JP3962338B2 - 光パルスパターン発生器 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光パルスパターン発生器に関し、より詳細には、光通信分野において、光ラベル用パルス列の生成および素子評価用光ランダムパターンパルス列の生成などを可能とする光パルスパターン発生器に関する。
【0002】
【従来の技術】
光通信システムの大容量化が進み、1波当たり40Gb/sの高速伝送システムの実用化も近い。さらに、1波当たり100Gb/s以上の次世代超高速伝送システムの研究開発も、日米欧の主要キャリア、ベンダで進められている。また、光信号の全光ルーティングを行う光ネットワークシステムの研究開発も精力的に進められている。高速伝送システムにおいては、高速光ランダムパターンパルス列を用いた光システム・デバイスの評価が、光ネットワークシステムにおいては、光パケット用高速ラベルパルス列の生成が必須である。
【0003】
上記用途に用いる光パルスパターン発生器として、従来では図1に示すものが用いられていた。図1に示す光パルスパターン発生器では、パルス光源1からの周期Tのパルス光を入力部2に入射し、光分波器3で分波した後、各パルス光は光導波路4−1〜4−N(N:2以上の整数)を通過し、光スイッチ5−1〜5−Nに導かれる。パルス光は、光スイッチ5−1〜5−Nのうちバー状態になっている光スイッチのみから遅延線6−1〜6−Nに導かれ、光合波器7で合波され出力部8から出力される。この場合、cを真空中の光速、nを遅延線の群屈折率として、遅延線6−1〜6−Nの長さの差はこの順に順次cT/(nN)ずつ増加しているものとすると、各光スイッチのバー状態(1)、クロス状態(0)に対応して、周期T、系列長Nの光ランダムパターンパルス列が生成される。
【0004】
そのため上述した従来の方法では、周期T、系列長Nの光ランダムパターンパルス列を発生させる場合には、光スイッチおよび遅延線の数がそれぞれN個ずつ必要となり、素子数の増加に伴い素子サイズが増加し構成が煩雑となる。また1×Nの光分波器3、N×1の光合波器7が必要となり、損失が増加する。
【0005】
例えば、非特許文献1には、光合分波器、遅延線アレイ、光スイッチアレイから構成される光部品に、繰り返しパルス光を入射する方法が記載されている。
【0006】
また、非特許文献2には、電気パルスパターンを用いて光変調器を駆動し、CW光を変調する方法が記載されている。
【0007】
さらに、特許文献1には、非線形光学効果に基づいた光排他的論理和素子と光ファイバ固定遅延線から構成される帰還シフトレジスタを用いる方法が報告されている。
【0008】
【非特許文献1】
K. Habara et al., "Large-capacity WDM packet switching," Springer Photonic Networks (G. Prati Ed.), 1997, pp. 285-299
【0009】
【非特許文献2】
R.J.S.Pedersen, B.F.Jorgensen, M.Nissov and He Yongqi, "10Gbit/s repeaterless transmission over 250km standard fibre" ELECTRONICS LETTERS, 7th November 1996, Vol. 32, No. 23, pp.2155-2156
【0010】
【特許文献1】
米国特許第5,208,705号明細書
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、光合分波器、遅延線アレイ、光スイッチアレイから構成される光部品に、繰り返しパルス光を入射する方法の場合、必要系列長と同じ個数の遅延線、スイッチが必要となり、典型的な系列長においてサイズが大きくなり、構成が煩雑になる。また、合波器の入力ポート数、分波器の出力ポート数も系列長と等しくしなければならないので、系列長の増加と共に損失が増加する。
【0012】
また、電気パルスパターンを用いて光変調器を駆動し、CW光を変調する方法の場合、電気領域でのパルスパターン発生器の動作速度の限界により、40Gb/sを超えるパルスパターンの発生は困難である。
【0013】
さらに、非線形光学効果に基づいた光排他的論理和素子と光ファイバ固定遅延線から構成される帰還シフトレジスタを用いる方法では、2種類のパルス光(クロックパルス、制御パルス)が必須であるため、構成が大型かつ複雑化する。また、非線形光学効果を利用するため動作可能なパルス光強度に条件が生じ、動作も不安定になる。さらに、光ファイバ固定遅延線を用いているため、遅延線長の精密調整が困難で、パルスパターン、パルス周期、ビットレートの可変も困難である。
【0014】
上記のように、これまでは有効な高速光パルス列発生手段が報告されていなかった。そのため、小型かつ安定で、電気部品の速度に律速されない全光パルスパターン発生器の実現が望まれていた。
【0015】
