JP3909556B2 - 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器に関し、特に、ＰＨＳや携帯電話等の携帯用電話機、携帯用パーソナルコンピュータ等の携帯用情報端末、携帯用ゲーム機器等に用いられるカラー表示の反射型液晶表示装置に適用され、特に表示装置の反り、伸び、割れ等がなく、また表示装置を構成する基板間の間隔を所定の間隔（セルギャップ）に保持することで電気光学装置としての機能を良好に保持し得る技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に用いられている液晶表示装置には、バックライトを用いて表示する半透過型、透過型と称されるものと、太陽光や照明光等の外光のみを利用することでバックライトを用いずに表示する反射型と称されるものがある。
この反射型の液晶表示装置は、薄い、軽い、割れない等の特徴を有するために、薄型かつ軽量の液晶表示装置が望まれるＰＨＳや携帯電話等の携帯用電話機、携帯用パーソナルコンピュータ等の携帯用情報端末、携帯用ゲーム機器等に多く用いられている。
図１５は、従来の反射型液晶表示装置の液晶表示パネルの一例を示す断面図であり、プラスチック基板を用いた一枚偏光板方式（ＳＰＤ方式）のパッシブマトリクス型の液晶表示装置（ＰＦＰ）の例である。
この液晶表示パネルは、対向配置された一対のプラスチック基板２００１、２００２間に、反射モードＳＴＮ（Super-Twisted Nematic）等からなる液晶層２００３が挟持されている。このプラスチック基板２００１の上面には光散乱フィルム２００４、偏光フィルム２００５が順次形成され、下面にはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなるストライプ状の透明電極２００６が形成されている。
一方、プラスチック基板２００２の上面には、前記透明電極２００６と交差するストライプ状の透明電極２００７が形成され、下面には反射板２００８が設けられている。
【０００３】
プラスチック基板２００１、２００２としては、ポリエステルフィルム等が用いられる。このポリエステルフィルムは、高温で加熱することができないので、透明電極２００６、２００７を成膜する場合には、低温に保持したポリエステルフィルム上に酸化スズを含む酸化インジウムを蒸着し、その後約１７０℃程度で加熱して酸化処理を施す方法が採られる。この酸化処理により、透明電極２００６、２００７に所望の導電性、透明性を確保することができる。
ポリエステルフィルムは柔軟性を有するものであるから、ガラス基板と比べて散在するスペーサに片寄りが生じ易い。そこで、スペーサの量を多くしてセルギャップを保持する方法が採られている。
この液晶表示パネルに液晶駆動用回路等の付帯要素を組み合わせることにより反射型液晶表示装置が構成されている。
このプラスチック基板を用いた液晶表示装置（ＰＦＰ）は、従来のガラス基板を用いたものと比べて、薄い、軽い、割れない等の優れた特徴を有する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来の反射型液晶表示装置においては、プラスチック基板を用いているために、製造プロセスにおけるプロセス温度を高くすることができず、プラスチック基板上に反射板やカラーフィルタを成膜することが困難であり、したがって、カラー表示が難しいという問題点があった。
また、セルギャップを保持する方法として、プラスチック基板の表面にギャップ剤を固着させて形成する方法も考えられるが、ポリエステルフィルム自体が柔軟性を有するものであるから、セルギャップを維持することは困難であり、仮に初期的にセルギャップを形成したとしても、その精度は非常に悪いものとなる。
【０００５】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであって、表示装置の反り、伸び、割れ等がなく、表示装置を構成する基板間の間隔を所定の間隔（セルギャップ）に保持することで、電気光学装置としての機能である画像の解像度、色度等を向上させることができる電気光学装置を提供することを課題としている。
また、前記電気光学装置を得るための電気光学装置の製造方法を提供することを課題としている。
また、前記電気光学装置を備えた電子機器を提供することを課題としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気光学装置は、一対の基板間に電気光学材料が挟持されてなる電気光学装置であって、前記一対の基板のうち一方の基板が透明基板、他方の基板が金属基板とされ、前記金属基板の前記電気光学材料側の表面には、前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで形成された散乱反射面である凹凸面、及び前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで前記凹凸面と同時に形成されるとともに前記金属基板自体の一部として形成され、前記透明基板との間隔を保持するための、前記金属基板と一体となった突部または突条が形成されていることを特徴とする。
この電気光学装置では、電気光学材料を挟持する一対の基板のうち一方の基板を透明基板、他方の基板を金属基板としたことにより、従来のプラスチック基板を両方の基板に用いたものに比べ、金属基板の反り、伸び、縮み等が従来のプラスチック基板と比べて小さく、透明基板と金属基板とのセルギャップが所望の間隔に良好に保持されるので、画像の解像度が向上する。
