JP3913622B2 - Circuit equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently radiate a heat generated from a circuit element 12 contained in a circuit device 10 to an exterior. <P>SOLUTION: A first external electrode 15A is formed on a rear surface of a first conductive pattern 11A in which a circuit element 12 such as a transistor, a diode or the like is mounted. A second external electrode 15E is provided on a rear surface of a second conductive pattern in which the element 12 is not mounted. A fixed substrate 20 in which the circuit device is mounted, is made of a metal layer 22 and an insulating layer 23, and a conductive path 21 formed on the insulating layer is thermally coupled to the layer 22 through a thermal via hole 24. Accordingly, the heat generated from the element 12 is radiated to an exterior via the second conductive pattern 11E and the thermal via hole 24. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体素子等の複数個の回路素子が内蔵された回路装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、電子機器にセットされる回路装置は、携帯電話、携帯用のコンピューター等に採用されるため、小型化、薄型化、軽量化が求められている。例えば、回路装置として半導体装置を例にして述べると、一般的な半導体装置として、従来通常のトランスファーモールドで封止されたパッケージ型半導体装置がある。この半導体装置は、図10のように、プリント基板PSに実装される。
【0003】
またこのパッケージ型半導体装置61は、半導体チップ62の周囲を樹脂層63で被覆し、この樹脂層63の側部から外部接続用のリード端子64が導出されたものである。しかし、このパッケージ型半導体装置61は、リード端子64が樹脂層63から外に出ており、全体のサイズが大きく、小型化、薄型化および軽量化を満足するものではなかった。そのため、各社が競って小型化、薄型化および軽量化を実現すべく、色々な構造を開発し、最近ではCSP(チップサイズパッケージ)と呼ばれる、チップのサイズと同等のウェハスケールCSP、またはチップサイズよりも若干大きいサイズのCSPが開発されている。
【0004】
図11は、支持基板としてガラスエポキシ基板65を採用した、チップサイズよりも若干大きいCSP66を示すものである。ここではガラスエポキシ基板65にトランジスタチップTが実装されたものとして説明していく。
【0005】
このガラスエポキシ基板65の表面には、第1の電極67、第2の電極68およびダイパッド69が形成され、裏面には第1の裏面電極70と第2の裏面電極71が形成されている。そしてスルーホールTHを介して、前記第1の電極67と第1の裏面電極70が、第2の電極68と第2の裏面電極71が電気的に接続されている。またダイパッド69には前記ベアのトランジスタチップTが固着され、トランジスタのエミッタ電極と第1の電極67が金属細線72を介して接続され、トランジスタのベース電極と第2の電極68が金属細線72を介して接続されている。更にトランジスタチップTを覆うようにガラスエポキシ基板65に樹脂層73が設けられている。
【0006】
前記CSP66は、ガラスエポキシ基板65を採用するが、ウェハスケールCSPと違い、チップTから外部接続用の裏面電極70、71までの延在構造が簡単であり、安価に製造できるメリットを有する。また前記CSP66は、図10のように、プリント基板PSに実装される。プリント基板PSには、電気回路を構成する電極、配線が設けられ、前記CSP66、パッケージ型半導体装置61、チップ抵抗CRまたはチップコンデンサCC等が電気的に接続されて固着される。そしてこのプリント基板で構成された回路は、色々なセットの中に取り付けられていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような半導体装置は以下のような問題点を有していた。
【0008】
即ち、従来例で説明したCSP66では、トランジスタTは、金属細線72およびガラスエポキシ基板65上に形成された導電パターンを介して、電気的・熱的に実装基板PSに接続していた。このことから、トランジスタTの放熱性が不足してしまう問題があった。
【0009】
本発明はこのような問題を鑑みて成されたものであり、本発明の目的は、内蔵される半導体素子の熱を効率的に外部に放出させる回路装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の回路装置は、導電パターンと、前記導電パターンに接続された回路素子と、前記導電パターンおよび前記回路素子を封止する絶縁性樹脂とを有し平面的に四角形状である回路装置に於いて、前記導電パターンは、前記回路装置の4隅に設けられて各々の上面に前記回路素子が実装された4つの第1の導電パターンと、前記第1の導電パターンどうしの間に十字状に配列される複数の第2の導電パターンとを含み、前記第1の導電パターンに実装された前記回路素子から発生した熱を前記第2の導電パターンを経由して外部に放出させることを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】
(回路装置10の構成を説明する第1の実施の形態)
図1を参照して、本発明の回路装置10の構成等を説明する。図1(A)は回路装置10の平面図であり、図1(B)は回路装置10の断面図である。
【0016】
図1(A)および図1(B)を参照して、回路装置10は、周辺部に配置した第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dと、中央部に配置した第2の導電パターン11Eと、第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dに実装した回路素子12と、第1および第2の導電パターン11の裏面を露出させて第1および第2の導電パターン11と回路素子12を封止する絶縁性樹脂とを有している。更に、本発明では、回路素子12と第2の導電パターン11Eを熱的に結合させることにより、回路素子12から発生した熱を第2の導電パターン11Eを介して外部に放出させている。このような各構成要素を以下にて説明する。
【0017】
第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dは銅等の金属から成り、裏面を露出させて絶縁性樹脂13に埋め込まれている。上述したように、第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dは回路装置10の4隅に4個が配置されており、その2辺は外形となっている。各々の第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dには回路素子12が実装されている。第1の導電パターン11Aの形状は基本的には矩形であるが、内部に構成される回路に応じてその形状を変形させることもできる。例えば、同平面図に示すように、金属細線14のボンディングパッドとなる領域を確保するために、第1の導電パターン11Dを局所的に横方向に延在させることもできる。すなわち、第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dの形状は同一でなくても良い。
【0018】
第2の導電パターン11Eは銅等の金属から成り、裏面を露出させて絶縁性樹脂13に埋め込まれている。第2の導電パターン11Eは、第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dの間に設けられている。第2の導電パターン11Eは、回路装置10の中央部付近から十字形に配列するように複数個が設けられている。また、第2の導電パターン11Eは、金属細線14等を介して、第1の導電パターン上に実装された回路素子12と電気的に接続されている。ここでは、中央部付近に設けた十字形の第2の導電パターン11Eは、接地電位として働く導電パターンである。そして、その他の第2の導電パターン11Eは、例えば金属細線14のボンディングパッド等として働く導電パターンである。更に、第1の導電パターン11A〜11Dの全ては、中央部に配置された第2の導電パターン11Eと、絶縁性樹脂13を介して接近しているので、両者は熱的に結合されている。
