JP4020623B2 - 酸化物超電導原料溶液の塗布装置及びその塗布方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は原料溶液の塗布装置及びその塗布方法に関し。特に揮発性の高い溶媒を用いた原料溶液を基材表面に塗布後、乾燥及び焼成して超電導膜を形成する有機金属塗布熱分解プロセス(MODプロセス)において、均一な膜厚を有する長尺のテープ状酸化物超電導線材の製造に適した酸化物超電導原料溶液の塗布装置及びその塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、酸化物超電導体として、Bi系(2212)酸化物超電導導体(Bi:Sr:Ca:Cu=2:2:1:2のモル比)及びBi系(2223)酸化物超電導導体(Bi:Sr:Ca:Cu=2:2:2:3のモル比)が線材化に成功しており、この線材は所謂銀シース法(Powder in Tube Method)によって製造されている。この方法は、銀又は銀合金シース内に超電導物質の原料粉末を充填し、これに縮径加工を施すか、あるいは更に圧延加工を施して断面丸形又はテープ状に成形した後、熱処理を施して原料粉末を超電導化するものである。
【0003】
上記のBi系酸化物超電導体は、板状に結晶が成長し易く臨界電流密度(Jc)を向上させるために結晶を配向成長させる必要があり、この目的に銀シース法は適している。
【0004】
酸化物超電導物質としてBi系酸化物超電導物質よりも若干早期に発見されたY系酸化物超電導物質(YBCO:Y:Ba:Cu=1:2:3のモル比)は、その優れた磁界特性を有することで知られているが、結晶が板状に成長しないため、初期の開発段階において銀シース法による線材化の研究が盛んに行われたが、結晶の方位が配向しなかったためにこの方法による高いJcを有する線材化に失敗している。
【0005】
近年、フッ素化合物原料を用いたTFA−MODプロセスが米国において提案され、この方法による酸化物超電導体は、PLD(Pulse Laser Deposition)等の物理的蒸着法やCVD(Chemical Vapor Deposition)等の化学的蒸着法による気相法によって得られるY系酸化物超電薄膜と同程度のJc(>106A/cm2)を有することが報告されて以来、再びY系酸化物超電体の線材化の研究が盛んに行われている。
【0006】
上記のTFA−MODプロセスは、トリフロロアセテート原料を揮発性の高い溶媒、例えば、無水メタノール等の溶媒に溶解した溶液を、酸化物中間層を表面に形成した配向金属基材上に塗布した後、仮焼及び本焼することにより酸化物超電薄膜を形成するものであり、通常の有機酸塩熱分解法の熱処理中に生ずる硝酸塩の生成を防ぐために、Fを含む有機酸塩(トリフルオロ酢酸塩)を出発原料とするもので、長尺の金属基材上に連続的に塗膜を形成し焼成することができれば、気相法より簡便な方法によりY系酸化物超電テープの製造が可能になる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のTFA−MODプロセスは、原料溶液の溶媒にメタノールを使用しているために溶媒の揮発性が高く、長尺の金属基材上への連続塗布工程中に溶液の著しい濃度変化を生じるため、均一な厚さの塗膜を形成することが非常に困難である上、原料溶液は吸湿性に富み、空気中の水分を溶液中に吸収してゲル化する性質を有するため、長時間空気中に曝すことにより原料溶液の変質を招くという問題がある。
【0008】
また、スプレードライ法等を採用した場合、長時間の連続運転中に噴出孔の先端で凝固し目詰まり等を生ずるという問題もある。
【0009】
本発明は、以上の問題を解決するためになされたもので、揮発性の高い溶媒を用いた原料溶液を基材表面に塗布して均一な膜厚を有する塗膜を安定して形成することのできる酸化物超電導原料溶液の塗布装置及びその塗布方法を提供することをその目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
以上の目的を達成するために、本発明の酸化物超電導原料溶液の塗布装置は、内部に揮発性溶媒を用いた酸化物超電導物質の原料溶液を収容するための密閉容器と、この密閉容器の外部に着脱可能に形成された溶液塗布部と、密閉容器を貫通し一端側が原料溶液の液面下に開口し他端側が溶液塗布部に開口する複数の細管と、溶液塗布部に対して所定の間隔を維持して連続的にテープ状基材を移動せしめるテープ移動機構とからなることを特徴としている。