そこで、本発明の目的は、上記従来技術に鑑みて成されたものであり、簡便な構成で低損失の光パルスパターン発生器を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の第1の側面によれば、本発明に係る光パルスパターン発生器は、パルス光を発生するパルス光源と、2入力2出力を有する光合分波器であって、前記2入力の一方が前記パルス光源と接続された光合分波器と、2入力2出力を有する可変光遅延線回路であって、2入力2出力を有する複数の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計を含み、前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の1つが有する2出力の一方が、前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の他の1つが有する2入力の一方と縦続接続され、前記可変光遅延線回路の2入力の一方が前記光合分波器の2出力の一方と接続された可変光遅延線回路と、少なくとも1つの光排他的論理和回路であって、該光排他的論理和回路の入力が、前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の出力のうち未接続となっている出力とそれぞれ接続された光排他的論理和回路とを備え、前記光排他的論理和回路の出力の一つは、前記光合分波器の2入力の他方と接続されている。
【0017】
ここで、前記光排他的論理和回路は縦続接続されているものとすることができる。
【0018】
また、前記光排他的論理和回路の入力および出力は2であり、前記光排他的論理和回路の数は前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の数よりも1つ少ないものとすることができる。
【0019】
また、前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計は、2入力2出力を有する第1の結合率可変方向性結合器、および前記第1の結合率可変方向性結合器と長さの異なる2本の光導波路を用いて接続された2入力2出力を有する第2の結合率可変方向性結合器を含む少なくとも1つの特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計を有するものとすることができる。
【0020】
また、前記特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の1つが有する2出力の一方と、前記特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の他の1つが有する2入力の一方とが縦続接続されているものとすることができる。
【0021】
また、前記第1または第2の結合率可変方向性結合器は、2つの前記特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計により共用されているものとすることができる。
【0022】
また、前記光合分波器は対称マッハツェンダ型干渉計とすることができる。
【0023】
また、光が伝送される部分の少なくとも1箇所に光増幅器が配置されているものとすることができる。
【0024】
また、前記光排他的論理和回路は対称マッハツェンダ型干渉計とすることができる。
【0025】
また、前記可変光遅延線回路、前記光合分波器または前記光排他的論理和回路の出力に光ゲート素子が接続されているものとすることができる。
【0026】
本発明の第2の側面によれば、本発明に係る光パルスパターン発生器は、パルス光を発生するパルス光源と、前記パルス光源の後段に接続された光合分波器と、前記光合分波器に接続された可変光遅延線回路と、前記可変光遅延線回路の途中および最終段に接続された光排他的論理和回路とを備え、前記光排他的論理和回路は前記光合分波器に接続されている。
【0027】
また、本発明の第3の側面によれば、本発明に係る光パルスパターン発生方法は、光パルスから光ランダムパターンパルス列を発生させる光パルスパターン発生方法であって、パルス光源から発生したパルス光を、光合分波器を介して、複数の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計を含む可変光遅延線回路に入射するステップと、前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の各々から出力されたパルス光を、光排他的論理和回路を介して、前記光合分波器に出力するステップと、前記光合分波器に出力されたパルス光を用いて、前記可変光遅延線回路、前記光合分波器、または前記光排他的論理和回路からランダムパルス列を出力するステップとを備えるものである。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【0029】
(第1実施形態)
図2は、本発明の第1の実施の形態を示す。同図に示すように本実施の形態の光パルスパターン発生器は、パルス光源9、光導波路10−1〜10−40、結合率可変方向性結合器11−1〜11−12、3dB方向性結合器12−1〜12−4、導波路屈折率の制御部分13−1〜13−8、光増幅器14から構成されている。
【0030】
本実施の形態では、パルス光源9の後段に、光合分波器101として用いられる第1の対称マッハツェンダ型干渉計、第1、第2の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102,103が直列接続されている。そして、この2つの縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102,103は、各々の後段から、光排他的論理和回路104として用いられる第2の対称マッハツェンダ型干渉計、光増幅器14を介して、第1の対称マッハツェンダ型干渉計101に接続され、これにより、フィードバックループが構成されている。各縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102,103の段数(特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の数)は、それぞれ3である。