【0019】
回路素子12としては、抵抗やコンデンサ等の受動素子および半導体素子等の能動素子を全般的に採用される。ここでは、同平面図に示すように、4隅に配置された第1の導電パターン11Aのそれぞれに、ダイオードまたはトランジスタ等の発熱を伴う素子が1つ実装されている。そして、第1の導電パターン11A上に実装された回路素子は、金属細線14を介して他の導電パターン電気的に接続されている。更にここでは、導電パターンを跨ぐようにチップ抵抗器が実装されている。回路素子の実装は、半田やAgペースト等のロウ材を介して行われる。また、回路素子12から発生する熱は、図1(A)および図1(B)にてハッチングが施された矢印の方向に沿って、第1の導電パターン11A〜11Dおよび絶縁性樹脂13を介して第2の導電パターン11Eに伝達される。
【0020】
絶縁性樹脂13は、導電パターン11の裏面を露出させて、全体を封止している。ここでは、回路素子12、金属細線14および導電パターン11を封止している。絶縁性樹脂13の材料としては、トランスファーモールドにより形成される熱硬化性樹脂や、インジェクションモールドにより形成される熱可塑性樹脂を採用することができる。本発明で使用する絶縁性樹脂13は、熱の伝導性に優れたものである。従って、絶縁性樹脂13を介して、回路素子12からの発熱は効率的に第2の導電パターン11E等に伝導する。
【0021】
図2を参照して、上述した回路装置10が固着基板20に実装された状態を説明する。図2(A)は回路装置10の裏面図であり、図2(B)は回路装置10が固着基板20に固着された状態を示す断面図である。
【0022】
図2(A)および図2(B)に示す回路装置10は、次のような構成を有する。即ち、周辺部に配置した第1の導電パターン11A〜11Dと、中央部に配置した第2の導電パターン11Eと、第1の導電パターン11A〜11Dに実装した回路素子12と、第1および第2の導電パターン11の裏面を露出させて導電パターン11および回路素子12を封止する絶縁性樹脂13と、第1および第2の導電パターン11の裏面に設けた外部電極15とを有する。更に、第1の導電パターン11A〜11Dと熱的に結合した第2の導電パターン11Eが、第2の外部電極15Eを介して、固着基板20に設けられたサーマルビアホール24に熱的に接続される。このような回路装置10の構成を以下にて説明する。なお、図1の説明を重複する要素については、その説明は割愛する。
【0023】
図2(A)を参照して、回路装置10の裏面の状態を説明する。この図では、導電パターン11を点線で示し、外部電極15をハッチングが施された領域で示している。回路装置10は全体が絶縁性樹脂13で支持されている。従って、回路装置10の裏面に於いては、絶縁性樹脂13から第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dと、第2の導電パターン11Eが露出する形になる。そして、第1の導電パターンおよび第2の導電パターンの裏面には、回路装置10と外部との電気的・熱的な接続を行うために、半田等から成る外部電極15が形成される。更に、回路装置10の裏面の外部電極を設けない箇所は、導電パターン11の保護等を目的としてレジストにより被覆する場合もある。
【0024】
第1の外部電極15A、15B、15Cおよび15Dは、第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dの裏面に設けられて外部との電気的・熱的な接合を行う電極である。ここでは、4隅に設けた4個の第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dのそれぞれの裏面に、大型の第1の外部電極15A、15B、15Cおよび15Dが設けられている。従って、第1の外部電極15A、15B、15Cおよび15Dは、回路装置10の裏面の4隅に4個が形成される。更に、4個の第1の外部電極15A、15B、15Cおよび15Dは、同じ形状に形成されて、回路装置10の裏面に左右・上下に対称に配置されている。また、それぞれの第1の外部電極15Aの大きさは同等に形成されている。第1の導電パターン11は、内部に構成される回路によってその形状が変化する場合があるが、第1の外部電極15Aの形状は矩形である。なお、第1の外部電極15Aは、半田等のロウ材を材料として形成されている。
【0025】
第2の外部電極15Eは、主に第2の導電パターン11Eの裏面に設けられており、外部との電気的・熱的な接合を行う電極である。第2の外部電極15Eは、回路装置10の裏面に於いて、中央部付近から十字形に複数個が配置されている。更に、第2の外部電極15Eは等間隔に配置されている。ここでは、中央部付近に配置された第2の導電パターン11Eには複数個の第2の外部電極15Eが設けられている。そして、周辺部に配置された第2の導電パターン11Aの裏面には、各々に1つの第2の外部電極15Eが設けられている。また、第2の外部電極15Eは、第1の導電パターン11Aの裏面に設けられても良い。なお、第2の外部電極15Aは半田等のロウ材を材料として形成されており、そのサイズは第1の外部電極15Aよりも小さく形成される。
【0026】
図1(B)で示すハッチングが施された矢印は、回路素子12から発生した熱の経路を示している。具体的には、回路素子12から発生した熱は、回路素子12が実装される第1の導電パターン11A〜11Dに伝わる。そして、第1の導電パターン11A〜11Dと中央部に設けた第2の導電パターン11Eは、絶縁性樹脂13を介して接近しており熱的に結合されている。従って、第1の導電パターン11A〜11Dから第2の導電パターン11Eに熱は伝導する。
【0027】
図2(B)を参照して、回路装置10が固着基板20に実装された状態を説明する。ここでは、半田等のロウ材より成る外部電極15をリフロー工程により、固着基板20上に形成された導電路21に回路装置10は固着されている。回路装置10裏面の四隅に配置された第1の外部電極15A、15B、15Cおよび15Dが十分に大きく形成されているので、リフロー行程に於いては、固着基板20上で回路装置10が回転して位置がずれてしまうのを防止することができる。またこのことにより、第1の外部電極15A、15A、15B、15Cおよび15Dと第2の外部電極15Eを、セルフアラインにより、固着基板20上の導電路21の所望の箇所に正確に固着させることができる。
【0028】
固着基板20は、金属層22と、金属層22上に形成された絶縁層23とから成る複合基板である。そして、絶縁層23の表面には導電路21が設けてあり、導電路21より形成されるパッドの位置は、回路装置10裏面の第1の外部電極11A〜11Dおよび第2の外部電極11Eの位置に正確に対応している。導電路21Eは、第2の外部電極15Eが固着され、サーマルビアホール24により、金属層22と熱的に結合されている。サーマルビアホール24は、アルミナやベリリア等の良熱伝導体から成り、絶縁層23を貫通させて導電路21Eと金属層22とを熱的に結合している。
【0029】
図2(B)で示すハッチングが施された矢印は、回路素子12から発生した熱の経路を示している。具体的には、回路素子12から発生した熱は、回路素子12が実装される第1の導電パターン11A〜11Dに伝わる。そして、第1の導電パターン11A〜11Dと中央部に設けた第2の導電パターン11Eは、絶縁性樹脂13を介して接近しており熱的に結合されている。従って、第1の導電パターン11A〜11Dから第2の導電パターン11Eに熱は伝導する。更に、中央部に設けた第2の導電パターン11Eは、第2の外部電極15Eおよび導電路21Eを介して、サーマルビアホール24に熱的に接続している。従って、第2の導電パターン11Eに伝達した熱は、第2の外部電極15E、導電路21E、サーマルビアホール24および金属層22を介して外部に放出される。
【0030】
回路素子12は、第1の導電パターン11Aおよび第1の外部電極15Aを介して、固着基板20の導電路21と電気的・熱的に結合している。即ち、原則的には、表面に回路素子12が実装される導電パターン11に形成される外部電極15は大きく形成され、表面に回路素子が実装されない導電パターン11に形成される外部電極は小さく形成される。ここで、導電パターン11に実装される回路素子12が発熱を伴わない素子である場合は、その導電パターン裏面に形成される外部電極15を小さく形成しても良い。
【0031】
図3を参照して、回路装置10の内部に形成される電気回路の1例を説明する。図3(A)は、内蔵される電圧制御回路の回路図である。図3(B)は、図3(A)に示すような回路が形成された回路装置の平面図である。
