例えば１２Ｖのステッパモータとすることができるシリンジ駆動源４２へと接続されており、他の出口が、流体流入パイプ３２を介して桿体２６へと接続可能とされている。
【０００９】
リザーバ３８は、また、Ｔ字形コネクタ４４を介して、希釈剤センサ４１へと接続されている。希釈剤センサ４１は、希釈剤が存在するかどうかを決定するための光学デバイスとすることができる。例えば１２ＶのＤＣ蠕動ポンプといったようなポンプ４６は、希釈剤を、Ｙ字形コネクタ４８を介して試料チャンバハウジング１４へと送出する。
【００１０】
Ｙ字形コネクタ４８は、バルブ５１を有したチューブ５０に対して接続されている。バルブ５１は、例えば電気駆動型のピンチバルブとされるもので、試料チャンバハウジング１４の一部をなす第１チャンバ５２に対してのチューブ５０を通しての希釈剤の流通を制御する。Ｙ字形コネクタ４８からの他の出口は、バルブ５６を有したチューブ５４に対して接続されている。バルブ５６は、同様に例えば電気駆動型のピンチバルブとされるもので、試料チャンバハウジング１４の第２チャンバ５８内へのチューブ５４を通しての流体の流通を制御する。第１チャンバ５２と第２チャンバ５８とは、オリフィス６３を有した分割用・流通制限用部材６０（図６，７，８，９参照）によって、互いに隔離されている。試料チャンバ１４は、図４および図５に詳細に図示されている。
【００１１】
流体制御システム３６は、さらに、一対の真空ポンプ６２を備えてなる真空引きシステムを備えている。各ポンプ６２は、例えば電気駆動型のピンチバルブといったようなバルブ６６を介して、真空リザーバ６４に対して連結されている。パージチューブ６８が、リザーバ６４の底部近傍位置にまで延出されている。これにより、廃棄のために、少なくとも一方のバルブ６６とポンプ６２と出口７０とを介して、リザーバ６４内のほとんどすべての液体を吸引除去することができるものとされている。
【００１２】
リザーバ６４に対しては、さらに、チューブ７２を介することによって、ハウジング１４の第２チャンバ５８が接続されている。チューブ７２は、例えばピンチバルブといったようなバルブ７４と、例えば Honeywell Controls 社による型番が 141PCO5G というデバイスといったような圧力トランスデューサ７６と、を備えている。リザーバ６４は、さらに、バルブ８０を有したチューブ７８を介して、第１試料チャンバ６２に対しても接続されている。
【００１３】
図１および図４〜図９に示すように、試料チャンバハウジング１４は、好ましくは、電磁放射に関する遮蔽を行うために、外側シールド１５（導電材料から形成されている）を備えている。入口１６は、流量制限部材またはプレートまたは分割部材６０によって第２チャンバ５８から隔離されている第１チャンバ５２に対して連通している。両チャンバ５２，５８は、例えばアクリル樹脂や他のプラスチックといったような不活性材料から形成することができる。
【００１４】
この実施形態においては、第１チャンバ５２は、例えばネジおよびネジ孔を使用することによって互いに固定できるとともに例えば適切なガスケットまたはメンブランを使用するこおによって漏れ防止のためのシールを行うことができるような、第１部材８２と第２部材８４とから形成されている。第１部材８２（図４に示されている）は、チューブ５０から流入してくる希釈剤をチャンバ分割部材６０に向けて導き得るように傾斜している液体入口８８を有している。第２部材８４は、第１チャンバ５２からの排出を可能とするための（チューブ７８を結合できるようなものとされた）流体出口９０を有している。第２部材８４は、さらに、分割部材６０に向けて狭くなるように構成されており、チャンバ５２内に電極を配置させ得るための孔（図示せず）を有している。
【００１５】
チャンバハウジング１４は、部分的に第２チャンバ５８を形成する第３部材８６を備えている。第３部材８６は、第２部材５８内への希釈剤の注入のための液体入口９２と、第２部材５８からの希釈剤の抽出のための液体出口９４と、を有している。加えて、図５に最も明瞭に示すように、第３部材８６は、例えば図示しないネジおよびネジ孔を使用することによって、ハウジング１４を軸Ａに対して位置合わせするようにして特にオリフィス６３を軸Ａに対して位置合わせ（軸合わせ）するようにして、主ハウジング１２に対して取り付けられている。このようにして、第３部材８６は、例えばガラスから形成できるとともに軸Ａの近傍の領域においては特に欠陥のないものとして形成されている透明プレート９８に対して当接している。第３部材８６は、Ｏ−リングを受領するための環状凹所９６を有している。この場合、Ｏ−リングは、プレート９８に対して当接することによって、チャンバ５８からの流体漏出を防止するようなシールをもたらす。軸Ａに沿って分割部材６０に向けてレーザー光を照射するためのレーザー（図示せず）を受領するためのチャンバ１０４が、主ハウジング１２内に形成されている。