【0031】
2入力2出力の2つの縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102,103を縦続接続することにより、2入力2出力の可変光遅延線回路が構成されている。つまり、前段の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102の一方の出力ポートと、後段の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計103の一方の入力ポートとが縦続接続されて、2入力2出力の可変光遅延線回路が構成されている。
【0032】
パルス光源9と、光合分波器101の一方の入力ポートとは、光導波路10−1により接続されている。また、光合分波器101の一方の出力ポートと、可変光遅延線回路(縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102)の一方の入力ポートとは、光導波路10−6により接続されている。また、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102の他方の出力ポートおよび縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計103の一方の出力ポートと、光排他的論理和回路104の入力ポートとは、光導波路10−21,10−36により接続されている。そして、光排他的論理和回路104の一方の出力ポートが、光導波路10−40,光増幅器14および光導波路10−2を介して、光合分波器101の他方の入力ポートに接続されている。図2では、光導波路10−35がオープンの出力ポート(出力部)となっている。
【0033】
なお、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計103の他方の出力ポートと、光排他的論理和回路104の入力ポートとを、光導波路10−35により接続し、光導波路10−36をオープンの出力ポート(出力部)とするようにしてもよい。
【0034】
各縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102,103は、それぞれ、3つの特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計により構成されている。各特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計は、入力側の2入力2出力の結合率可変方向性結合器(例えば11−1)の2つの出力ポートと、出力側の2入力2出力の結合率可変方向性結合器(例えば11−2)の2つの入力ポートとを、長さの異なる2本の光導波路(例えば10−8,10−9)を用いて接続することにより形成されている。そして、前段の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の一方の出力ポートと、後段の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の一方の入力ポートが縦続接続されている。
【0035】
なお、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102,103を、それぞれ、1つの特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計により構成することもできる。
【0036】
3dB方向性結合器12−1〜12−4は、図3に示すように、数μm角の2つの光導波路15−1,15−2を数μmオーダで近接させ、近接させた部分の長さ(結合長)を調節することによって50%パワー結合を実現している。近接型3dB方向性結合器では、透過波は反射波と比較して位相がπ/2シフトする。3dB方向性結合器はMMI(多モード干渉)カプラ構成で実現することも可能である。
【0037】
結合率可変方向性結合器11−1〜11−12は、図4(a)に示すように、対称マッハツェンダ型干渉計とすることによって構成可能である。結合率可変方向性結合器11−1〜11−12は、光導波路16−1〜16−6、3dB方向性結合器17−1,17−2、導波路屈折率の制御部分18を含んでいる。
【0038】
図4(b)、図4(c)は、それぞれ、図4(a)に示す結合率可変方向性結合器を石英系ガラス導波路で構成した場合におけるb−b断面図、c−c断面図を示す。
【0039】
図4(b)に示すように、結合率可変方向性結合器11−1〜11−12はb−b断面において、シリコン基板19−1、アンダークラッド20−1、オーバークラッド22−1が積層されている。オーバークラッド22−1内のアンダークラッド20−1と接する側に、コア21−1、21−2が形成されている。また、図4(c)に示すように、結合率可変方向性結合器11−1〜11−12はc−c断面において、シリコン基板19−2、アンダークラッド20−2、オーバークラッド22−2が積層されている。オーバークラッド22−2内のアンダークラッド20−2と接する側に、コア21−3、21−4が形成されている。そして、オーバークラッド22−2の上に、コア21−3を加熱して導波路屈折率を制御するための薄膜ヒータ23が設けられている。
【0040】