【0032】
図3(A)を参照して、回路装置10に内蔵される電圧制御回路を説明する。この回路は、コレクタにVinが接続されてエミッタにVoutが接続される第1のトランジスタTR1と、第1のトランジスタTR1のコレクタに接続された第1のダイオードD1および第2のダイオードD2と、抵抗R1を介して第1のトランジスタTR1のベースにドレインが接続された第2のトランジスタTR2とを有している。ここでは、第1のトランジスタTR1としてバイポーラ・トランジスタを採用し、第2のトランジスタTR2としてMOSFETを採用している。
【0033】
上記のように構成された電圧制御回路の動作例を以下にて説明する。第2のトランジスタTR2のゲートにパルス電圧が印加されることにより、第2のトランジスタTR2を断続的にON−OFF状態にする。従って、第2のトランジスタTR2がON状態であるときは、第1のトランジスタTR1もまたON状態になり、Voutの電圧を制御している。
【0034】
このように、第2のトランジスタTR2をパルス制御することで、第1のトランジスタTR1のON−OFFを制御して、Voutの電圧の値を制御している。本発明では、例えばVinの電圧は6Vであり、Voutの電圧は4Vになるように制御されているので、VinとVoutの電圧差約2Vに対応した熱が、回路素子から発生している。この熱は、次のような経路で回路装置10の外部に放出される。
【0035】
図3(B)を参照して、電圧制御回路を構成する回路素子の配置を説明する。回路を構成するダイオードおよびトランジスタは、第1の導電パターン上にロウ材を介して実装されている。また、抵抗R1については離間した2つの導電パターンを跨ぐようにして実装されている。
【0036】
第1のダイオードD1および第2のダイオードD2は、例えばショットキーダイオードであり、カソードを下面にして第1の導電パターン11Aに実装されている。従って、第1のダイオードD1および第2のダイオードD2が有するカソードからの発熱は、第1の導電パターン11Aを介して外部へ放出される。なお、ダイオードのアノードは、金属細線14を介して、他の導電パターン11と電気的に接続されている。
【0037】
第1のトランジスタTR1および第2のトランジスタTR2は、第1の導電パターンに実装されている。従って、トランジスタの発熱は、第1の導電パターン11Aを介して外部に放出される。なお、トランジスタの制御部および流入部は、金属細線14を介して他の導電パターンと電気的に接続されている。
【0038】
第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dは、それらに実装される回路素子12よりも十分に大きく形成されている。そして、第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dの大部分と対応する第1の外部電極15A、15B、15Cおよび15Dにほぼ重畳するように、回路素子12は固着されている。
【0039】
本発明の特徴は、回路素子12から発生する熱を第2の導電パターンを介して回路装置10の外部へ放出させることにある。上述したように、回路素子12は回路装置10の四隅に配置された第1の導電パターン11A〜11Dに実装されている。そして、第2の導電パターン11Eは、第1の導電パターン11A〜11Dで囲まれた中央部に配置されているので、全ての導電パターン11A〜11Dと絶縁性樹脂13を介して熱的に結合されている。従って、回路装置12から発生した熱は、第1の導電パターン11A〜11Dおよび第2の導電パターン11Eを介して、中央部に設けられた第2の導電パターン11Eに伝わる。第2の導電パターン11Eは、第2の外部電極15Eを介して、サーマルビアホール24と熱的に結合する導電路21Eに接続している。従って、回路素子12から発生した熱は次のような経路で外部に放出される。即ち、回路素子12→第1の導電パターン11A〜11D→絶縁性樹脂13→第2の導電パターン11E→第2の外部電極15E→導電路21E→サーマルビアホール24→金属基板の順番で熱は放出される。従って、回路装置10に内蔵される複数の回路素子12から発生する熱を、1つの第2の導電パターン11Eを介して外部に放出させることができる。このことから、発熱を伴う回路素子12が実装される第1の導電パターン11A、11B、11Cおよび11Dに対応する導電路21に個別にサーマルビアホール24を設ける必要がない。
【0040】
(回路装置10の製造方法を説明する第2の実施の形態)
本発明の回路装置10は次の様な工程で製造される。即ち、導電箔40を用意する工程と、導電箔40に導電箔40の厚みよりも浅い分離溝41を形成して導電パターン51を形成する工程と、所望の導電パターン51の各回路装置部45に回路素子12を固着する工程と、回路素子12と所望の導電パターン51とのワイヤボンディングを行う工程と、各回路装置部45の回路素子12を一括して被覆し、分離溝41に充填されるように絶縁性樹脂13で共通モールドする工程と、絶縁性樹脂13が露出するまで導電箔40の裏面を除去する工程と、絶縁性樹脂13をダイシングすることにより回路装置部に分離する工程とから構成されている。以下に、本発明の各工程を図4〜図9を参照して説明する。
【0041】
本発明の第1の工程は、図4から図6に示すように、導電箔40を用意し、導電箔40に導電箔40よりも浅い分離溝41をエッチングにより形成して、導電パターン51を形成することにある。
【0042】
本工程では、まず図4(A)の如く、シート状の導電箔40を用意する。この導電箔40は、ロウ材の付着性、ボンディング性、メッキ性が考慮されてその材料が選択され、材料としては、Cuを主材料とした導電箔、Alを主材料とした導電箔またはFe−Ni等の合金から成る導電箔等が採用される。
【0043】
導電箔40の厚さは、後のエッチングを考慮すると10μm〜300μm程度が好ましいが、300μm以上でも10μm以下でも基本的には良い。後述するように、導電箔40の厚みよりも浅い分離溝41が形成できればよい。
【0044】
尚、シート状の導電箔40は、所定の幅、例えば45mmでロール状に巻かれて用意され、これが後述する各工程に搬送されても良いし、所定の大きさにカットされた短冊状の導電箔40が用意され、後述する各工程に搬送されても良い。
【0045】
具体的には、図4(B)に示す如く、短冊状の導電箔40に多数の回路装置部45が形成されるブロック42が4〜5個離間して並べられる。各ブロック42間にはスリット43が設けられ、モールド工程等での加熱処理で発生する導電箔40の応力を吸収する。また導電箔40の上下周端にはインデックス孔44が一定の間隔で設けられ、各工程での位置決めに用いられる。続いて、導電パターンを形成する。
【0046】
まず、図5に示す如く、導電箔40の上に、ホトレジスト(耐エッチングマスク)PRを形成し、導電パターン51となる領域を除いた導電箔40が露出するようにホトレジストPRをパターニングする。そして、図6(A)に示す如く、導電箔40を選択的にエッチングする。
【0047】
図6(B)に具体的な導電パターン51を示す。本図は図4(B)で示したブロック42の1個を拡大したもの対応する。ハッチング部分の1個が1つの回路装置部45であり、1つのブロック42には2行2列のマトリックス状に多数の回路装置部45が配列され、各回路装置部45毎に同一の導電パターン51が設けられている。各ブロックの周辺には枠状のパターン46が設けられ、それと少し離間しその内側にダイシング時の位置合わせマーク47が設けられている。枠状のパターン46はモールド金型との嵌合に使用し、また導電箔40の裏面エッチング後には絶縁性樹脂13の補強をする働きを有する。ここで、導電パターン51は、第1の導電パターン11A〜11Dと、第2の導電パターン11Eから構成されている。
【0048】
本発明の第2の工程は、図7に示す如く、所望の導電パターン51の各回路装置部45に回路素子12を固着し、回路素子12の電極と所望の導電パターン51とをワイヤボンディングすることにある。
【0049】
ここでは、回路素子12として、半導体素子およびチップ抵抗が、第1の導電パターン11〜14にダイボンディングされる。その後、各回路装置部の回路素子12のベース電極およびゲート電極を、熱圧着によるボールボンディング及び超音波によるウェッヂボンディングにより一括してワイヤボンディングを行う。具体的には、各回路素子12のゲート電極およびベース電極が、金属細線を介して、第1または第2の導電パターンと接続される。
【0050】
本発明の第3の工程は、図8に示す如く、各回路装置部45の回路素子12を一括して被覆し、分離溝41に充填されるように絶縁性樹脂13で共通モールドすることにある。
【0051】
本工程では、図8(A)に示すように、絶縁性樹脂13は回路素子12および複数の導電パターンを完全に被覆し、分離溝41には絶縁性樹脂13が充填され、分離溝41と嵌合して強固に結合する。そして絶縁性樹脂13により導電パターン51が支持されている。
