JP4002234B2 - 半導体レーザ装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
まず、図2(a)に示すように、第1金属部材21a,第2金属部材21b,第3金属部材21cを結合して冷却器本体21を構成する。上記結合は、金属部材を積層させて接触する面の、拡散接合、または半田材やロウ材による接合により行う。この工程は、高温環境下で行うので、樹脂層で被覆されている場合は、溶融してしまう。このため、結合前に内壁面は樹脂層で被覆されていない。上記結合により、冷却器本体21内に、流体の流入口31(図1参照)及び流出口32(図1参照)を有する流体流路が形成される。
図9は、樹脂層被覆工程を示す説明図である。
次に、図1に示すように、冷却器本体21の外壁面22と熱的接触を保つ状態で冷却領域23に半導体レーザ素子80を配置する。上記の配置は、半田材50による接着としてもよい。半田材50による接着を行う場合は、外壁面22上と内壁面33上とを冷却領域23を残して樹脂層40で被覆した後であるため、樹脂層40の溶融温度よりも低温で半田材50を溶融する必要がある。さらには、上述の金属部材21a,21b,21cを結合するのに必要な温度よりも低温で半田材50を溶融する必要がある。
Claims (10)
- ヒートシンクと半導体レーザ素子とを備える半導体レーザ装置において、
前記ヒートシンクは、
金属部材を結合してなる冷却器本体と、
前記冷却器本体の内部に形成され流体の流入口及び流出口を有する流体流路と、
前記冷却器本体の外壁面上で冷却を行う冷却領域と、
前記外壁面上と前記冷却器本体の内壁面上とを前記冷却領域を残して連続して被覆し、前記金属部材と前記流体との接触を防止する樹脂層と、
を有し、
前記半導体レーザ素子は、
前記外壁面と熱的接触を保つ状態で前記冷却領域に配置される、
ことを特徴とする半導体レーザ装置。 - 前記金属部材は、前記流体流路の一部である貫通孔と溝部とを有することを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ装置。
- 前記半導体レーザ素子は、前記外壁面と電気的接触を保つ状態で前記冷却領域に配置されることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体レーザ装置。
- 前記半導体レーザ素子は、前記外壁面と半田材により前記冷却領域に接着されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
- 前記樹脂層は、絶縁性を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
- 前記流体流路は、前記金属部材が結合される面である結合界面を横断するように延びており、
前記樹脂層は、前記結合界面を連続して被覆していることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の半導体レーザ装置。 - 請求項1に記載の前記半導体レーザ装置の製造方法は、
前記金属部材を結合して前記冷却器本体とした後に、前記外壁面上と前記内壁面上とを、前記冷却領域を残して連続して前記樹脂層で被覆する部材結合及び樹脂層被覆工程と、
前記外壁面と熱的接触を保つ状態で前記冷却領域に前記半導体レーザ素子を配置するレーザ配置工程と、
を含むことを特徴とする前記半導体レーザ装置の製造方法。 - 前記樹脂層被覆工程は、前記樹脂を上記流体流路の一端から導入し、他端から引き抜くことにより、前記内壁面を前記樹脂層で被覆することを特徴とする請求項7に記載の半導体レーザ装置の製造方法。
- 前記レーザ配置工程では、前記樹脂層の溶融温度よりも低温で溶融された半田材により、前記半導体レーザ素子を前記冷却領域に接着することを特徴とする請求項7又は8に記載の半導体レーザ装置の製造方法。
- ヒートシンクと半導体レーザ素子とを備える半導体レーザ装置において、
前記ヒートシンクは、
マイクロチャンネルヒートシンクと、
前記マイクロチャンネルヒートシンクの内部に形成され流体の流入口及び流出口を有する流体流路と、
前記マイクロチャンネルヒートシンクの外壁面上で冷却を行う冷却領域と、
前記外壁面上と前記マイクロチャンネルヒートシンクの内壁面上とを前記冷却領域を残して連続して被覆し、前記マイクロチャンネルヒートシンクと前記流体との接触を防止する樹脂層と、
を有し、
前記半導体レーザ素子は、
前記外壁面と熱的接触を保つ状態で前記冷却領域に配置される、
ことを特徴とする半導体レーザ装置。
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