制御部分18を用いて導波路の位相を0から2πまで変化させた場合、対称マッハツェンダ型干渉計のスイッチング特性を用いて、入出力ポート間のパワー結合率を0から100%の間での任意の値に設定可能である。作製誤差等により3dB方向性結合器のパワー結合率が50%からずれた場合には図4(a)の構成で任意の結合率を得ることが困難になる。この場合、対称マッハツェンダ型干渉計を多段とする構成に置き換えることによって任意の結合率を得ることが可能となる。また図4(a)の対称マッハツェンダ型干渉計構成を用いることによって、光合分波器も実現できる。光合分波器として、方向性結合器構成を用いることも勿論可能である。
【0041】
図2に戻ると、導波路屈折率の制御部分13−1〜13−8,18は、被制御導波路部を例えばガラス導波路やポリマー導波路で構成した場合、薄膜ヒータ(熱光学効果)などを用いることができる。また、被制御導波路部を誘電体導波路、半導体導波路で構成した場合、電極(電気光学効果)などを用いることができる。
【0042】
光増幅器14は、エルビウムドープ光ファイバ増幅器(EDFA)などの希土類ドープ光ファイバ増幅器、希土類ドープ光導波路、半導体レーザ増幅器(SOA)などを用いることができる。
【0043】
パルス光源9は、半導体あるいは光ファイバモードロックレーザ、半導体利得スイッチ光源、またはCW光源をLNなどの誘電体あるいはポリマー強度変調器、半導体EA変調器を用いてパルス化したものなどを用いることができる。
【0044】
以下、図5(a)〜図5(e)の説明図を用いて、図2に示す光パルスパターン発生器の動作を詳細に説明する。図5(a)は、パルス光源9の出射パルス(周期Δt)を示す。結合率可変方向性結合器11−1〜11−5,11−7〜11−11として結合率が0%か100%のスイッチング機能を用いることとする。また、結合率可変方向性結合器11−6,11−12として結合率可変機能を用いることとする。いま、図2に示すように、各非対称マッハツェンダ型干渉計の上側と下側アームとの長さの差をΔLj(j=1〜6)とする。この場合は、ΔLjを最小単位として、光導波路10−6と光導波路10−20,10−21間で0〜(ΔL1+ΔL2+ΔL3)、光導波路10−20と光導波路10−35,10−36間で0〜(ΔL4+ΔL5+ΔL6)のアーム間可変遅延差を与えることができ、かつ光導波路10−21,10−36に到達するパルスの強度を同一に設定することができる。
【0045】
なお、本実施形態の光パルスパターン発生器の動作には本質的に無関係である可変遅延線部以外での導波路長は、説明には用いていない。しかしながら図5の動作が成り立つような導波路長の調節は適宜行われており(例えば、光導波路10−21,10−36部分の長さを同一に設定している)、これは光導波路技術を用いれば容易なことである。
【0046】
設計作製の段階で光路長を波長オーダで制御し、あるいは導波路屈折率の制御部分13−8を駆動して光導波路10−37と光導波路10−38間の位相差をπ/2に設定した場合の対称マッハツェンダ型干渉計は、光排他的論理和回路として動作する。光導波路10−21による入力(x1),光導波路10−36による入力(x2)における信号の有無と、光導波路10−40からの出力(y)とのデジタル信号としての関係を表1にまとめる。
【0047】
【表1】
Figure 0003962338
【0048】
なお設計作製の段階で光路長を波長以下のオーダで制御し、あるいは導波路屈折率の制御部分13−2〜13−7の少なくとも1つを動作させて、光波の位相調整を行うことによって、光導波路10−21,10−36を介して入射する入力光パルスx1,x2の位相差は光源のコヒーレンス長内で2πの整数倍に設定されているものとする。
【0049】
表1から、下式(1)の関係を満たし、出力yは入力x1,x2の排他的論理和となっていることがわかる。なお式(1)において、上線はデジタル信号における否定を表している。このような光排他的論理和機能は半導体レーザ増幅器などにおける非線形光学効果を用いて実現することも可能である。
【0050】
【数1】
Figure 0003962338
【0051】
このような排他的論理和機能とフィードバック機能とを有することにより、図2の構成によって光領域で線形帰還シフトレジスタが構成されることになる。導波路の損失、分岐によるパルスレベルの低下は光増幅器14によって補償される。
【0052】
光導波路10−6と光導波路10−20,10−21間でLa(=cT/(15n)−l、l:光導波路10−21,10−36と光導波路10−6間の右回りの距離)、光導波路10−20と光導波路10−35,10−36間でLb(=3cT/(15n)−l)の遅延を与えた場合の、光導波路10−21,10−36,10−40,10−35(出力)でのパルスの様子をそれぞれ、図5(b),5(c),5(d),5(e)に示す。例えば、
ΔL1=ΔL4=cT/(15n)−3L−l、
ΔL2=ΔL3=ΔL5=ΔL6=cT/(15n)とし、
La=ΔL1+3L、
Lb=ΔL4+ΔL5+ΔL6+3L
と設定することによって、本遅延は達成される。なお、Lは各特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計において下側のアームの長さを表し、全6個の干渉計において等しいと仮定した。
【0053】
なお、本質的ではない導波路長(例えば、光導波路10−21,10−36と光導波路10−40間の距離)による遅延の影響は図5には示していない。この図より代表的なランダムパルス列であるM(Maximum Length Shift Register)系列のパルスパターン(周期:T、系列長:15)を実現できることがわかる。
【0054】