【0011】
以上の塗布装置において、溶液塗布部は、密閉容器に着脱可能に取付けられ、また溶液塗布部を平面状に形成し、複数の細管がこの溶液塗布部に開口するようにすることが好ましい。
【0012】
上記の複数の細管は、密閉容器中の原料溶液を毛細管現象を利用して溶液塗布部に供給するもので、複数の細管は原料溶液の液面に対して所定の仰角をなすように形成されている。この仰角は、原料溶液の液面に対して5゜以上で30゜以下となるように形成することが好ましい。
【0013】
また、本発明の目的は、密閉容器内に揮発性溶媒を用いた酸化物超電導物質の原料溶液を収容し、前記密閉容器の外部に着脱可能に取付けられた溶液塗布部に対して所定の間隔を維持して連続的にテープ状基材を移動せしめるとともに、原料溶液を複数の細管により溶液塗布部へ供給して溶液塗布部とテープ状基材との間に液体メニスカスを形成することにより、テープ状基材表面に連続的に原料溶液を塗布することを特徴とする酸化物超電導原料溶液の塗布方法によっても達成することができる。
【0014】
この場合の原料溶液は、無水メタノール溶媒中に酸化物超電導物質を構成する元素を所定のモル比で配合したトリフロロアセテート原料を溶解した溶液からなるものが用いられる。
【0015】
酸化物超電導原料溶液としては、YBCOの他、MODプロセス、特にTFA−MODプロセスを適用可能なREBa2Cu3OY(RE=Nd、Sm、Ho、Gd、Yb等)の酸化物超電導物質も当然に使用することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の酸化物超電導原料溶液の塗布装置1の概略斜視図を示したもので、1は密閉容器、2は溶液塗布部、3は細管、4はテープ移動機構である。
【0017】
密閉容器1は内部に揮発性溶媒を用いた酸化物超電導物質の原料溶液5を収容し、その液面を調整する原料溶液の補給機構(図示せず)により、密閉容器1内の原料溶液5の液面がほぼ一定に保持されている。
【0018】
溶液塗布部2は密閉容器1の外部に形成されており、図2の密閉容器1の正面図、図3の密閉容器1の断面図及び図4の溶液塗布部2の正面図に示すように、密閉容器1に着脱可能にOリングを介してボルト(図示せず)によって取付けられている。
【0019】
複数の細管3は、溶液塗布部2に嵌め込み接着されており、一端側が原料溶液5の液面下に開口し他端側が溶液塗布部2に開口するように配設され、密閉容器を貫通する。この複数の細管3は、平面状に形成された溶液塗布部2に開口し、原料溶液5を密閉容器1内から溶液塗布部2に毛細管現象を利用して供給する。この複数の細管3の内径、本数及び間隔は、原料溶液5を塗布するテープ状基材6の幅、膜厚、原料溶液の濃度等により適宜決定される。
【0020】
また、複数の細管3は、毛細管現象を利用して原料溶液5を密閉容器1内から溶液塗布部2に供給するために、原料溶液5の液面に対して仰角をなすように形成されており、原料溶液の濃度等にもよるが、原料溶液5の液面に対して5゜以上で30゜以下の仰角をなすように形成することが好ましく、これによって適正な圧力で原料溶液5を密閉容器1内から溶液塗布部2に供給することができる。
【0021】
テープ移動機構4は、回転軸4aとこの回転軸を中心として回転駆動される回転ローラ4bからなり、回転軸4aはギャップ調整機構(図示せず)により、溶液塗布部2に対して所定の間隔を維持することが可能な構造を有する。
【0022】
テープ状基材6は、回転ローラ4bの周囲に沿って移動せしめられ、複数の細管3を通して密閉容器1内から溶液塗布部2に供給される原料溶液5によってテープ状基材6と溶液塗布部2との間に形成される液体メニスカス(液溜り)により、テープ状基材6の表面に塗膜が形成される。
【0023】
上述のTFA−MODプロセスにおいては、原料溶液の濃度等にもよるが、この液体メニスカスをテープ状基材6と溶液塗布部2との間隔を2mm未満に設定して形成することが好ましい。
【0024】
テープ状基材表面に塗布される原料溶液5としては、無水メタノール溶媒中に酸化物超電導物質を構成する元素を所定のモル比で配合したトリフロロアセテート原料を溶解した溶液を用いることが好ましい。
【0025】
テープ状基材表面の塗膜の膜厚は、基材の移動速度と原料溶液の性質によって決まるが、毛細管の流動抵抗により原料溶液の供給量が制限されるため、均一な膜厚を有する塗膜が得られる塗膜速度(基材の移動速度)を1m/sに制限する必要がある。
【0026】
【実施例】
以下本発明の一実施例について説明する。
