JP4006491B2 - プラズマ滅菌装置 - Google Patents
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Description
以下、本発明の第1の実施形態に係るプラズマ滅菌装置を図1に基づいて説明する。この図1は本実施形態に係るプラズマ滅菌装置の概略構成図を示す。
(本発明の第2の実施形態)
図2及び図3に基づいて本発明の第2の実施形態に係るプラズマ滅菌装置を説明する。この図2は本実施形態に係るプラズマ滅菌装置の概略構成図、図3は図2に記載のプラズマ滅菌装置の動作タイミングチャートを示す。
(本発明の第3の実施形態)
図4に基づいて本発明の第3の実施形態に係るプラズマ滅菌装置を説明する。この図4は本実施形態に係るプラズマ滅菌装置における収納手段内の透視構成図を示す。
(本発明の他の実施形態)
本発明の他の実施形態に係るプラズマ滅菌装置は、前記各実施形態と同様に各種構成され、この各種構成に各々加えて、収納手段1内に収納する被処理物を酸素ラジカルが透過し、細菌を透過させないシート、例えばマイクロメッシュシート等で被覆した状態で滅菌処理を行うようにしているので、処理後に収納手段1から取出す場合にも外部の細菌が再付着することを未然に防止することができる。
2 低気圧維持手段
3 酸素ガス供給手段
4 プラズマ生成手段
5 容器内条件制御部
21 ロータリーポンプ
22 排出管
23、33 調整バルブ
24、34 コネクタ
31 酸素ガスボンベ
32 供給管
41 電極
42 電源部
43 周波数切替部
45 配電線
46a、46b 封止部
Z インピーダンス
Claims (8)
- 滅菌処理の対象となる被処理物を収納し、気密性容器からなる収納手段と、
前記収納手段内の気圧を低気圧に維持すると共に、当該低気圧下で前記収納手段の気密性容器内における酸素ガスの圧力を3Paから10kPaまでの間で複数回変化させる低気圧維持手段と、
前記収納手段に酸素ガスを供給する酸素ガス供給手段と、
前記収納手段内に少なくとも電極が収納され、当該電極に電流を流して前記酸素ガスの酸素をプラズマ化して酸素ラジカルを生成するプラズマ生成手段とを備えることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。 - 前記請求項1に記載のプラズマ滅菌装置において、
前記低気圧維持手段が、前記収納容器内を3Paないし10kPaに維持することを
特徴とするプラズマ滅菌装置。 - 前記請求項1又は2に記載のプラズマ滅菌装置において、
前記低気圧維持手段が、前記収納手段の気密性容器内における酸素ガスの圧力を3Paと10kPaとを1分ないし10分毎に繰り返し変化させることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。 - 前記請求項1ないし3のいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記プラズマ生成手段が、誘導結合プラズマ発生手段により構成されることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。 - 前記請求項1ないし4のいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記プラズマ生成手段が、電極に交流電流を供給され、当該交流電流の周波数を起動当初に1kHzないし20kHzとし、起動後10MHzないし60MHzとすることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。 - 前記請求項1ないし5のいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記酸素ガス供給手段が、供給する酸素ガスの流量を10sccmから500sccmの間で複数回変化させることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。 - 前記請求項1ないし5のいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記酸素ガス供給手段が、供給する酸素ガスの流量を10sccmと500sccmとを1分ないし10分毎に繰り返し変化させることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。 - 前記請求項1ないし7のいずれかに記載のプラズマ滅菌装置において、
前記収納手段に収納される被処理物が、酸素ラジカルを透過するシートで被覆されることを
特徴とするプラズマ滅菌装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004203419A JP4006491B2 (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | プラズマ滅菌装置 |
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JP2006020950A JP2006020950A (ja) | 2006-01-26 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004203419A Active JP4006491B2 (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | プラズマ滅菌装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4006491B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8012415B2 (en) | 2006-01-11 | 2011-09-06 | Elk Corporation | Sterilization method and plasma sterilization apparatus |
JP2007268252A (ja) | 2006-03-07 | 2007-10-18 | Univ Of Ryukyus | 滅菌装置及びそれを用いた滅菌方法 |
JP4214213B1 (ja) | 2007-08-03 | 2009-01-28 | 国立大学法人佐賀大学 | プラズマ滅菌装置及び方法 |
CN109168426A (zh) * | 2018-10-19 | 2019-01-11 | 蒋遂安 | 一种活性氧原子消毒杀菌装置及其方法和应用 |
WO2021226751A1 (zh) * | 2020-05-09 | 2021-11-18 | 蒂森灭菌科技(孝感)有限公司 | 一种可调连续流等离子体消毒灭菌方法及其对应的消毒灭菌设备 |
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2004
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Publication number | Publication date |
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JP2006020950A (ja) | 2006-01-26 |
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