JP3973037B2 - 親水性基材およびその製造方法 - Google Patents
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Description
<ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルムの活性化>
テトラエッチ(商品名、(株)潤工社製、ナトリウムナフタレンのテトロヒドロフラン溶液)に、PTFEフィルム(サイズ:厚さ1mm、15mm×15mm角)を120秒間漬した。エタノールで2回、イオン交換水で1回洗浄したのち、乾燥させて、活性化PTFEフィルムを得た。
活性化PTFEフィルムをヘキサメチレンジイソシアナート(98%)10mlに入れ、50℃で2時間撹拌し、反応させた。反応液中のフィルムを取り出し、ジエチルエーテル20mlで洗浄することにより、ヘキサメチレンジイソシアナートが導入されたPTFEフィルムを得た。
ヘキサメチレンジイソシアナートが導入されたPTFEフィルムを、水溶性キトサン(重量平均分子量30000、脱アセチル化度95%)0.05gを溶かしたホルムアミド10mlに入れ、50℃で一晩撹拌して反応させた。反応液中のフィルムを取り出し、イオン交換水で洗浄することにより、キトサンが導入されたPTFEフィルムを得た。
得られたフィルムを、飽和ヨウ素水に30分間浸漬させ、その後、ヨウ素水の吸光度(452nm)を測定して、予め作成した検量線と照らし合わせることにより、キトサンの導入量を測定した。キトサンの導入量は、7.04μg/cm2であった。
18mlの氷冷ピリジン中にクロロスルホン酸4.2mlを滴下して、クロロスルホン酸ピリジン塩を生成させた。生成したクロロスルホン酸ピリジン塩を65℃に加熱して溶解させ、キトサンが導入されたPTFEフィルムを入れて、2時間、65℃で反応させた。フィルムを取り出してイオン交換水で洗浄したのち、アンモニア水10ml中、25℃で撹拌し、反応させることにより、硫酸化されたキトサンのアンモニウム塩が導入されたPTFEフィルムが得られた。
得られたフィルムに導入されたキトサンのC2位、C3位およびC6位において、硫酸化反応および中和反応が起きていることを、FT−IR測定や元素分析などにより確認した。また、キトサン中の硫酸化可能な官能基全数に対する、硫酸化および中和された官能基数の割合(導入率)を試料に硝酸を加えて完全に分解したのち、硫酸バリウム(BaSo4)とする方法により求めたところ、導入率は15%であった。
水の滴下後、横からデジタルカメラで撮影し、接触角を測定することにより、得られたフィルムの親水性を、以下の基準で評価した。結果を表1に示す。
◎:5°以下
○:10°以下
×:15°以下
<キトサンの硫酸化>
粉末キトサン(重量平均分子量150000、脱アセチル化度85%)0.4gを濃硫酸8mlに加え、−20℃で2時間撹拌したところ、混合物はゼラチン状になった。−20℃で撹拌しながら、冷エーテル10mlを加えた。沈殿物を遠心分離により回収し、数回エーテルで洗浄したのち、真空乾燥して硫酸化されたキトサンを得た。
硫酸化されたキトサン0.1gをホルムアミド10mlに溶解させ、実施例1と同様にして得られたヘキサメチレンジイソシアナートを導入したPTFEフィルムを入れ、室温で一晩撹拌して反応させた。反応液中のフィルムを取り出し、イオン交換水で洗浄することにより、硫酸化されたキトサンが導入されたフィルムが得られた。
フィルムへのキトサンの導入量は、2.32μg/cm2であった。
得られたフィルム0.56gをアンモニア水10ml中に入れて25℃で撹拌し、反応させることにより、硫酸化されたキトサンのアンモニウム塩構造が導入されたPTFEフィルムを得た。
キトサンのC2位、C3位およびC6位において、硫酸化反応および中和反応が起きていることが確認された。また、キトサン中の硫酸化可能な官能基全数に対する、硫酸化および中和された官能基数の割合(導入率)は15%であった。
得られたフィルムの親水性を、実施例1と同様にして評価した。結果を、表1に示す。
<キトサンの硫酸化>
粉末キトサン(重量平均分子量150000、脱アセチル化度85%)0.2gを0〜4℃で、濃硫酸8mlとクロロスルホン酸4mlとの混合溶液に加え、溶液を60分間、室温に戻しながら撹拌した。冷エーテルを滴下することにより、生成物を沈殿させ、沈殿物を遠心分離により回収したのち、数回エーテルで洗浄し、真空乾燥させた。
硫酸化されたキトサン0.1gをホルムアミド10mlに溶解させ、実施例1と同様にして得られたヘキサメチレンジイソシアナートを導入したPTFEフィルムを入れ、室温で一晩撹拌して反応させた。反応液中のフィルムを取り出し、イオン交換水で洗浄することにより、硫酸化されたキトサンが導入されたフィルムが得られた。
フィルムへのキトサンの導入量は、4.68μg/cm2であった。
得られたフィルム0.56gをアンモニア水10ml中に入れて25℃で撹拌し、反応させることにより、硫酸化されたキトサンのアンモニウム塩構造が導入されたPTFEフィルムを得た。
キトサンのC6位において、硫酸化反応および中和反応が起きていることが確認された。また、キトサン中の硫酸化可能な官能基全数に対する、硫酸化および中和された官能基数の割合(導入率)は15%であった。
得られた親水性基材の親水性を、実施例1と同様にして評価した。結果を、表1に示す。
<ガラスの活性化>