【００１６】
図５により、第３部材８６が、分割部材６０を受領するためのスロット１００と、後述の光学フィルタおよび検出器１１４を受領するための外側凹所１０２と、を形成することがわかる。
【００１７】
粒子流通の制限をもたらすための分割部材６０が、図６〜図８において、より詳細に示されている。特に、制限部材は、軸Ａに対して軸合わせされるオリフィス６３が形成されているディスク１０６を備えている。ディスク１０６は、好ましくは、ルビーやサファイアといったような結晶材料から形成され、とりわけ、圧電効果を示すような材料から形成される。ディスク１０６は、例えば適切な屈折性の接着剤やセメントを使用することによって、プレート１１０の開口部１０８内に取り付けられている。プレート１１０は、例えば、スライドガラスとすることができる。プレート１１０は、所望波長において光透過性のものであるとともに、例えば光増倍管といったような光検出器１１４に対して連結されているフィルタ１１２に対して当接している側方エッジ１１１へと向けて内部から光を透過させ得るようなものとされている。
【００１８】
図７に示すように、オリフィス６３は、ディスク１０６の中心位置からずらせて配置することができる。例えば、ディスク１０６内における内部反射の焦点位置に位置させるといったようにして、ディスク１０６の中心位置からずらせて配置することができる。非中心に位置した焦点は、例えば、ディスク１０６の表面を、例えば銀コーティングによって、内部反射を増大させるようにして処理することによって、また、ディスク１０６のエッジを同様に処理することによって、得ることができる。プレート１１０の表面およびエッジ（ただしエッジ１１１を除く）についても、内部反射を増大させこれによりフィルタ１１２および検出器１１４への光の入射量を増大させるために、同様に処理することができる。
【００１９】
図９に示すように、オリフィス６３は、長さＬと直径Ｄとを有している。例えば、測定時にＦ方向に沿ってオリフィス６３を通過する粒子Ｐの特定のサイズまたは容積に対しては、８０μｍという長さと３０μｍという直径とが、好ましい。しかしながら、オリフィスは、他のサイズとすることができる。特に、約５０〜６０μｍとすることができ、好ましくは、１５０μｍ未満とすることができる。
【００２０】
図１０には、粒子検出システム１０のための適切な電子制御システム１２０の概略的なブロック図が示されている。この電子制御システム１２０は、マイクロプロセッサ１２２を具備している。マイクロプロセッサ１２２は、タイマー１２４と、外部との通信のための少なくとも１つの入出力ポート１３６と、を備えている。加えて、電子制御システム１２０は、流体コントローラ１２６（実際には、マイクロプロセッサ１２２の一部として形成することができる）を具備している。流体コントローラ１２６は、上述の通り図３に図示したような流体制御システムにおけるバルブ４０，５１，５６，６６，７４，８０を駆動制御する。さらに、コントローラ１２６との通信により、オン／オフボタン３０の操作によって桿体２６からのポンプ４２の制御が可能とされる。コントローラ１２６からの通信により、さらに、ポンプ４６，６２、希釈剤検出器３１、桿体検出器２２、および、圧力センサ７６が制御される。マイクロプロセッサ１２２による通信により、コントローラ１２６が制御され、これにより、流体制御システム３６の物理状態が制御される。
【００２１】
システム１２０は、さらに、レーザードライバ１２８と、例えば図１１に示す信号ＳＦを検出するための検出チップ１１４を備えているような蛍光検出回路１３０と、を具備している。ドライバ１２８および検出回路１３０は、共に、マイクロプロセッサ１２２からの通信によって制御される。
【００２２】