【００１２】
また、前記金属基板の前記電気光学材料側の表面に、前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで形成された凹凸面を散乱反射面とするので、外部からの光を効果的に反射・散乱させることができ、画像の解像度、色度の面内均質性を高めることができる。
また、前記金属基板の前記電気光学材料側の表面に、前記透明基板との間隔を保持するための、前記金属基板と一体となった突部または突条を形成するので、金属基板と前記透明基板とを対向配置するだけで、これらの基板間の間隔を良好に保持することができる。しかも、別途セルギャップを用意する必要が無く、部品の点数を削減することができ、製品のコストダウンを図ることができる。
【００１３】
本発明の電気光学装置は、前記金属基板に、外部機器取付用の取付部を形成することが好ましい。
このような構成によれば、前記金属基板の端部等を利用して外部機器へ直接取り付けることができるので、外部機器への取り付けを容易に行うことができる。本発明の電気光学装置は、前記金属基板に、外部機器取付用の突片を形成することが好ましい。
このような構成によれば、前記金属基板の端部等に形成された突片を利用して外部機器へ直接取り付けることができるので、外部機器への取り付けを容易に行うことができる。
【００１４】
本発明の電気光学装置は、前記取付部および／または前記突片に、外部機器取付用の穴を形成することが好ましい。
このような構成によれば、前記外部機器取付用の穴を利用して外部機器へ直接取り付けることができるので、外部機器への取り付けを容易に行うことができる。
【００１７】
本発明の電気光学装置の製造方法は、一対の基板間に電気光学材料が挟持され、前記一対の基板のうち一方の基板が透明基板、他方の基板が金属基板とされ、該金属基板の前記電気光学材料側の表面が反射面とされた電気光学装置の製造方法であって、前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことにより、前記金属基板自体の表面に、散乱反射面である凹凸面及び前記透明基板との間隔を保持するための突部または突条を同時に形成することを特徴とする。
このような製造方法によれば、フォトリソグラフィ技術の替りに機械的な表面加工を適用することにより、前記金属基板の表面に、散乱反射面である凹凸面及び前記透明基板との間隔を保持するための突部または突条を同時に形成するので、容易にかつ短時間で前記金属基板の表面に、セルギャップとしての機能を有する突部または突条を容易にかつ極めて短時間で形成することができる。
【００１８】
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
このような電子機器とすることで、画像の解像度が向上し、しかも、電子機器の薄厚化、構成の簡単化を図ることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明の電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器の各実施形態について図面に基づき説明する。
【００２０】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態について図面に基づき説明する。
まず、本発明の電気光学装置として、一枚偏光板方式（ＳＰＤ方式）のパッシブマトリクス型の反射型カラー液晶装置を例に採り、この液晶装置の画素部について、図１から図４を参照して説明する。
【００２１】
（液晶装置の構成）
まず、本実施の形態の液晶装置の要部である画像表示領域について説明する。図１は、液晶装置１の全体構成を示す平面図で、下側基板となる液晶装置用基板１２をその上に形成された各構成要素と共に上側基板となる対向基板１３の側から見た図である。図２は図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。図３は対向基板１３を示す断面図である。図４は液晶装置用基板１２を示す断面図である。なお、上述した全ての図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００２２】
これらの図において、液晶装置１は、ガラス等からなる液晶装置用基板１２と対向基板１３とがシール材１５を介して所定間隔で貼着され、シール材１５の内側には液晶１４が封入されている。シール材１５は、図１に示すように、液晶装置用基板１２及び対向基板１３の周縁部間に略環状に形成されていて、その一部には液晶１４を注入するための液晶注入孔３６が形成されている。液晶注入孔３６から液晶装置用基板１２、対向基板１３間（液晶セル内）に液晶１４を注入した後、液晶注入孔３６は封止材３７により封止されている。
【００２３】
液晶装置用基板１２、対向基板１３の液晶１４側表面上には、各々複数のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などからなる信号電極（導電部）２、走査電極（導電部）３が形成されており、信号電極２、走査電極３間に所定の電圧を印加することにより、液晶１４の配向状態を変化させ、これを光学的に識別することにより、表示することが可能な構造になっている。