また、光導波路10−6と光導波路10−20,10−21間でLb(=3cT/(15n)−l)、光導波路10−20と光導波路10−35,10−36間でLa(=cT/(15n)−l)の遅延を与えた場合のパルスの様子を図6に示す。図6(a)〜図6(e)は、図5(a)〜図5(e)の説明と同じ位置のパルスの様子を示している。
【0055】
図5(a)〜図5(e),図6(a)〜図6(e)から、計6個のうちわずか4個の遅延素子(従来例15個)を用いることで系列長15(=24 −1)の可変光ランダムパターンパルス列が得られることがわかる。本構成と従来例との必要遅延素子数の比は、系列長が長くなるほど小さくなる、すなわち系列長の長い光ランダムパターンパルス列を生成する場合ほど、本構成の効果は顕著となる。
【0056】
なお、パルス光源9からの繰り返し周波数をfとすると、下式(2)が満たされる場合、光導波路10−2から光導波路10−6にフィードバックされるパルスはパルス光源9からの次周期のパルスと衝突することはない。
【0057】
【数2】
Figure 0003962338
【0058】
このような条件を満たすパルス光源はモードロック型ファイバレーザなどで実現することができ、例えば繰り返し10MHz、パルス幅数psのものが実現されている。例えばこの光源と石英系導波路(群屈折率約1.5)とを用いてパルスの周期10ps(繰り返し100GHz)、系列長15(周期:150ps、繰り返し:約6.7GHz)のパルスパターンを生成する場合、式(2)の不等号の左側、つまり、Δt=1/f=105 ps>>式(2)の不等号の右側、つまりT=150psとなり、式(2)の条件を満たすことはきわめて容易であることがわかる。
【0059】
また式(2)の条件が満たされない場合でも、例えば、(1)Δt=KT(K:自然数)、(2)光導波路10−6でのパルス光源9からのパルス光とフィードバック光の位相が2πの整数倍だけ異なる、という条件が満たされていればデジタル信号として1の信号光の強度が増すだけなので、光パルスパターン発生器としての動作に変わりはない。
【0060】
(第2実施形態)
図7は、本発明の第2の実施の形態を示す。この図では、パルス光源24の後段に光合分波器201として用いられる第1の対称マッハツェンダ型干渉計、第1,第2の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計202,203が直列接続されている。そして、この2つの縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計202,203は、各々の後段から、光排他的論理和回路204として用いられる第2の対称マッハツェンダ型干渉計、光増幅器29を介して、第1の対称マッハツェンダ型干渉計に接続され、これにより、フィードバックループが構成されている。各縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計202,203の段数は3である。
【0061】
同図に示すように本実施例の光パルスパターン発生器の構成は、パルス光源24、光導波路25−1〜25−28、結合率可変方向性結合器26−1〜26−8、3dB方向性結合器27−1〜27−4、導波路屈折率の制御部分28−1〜28−8、光増幅器29とから構成されている。
【0062】
図7における縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計202,203は、図2の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102,103とは構成が異なり、ポートを1本ずつではなく2本ずつ接続したものである。
【0063】
つまり、例えば、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計202は、4つの2入力2出力の結合率可変方向性結合器26−1〜26−4を備えている。そして、入力側の2入力2出力の結合率可変方向性結合器(例えば26−1)の2つの出力ポートと、出力側の2入力2出力の結合率可変方向性結合器(例えば26−2)の2つの入力ポートとを、長さの異なる2本の光導波路(例えば25−8および25−9)を用いて接続している。このようにして、3つの特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計が接続されている。このため、結合率可変方向性結合器26−2は、第1段目の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計と第2段目の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計に共用されている。また、結合率可変方向性結合器26−3は、第2段目の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計と第3段目の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計に共用されている。
【0064】