システム１２０は、さらに、チャンバ５２または５８の一方の中に配置された電極Ｅに対して電気出力信号を出力するためのパルス発生源１３２を備えている。インピーダンス信号検出器および増幅器１３４が、チャンバ５２または５８の他方に設置された第２電極に対して接続されており、また、マイクロプロセッサ１２２に対しても接続されている。これにより、図１１の例において示す信号Ｓを解析することができる。
【００２３】
図１１には、典型的なインピーダンス信号Ｓ_I が示されている。このインピーダンス信号Ｓ_I は、半値幅がＷ_I を有したピークを備えている。これにより、信号Ｓ_I を、背景ノイズＮから識別することができる。同様に、蛍光信号Ｓ_F は、半値幅Ｗ_Fを有している。
【００２４】
使用時には、使用者は、桿体２６を手に取り、クリーンノズル２８を試料内に差し込む。ボタン３０を押すことにより、流体コントローラ１２６は、ドライブ４２およびバッテリ４０を駆動する。これにより、ノズル２８内への試料の測定用吸込が行われる。その場合、桿体２６は、桿体用ガイド部材１８内に配置される。センサ２２が内部にノズル２４が収容されていることを検出したことを送信したときには、コントローラ１２６は、ドライブ４２およびバルブ４０を駆動し、入口１６から第１チャンバ５２へと、集積した試料を送出する。リザーバ３８からの所望量の希釈剤を、駆動源４２を使用して再度桿体２６から、あるいはこれに代えて、ポンプ４６を使用して入口８８から、チャンバ５２内へと導入することができる。チャンバ５８は、ポンプ４６を使用することによりリザーバ３８からチューブ５４を介して入口９２からチャンバ５８内へと電解質希釈剤を搬送することによって、希釈剤でもって充填される。このようにして、電気経路を、オリフィス６３を挟んで電極Ｅどうしの間において形成することができ、電極どうしの間のインピーダンス変化を検出器および増幅器１３４において検出することによってオリフィス６３を通って移動する粒子を検出することができる。インピーダンス検出は、電極Ｅどうしの間に約２０〜４０ＶのＤＣ電圧を印加することにより、行うことができる。この場合、例えば、電源１３２は、電極どうしの間に定電流を流すように駆動することができる。また、ＡＣ電圧を使用することもできる。
【００２５】
第１チャンバ５２と第２チャンバ５８との間の粒子移動を増加させるために、チャンバどうしの間には、真空リザーバ６４を使用して、圧力差が形成される。流体コントローラ１２６は、ライン７２上の圧力が、オリフィス６３を通っての粒子のある程度の移動を推進し得るほど充分に小さいものであることを確保する。この場合、粒子は、圧力差によってチャンバ５８内へと吸い込まれ、バルブ７４（当然のことながら、リザーバ６４に対して開放されている）を介してチューブ７２を通って排出される。与えられた試料によるものの３０秒の測定時間あたり、ポンプ６２およびバルブ６６を使用したリザーバ６４の数回の排出が、必要とされる。
【００２６】
測定の開始時には、パルス発生源１３２は、初期校正信号を印加する。この初期校正信号は、検出器１３４によって検出され、マイクロプロセッサ１２２によって、初期設定標準値と比較しつつ解析することができる。最大約１Ｖかつ約１０ｋＨｚといったような一連のパルスを、パルス発生源１３２によって、一方の電極へと印加することができる。
【００２７】
校正パルスが現在の標準値と比較して許容範囲内のものであれば、測定を開始することができる。そうでなければ、再校正が行われる。何回も許容範囲を超えるようであれば、クリーニング操作が開始されることとなる。
【００２８】
第２電極における電圧値が、検出器１３４によって測定され、マイクロプロセッサ１２２に対して送出される。この場合、例えば、３２ミリ秒という持続時間にわたって集積されたデータのバッチ解析が行われる。
【００２９】
これと同時に、および／または、これに代えて、レーザービームが、軸Ａに沿って、照射される。これにより、オリフィス６３を通って移動する粒子に対して光が照射される。試料内の粒子を公知の蛍光剤でもって適切に染色または着色しておくことにより、粒子は、蛍光信号を発光する（入射光よりも、低周波数側へとすなわち高波長側へとシフトしている）。蛍光発光は、ランダムな方向へと放射される。しかしながら、オリフィス６３のところの粒子を照射していることにより、発光の大部分は、ディスク１０６へと入射し、ディスク１０６およびスライドガラス１１０によって内部反射される。発光は、結局、エッジ１１１から放出される。したがって、フィルタ１１２へと入射しさらには検出チップ１１４へと入射する。レーザーは、ドライバ１２８によって駆動され、検出チップ１１４からの検出光は、検出回路１３０へと送出され、さらには、マイクロプロセッサ１２２によって解析されることとなる。