【0052】
また本工程では、トランスファーモールド、インジェクションモールド、またはポッティングにより実現できる。樹脂材料としては、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂がトランスファーモールドで実現でき、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド等の熱可塑性樹脂はインジェクションモールドで実現できる。
【0053】
更に、本工程でトランスファーモールドあるいはインジェクションモールドする際に、図8(B)に示すように各ブロック42は1つの共通のモールド金型に回路装置部63を納め、各ブロック毎に1つの絶縁性樹脂13で共通にモールドを行う。このために従来のトランスファーモールド等の様に各回路装置部を個別にモールドする方法に比べて、大幅な樹脂量の削減が図れる。
【0054】
本工程の特徴は、絶縁性樹脂13を被覆するまでは、導電パターン51となる導電箔40が支持基板となることである。従来では、本来必要としない支持基板を採用して導電パターンを形成しているが、本発明では、支持基板となる導電箔40は、電極材料として必要な材料である。そのため、構成材料を極力省いて作業できるメリットを有し、コストの低下も実現できる。
【0055】
また分離溝41は、導電箔の厚みよりも浅く形成されているため、導電箔40が導電パターン51として個々に分離されていない。従ってシート状の導電箔40として一体で取り扱え、絶縁性樹脂13をモールドする際、金型への搬送、金型への実装の作業が非常に楽になる特徴を有する。
【0056】
本発明の第4の工程は、絶縁性樹脂が露出するまで導電箔40の裏面を除去することにある。
【0057】
本工程は、導電箔40の裏面を化学的および/または物理的に除き、導電パターン51として分離するものである。この工程は、研磨、研削、エッチング、レーザの金属蒸発等により施される。
【0058】
実験では導電箔40を全面ウェトエッチングし、分離溝41から絶縁性樹脂13を露出させている。この露出される面を図8(A)では点線で示している。その結果、導電パターン51となって分離される。
【0059】
この結果、絶縁性樹脂13に導電パターン51の裏面が露出する構造となる。すなわち、分離溝41に充填された絶縁性樹脂13の表面と導電パターン51の表面は、実質的に一致している構造となっている。従って、本発明の回路装置は従来の裏面電極のように段差が設けられないため、マウント時に半田等の表面張力でそのまま水平に移動してセルフアラインできる特徴を有する。
【0060】
更に、導電パターン51の裏面処理を行い、例えば図1に示す最終構造を得る。すなわち、必要によって露出した導電パターン51に半田等の導電材を被着し、回路装置として完成する。
【0061】
本発明の第5の工程は、図9に示す如く、絶縁性樹脂13を各回路装置部45毎にダイシングにより分離することにある。
【0062】
本工程では、ブロック42をダイシング装置の載置台に真空で吸着させ、ダイシングブレード49で各回路装置部45間のダイシングライン(一点鎖線)に沿って分離溝41の絶縁性樹脂13をダイシングし、個別の回路装置に分離する。
【0063】
本工程で、ダイシングブレード49は、ほぼ絶縁性樹脂13を切断する切削深さで行い、ダイシング装置からブロック42を取り出した後にローラでチョコレートブレークするとよい。ダイシング時は予め前述した第1の工程で設けた各ブロックの位置合わせマーク47を認識して、これを基準としてダイシングを行う。周知ではあるが、ダイシングは縦方向にすべてのダイシングラインをダイシングをした後、載置台を90度回転させて横方向のダイシングライン70に従ってダイシングを行う。
【0064】
【発明の効果】
本発明では、以下に示すような効果を奏することができる。
【0065】
即ち、回路装置10に内蔵される回路素子12から発生する熱を、第2の導電パターン11Eを介して外部に放出させることにより、回路素子12の温度が過度に上昇するのを防止することができる。更に、第2の導電パターン11Eは接地電位として働く導電パターンであるため、熱伝導性に優れた材料から成るサーマルビアホールを介して、固着基板20の金属層22と容易に接続することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の回路装置を説明する平面図(A)、断面図(B)である。
【図2】本発明の回路装置を説明する平面図(A)、断面図(B)である。
【図3】本発明の回路装置を説明する回路図(A)、平面図(B)である。
【図4】本発明の回路装置の製造方法を説明する断面図(A)、平面図(B)である。
【図5】本発明の回路装置の製造方法を説明する断面図である。
【図6】本発明の回路装置の製造方法を説明する断面図(A)、平面図(B)である。
【図7】本発明の回路装置の製造方法を説明する平面図(A)、断面図(B)である。
【図8】本発明の回路装置の製造方法を説明する断面図(A)、平面図(B)断面図である。
【図9】本発明の回路装置の製造方法を説明する平面図である。
【図10】従来の回路装置を説明する断面図である。
【図11】従来の回路装置を説明する断面図である。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a circuit device incorporating a plurality of circuit elements such as semiconductor elements.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, a circuit device set in an electronic device is employed in a mobile phone, a portable computer, and the like, and thus, a reduction in size, thickness, and weight are required. For example, a semiconductor device as an example of a circuit device will be described. As a general semiconductor device, there is a package type semiconductor device sealed by a conventional transfer mold. This semiconductor device is mounted on a printed circuit board PS as shown in FIG.
[0003]
In the package type semiconductor device 61, the semiconductor chip 62 is covered with a resin layer 63, and lead terminals 64 for external connection are led out from the side portions of the resin layer 63. However, the package type semiconductor device 61 has the lead terminals 64 protruding from the resin layer 63 and has a large overall size, which does not satisfy the reduction in size, thickness and weight. Therefore, various companies have competed to develop various structures to achieve miniaturization, thinning, and weight reduction, and recently called CSP (chip size package), wafer scale CSP equivalent to chip size, or chip size A slightly larger CSP has been developed.
[0004]
FIG. 11 shows a CSP 66 that employs a glass epoxy substrate 65 as a support substrate and is slightly larger than the chip size. Here, description will be made assuming that the transistor chip T is mounted on the glass epoxy substrate 65.