同様に、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計203は、4つの2入力2出力の結合率可変方向性結合器26−5〜26−8を備えている。そして、入力側の2入力2出力の結合率可変方向性結合器(例えば26−5)の2つの出力ポートと、出力側の2入力2出力の結合率可変方向性結合器(例えば26−6)の2つの入力ポートとを、長さの異なる2本の光導波路(例えば25―17および25−18)を用いて接続している。このようにして、3つの特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計が接続されている。このため、結合率可変方向性結合器26−6は、第1段目の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計と第2段目の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計に共用されている。また、結合率可変方向性結合器26−7は、第2段目の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計と第3段目の特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計に共用されている。
【0065】
なお、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計202,203を、それぞれ、1つの特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計により構成することもできる。
【0066】
第2の実施の形態でも、図2の構成と同様に、結合率可変方向性結合器26−1〜26−3,26−5〜26−7として結合率が0%か100%のスイッチング機能を用いている。また、結合率可変方向性結合器26−4,26−8として結合率可変機能を用いている。これにより、ΔLjを最小単位として、光導波路25−6と光導波路25−14,25−15間で0〜(ΔL1+ΔL2+ΔL3)、光導波路25−14と光導波路25−23,25−24間で0〜(ΔL4+ΔL5+ΔL6)のアーム間可変遅延差を与えることができ、かつ光導波路25−15,25−24に到達するパルスの強度を同一に設定することができる。
【0067】
図7に示す第2の実施の形態では、結合率可変方向性結合器の数を図2より減らした構成で同じ可変遅延範囲が得られるため、さらなる素子の小型化、損失低減という効果を得ることができる。光領域で線形帰還シフトレジスタが構成されるため、図2の構成と同様に本構成を用いて様々な周期、パターンを持つ光ランダムパターンパルス列を光導波路25−23の出力として生成することが可能となる。
【0068】
(第3実施形態)
図8は、本発明の第3の実施の形態を示す。この図では、パルス光源30の後段に光合分波器301として用いられる第1の対称マッハツェンダ型干渉計、図7の構成と同構成となっている第1,第2の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計302,303が直列接続されている。そして、この2つの縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計302,303は、各々の後段から、光排他的論理和回路304として用いられる第2の対称マッハツェンダ型干渉計、光増幅器35を介して、第1の対称マッハツェンダ型干渉計に接続され、これにより、フィードバックループが構成されている。また第2の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計303の後段に光ゲート素子36を設置している。各縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計302,303の段数は3である。
【0069】
同図に示すように本実施例の光パルスパターン発生器の構成は、パルス光源30、光導波路31−1〜31−29、結合率可変方向性結合器32−1〜32−8、3dB方向性結合器33−1〜33−4、導波路屈折率の制御部分34−1〜34−8、光増幅器35、光ゲート素子36、とから構成されている。
【0070】
図7と同様に、本構成を用いて様々な周期、パターンを持つ光ランダムパターンパルス列を光導波路31−23の出力として生成することが可能となる。ところが、素子評価用光ランダムパターンパルス列と異なり光ラベル用パルス列としては、図5(e)に示すような周期ランダムパターンではなく、図5(e)の破線で囲んだ部分で示した1周期のみのパルス列が必要になる。そのため光導波路31−23の後段に光ゲート素子36を接続し時間ゲートをかけることによって必要なパルス列を光導波路31−24に出力させている。光ゲート素子36としては、LNなどの誘電体あるいはポリマー強度変調器、半導体EA変調器、半導体レーザ増幅器、などを用いることができる。
【0071】
なお、前述した第1〜第3の実施の形態では、1つの光排他的論理和回路104,204,304を用いていたが、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計数が3以上の場合にも同様に実施することができる。この場合、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の数よりも1少ない2入力2出力の光排他的論理和回路を用意し、前段の光排他的論理和回路の一方の出力ポートと後段の光排他的論理和回路の一方の入力ポートとを接続する。これにより複数の光排他的論理和回路を縦続接続してなる縦続接続光排他的論理和回路を構成することもできる。
【0072】