図１に示すように、信号電極２、走査電極３はいずれもストライプ状に形成されており、かつ、各信号電極２と各走査電極３とは互いに交差するように形成されている。なお、本実施形態においては、液晶装置用基板１２の表面に形成された電極を信号電極２とし、対向基板１３の表面に形成された電極を走査電極３としているが、これは逆であってもかまわない。
【００２４】
この液晶装置１において、信号電極２、走査電極３が交差する部分が画素となっており、液晶１４を各画素毎に外部から駆動する方式が採用されている。図１には例として、液晶１４を外部から駆動する手段として、各基板上の非表示領域を互いに対向する基板の外側に張り出させ、その領域に各基板の電極に対して信号を供給する駆動用回路をそれぞれ実装し、各駆動用回路と各透明電極とを引き回し配線を用いて電気的に接続する構成を採用した場合について図示している。また、例として、駆動用回路の実装方法として、チップ部品をガラス基板上に実装する、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）実装と呼ばれる実装方法を採用した場合について図示している。
【００２５】
すなわち、液晶装置１においては、液晶装置用基板１２は図示下端部が対向基板１３より外側に位置し、この部分に信号電極２に対して信号を供給する駆動用回路３１が直接搭載されている。また、対向基板１３の図示右端部が液晶装置用基板１２より外側に位置しており、この部分に走査電極３に信号を供給する駆動用回路３２が直接搭載されている。信号電極２、走査電極３は、それぞれ同じ基板の表面に形成された駆動用回路３１、３２に図示は省略している引き回し配線を介して電気的に接続されている。
【００２６】
次に、図２に基づいて、液晶装置１の断面構造について説明する。
図２に示すように、液晶装置用基板１２の液晶１４側表面上には、反射層２０、カラーフィルター２１、平坦化膜２２、信号電極２、配向膜２７が順次積層形成されている。一方、対向基板１３の液晶１４側表面上には走査電極３と配向膜２８とが順次積層形成されている。また、液晶１４内には液晶セルのセルギャップを均一化するために、二酸化珪素、ポリスチレン等からなる多数の球状のスペーサー２９が配置されている。また、対向基板１３の外側には偏光板、位相差板などの光学素子が設けられているが、図面上は省略している。
【００２７】
反射層２０は光を反射する銀やアルミニウムなどからなり、対向基板１３側（観察者側）から入射した太陽光などの外光が液晶１４を透過し、反射層２０で反射されて、再び液晶１４、対向基板１３を透過して外部に出射され、表示することが可能な構造になっている。
カラーフィルター２１は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層２１ａと隣接する着色層２１ａ間を遮光する遮光層（ブラックマトリクス）２１ｂとからなっている。液晶装置１において、信号電極２と走査電極３とが交差する部分が画素になっており、各画素に対応して、赤、緑、青の着色層２１ａのうちいずれかの着色層が配置され、赤、緑、青を表示する３つの画素で１つの表示が可能になっている。平坦化膜２２は有機膜などからなり、カラーフィルター２１を形成した液晶装置用基板１２の表面を平坦化するために設けられている。
【００２８】
信号電極２の一方の端部は、信号電極２と同じ材料あるいは信号電極２よりも低抵抗なニッケル、銅などからなる引き回し配線３４に電気的に接続されている。引き回し配線３４はシール材１５の外側にまで延出形成されており、信号電極２は引き回し配線３４を介してシール材１５の外側に設けられた駆動用回路３１（図２においては省略）に電気的に接続されている。走査電極３についても同様に、図示は省略しているが、引き回し配線を介してシール材１５の外側に設けられた駆動用回路３２に電気的に接続されている。
配向膜２７、２８は、ポリイミドなどの配向性高分子からなり、電界を印加しないときの液晶１４の配向状態に合わせて、その表面は布などを用いて所定の方向にラビングされている。
【００２９】
液晶装置用基板１２は、図４に示すように、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、ステンレススチール、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）等からなる金属基板１６と、この金属基板１６上に形成された反射層２０及び光透過性樹脂等からなる光透過性の絶縁層１７と、この絶縁層１７上に形成されたＩＴＯ等からなるストライプ状の透明電極１８とにより構成されている。この透明電極１８は液晶駆動用の信号電極２である。
この絶縁層１７は、金属基板１６の表面に形成された樹脂層からなるカラーフィルタ２１と、該カラーフィルタ２１上に形成された平坦化膜２２とにより構成されている。このカラーフィルタ２１は、既に説明したように、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層２１ａと、隣接する着色層２１ａ間を遮光する遮光層（ブラックマトリクス）２１ｂとからなっている。
前記金属基板１６の表面１６ａは研磨により鏡面化されることで光反射性の反射面とされており、この金属基板１６の厚みは１００〜２０００μｍ、最良は４００μｍである。
【００３０】
対向基板１３は、図３に示すように、例えば、透明なプラスチック基板２３と、このプラスチック基板２３の液晶１４側の表面（下面）に形成され前記透明電極１８と交差するＩＴＯ等からなるストライプ状の透明電極２４と、このプラスチック基板２３の液晶１４と反対側の表面（上面）に形成された光散乱フィルム２５及び偏光フィルム２６とにより構成されている。