[0005]
A first electrode 67, a second electrode 68, and a die pad 69 are formed on the surface of the glass epoxy substrate 65, and a first back electrode 70 and a second back electrode 71 are formed on the back surface. The first electrode 67 and the first back electrode 70, and the second electrode 68 and the second back electrode 71 are electrically connected through the through hole TH. Further, the bare transistor chip T is fixed to the die pad 69, the emitter electrode of the transistor and the first electrode 67 are connected via the fine metal wire 72, and the base electrode of the transistor and the second electrode 68 are connected to the fine metal wire 72. Connected through. Further, a resin layer 73 is provided on the glass epoxy substrate 65 so as to cover the transistor chip T.
[0006]
The CSP 66 employs a glass epoxy substrate 65, but unlike the wafer scale CSP, the extending structure from the chip T to the backside electrodes 70 and 71 for external connection is simple and has the merit that it can be manufactured at low cost. The CSP 66 is mounted on the printed circuit board PS as shown in FIG. The printed circuit board PS is provided with electrodes and wirings constituting an electric circuit, and the CSP 66, the package type semiconductor device 61, a chip resistor CR, a chip capacitor CC, and the like are electrically connected and fixed. And the circuit comprised with this printed circuit board was attached in various sets.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, the semiconductor device as described above has the following problems.
[0008]
That is, in the CSP 66 described in the conventional example, the transistor T is electrically and thermally connected to the mounting substrate PS via the metal thin wire 72 and the conductive pattern formed on the glass epoxy substrate 65. Therefore, there is a problem that the heat dissipation of the transistor T is insufficient.
[0009]
The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a circuit device that efficiently releases the heat of a built-in semiconductor element to the outside.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The circuit device of the present invention is a circuit device that has a conductive pattern, a circuit element connected to the conductive pattern, and an insulating resin that seals the conductive pattern and the circuit element, and has a square shape in plan view. The conductive pattern is formed in a cross shape between the four first conductive patterns provided at the four corners of the circuit device and having the circuit element mounted on each upper surface, and the first conductive patterns. A plurality of second conductive patterns arranged on the first conductive pattern, wherein heat generated from the circuit element mounted on the first conductive pattern is released to the outside through the second conductive pattern. And
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(First embodiment illustrating the configuration of the circuit device 10)
With reference to FIG. 1, the configuration of the circuit device 10 of the present invention will be described. FIG. 1A is a plan view of the circuit device 10, and FIG. 1B is a cross-sectional view of the circuit device 10.
[0016]
Referring to FIGS. 1A and 1B, circuit device 10 includes first conductive patterns 11A, 11B, 11C and 11D arranged in the peripheral portion, and a second conductive pattern arranged in the central portion. 11E, circuit elements 12 mounted on the first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D, and the first and second conductive patterns 11 and circuit elements by exposing the back surfaces of the first and second conductive patterns 11. 12 and an insulating resin for sealing 12. Furthermore, in the present invention, the heat generated from the circuit element 12 is released to the outside through the second conductive pattern 11E by thermally coupling the circuit element 12 and the second conductive pattern 11E. Each of these components will be described below.
[0017]
The first conductive patterns 11A, 11B, 11C and 11D are made of a metal such as copper, and are embedded in the insulating resin 13 with the back surface exposed. As described above, the four first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D are arranged at the four corners of the circuit device 10, and the two sides are the outer shapes. A circuit element 12 is mounted on each of the first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D. The shape of the first conductive pattern 11A is basically a rectangle, but the shape can be changed according to the circuit configured therein. For example, as shown in the plan view, the first conductive pattern 11D can be locally extended in the lateral direction in order to secure a region to be a bonding pad of the fine metal wire 14. That is, the shapes of the first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D do not have to be the same.
[0018]
The second conductive pattern 11E is made of a metal such as copper, and is buried in the insulating resin 13 with the back surface exposed. The second conductive pattern 11E is provided between the first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D. A plurality of second conductive patterns 11 </ b> E are provided so as to be arranged in a cross shape from the vicinity of the center of the circuit device 10. Further, the second conductive pattern 11E is electrically connected to the circuit element 12 mounted on the first conductive pattern via the fine metal wires 14 and the like. Here, the cross-shaped second conductive pattern 11E provided near the center is a conductive pattern that works as a ground potential. And the other 2nd conductive pattern 11E is a conductive pattern which acts as a bonding pad etc. of the metal fine wire 14, for example. Furthermore, since all of the first conductive patterns 11A to 11D are close to the second conductive pattern 11E arranged in the central portion via the insulating resin 13, both are thermally coupled. .
[0019]
As the circuit element 12, passive elements such as resistors and capacitors and active elements such as semiconductor elements are generally employed. Here, as shown in the plan view, one element that generates heat, such as a diode or a transistor, is mounted on each of the first conductive patterns 11A arranged at the four corners. The circuit element mounted on the first conductive pattern 11A is electrically connected to another conductive pattern via the metal thin wire 14. Further, here, a chip resistor is mounted so as to straddle the conductive pattern. The circuit element is mounted through a brazing material such as solder or Ag paste. Further, the heat generated from the circuit element 12 causes the first conductive patterns 11A to 11D and the insulating resin 13 to move along the directions of the hatched arrows in FIGS. 1 (A) and 1 (B). And transmitted to the second conductive pattern 11E.
[0020]
The insulating resin 13 exposes the back surface of the conductive pattern 11 and seals the whole. Here, the circuit element 12, the fine metal wire 14, and the conductive pattern 11 are sealed. As a material of the insulating resin 13, a thermosetting resin formed by transfer molding or a thermoplastic resin formed by injection molding can be employed. The insulating resin 13 used in the present invention is excellent in heat conductivity. Therefore, the heat generated from the circuit element 12 is efficiently conducted to the second conductive pattern 11E and the like through the insulating resin 13.
[0021]
With reference to FIG. 2, a state in which the above-described circuit device 10 is mounted on the fixed substrate 20 will be described. 2A is a back view of the circuit device 10, and FIG. 2B is a cross-sectional view showing a state where the circuit device 10 is fixed to the fixing substrate 20.
[0022]
The circuit device 10 shown in FIGS. 2A and 2B has the following configuration. That is, the first conductive patterns 11A to 11D disposed in the peripheral portion, the second conductive pattern 11E disposed in the central portion, the circuit element 12 mounted on the first conductive patterns 11A to 11D, the first and first The insulating resin 13 that seals the conductive pattern 11 and the circuit element 12 by exposing the back surface of the second conductive pattern 11, and the external electrode 15 provided on the back surface of the first and second conductive patterns 11. Further, the second conductive pattern 11E thermally coupled to the first conductive patterns 11A to 11D is thermally connected to the thermal via hole 24 provided in the fixed substrate 20 via the second external electrode 15E. The The configuration of such a circuit device 10 will be described below. In addition, the description which overlaps description of FIG. 1 is omitted.
[0023]
With reference to FIG. 2A, the state of the back surface of the circuit device 10 will be described. In this figure, the conductive pattern 11 is indicated by a dotted line, and the external electrode 15 is indicated by a hatched region. The entire circuit device 10 is supported by an insulating resin 13. Therefore, on the back surface of the circuit device 10, the first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D and the second conductive pattern 11E are exposed from the insulating resin 13. An external electrode 15 made of solder or the like is formed on the back surfaces of the first conductive pattern and the second conductive pattern in order to make electrical and thermal connection between the circuit device 10 and the outside. Further, the portion on the back surface of the circuit device 10 where no external electrode is provided may be covered with a resist for the purpose of protecting the conductive pattern 11 or the like.