【００３０】
図１１からわかるように、インピーダンス信号Ｓ_Iおよび信号Ｓ_Fは、この技術にいては、実質的に同期している。例えば３２ｍｓといったような同じ時間間隔に対しての２つのチャネルのデータを、マイクロプロセッサ１２２へと伝送して、インピーダンス信号と蛍光信号との双方の解析を行うことができる。
【００３１】
蛍光測定どうしの合間には、および／または、インピーダンス測定どうしの合間には、電極Ｅを介して適切なパルスシーケンスを印加することにより、オリフィス６３をクリアすることができる。例えば、１０ｋＨｚの程度の瞬時的な高周波数および約１ＶというＤＣ電圧を、例えば各１秒にわたる３つのバッチ期間に対して、０．５秒インターバルでもって印加することができる。
【００３２】
オリフィス６３のクリアのためには、次のようないくつかの手法がある。すなわち、電気パルスの印加（例えば校正信号といったような１０ｋＨｚ，１Ｖの瞬時パルス）や、流通方向の反転や、定電流または高電圧の除去や、チャンバ５２からの試料の除去さらにこれに続いて入口８８を通してのオリフィス６３に対しての希釈剤導入によるクリーニング、がある。流通方向の反転は、バルブ７４を閉じてチャンバ５８内へと希釈剤を導入しつつ、出口９０を通してチャンバ５２から試料を抽出することにより、すなわち、チューブ７８および真空リザーバ６４に対して接続されているバルブ８０を開放することによって出口９０を通してチャンバ５２から試料を抽出することにより、得ることができる。好ましくは、反転プロセスは、チャンバ５２からの試料の除去を行う前に試みられる。各手法は、個別的に使用することもできるし、また、他の手法と組み合わせて使用することもできる。
【００３３】
このクリア手法は、与えられた試料に対しての測定期間全体にわたって一様に行うことができる。これに代えて、インピーダンス信号検出器１３４または蛍光検出器１３０を使用することによって、インピーダンス測定および／または蛍光測定の検出結果のマイクロプロセッサ１２２による解析における詰まりを検出することができる。全体的詰まりまたは部分的詰まりは、次のいずれかにより、マイクロプロセッサ１２２によって決定することができる。
（ａ）検出された蛍光信号Ｓ_Fおよび／またはインピーダンス信号Ｓ_Iの入力速度または平均速度が、所定速度以下となったこと。
（ｂ）検出された蛍光信号Ｓ_Fおよび／またはインピーダンス信号Ｓ_Iの強度が、所定強度以下となったこと。
（ｃ）検出された蛍光信号Ｓ_Fおよび／またはインピーダンス信号Ｓ_Iの幅が、所定サイズを超えたこと。
（ｄ）複数のインピーダンス信号Ｓの平均幅が、所定サイズを超えたこと。
（ｅ）インピーダンス測定の平均ベースラインまたは平均ノイズラインの電圧値が、初期ベースライン電圧値からまたは他の所定値から所定値以上大きくなったこと。
（ｆ）蛍光信号Ｓ_Fおよび／またはインピーダンス信号Ｓ_Iの高さが、所定値を超えたこと。
（ｇ）蛍光および／またはインピーダンス測定の背景ノイズが、例えば所定周波数範囲内においてある種の強度変化を示したといったように所定様式で変化したこと。
（ｈ）電極Ｅどうしの間の電流値が、所定様式で変化したこと、あるいは、所定値または５％や１０％といった所定比率を超えて大きくなったり小さくなったりしたこと。
【００３４】
そのような詰まりを高周波パルスの印加を使用してもクリアできないような場合には、試料チャンバ５２，５８を空として、チャンバ５２内へと希釈剤を注入することによってオンラインでプレート６０を洗浄する必要がある。特に、注入ジェット８８を分割部材６０に向けるようにして、チャンバ５２内へと希釈剤を注入することによってオンラインでプレート６０を洗浄する必要がある。分割部材６０に向けて希釈剤を繰り返してパルス的に注入し、入口９２を閉じた状態で（すなわち、バルブ５６を閉じた状態で）真空リザーバ６４を使用してチャンバ５８から希釈剤を抽出することにより、オリフィス６３がクリアされる。これでもダメな場合には、当然のことながら、分割部材６０を取り外して、手作業でクリーニングを行うこととなる。
【００３５】