このプラスチック基板２３は、例えば、メタクリレート系樹脂、アクリレート系樹脂、ポリカボネート（ＰＣ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、シアヌル酸トリアリルエステル（トリアリルシアヌレート：ＴＡＣ）等からなるプラスチック板、もしくはプラスチックフィルムからなるもので、その厚みは５０〜２０００μｍ、より好ましくは１００〜２００μｍ、最良は２００μｍである。
【００３１】
シール材１５としては、エポキシ樹脂、各種の紫外線硬化樹脂等の高分子材料を用いることができる。
また、ギャップ材としては、約２μｍ〜約１０μｍの径の無機あるいは有機質のファイバ若しくは球を用いることができる。
ここで、シール材１５は部分的に途切れており、この途切れた部分が液晶注入孔３６を構成している。このため、液晶装置用基板１２と対向基板１３とを貼り合わせた後、シール材１５の内側領域を減圧状態にすれば、液晶１４を液晶注入孔３６からシール材１５の内側領域に減圧注入することができる。液晶１４を密封状態にするには、シール材１５の内側領域に液晶１４を封入した後、液晶注入孔３６を封止材３７で塞げばよい。
【００３２】
本実施形態の液晶装置によれば、下側基板をアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、ステンレススチール、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）等の金属基板１６とし、該下側基板に対向配置された上側基板を透明なプラスチック基板２３としたので、金属基板１６の反り、伸び、縮み等が従来のプラスチック基板と比べて小さいために、この金属基板１６と透明なプラスチック基板２３とのセルギャップを所望の間隔に良好に保持することができ、装置全体を薄厚化することができるとともに、該液晶装置が表示する画像の解像度を向上させることができる。
また、金属基板１６の表面１６ａを研磨により鏡面化して光反射性の反射面としたので、基板の表面に従来のような反射板を別途設ける必要が無く、薄厚化、構成の簡単化、製品のコストダウンを図ることができる。
【００３３】
［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態について図面に基づき説明する。
図５は本実施形態に係る液晶装置の液晶装置用基板４１を示す断面図であり、この液晶装置用基板４１は、陽極酸化法により金属基板１６の表面１６ａに光透過性の絶縁層である陽極酸化膜４２を形成し、この陽極酸化膜４２を部分毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色に染色してカラーフィルタ４３とした構成である。
【００３４】
次に、本実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図面に基づき説明する。
まず、図６（ａ）に示すように、陽極酸化法により、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金等からなる金属基板１６を硫酸（Ｈ2ＳＯ4）やシュウ酸〔（ＣＯＯＨ）2〕等の電解液中に浸漬し、この金属基板１６を陽極として電解を行い、この金属基板１６の表面１６ａに透光性を有する酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）等の光透過性の絶縁層である陽極酸化膜４２を形成する。
次いで、図６（ｂ）に示すように、スピンコート法等により、陽極酸化膜４２上にレジスト４４を塗布し、このレジスト４４を所望のマスクパターンが形成されたマスク４５を用いて露光処理を行い、後述する染色用のマスク４６とする。ここで用いるマスク４５には、Ｒ（赤）領域のみが開口されたマスクパターンが形成されているので、前記レジスト４４を露光処理することにより、該レジスト４４にＲ（赤）領域のみが開口されたマスクパターンが形成される。したがって、このマスク４６には、Ｒ（赤）領域のみが開口されたマスクパターンが形成されたことになる。
【００３５】
次いで、このマスク４６が形成された金属基板１６を染色液に浸漬、あるいは染色液を噴霧することにより、陽極酸化膜４２の所望の領域に不溶性の化合物を沈殿せしめて該領域を染色する。
ここでは、陽極酸化膜４２の表面はＲ（赤）領域のみが露出しているので、赤色を呈する染色液、例えばフェロシアン化カリウム〔Ｋ4Ｆｅ（ＣＮ）6〕水溶液等を用いることにより、陽極酸化膜４２のＲ（赤）領域のみに不溶性の化合物を沈殿せしめ染色することができる。その後、マスク４６を除去する。
次いで、上述したＲ（赤）領域の染色方法と同様の方法を用いて、陽極酸化膜４２のＧ（緑）領域のみに不溶性の化合物を沈殿せしめ染色する。
ここでは、図６（ｃ）に示すように、陽極酸化膜４２上に形成されたレジスト４４のＧ（緑）領域のみを開口してマスク４６’とし、このマスク４６’を用いて陽極酸化膜４２のＧ（緑）領域に不溶性の化合物を沈殿せしめて該領域を染色する。
【００３６】
ここでは、緑色を呈する染色液、例えば次亜ヒ酸ナトリウム〔Ｎａ2ＨＡｓＯ3〕水溶液等を用いることにより、陽極酸化膜４２のＧ（緑）領域のみに不溶性の化合物を沈殿せしめ染色することができる。その後、マスク４６’を除去する。