[0024]
The first external electrodes 15A, 15B, 15C, and 15D are electrodes that are provided on the back surface of the first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D and perform electrical and thermal bonding with the outside. Here, large first external electrodes 15A, 15B, 15C, and 15D are provided on the back surfaces of the four first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D provided at the four corners. Accordingly, four first external electrodes 15 </ b> A, 15 </ b> B, 15 </ b> C, and 15 </ b> D are formed at the four corners of the back surface of the circuit device 10. Further, the four first external electrodes 15A, 15B, 15C, and 15D are formed in the same shape, and are symmetrically arranged on the back surface of the circuit device 10 in the horizontal and vertical directions. Further, the sizes of the respective first external electrodes 15A are formed to be equal. Although the shape of the first conductive pattern 11 may change depending on the circuit configured therein, the shape of the first external electrode 15A is rectangular. The first external electrode 15A is formed using a brazing material such as solder.
[0025]
The second external electrode 15E is mainly provided on the back surface of the second conductive pattern 11E, and is an electrode that performs electrical and thermal bonding with the outside. A plurality of second external electrodes 15E are arranged in a cross shape from the vicinity of the center on the back surface of the circuit device 10. Further, the second external electrodes 15E are arranged at equal intervals. Here, a plurality of second external electrodes 15E are provided on the second conductive pattern 11E disposed near the center. Then, one second external electrode 15E is provided on each back surface of the second conductive pattern 11A disposed in the peripheral portion. The second external electrode 15E may be provided on the back surface of the first conductive pattern 11A. The second external electrode 15A is made of a brazing material such as solder, and the size thereof is smaller than that of the first external electrode 15A.
[0026]
The hatched arrows shown in FIG. 1B indicate paths of heat generated from the circuit elements 12. Specifically, the heat generated from the circuit element 12 is transmitted to the first conductive patterns 11A to 11D on which the circuit element 12 is mounted. The first conductive patterns 11 </ b> A to 11 </ b> D and the second conductive pattern 11 </ b> E provided in the central portion are close to each other via the insulating resin 13 and are thermally coupled. Accordingly, heat is conducted from the first conductive patterns 11A to 11D to the second conductive pattern 11E.
[0027]
With reference to FIG. 2B, a state in which the circuit device 10 is mounted on the fixed substrate 20 will be described. Here, the circuit device 10 is fixed to the conductive path 21 formed on the fixing substrate 20 by reflowing the external electrode 15 made of a brazing material such as solder. Since the first external electrodes 15A, 15B, 15C and 15D arranged at the four corners on the back surface of the circuit device 10 are sufficiently large, the circuit device 10 rotates on the fixed substrate 20 in the reflow process. It is possible to prevent the position from shifting. In addition, this allows the first external electrodes 15A, 15A, 15B, 15C and 15D and the second external electrode 15E to be accurately fixed to a desired location of the conductive path 21 on the fixing substrate 20 by self-alignment. Can do.
[0028]
The fixed substrate 20 is a composite substrate including a metal layer 22 and an insulating layer 23 formed on the metal layer 22. A conductive path 21 is provided on the surface of the insulating layer 23, and the positions of the pads formed by the conductive path 21 are the positions of the first external electrodes 11A to 11D and the second external electrode 11E on the back surface of the circuit device 10. Corresponds precisely to the position. The second external electrode 15E is fixed to the conductive path 21E, and is thermally coupled to the metal layer 22 through the thermal via hole 24. The thermal via hole 24 is made of a good thermal conductor such as alumina or beryllia, and penetrates the insulating layer 23 to thermally couple the conductive path 21E and the metal layer 22 together.
[0029]
The hatched arrows shown in FIG. 2B indicate the path of heat generated from the circuit element 12. Specifically, the heat generated from the circuit element 12 is transmitted to the first conductive patterns 11A to 11D on which the circuit element 12 is mounted. The first conductive patterns 11 </ b> A to 11 </ b> D and the second conductive pattern 11 </ b> E provided in the central portion are close to each other via the insulating resin 13 and are thermally coupled. Accordingly, heat is conducted from the first conductive patterns 11A to 11D to the second conductive pattern 11E. Further, the second conductive pattern 11E provided in the central portion is thermally connected to the thermal via hole 24 via the second external electrode 15E and the conductive path 21E. Accordingly, the heat transmitted to the second conductive pattern 11E is released to the outside through the second external electrode 15E, the conductive path 21E, the thermal via hole 24, and the metal layer 22.
[0030]
The circuit element 12 is electrically and thermally coupled to the conductive path 21 of the fixed substrate 20 via the first conductive pattern 11A and the first external electrode 15A. That is, in principle, the external electrode 15 formed on the conductive pattern 11 on which the circuit element 12 is mounted on the surface is formed large, and the external electrode formed on the conductive pattern 11 on which the circuit element is not mounted is formed small. Is done. Here, when the circuit element 12 mounted on the conductive pattern 11 is an element that does not generate heat, the external electrode 15 formed on the back surface of the conductive pattern may be formed small.
[0031]
With reference to FIG. 3, an example of an electric circuit formed in the circuit device 10 will be described. FIG. 3A is a circuit diagram of a built-in voltage control circuit. FIG. 3B is a plan view of a circuit device in which a circuit as shown in FIG.
[0032]
With reference to FIG. 3A, a voltage control circuit built in the circuit device 10 will be described. This circuit includes a first transistor TR1 having a collector connected to Vin and an emitter connected to Vout, a first diode D1 and a second diode D2 connected to the collector of the first transistor TR1, and a resistor. And a second transistor TR2 having a drain connected to the base of the first transistor TR1 via R1. Here, a bipolar transistor is employed as the first transistor TR1, and a MOSFET is employed as the second transistor TR2.
[0033]
An operation example of the voltage control circuit configured as described above will be described below. By applying a pulse voltage to the gate of the second transistor TR2, the second transistor TR2 is intermittently turned on and off. Therefore, when the second transistor TR2 is in the ON state, the first transistor TR1 is also in the ON state and controls the voltage of Vout.
[0034]
Thus, by controlling the pulse of the second transistor TR2, the ON-OFF of the first transistor TR1 is controlled to control the voltage value of Vout. In the present invention, for example, the voltage of Vin is 6V, and the voltage of Vout is controlled to be 4V. Therefore, heat corresponding to a voltage difference of about 2V between Vin and Vout is generated from the circuit elements. This heat is released to the outside of the circuit device 10 through the following path.
[0035]
With reference to FIG. 3B, arrangement of circuit elements constituting the voltage control circuit will be described. A diode and a transistor constituting the circuit are mounted on the first conductive pattern via a brazing material. The resistor R1 is mounted so as to straddle two spaced apart conductive patterns.
[0036]
The first diode D1 and the second diode D2 are, for example, Schottky diodes, and are mounted on the first conductive pattern 11A with the cathode as the bottom surface. Accordingly, heat generated from the cathodes of the first diode D1 and the second diode D2 is released to the outside through the first conductive pattern 11A. Note that the anode of the diode is electrically connected to another conductive pattern 11 via a thin metal wire 14.