5%のフッ化水素酸20mlにガラス(サイズ:厚さ1mm、15mm×15mm角)を60秒間漬した。イオン交換水で2回洗浄したのち、乾燥させて、表面活性化ガラスを得た。
表面活性化ガラスをヘキサメチレンジイソシアナート(98%)10mlに入れ、室温で2時間撹拌し、反応させた。反応液中のガラスを取り出し、ジエチルエーテル20mlで洗浄し、ヘキサメチレンジイソシアナートが導入されたガラスを得た。
ヘキサメチレンジイソシアナートが導入されたガラスを、水溶性キトサン(重量平均分子量30000、脱アセチル化度95%)0.05gを溶解したホルムアミド10mlに入れ、室温で一晩撹拌して反応させた。反応液中のガラスを取り出し、イオン交換水で洗浄して、キトサンが導入されたガラスを得た。
ガラスへのキトサンの導入量は、6.84μg/cm2であった。
18mlの氷冷ピリジン中にクロロスルホン酸4.2mlを滴下して、クロロスルホン酸ピリジン塩を生成させた。生成したクロロスルホン酸ピリジン塩を65℃に加熱して溶解させ、キトサンが導入されたガラスを入れて、2時間、65℃で反応させた。ガラスを取り出してイオン交換水で洗浄したのち、アンモニア水10ml中、25℃で撹拌し、反応させることにより、硫酸化されたキトサンのアンモニウム塩構造が導入されたガラスが得られた。
得られたガラスに導入されたキトサンのC2位、C3位およびC6位において、硫酸化反応および中和反応が起きていることを、FT−IR測定や元素分析などにより確認した。また、キトサン中の硫酸化可能な官能基全数に対する、硫酸化および中和された官能基数の割合(導入率)は15%であった。
得られたフィルムの親水性を、実施例1と同様にして評価した。評価結果を、表1に示す。
<キトサンの硫酸化>
粉末キトサン(重量平均分子量150000、脱アセチル化度85%)0.4gを濃硫酸8mlに加え、−20℃で2時間撹拌したところ、混合物はゼラチン状になった。−20℃で撹拌しながら、冷エーテル10mlを加えた。沈殿物を遠心分離により回収し、数回エーテルで洗浄したのち、真空乾燥させた。
硫酸化されたキトサン0.1gをホルムアミド10mlに溶解させ、実施例4と同様にして得られたヘキサメチレンジイソシアナートを導入したガラスを入れ、室温で一晩撹拌して反応させた。反応液中のガラスを取り出し、イオン交換水で洗浄することにより、硫酸化されたキトサンが導入されたガラスが得られた。
ガラスへのキトサンの導入量は、2.12μg/cm2であった。
得られたガラスをアンモニア水10ml中に入れて25℃で撹拌し、反応させることにより、硫酸化されたキトサンのアンモニウム塩構造を導入したガラスを得た。
キトサンのC2位、C3位およびC6位において、硫酸化反応および中和反応が起きていることが確認された。また、キトサン中の硫酸化可能な官能基全数に対する、硫酸化および中和された官能基数の割合(導入率)は15%であった。
得られたフィルムの親水性を、実施例1と同様にして評価した。結果を、表1に示す。
<キトサンの硫酸化>
粉末キトサン(重量平均分子量150000、脱アセチル化度85%)0.2gを0〜4℃で、濃硫酸8mlとクロロスルホン酸4mlとの混合溶液に加え、溶液を60分間、室温に戻しながら撹拌した。冷エーテルを滴下することにより、生成物を沈殿させ、沈殿物を遠心分離により回収したのち、数回エーテルで洗浄し、真空乾燥させた。
硫酸化されたキトサン0.1gをホルムアミド10mlに溶解させ、実施例4と同様にして得られたヘキサメチレンジイソシアナートを導入したガラスを入れ、室温で一晩撹拌して反応させた。反応液中のガラスを取り出し、イオン交換水で洗浄することにより、硫酸化されたキトサンが導入されたガラスが得られた。
ガラスへのキトサンの導入量は、4.48μg/cm2であった。
得られたガラスをアンモニア水10ml中に入れて25℃で撹拌し、反応させることにより、硫酸化されたキトサンのアンモニウム塩構造を導入したガラスを得た。
キトサンのC6位において、硫酸化反応および中和反応が起きていることが確認された。また、キトサン中の硫酸化可能な官能基全数に対する、硫酸化および中和された官能基数の割合(導入率)は15%であった。
得られたフィルムの親水性を、実施例1と同様にして評価した。結果を、表1に示す。
Claims (4)
- 基材表面にスペーサーを介してキトサンを導入する工程、キトサンを濃硫酸、クロロスルホン酸、濃硫酸およびクロロスルホン酸の混合物または無水硫酸で処理する工程、もしくはキトサンをオキシ塩化リンまたはリン酸で処理する工程、ならびに該処理基材をアンモニアまたはアミン化合物で中和する工程からなる親水性基材の製造方法であって、前記スペーサーがジイソシアナートである親水性基材の製造方法。
- キトサンを濃硫酸、クロロスルホン酸、濃硫酸およびクロロスルホン酸の混合物または無水硫酸で処理する工程、もしくはキトサンをオキシ塩化リンまたはリン酸で処理する工程、基材表面にスペーサーを介して該キトサンを導入する工程、ならびに該処理基材をアンモニアまたはアミン化合物で中和する工程からなる親水性基材の製造方法であって、前記スペーサーがジイソシアナートである親水性基材の製造方法。
- 基材表面にスペーサーとしてジイソシアナートを介して硫酸化されたキトサンのアンモニウム塩またはリン酸化されたキトサンのアンモニウム塩が導入されてなる親水性基材。
- 請求項3記載の親水性基材からなる医療機器。
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