次いで、上述したＲ（赤）領域及びＧ（緑）領域の染色方法と同様の方法を用いて、陽極酸化膜４２のＢ（青）領域のみに不溶性の化合物を沈殿せしめ染色することにより、図６（ｄ）に示すように、金属基板１６の表面１６ａの陽極酸化膜４２をＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色を有するカラーフィルタ４３とすることができる。
その後、このカラーフィルタ４３上に光透過性の平坦化膜２２及び透明電極１８を順次形成し、図５に示す液晶装置用基板４１とする。
【００３７】
本実施形態の液晶装置によれば、陽極酸化法により金属基板１６の表面１６ａに陽極酸化膜４２を形成し、この陽極酸化膜４２を部分毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色に染色してカラーフィルタ４３としたので、金属基板１６の表面１６ａに、光や熱による色調の変化が極めて少なく、薄厚で、光学特性の安定したカラーフィルタ４３を設けることができる。したがって、色度の高いカラー表示が可能な薄型の反射型液晶装置を実現することができる。
【００３８】
本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、陽極酸化法により金属基板１６の表面１６ａに陽極酸化膜４２を形成するので、光透過性の絶縁層である陽極酸化膜４２を容易に形成することができる。
また、この陽極酸化膜４２を部分毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色に染色してカラーフィルタ４３とするので、金属基板１６の表面１６ａに、光や熱による色調の変化が極めて少なく、薄厚で、光学特性の安定したカラーフィルタを容易に形成することができる。
【００３９】
［第３の実施形態］
本発明の第３の実施形態について図面に基づき説明する。
図７は本実施形態に係る液晶装置の液晶装置用基板５１を示す断面図であり、この液晶装置用基板５１は、金属基板１６の表面に凹凸面１６ｂを形成し、この凹凸面１６ｂ上に高反射率物質である銀（Ａｇ）メッキ層５２及び光透過性の平坦化膜２２を順次形成し、この平坦化膜２２上に透明電極１８を形成し、前記銀（Ａｇ）メッキ層５２の表面を所望の反射率かつ散乱特性を有する散乱反射面とした構成である。
【００４０】
次に、本実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図面に基づき説明する。
まず、図８（ａ）に示すように、金属基板１６を所望の温度、例えば５０〜４００℃に加熱し、この金属基板１６の表面１６ａに凹凸面を形成するためのプレス型５３を押圧する型押処理を施す。
このプレス型５３には形成すべき凹凸面と相補形状の金型５３ａが形成されているので、この型押処理により、前記金属基板１６の表面には、図８（ｂ）に示すようにプレス型５３の金型５３ａと相補形状の凹凸面１６ｂが形成される。この凹凸面１６ｂの形状は、光を効率良く散乱・反射するとともに、基板の平坦性を悪化させないように、凹凸の面内ピッチが１μｍから２μｍの範囲に、また凹凸の高さが０．５μｍから２μｍの範囲に、それぞれ収まるように、金型が設計されている。この凹凸面１６ｂは、上記の型押処理の他、切断加工や研削加工等の機械的な表面加工によっても形成することが可能である。
【００４１】
次いで、図８（ｃ）に示すように、メッキ処理技術を用いて、この凹凸面１６ｂに銀（Ａｇ）メッキ処理を施すことにより、該凹凸面１６ｂ上に厚み０．１〜２μｍの銀（Ａｇ）メッキ層５２を形成する。
これにより、銀（Ａｇ）メッキ層５２の表面は、高反射率かつ高散乱の散乱反射面となる。
次いで、図８（ｄ）に示すように、銀（Ａｇ）メッキ層５２の上に光透過性の平坦化膜２２を形成し、この平坦化膜２２上に透明電極１８を形成することにより、所望の反射率かつ散乱特性を有する散乱反射面を備えた液晶装置用基板５１を作製することができる。
【００４２】
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の表面に凹凸面１６ｂを形成し、この凹凸面１６ｂ上に銀（Ａｇ）メッキ層５２を形成し、この銀（Ａｇ）メッキ層５２の表面を散乱反射面としたので、液晶装置用基板５１の上面を高反射率かつ高散乱特性を有する散乱反射面とすることができる。したがって、液晶装置用基板５１の反射散乱特性を高反射率かつ高散乱特性とすることができる。
【００４３】
本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、型押処理もしくは機械的な表面加工により、金属基板１６の表面に凹凸面１６ｂを形成し、メッキ法により、この凹凸面１６ｂ上に銀（Ａｇ）メッキ層５２を形成するので、この銀（Ａｇ）メッキ層５２に高反射率かつ高散乱特性を有する散乱反射面を容易に形成することができる。したがって、高反射率かつ高散乱特性を有する液晶装置用基板５１を容易に得ることができる。
【００４４】
［第４の実施形態］
本発明の第４の実施形態について図面に基づき説明する。
図９は本実施形態に係る液晶装置を示す断面図であり、この液晶装置６１は、液晶装置用基板６２と、この液晶装置用基板６２に対向配置された対向基板６３と、これらの基板６２、６３間に封入、挟持された反射モードＳＴＮ等からなる液晶１４とから概略構成されている。
【００４５】