[0037]
The first transistor TR1 and the second transistor TR2 are mounted on the first conductive pattern. Accordingly, the heat generated by the transistor is released to the outside through the first conductive pattern 11A. Note that the control part and the inflow part of the transistor are electrically connected to other conductive patterns via the fine metal wires 14.
[0038]
The first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D are formed sufficiently larger than the circuit element 12 mounted on them. The circuit element 12 is fixed so as to substantially overlap the first external electrodes 15A, 15B, 15C and 15D corresponding to most of the first conductive patterns 11A, 11B, 11C and 11D.
[0039]
A feature of the present invention resides in that heat generated from the circuit element 12 is released to the outside of the circuit device 10 through the second conductive pattern. As described above, the circuit element 12 is mounted on the first conductive patterns 11 </ b> A to 11 </ b> D arranged at the four corners of the circuit device 10. And since the 2nd conductive pattern 11E is arrange | positioned in the center part enclosed by 1st conductive pattern 11A-11D, it couple | bonds thermally via all the conductive patterns 11A-11D and the insulating resin 13. Has been. Therefore, the heat generated from the circuit device 12 is transmitted to the second conductive pattern 11E provided at the center via the first conductive patterns 11A to 11D and the second conductive pattern 11E. The second conductive pattern 11E is connected to a conductive path 21E that is thermally coupled to the thermal via hole 24 via the second external electrode 15E. Accordingly, the heat generated from the circuit element 12 is released to the outside through the following path. That is, heat is released in the order of circuit element 12 → first conductive patterns 11A to 11D → insulating resin 13 → second conductive pattern 11E → second external electrode 15E → conductive path 21E → thermal via hole 24 → metal substrate. Is done. Therefore, the heat generated from the plurality of circuit elements 12 incorporated in the circuit device 10 can be released to the outside through the single second conductive pattern 11E. For this reason, it is not necessary to provide the thermal via holes 24 individually in the conductive paths 21 corresponding to the first conductive patterns 11A, 11B, 11C, and 11D on which the circuit elements 12 that generate heat are mounted.
[0040]
(Second Embodiment Explaining Method of Manufacturing Circuit Device 10)
The circuit device 10 of the present invention is manufactured by the following process. That is, a step of preparing the conductive foil 40, a step of forming a separation groove 41 shallower than the thickness of the conductive foil 40 in the conductive foil 40 to form the conductive pattern 51, and each circuit device portion 45 of the desired conductive pattern 51. The step of fixing the circuit element 12 to the substrate, the step of wire bonding the circuit element 12 and the desired conductive pattern 51, and the circuit element 12 of each circuit device unit 45 are collectively covered and filled in the separation groove 41. A step of performing common molding with the insulating resin 13, a step of removing the back surface of the conductive foil 40 until the insulating resin 13 is exposed, and a step of dicing the insulating resin 13 into the circuit device portion. It is composed of Below, each process of this invention is demonstrated with reference to FIGS.
[0041]
In the first step of the present invention, as shown in FIGS. 4 to 6, a conductive foil 40 is prepared, and a separation groove 41 shallower than the conductive foil 40 is formed in the conductive foil 40 by etching to form a conductive pattern 51. It is to form.
[0042]
In this step, first, a sheet-like conductive foil 40 is prepared as shown in FIG. The conductive foil 40 is selected in consideration of the adhesiveness, bonding property, and plating property of the brazing material. As the material, a conductive foil mainly composed of Cu, a conductive foil mainly composed of Al, or Fe is used. A conductive foil made of an alloy such as Ni is employed.
[0043]
The thickness of the conductive foil 40 is preferably about 10 μm to 300 μm in consideration of the later etching, but may be basically 300 μm or more or 10 μm or less. As will be described later, it is only necessary that the separation groove 41 shallower than the thickness of the conductive foil 40 can be formed.
[0044]
In addition, the sheet-like conductive foil 40 is prepared by being wound into a roll with a predetermined width, for example, 45 mm, and this may be conveyed to each step described later, or a strip-shaped cut into a predetermined size. The conductive foil 40 may be prepared and conveyed to each process described later.
[0045]
Specifically, as shown in FIG. 4B, 4 to 5 blocks 42 in which a large number of circuit device portions 45 are formed are arranged on the strip-shaped conductive foil 40 so as to be spaced apart. A slit 43 is provided between each block 42 to absorb the stress of the conductive foil 40 generated by the heat treatment in the molding process or the like. Also, index holes 44 are provided at regular intervals at the upper and lower peripheral ends of the conductive foil 40, and are used for positioning in each step. Subsequently, a conductive pattern is formed.
[0046]
First, as shown in FIG. 5, a photoresist (etching resistant mask) PR is formed on the conductive foil 40, and the photoresist PR is patterned so that the conductive foil 40 excluding the region to be the conductive pattern 51 is exposed. Then, as shown in FIG. 6A, the conductive foil 40 is selectively etched.
[0047]
A specific conductive pattern 51 is shown in FIG. This figure corresponds to an enlarged view of one of the blocks 42 shown in FIG. One hatched portion is one circuit device unit 45, and in one block 42, a large number of circuit device units 45 are arranged in a matrix of 2 rows and 2 columns, and the same conductive pattern is provided for each circuit device unit 45. 51 is provided. A frame-like pattern 46 is provided in the periphery of each block, and a positioning mark 47 for dicing is provided inside the pattern slightly apart from the frame-like pattern 46. The frame-shaped pattern 46 is used for fitting with the mold, and has a function of reinforcing the insulating resin 13 after the back surface etching of the conductive foil 40. Here, the conductive pattern 51 includes first conductive patterns 11A to 11D and a second conductive pattern 11E.
[0048]
In the second step of the present invention, as shown in FIG. 7, the circuit element 12 is fixed to each circuit device portion 45 of the desired conductive pattern 51, and the electrode of the circuit element 12 and the desired conductive pattern 51 are wire-bonded. There is.
[0049]
Here, as the circuit element 12, a semiconductor element and a chip resistor are die-bonded to the first conductive patterns 11 to 14. Thereafter, the base electrode and the gate electrode of the circuit element 12 of each circuit device unit are collectively bonded by ball bonding by thermocompression bonding and wedge bonding by ultrasonic waves. Specifically, the gate electrode and the base electrode of each circuit element 12 are connected to the first or second conductive pattern via a thin metal wire.
[0050]
In the third step of the present invention, as shown in FIG. 8, the circuit elements 12 of each circuit device unit 45 are collectively covered, and the insulating resin 13 is commonly molded so as to fill the separation grooves 41. is there.
[0051]
In this step, as shown in FIG. 8A, the insulating resin 13 completely covers the circuit element 12 and the plurality of conductive patterns, and the separation groove 41 is filled with the insulating resin 13. Fits and bonds firmly. The conductive pattern 51 is supported by the insulating resin 13.
[0052]
Further, this step can be realized by transfer molding, injection molding, or potting. As the resin material, a thermosetting resin such as an epoxy resin can be realized by transfer molding, and a thermoplastic resin such as polyimide resin or polyphenylene sulfide can be realized by injection molding.