例えば、可変光遅延線回路を構成する縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計がM個である場合には、M−1個の光排他的論理和回路を縦続接続した縦続接続光排他的論理和回路を用いることができる。この場合には、可変光遅延線回路を構成する各縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の出力ポートのうち未接続となっている1つの出力ポートと、前記縦続接続光排他的論理和回路の入力ポートとを個別に接続する。
【0073】
また、前記した第1〜第3の実施の形態では、光導波路10−35、25−23、31−23を出力部として用いたが、光導波路10−5、25−5、31−5も出力部として用いることができる。また、光導波路10−39、25−27、31−28は強度反転出力部として用いることができる。
【0074】
また、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102、103、202、203、302、303は、任意に組み合わせることが可能である。例えば、図2に示す例において、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計103に代えて、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計203を用いることができる。このように構成された光パルスパターン発生器が図9に示されている。また、図2に示す例において、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102に代えて、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計202を用いることもできる。このように構成された光パルスパターン発生器が、図10に示されている。図7および図8に示す光パルスパターン発生器についても同様に、縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計102、103を適用することができる。
【0075】
本発明の実施例の光パルスパターン発生器を構成する光導波路部分の作製は、石英系ガラス導波路を用いて行うことができる。この場合、まずSi基板上に火炎堆積法によってSiO2 下部クラッド層を堆積し、次にGeO2 をドーパントとして添加したSiO2 ガラスのコア層を堆積した後に、電気炉で透明ガラス化する。次に図2〜図4,図7〜図10に示すようなパターンを用いてコア層をエッチングしてコア部分を作成する。最後に、再びSiO2 上部クラッド層を堆積した後、透明ガラス化し、さらに所定の光導波路上に薄膜ヒータおよび電気配線を蒸着する。
【0076】
なお本発明の光パルスパターン発生器を構成する光導波路部分は、ガラス光導波路に限らず、誘電体光導波路、半導体光導波路、ポリマー光導波路、光ファイバ等を用いて実現できることは明らかである。またいくつかの種類の導波路を組み合わせたハイブリッド構成を用いて実現できることも明らかである。
【0077】
本発明の光パルスパターン発生器は、個別の素子からなるパルス光源、光導波路、光増幅器、光ゲート素子を組み合わせて構成することも可能であるが、これらをハイブリッド集積して構成可能であることも明らかである。
【0078】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、パルス光源の後段に光合分波器を介して可変光遅延線回路が接続され、可変光遅延線回路の途中および最終段から光排他的論理和回路を介して、光合分波器に光パルスがフィードバックされている。このような構成により、光領域での線形帰還シフトレジスタが実現される。そのため、可変光遅延線回路の長さを調節することによって、様々な周期、パターンを持つ光ランダムパターンパルス列を生成可能な光パルスパターン発生器を実現することができる。
【0079】
また、本発明の光パルスパターン発生器は、光領域での可変線形帰還シフトレジスタ構成を用いることによって、集積型構成の小型,低損失の構成で、様々な周期、パターンを持つ光パルスパターンを、高速強度変調器を用いることなしに生成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の光パルスパターン発生器を示す構成図である。
【図2】本発明の第1実施形態にかかる光パルスパターン発生器を示す構成図である。
【図3】3dB方向性結合器の一例を示す構成図である。
【図4】結合率可変方向性結合器の一例を示す構成図である。
【図5】本発明の第1実施形態にかかる光パルスパターン発生器の動作を説明する図である。
【図6】本発明の第1実施形態にかかる光パルスパターン発生器の動作を説明する図である。
【図7】本発明の第2実施形態にかかる光パルスパターン発生器を示す構成図である。
【図8】本発明の第3実施形態にかかる光パルスパターン発生器を示す構成図である。
【図9】本発明の一実施形態にかかる光パルスパターン発生器を示す構成図である。
【図10】本発明の一実施形態にかかる光パルスパターン発生器を示す構成図である。
【符号の説明】
1 パルス光源
2 入力部
3 光分波器
4−1〜4−N 光導波路
5−1〜5−N 光スイッチ
6−1〜6−N 遅延線
7 光合波器
8 出力部
9,24,30 パルス光源
10−1〜10−40,15−1,15−2,16−1〜16−6,25−1〜25−28,31−1〜31−29 光導波路
11−1〜11−12,26−1〜26−8,32−1〜32−8 結合率可変方向性結合器
12−1〜12−4,17−1,17−2,27−1〜27−4,33−1〜33−4 3dB方向性結合器
13−1〜13−8,18,28−1〜28−8,34−1〜34−8 導波路屈折率の制御部分