【0027】
図1〜4に示す酸化物超電導原料溶液の塗布装置において、外径φ1.7mmのポリテトラフルオロエチレンからなるチューブにより細管3を形成し、このポリテトラフルオロエチレンからなるチューブの6本を平行に配置して平面状に形成された溶液塗布部2に幅11.2mmに開口させた。
【0028】
この場合、液体メニスカスは上記の開口幅より若干広がるため、幅12mm程度のテープ状基材まで塗布可能である。
【0029】
また、複数の細管3は、毛細管現象を利用して原料溶液5を密閉容器1内から溶液塗布部2に適正に供給するために、原料溶液5の液面に対して15゜の仰角をなすように形成した。
【0030】
一方、密閉容器1は、ポリテトラフルオロエチレンからなるブロックの中央部を径φ40mm、深さ40mmの有底状に掘削し、Oリングを介して板状体により開口部を密閉して形成した。
【0031】
上記の溶液塗布部2を密閉容器1にOリングを介して嵌め込み、溶液塗布部2の細管3の開口部に対向して回転ローラ4bを配設した。
【0032】
テープ状基材6として、幅6mm、厚さ0.2mmのハステロイテープ上にIBAD法(基材に対して斜め方向からイオンを照射しながら、基板上にターゲットから発生した粒子を堆積させる方法:Ion Beam Assisted Deposition)で成膜した0.5μm厚のYSZ中間層を形成し、その上にスパッタ法によって0.5μm厚のCeO2中間層を形成したテープを用いた。まず、酸化物超電導物質の原料溶液5としてYBa2Cu3-TFA塩をメタノール溶液に混合し、溶液中の金属濃度を1.5mol/Lに調整した。その溶液を密閉容器1の内部に15mLを収容し、テープ状基材6上に10cm/minの塗布速度で塗布した。
【0033】
次いで、水蒸気を含んだ酸素雰囲気下において、400℃以下の温度で仮焼した後、再度、テープ状基材6上に10cm/minの塗布速度で塗布し、その後、このY-Ba-Cu前駆体膜テープを水蒸気を含んだアルゴン/酸素混合ガス中において750〜800℃で熱処理を行い、膜厚1μmのYBCOテープを得た。
【0034】
このようにして得られたYBCOテープの臨界電流密度(Jc値)を、直流四端子法によって液体窒素中において測定した結果、約1 MA/cm2の値が得られた。
【0035】
以上の装置を用いて約2時間の連続運転を行った結果、原料溶液中にゲルの発生は認められず、また原料溶液の濃度変化も認められなかった。また、このときに溶液塗布部2のポリテトラフルオロエチレンからなるチューブ開口部に原料溶液の凝固も認められず、細管による原料溶液の供給に問題はなかった。
【0036】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明による酸化物超電導原料溶液の塗布装置及びその塗布方法によれば、原料溶液を密閉容器内に収容することにより溶媒の揮散による濃度変化や空気中の水分の吸湿による変質を防止することができるとともに、液体メニスカスによりテープ状基材表面に塗布される原料溶液は、細管による毛細管現象によって供給されるため、揮発性の高い溶媒を用いた原料溶液を基材表面に塗布して均一な膜厚を有する塗膜を安定して形成することができ、その後の熱処理によって得られる酸化物超電導テープは、電力機器等への応用に適する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による酸化物超電導原料溶液の塗布装置の一実施例を示す概略斜視図である。
【図2】本発明に使用する溶液塗布部を含む密閉容器の一実施例を示す正面図である。
【図3】本発明に使用する溶液塗布部を含む密閉容器の一実施例を示す断面図である。
【図4】本発明に使用する溶液塗布部の一実施例を示す正面図である。
【符号の説明】
1…密閉容器
2…溶液塗布部、
3…細管
4…テープ移動機構
4a…回転軸
4b…回転ローラ
5…原料溶液
6…テープ状基材
Claims (5)
- 内部に揮発性溶媒を用いた酸化物超電導物質の原料溶液を収容するための密閉容器と、前記密閉容器の外部に着脱可能に形成された溶液塗布部と、前記密閉容器を貫通し一端側が前記原料溶液の液面下に開口し他端側が前記溶液塗布部に開口する複数の細管と、前記溶液塗布部に対して所定の間隔を維持して連続的にテープ状基材を移動せしめるテープ移動機構とからなることを特徴とする酸化物超電導原料溶液の塗布装置。
- 前記溶液塗布部は、複数の細管が平面状に形成された溶液塗布部に開口することを特徴とする請求項1記載の酸化物超電導原料溶液の塗布装置。