液晶装置用基板６２は、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、ステンレススチール等からなる金属基板１６の上面に、液晶１４を封入するための深さ２〜１０μｍの凹部６４及びこれらの基板６２、６３間の間隔を良好に保持するための高さ２〜１０μｍの柱状のセルギャップ（突部）６５が一体に形成され、前記凹部６４の底面には、所望の反射率かつ散乱特性の散乱反射面とするために凹凸面６６が形成されている。この凹凸面６６上には樹脂絶縁層６７を介してストライプ状の透明基板１８が形成されている。また、対向基板６３は、透明なプラスチック基板あるいは透明なプラスチックフィルムにより構成されたもので、この対向基板６３は前記液晶装置用基板６２と対向するように配置されている。
【００４６】
このセルギャップ６５は、液晶１４の面内で略均一に分散した状態となるように、金属基板１６の上面に点在するように形成されている。そして、前記透明電極２４には該セルギャップ６５より大径の穴が形成されており、前記基板６２、６３を対向して貼り合せた状態で、このセルギャップ６５が透明電極２４に接触することがない様に、このセルギャップ６５と前記透明電極２４との間に隙間が形成されている。
【００４７】
次に、本実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図面に基づき説明する。
まず、図１０（ａ）に示すように、金属基板１６を所望の温度、例えば５０〜４００℃に加熱し、この金属基板１６の表面１６ａに凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５を形成するために、プレス型６８を押圧する型押処理を施す。
このプレス型６８には、形成すべき凹部６４及びセルギャップ６５と相補形状の金型６９が形成されているので、この型押処理により、前記金属基板１６の表面には、プレス型６８の金型６９と相補形状の凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５が形成される。これにより、上面に凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５が形成された金属基板１６が得られる。
【００４８】
この凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５は、上記の型押処理の他、切断加工や研削加工等の機械的な表面加工によっても形成することが可能である。また、セルギャップ６５の形状は、上記の柱状の他、ストライプ状（突条）としてもよい。
次いで、図１０（ｂ）に示すように、前記凹凸面６６上に樹脂絶縁層６７を形成し、この樹脂絶縁層６７上にストライプ状の透明基板１８を形成し、液晶装置用基板６２とする。
次いで、図１０（ｃ）に示すように、この液晶装置用基板６２と対向基板６３とを対向配置し、該対向基板６３の縁に沿って設けられたシール材（図示略）及び金属基板１６の表面１６ａに形成されたセルギャップ６５により所定の間隙を保持した状態で貼り合わせ、前記凹部６４内に液晶１４を封入する。
【００４９】
以上により、本実施形態に係る液晶装置を作製することができる。
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の上面に、液晶１４を封入するための凹部６４及びこれらの基板６２、６３間の間隔を良好に保持するためのセルギャップ６５を一体に形成したので、これらの基板６２、６３を対向配置するだけで、これらの基板６２、６３間の間隔を良好に保持することができる。しかも、別途セルギャップを用意する必要が無いので、部品としてのセルギャップを削減することができ、製品全体のコストダウンを図ることができる。
また、金属基板１６の上面に形成された凹部６４の底面を凹凸面６６とし、該凹凸面６６を所望の反射率かつ散乱特性の散乱反射面としたので、外部からの光を反射・散乱させることができ、画像の解像度、色度の面内均質性を高めることができる。
【００５０】
本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、金属基板１６の表面１６ａにプレス型６８を押圧する型押処理を施すので、簡単なプレス金型で容易かつ短時間に上面に凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５が形成された金属基板１６を作製することができる。
【００５１】
［第５の実施形態］
本発明の第５の実施形態について図面に基づき説明する。
図１１は本実施形態に係る液晶装置を示す平面図であり、この液晶装置７１は、金属基板１６の両端部（図１２中、上下方向の各端部）が対向基板１３の外方へ張り出して外部機器へ取り付けるための取付部７２、７３とされている。取付部７２には平板状のＸ側ドライバー部７４が実装され、このＸ側ドライバー部７４には配線３４ａが接続されている。
また、取付部７３には平板状のＹ側ドライバー部７５が実装され、このＹ側ドライバー部７５には配線３４ｂが接続されている。この配線３４ｂは、対向基板１３のプラスチック基板側に有る配線がＡＣＦコンタクト部７６を介して一旦金属基板１６に落とされたものである。
【００５２】
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の両端部を対向基板１３の外方へ張り出して外部機器へ取り付けるための取付部７２、７３としたので、この取付部７２、７３を利用して外部機器へ直接取り付けることができ、外部機器への取り付けを容易に行うことができる。
【００５３】