14,29,35 光増幅器
19−1,19−2 シリコン基板
20−1,20−2 アンダークラッド
21−1,21−2,21−3,21−4 コア
22−1,22−2 オーバークラッド
23 薄膜ヒータ
36 光ゲート素子
101,201,301 光合分波器
102,103,202,203,302,303 縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計
104,204,304 光排他的論理和回路

Claims (12)

  1. パルス光を発生するパルス光源と、
    2入力2出力を有する光合分波器であって、前記2入力の一方が前記パルス光源と接続された光合分波器と、
    2入力2出力を有する可変光遅延線回路であって、2入力2出力を有する複数の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計を含み、前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の1つが有する2出力の一方が、前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の他の1つが有する2入力の一方と縦続接続され、前記可変光遅延線回路の2入力の一方が前記光合分波器の2出力の一方と接続された可変光遅延線回路と、
    少なくとも1つの光排他的論理和回路であって、該光排他的論理和回路の入力が、前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の出力のうち未接続となっている出力とそれぞれ接続された光排他的論理和回路と
    を備え、前記光排他的論理和回路の出力の一つは、前記光合分波器の2入力の他方と接続されていることを特徴とする光パルスパターン発生器。
  2. 前記光排他的論理和回路は縦続接続されていることを特徴とする請求項1に記載の光パルスパターン発生器。
  3. 前記光排他的論理和回路の入力および出力は2であり、前記光排他的論理和回路の数は前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の数よりも1つ少ないことを特徴とする請求項1に記載の光パルスパターン発生器。
  4. 前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計は、
    2入力2出力を有する第1の結合率可変方向性結合器、および
    前記第1の結合率可変方向性結合器と長さの異なる2本の光導波路を用いて接続された2入力2出力を有する第2の結合率可変方向性結合器を含む少なくとも1つの特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計
    を有することを特徴とする請求項1に記載の光パルスパターン発生器。
  5. 前記特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の1つが有する2出力の一方と、前記特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の他の1つが有する2入力の一方とが縦続接続されていることを特徴とする請求項4に記載の光パルスパターン発生器。
  6. 前記第1または第2の結合率可変方向性結合器は、2つの前記特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計により共用されていることを特徴とする請求項4に記載の光パルスパターン発生器。
  7. 光が伝送される部分の少なくとも1箇所に光増幅器が配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光パルスパターン発生器。
  8. 前記光合分波器は対称マッハツェンダ型干渉計であることを特徴とする請求項1に記載の光パルスパターン発生器。
  9. 前記光排他的論理和回路は対称マッハツェンダ型干渉計であることを特徴とする請求項1に記載の光パルスパターン発生器。
  10. 前記可変光遅延線回路、前記光合分波器または前記光排他的論理和回路の出力に光ゲート素子が接続されていることを特徴とする請求項1に記載の光パルスパターン発生器。
  11. パルス光を発生するパルス光源と、
    前記パルス光源の後段に接続された光合分波器と、
    前記光合分波器に接続された可変光遅延線回路と、
    前記可変光遅延線回路の途中および最終段に接続された光排他的論理和回路とを備え、
    前記光排他的論理和回路は前記光合分波器に接続されていることを特徴とする光パルスパターン発生器。
  12. 光パルスから光ランダムパターンパルス列を発生させる光パルスパターン発生方法であって、
    パルス光源から発生したパルス光を、光合分波器を介して、複数の縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計を含む可変光遅延線回路に入射するステップと、
    前記縦続接続特性可変非対称マッハツェンダ型干渉計の各々から出力されたパルス光を、光排他的論理和回路を介して、前記光合分波器に出力するステップと、
    前記光合分波器に出力されたパルス光を用いて、前記可変光遅延線回路、前記光合分波器、または前記光排他的論理和回路からランダムパルス列を出力するステップと
    を備えることを特徴とする光パルスパターン発生方法。
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