[0053]
Further, when performing transfer molding or injection molding in this step, each block 42 has a circuit device portion 63 in one common mold as shown in FIG. 8B, and one insulating property is provided for each block. The resin 13 is molded in common. For this reason, the amount of resin can be greatly reduced as compared with a method in which each circuit device unit is individually molded, such as a conventional transfer mold.
[0054]
The feature of this step is that the conductive foil 40 that becomes the conductive pattern 51 becomes a support substrate until the insulating resin 13 is coated. Conventionally, the conductive pattern is formed by using a support substrate that is not originally required, but in the present invention, the conductive foil 40 serving as the support substrate is a material necessary as an electrode material. Therefore, there is a merit that the work can be performed with the constituent materials omitted as much as possible, and the cost can be reduced.
[0055]
Further, since the separation groove 41 is formed shallower than the thickness of the conductive foil, the conductive foil 40 is not individually separated as the conductive pattern 51. Therefore, the sheet-like conductive foil 40 can be handled as a unit, and when the insulating resin 13 is molded, it has a feature that the work of transporting to the mold and mounting to the mold becomes very easy.
[0056]
The fourth step of the present invention is to remove the back surface of the conductive foil 40 until the insulating resin is exposed.
[0057]
In this step, the back surface of the conductive foil 40 is chemically and / or physically removed and separated as the conductive pattern 51. This step is performed by polishing, grinding, etching, laser metal evaporation, or the like.
[0058]
In the experiment, the entire surface of the conductive foil 40 is wet etched to expose the insulating resin 13 from the separation groove 41. This exposed surface is indicated by a dotted line in FIG. As a result, the conductive pattern 51 is separated.
[0059]
As a result, the back surface of the conductive pattern 51 is exposed to the insulating resin 13. That is, the surface of the insulating resin 13 filled in the separation groove 41 and the surface of the conductive pattern 51 are substantially matched. Therefore, since the circuit device of the present invention does not have a step as in the conventional back electrode, it has the feature that it can be moved horizontally and self-aligned by the surface tension of solder or the like during mounting.
[0060]
Furthermore, the back surface treatment of the conductive pattern 51 is performed to obtain, for example, the final structure shown in FIG. That is, a conductive material such as solder is deposited on the exposed conductive pattern 51 as necessary to complete the circuit device.
[0061]
The fifth step of the present invention is to separate the insulating resin 13 by dicing for each circuit device section 45 as shown in FIG.
[0062]
In this step, the block 42 is vacuum-adsorbed on the mounting table of the dicing apparatus, and the insulating resin 13 in the separation groove 41 is diced along a dicing line (one-dot chain line) between the circuit device portions 45 with a dicing blade 49. Separate into separate circuit devices.
[0063]
In this step, the dicing blade 49 is preferably performed at a cutting depth that substantially cuts the insulating resin 13, and after taking out the block 42 from the dicing apparatus, a chocolate break may be performed with a roller. At the time of dicing, the alignment mark 47 of each block provided in the first step described above is recognized in advance and dicing is performed based on this. As is well known, dicing is performed by dicing all dicing lines in the vertical direction, rotating the mounting table 90 degrees, and performing dicing according to the dicing lines 70 in the horizontal direction.
[0064]
【The invention's effect】
In the present invention, the following effects can be obtained.
[0065]
That is, it is possible to prevent the temperature of the circuit element 12 from excessively rising by releasing the heat generated from the circuit element 12 incorporated in the circuit device 10 to the outside through the second conductive pattern 11E. it can. Further, since the second conductive pattern 11E is a conductive pattern that works as a ground potential, it can be easily connected to the metal layer 22 of the fixed substrate 20 through a thermal via hole made of a material having excellent thermal conductivity.
[Brief description of the drawings]
1A and 1B are a plan view and a cross-sectional view illustrating a circuit device according to the present invention.
2A and 2B are a plan view and a cross-sectional view illustrating a circuit device of the present invention.
3A and 3B are a circuit diagram (A) and a plan view (B) for explaining a circuit device of the present invention.
4A and 4B are a cross-sectional view (A) and a plan view (B) illustrating a method for manufacturing a circuit device according to the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a circuit device according to the present invention.
6A and 6B are a cross-sectional view (A) and a plan view (B) illustrating a method for manufacturing a circuit device according to the present invention.
7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a circuit device according to the present invention.
8A and 8B are a cross-sectional view (A) and a plan view (B) cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a circuit device according to the present invention.
FIG. 9 is a plan view illustrating the method for manufacturing the circuit device of the present invention.
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a conventional circuit device.
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a conventional circuit device.

Claims (6)

導電パターンと、前記導電パターンに接続された回路素子と、前記導電パターンおよび前記回路素子を封止する絶縁性樹脂とを有し平面的に四角形状である回路装置に於いて、  In a circuit device that has a conductive pattern, a circuit element connected to the conductive pattern, and an insulating resin that seals the conductive pattern and the circuit element, and has a square shape in plan view.
前記導電パターンは、前記回路装置の4隅に設けられて各々の上面に前記回路素子が実装された4つの第1の導電パターンと、前記第1の導電パターンどうしの間に十字状に配列される複数の第2の導電パターンとを含み、  The conductive patterns are arranged in a cross shape between the four first conductive patterns provided at the four corners of the circuit device and having the circuit element mounted on each upper surface, and the first conductive patterns. A plurality of second conductive patterns.
前記第1の導電パターンに実装された前記回路素子から発生した熱を前記第2の導電パターンを経由して外部に放出させることを特徴とする回路装置。  A circuit device characterized in that heat generated from the circuit element mounted on the first conductive pattern is released to the outside through the second conductive pattern.
前記回路素子は、半導体素子であることを特徴とする請求項1記載の回路装置。  The circuit device according to claim 1, wherein the circuit element is a semiconductor element. 前記絶縁性樹脂から外部に露出する前記第2の導電パターンの裏面に外部電極を設け、  An external electrode is provided on the back surface of the second conductive pattern exposed to the outside from the insulating resin,
前記回路素子から発生する熱を、前記第2の導電パターンおよび前記外部電極を経由して、固着基板に設けられたサーマルビアホールに伝導させることを特徴とする請求項1記載の回路装置。  2. The circuit device according to claim 1, wherein heat generated from the circuit element is conducted to a thermal via hole provided in a fixed substrate via the second conductive pattern and the external electrode.
前記サーマルビアホールに接続される前記第2の導電パターンは、接地電位に接続されることを特徴とする請求項3記載の回路装置。 4. The circuit device according to claim 3, wherein the second conductive pattern connected to the thermal via hole is connected to a ground potential. 全ての前記第1の導電パターンに隣接して中央部に設けられる前記第2の導電パターンを、十字状の形状にすることを特徴とする請求項1記載の回路装置。  2. The circuit device according to claim 1, wherein the second conductive pattern provided in the central portion adjacent to all the first conductive patterns has a cross shape. 前記導電パターンの側面および上面は前記絶縁性樹脂により被覆され、前記導電パターンの裏面は前記絶縁性樹脂から外部に露出することを特徴とする請求項1記載の回路装置。  2. The circuit device according to claim 1, wherein a side surface and an upper surface of the conductive pattern are covered with the insulating resin, and a back surface of the conductive pattern is exposed to the outside from the insulating resin.
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