クリーニング後に、あるいは、出口９０，９４を使用してのチャンバ５２，５８からの抽出による試料除去後に、チャンバ５２，５８は、リザーバ３８からの希釈剤を使用して、充填と抽出とを繰り返すことによって、クリーニングすることができる。このようにして、再度、第１チャンバ５２が空になったときには、新たな試料を、上記のようにして導入することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明によるシステムの一部を示す概略的な斜視図である。
【図２】 図１における試料位置合わせ用ガイドを示す概略的な正面図である。
【図３】 本発明における流体制御回路を示す概略的なブロック図である。
【図４】 本発明における試料チャンバとレーザーのための主ハウジングの一部とを示す概略的な側断面図である。
【図５】 図４における試料チャンバを示す概略的な平断面図である。
【図６】 本発明におけるチャンバ分割部材およびオリフィスを示す概略的な分解斜視図である。
【図７】 図６における分割部材を示す正面図である。
【図８】 図６における分割部材を示す端面図である。
【図９】 オリフィスを示す概略的な斜視図である。
【図１０】 本発明における電子制御システムを示す概略的なブロック図である。
【図１１】 本発明によるシステムによって検出された典型的なインピーダンス信号と蛍光信号とを示す概略的な図である。
【符号の説明】
１０ 粒子検出システム
１２ 主ハウジング
１４ 試料ハウジングチャンバ
１６ 入口
３６ 流体制御システム
３８ 希釈剤リザーバ
５２ 第１チャンバ
５８ 第２チャンバ
６０ 分割部材
６３ オリフィス
８２ 第１部材
８４ 第２部材
８６ 第３部材
８８ 液体入口
９０ 流体出口
９２ 液体入口
９４ 液体出口
１００ スロット
１０６ ディスク
１１０ プレート
１１４ 検出チップ（光検出器）
１２０ 電子制御システム
１２２ マイクロプロセッサ
１２６ 流体コントローラ
１３２ パルス発生源
１３４ インピーダンス信号検出器および増幅器

Claims (20)

1. インピーダンス測定と蛍光測定とを組み合わせたタイプの粒子検出システムであって、
   第１チャンバと第２チャンバとを隔離するためのものであるとともに、第１チャンバと第２チャンバとの間にわたっての液体試料の移動を可能とするための小さなオリフィスを有した分割部材と、
   前記液体試料内の粒子の前記オリフィスを通っての移動に基づく前記オリフィスのところでのインピーダンス変化を決定するための手段と、
   前記オリフィス内のまたは前記オリフィスの近傍の粒子に対して光照射するための光源と、
   粒子から放射された放射光を受領するための検出器と、
   を具備してなり、
   前記分割部材が、前記オリフィスが貫通形成されているプレートを備え、
   該プレートは、前記システム内において、インピーダンスの測定方向と前記オリフィスのところにおける光の入射方向との双方が、前記プレートの面に対して実質的に垂直であるようにして、配置されていることを特徴とするシステム。
2. 請求項１記載のシステムにおいて、
   前記オリフィスのところにおける光の入射方向が、前記オリフィスのところにおける粒子の移動方向と反対向きとされていることを特徴とするシステム。
3. 請求項１または２記載のシステムにおいて、
   前記第１チャンバおよび前記第２チャンバのためのチャンバハウジングを備えていることを特徴とするシステム。
4. 請求項３記載のシステムにおいて、
   前記システムの構成部材のための主ハウジングを具備し、
   前記チャンバハウジングが、前記主ハウジングの一部に対して着脱可能に取り付けられており、
   前記光源からの光が、前記主ハウジングの一部を通して制御可能に放出されるようになっていることを特徴とするシステム。
5. 請求項３または４記載のシステムにおいて、
   前記チャンバが、前記分割部材を受領するためのスロットを有し、
   該スロットは、動作位置への前記分割部材の挿入および動作位置からの前記分割部材の取外しを可能としていることを特徴とするシステム。
6. 請求項５記載のシステムにおいて、
   前記チャンバハウジングおよび前記分割部材が、前記スロット内への前記分割部材の挿入時に前記光源からの光照射方向に対して前記オリフィスが確実に位置合わせされるように構成されていることを特徴とするシステム。