［第６の実施形態］
本発明の第６の実施形態について図面に基づき説明する。
図１２は本実施形態に係る液晶装置を示す平面図であり、この液晶装置８１は、金属基板１６の隅部（ここでは、４隅）に取り付け用の穴８２をそれぞれ形成した構成である。この穴８２の径は、ネジ等の様々な固定具に適用可能とするために多少の余裕を持たせてある。
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の金属基板１６の隅部に外部機器取付用の穴８２を形成したので、この穴８２に固定具等を差し込む等の簡単な方法により、外部機器へ直接かつ容易に取り付けることができる。
【００５４】
［第７の実施形態］
本発明の第７の実施形態について図面に基づき説明する。
図１３は本実施形態に係る液晶装置を示す平面図であり、この液晶装置９１は、金属基板１６の一方の側部に、該金属基板１６の端部をその主面に沿う方向に張り出した突片９２、９３を形成し、これら突片９２、９３に外部機器へ取り付けるための穴８２をそれぞれ形成した構成である。これらの突片９２、９３は、取り付ける外部機器に対応して様々な形状に変形可能である。例えば、その先端部が金属基板１６の主面に沿う方向に延在してもよく、あるいは、金属基板１６の主面に対して任意の角度で折れ曲げてもよい。
【００５５】
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の側部に突片９２、９３を形成し、これら突片９２、９３に外部機器へ取り付けるための穴８２をそれぞれ形成したので、この穴８２に固定具等を差し込む等の簡単な方法により、外部機器へ直接かつ容易に取り付けることができる。
また、取り付ける外部機器に対応して様々な形状に変形可能であるから、異形基板や折れ曲げにも即座に対応することができる。
【００５６】
次に、本発明の液晶装置を使用した電子機器の例を示す。
図１４は、それぞれ本発明の反射型液晶装置を使用した電子機器の例を示す斜視図である。
図１４（ａ）は携帯電話の例を示す斜視図である。図中１０００は携帯電話本体を示し、そのうちの１００１は本発明の反射型液晶装置を使用した液晶表示部である。
図１４（ｂ）は腕時計型電子機器の例を示す斜視図である。図中１１００は時計本体を示し、そのうちの１１０１は本発明の反射型液晶装置を使用した液晶表示部である。この反射型液晶装置は、従来の時計表示部に比べて高精細の画像を表示することができる。
図１４（ｃ）はワープロ、パソコン等の携帯型情報処理装置の例を示す斜視図である。図中１２００は情報処理装置を示し、そのうちの１２０２はキーボード等の入力部、１２０４は情報処理装置本体、１２０６は本発明の反射型液晶装置を使用した表示部である。
【００５７】
各々の電子機器は電池により駆動される電子機器であるので、光源ランプを有しない反射型液晶装置を用いれば、電池の寿命を延ばすことができる。また表示装置を構成する２枚の基板に、金属やプラスチックを用いることにより、機器に衝撃が加わった際にも、液晶装置が破損することを防ぐことができる。
また、本発明のように、基板に外部機器へ取り付けるための取付部を設ける構成とすれば、周辺回路を基板に内蔵することができ、部品点数の削減を図ることができ、より小型化、軽量化を図ることができる。
【００５８】
なお、本発明の技術範囲は上記各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記の第１の実施形態では、表面が反射面とされる金属基板１６上に、樹脂層からなるカラーフィルタ２１と平坦化膜２２とにより構成される光透過性の絶縁層１７を形成したが、金属基板１６と樹脂層からなるカラーフィルタ２１との密着性を高めるために、金属基板１６とカラーフィルタ２１との間に光透過性の中間層を形成してもよい。
【００５９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電気光学装置によれば、電気光学材料を挟持する一対の基板のうち一方の基板を透明基板、他方の基板を金属基板としたので、金属基板の反り、伸び、縮み等が従来のプラスチック基板と比べて小さくなり、したがって、透明基板と金属基板とのセルギャップを所望の間隔に良好に保持することができ、画像の解像度を向上させることができる。
また、金属基板の電気光学材料側の表面を、金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで形成された散乱反射面である凹凸面としたので、基板の表面に従来のような反射板を別途設ける必要が無く、構成を簡単化することができ、製品のコストダウンを図ることができる。
【００６０】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、金属基板に対して機械的な表面加工を行うことにより、前記金属基板自体の表面に、散乱反射面である凹凸面及び前記透明基板との間隔を保持するための突部または突条を同時に形成するので、金属基板の表面に、散乱反射面となる凹凸面及び透明基板との間隔を保持するための突部または突条を容易にしかも短時間で形成することができ、薄厚の電気光学装置を容易に作製することができる。
【００６１】