- 前記溶液塗布部は、複数の細管が原料溶液の液面に対して5゜以上で30゜以下の仰角をなすように形成されていることを特徴とする請求項2記載の酸化物超電導原料溶液の塗布装置。
- 密閉容器内に揮発性溶媒を用いた酸化物超電導物質の原料溶液を収容し、前記密閉容器の外部に着脱可能に取付けられた溶液塗布部に対して所定の間隔を維持して連続的にテープ状基材を移動せしめるとともに、前記原料溶液を複数の細管により前記溶液塗布部へ供給して前記溶液塗布部と前記テープ状基材との間に液体メニスカスを形成することにより、前記テープ状基材表面に連続的に原料溶液を塗布することを特徴とする酸化物超電導原料溶液の塗布方法。
- 前記原料溶液は、無水メタノール溶媒中に酸化物超電導物質を構成する元素を所定のモル比で配合したトリフロロアセテート原料を溶解した溶液からなることを特徴とする請求項4記載の酸化物超電導原料溶液の塗布方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001342392A JP4020623B2 (ja) | 2001-11-07 | 2001-11-07 | 酸化物超電導原料溶液の塗布装置及びその塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001342392A JP4020623B2 (ja) | 2001-11-07 | 2001-11-07 | 酸化物超電導原料溶液の塗布装置及びその塗布方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003141953A JP2003141953A (ja) | 2003-05-16 |
JP4020623B2 true JP4020623B2 (ja) | 2007-12-12 |
Family
ID=19156260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001342392A Expired - Fee Related JP4020623B2 (ja) | 2001-11-07 | 2001-11-07 | 酸化物超電導原料溶液の塗布装置及びその塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4020623B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8227019B2 (en) * | 2003-12-15 | 2012-07-24 | Superpower Inc. | High-throughput ex-situ method for rare-earth-barium-copper-oxide (REBCO) film growth |
US7985712B2 (en) * | 2004-03-12 | 2011-07-26 | International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation | Rare earth oxide superconductor and process for producing the same |
JP5297770B2 (ja) * | 2008-11-21 | 2013-09-25 | 株式会社フジクラ | 酸化物超電導導体用基材の製造方法と酸化物超電導導体の製造方法及び酸化物超電導導体用キャップ層の形成装置 |
-
2001
- 2001-11-07 JP JP2001342392A patent/JP4020623B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JP2003141953A (ja) | 2003-05-16 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041102 |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060421 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060629 |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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