7. 請求項３〜６のいずれかに記載のシステムにおいて、
   前記チャンバハウジングが、例えばクリーニングを容易とするためにといったように部材どうしの着脱が可能とされている少なくとも２つの構成部材を備えていることを特徴とするシステム。
8. 請求項７記載のシステムにおいて、
   前記第１チャンバが、着脱可能とされた第１部材および第２部材によって形成されていることを特徴とするシステム。
9. 請求項３〜８のいずれかに記載のシステムにおいて、
   前記第２チャンバが、前記光源からの入射光のための入射開口と、使用時に該入射開口からの流体の流出入を防止するための手段と、を有していることを特徴とするシステム。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載のシステムにおいて、 前記システムから前記分割部材を取り外すことなく前記オリフィスをクリアするためのクリア手段を具備していることを特徴とするシステム。
11. 請求項１０記載のシステムにおいて、
    前記クリア手段が、前記オリフィスにわたっての電気パルスの印加を可能とするための電圧源を備えていることを特徴とするシステム。
12. 請求項１１記載のシステムにおいて、
    前記パルスの電圧が、１Ｖの程度であり、好ましくは、前記パルスの周波数が、１０ｋＨｚの程度であることを特徴とするシステム。
13. 請求項１〜１２のいずれかに記載のシステムにおいて、
    前記第１チャンバが、試料および／または希釈剤のための入口と、出口と、を有していることを特徴とするシステム。
14. 請求項１〜１３のいずれかに記載のシステムにおいて、
    前記第２チャンバが、希釈剤および／または試料のための入口と、出口と、を有していることを特徴とするシステム。
15. 請求項１３または１４記載のシステムにおいて、
    前記クリア手段が、選択的に、前記第１チャンバまたは前記第２チャンバの前記入口を通して希釈剤を導入し、および／または、前記第１チャンバまたは前記第２チャンバの前記出口を通して希釈剤または試料を抽出することを特徴とするシステム。
16. 請求項１１〜１５のいずれかに記載のシステムにおいて、
    前記電圧源は、前記クリア手段が前記オリフィスのクリアを補助する目的で前記オリフィスにわたって電圧を印加するときには、前記オリフィスに対して定電流を印加することを特徴とするシステム。
17. 請求項１〜１６のいずれかに記載のシステムにおいて、
    前記オリフィスの直径が、１５０μｍ未満であり、好ましくは、６０μｍ未満であることを特徴とするシステム。
18. 請求項１７記載のシステムにおいて、
    前記オリフィスの直径が、３０μｍの程度であることを特徴とするシステム。
19. 請求項１〜１８のいずれかに記載のシステムにおいて、
    前記オリフィスの詰まりを検出するための詰まり検出器を具備していることを特徴とするシステム。
20. 請求項１９記載のシステムにおいて、
    前記詰まり検出器が、
    検出された蛍光信号および／またはインピーダンス信号の単独でのまたは平均での入力速度が、所定速度以下となったこと、
    検出された蛍光信号および／またはインピーダンス信号の強度が、所定強度以下となったこと、
    検出された蛍光信号および／またはインピーダンス信号の幅が、所定サイズを超えたこと、
    複数の蛍光信号および／またはインピーダンス信号の平均幅が、所定サイズを超えたこと、
    インピーダンス測定の平均ベースラインまたは平均ノイズラインの電圧値が、初期ベースライン電圧値からおよび／または他の所定値から、所定値以上大きくなったこと、
    蛍光信号および／またはインピーダンス信号の高さが、所定値を超えたこと、
    蛍光および／またはインピーダンス測定の背景ノイズが、例えば所定周波数範囲内においてある種の強度変化を示したといったように所定様式で変化したこと、および／または、
    電極どうしの間の電流値が、所定値または５％や１０％といった所定比率を超えて大きくなったり小さくなったりというように所定様式で変化したこと、
    のうちの１つ以上を決定することを特徴とするシステム。

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