本発明の電子機器によれば、本発明の電気光学装置を備えたので、画像の解像度を向上させることができ、しかも、電子機器の薄厚化、構成の簡単化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施形態の液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】 図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【図３】 本発明の第１の実施形態の液晶装置の対向基板を示す断面図である。
【図４】 本発明の第１の実施形態の液晶装置の液晶装置用基板を示す断面図である。
【図５】 本発明の第２の実施形態の液晶装置の液晶装置用基板を示す断面図である。
【図６】 本発明の第２の実施形態の液晶装置の製造方法を示す過程図である。
【図７】 本発明の第３の実施形態の液晶装置の液晶装置用基板を示す断面図である。
【図８】 本発明の第３の実施形態の液晶装置の製造方法を示す過程図である。
【図９】 本発明の第４の実施形態の液晶装置を示す断面図である。
【図１０】 本発明の第４の実施形態の液晶装置の製造方法を示す過程図である。
【図１１】 本発明の第５の実施形態の液晶装置を示す平面図である。
【図１２】 本発明の第６の実施形態の液晶装置を示す平面図である。
【図１３】 本発明の第７の実施形態の液晶装置を示す平面図である。
【図１４】 本発明の反射型液晶装置を使用した電子機器の例を示す図であり、（ａ）は携帯電話を示す斜視図、（ｂ）は腕時計型電子機器を示す斜視図、（ｃ）は携帯型情報処理装置を示す斜視図である。
【図１５】 従来の反射型液晶表示装置を示す断面図である。
【符号の説明】
１ 液晶装置
２ 信号電極
３ 走査電極
１２ 液晶装置用基板
１３ 対向基板
１４ 液晶
１５ シール材
１６ 金属基板
１６ａ 表面
１６ｂ 凹凸面
１７ 光透過性の絶縁層
１８ 透明電極
２０ 反射層
２１ カラーフィルタ
２１ａ 着色層
２１ｂ 遮光層
２２ 平坦化膜
２３ プラスチック基板
２４ 透明電極
２５ 光散乱フィルム
２６ 偏光フィルム
２７ 配向膜
２８ 配向膜
２９ スペーサ
３１ 駆動用回路
３２ 駆動用回路
３４ 引き回し配線
３６ 液晶注入孔
３７ 封止材
４１ 液晶装置用基板
４２ 陽極酸化膜
４３ カラーフィルタ
４４ レジスト
４５ マスク
４６、４６’ マスク
５１ 液晶装置用基板
５２ 銀（Ａｇ）メッキ層
５３ プレス型
５３ａ 金型
６１ 液晶装置
６２ 液晶装置用基板
６３ 対向基板
６４ 凹部
６５ セルギャップ（突部）
６６ 凹凸面
６７ 樹脂絶縁層
６８ プレス型
６９ 金型
７１ 液晶装置
７２、７３ 取付部
７４ Ｘ側ドライバー部
７５ Ｙ側ドライバー部
７６ ＡＣＦコンタクト部
８１ 液晶装置
８２ 穴
９１ 液晶装置
９２、９３ 突片
１０００ 携帯電話本体
１００１ 液晶表示部
１１００ 時計本体
１１０１ 液晶表示部
１２００ 情報処理装置
１２０２ 入力部
１２０４ 情報処理装置本体
１２０６ 表示部
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器に関し、特に、ＰＨＳや携帯電話等の携帯用電話機、携帯用パーソナルコンピュータ等の携帯用情報端末、携帯用ゲーム機器等に用いられるカラー表示の反射型液晶表示装置に適用され、特に表示装置の反り、伸び、割れ等がなく、また表示装置を構成する基板間の間隔を所定の間隔（セルギャップ）に保持することで電気光学装置としての機能を良好に保持し得る技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に用いられている液晶表示装置には、バックライトを用いて表示する半透過型、透過型と称されるものと、太陽光や照明光等の外光のみを利用することでバックライトを用いずに表示する反射型と称されるものがある。
この反射型の液晶表示装置は、薄い、軽い、割れない等の特徴を有するために、薄型かつ軽量の液晶表示装置が望まれるＰＨＳや携帯電話等の携帯用電話機、携帯用パーソナルコンピュータ等の携帯用情報端末、携帯用ゲーム機器等に多く用いられている。
図１５は、従来の反射型液晶表示装置の液晶表示パネルの一例を示す断面図であり、プラスチック基板を用いた一枚偏光板方式（ＳＰＤ方式）のパッシブマトリクス型の液晶表示装置（ＰＦＰ）の例である。
この液晶表示パネルは、対向配置された一対のプラスチック基板２００１、２００２間に、反射モードＳＴＮ（Super-Twisted Nematic）等からなる液晶層２００３が挟持されている。このプラスチック基板２００１の上面には光散乱フィルム２００４、偏光フィルム２００５が順次形成され、下面にはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなるストライプ状の透明電極２００６が形成されている。
一方、プラスチック基板２００２の上面には、前記透明電極２００６と交差するストライプ状の透明電極２００７が形成され、下面には反射板２００８が設けられている。
【０００３】
プラスチック基板２００１、２００２としては、ポリエステルフィルム等が用いられる。このポリエステルフィルムは、高温で加熱することができないので、透明電極２００６、２００７を成膜する場合には、低温に保持したポリエステルフィルム上に酸化スズを含む酸化インジウムを蒸着し、その後約１７０℃程度で加熱して酸化処理を施す方法が採られる。この酸化処理により、透明電極２００６、２００７に所望の導電性、透明性を確保することができる。
ポリエステルフィルムは柔軟性を有するものであるから、ガラス基板と比べて散在するスペーサに片寄りが生じ易い。そこで、スペーサの量を多くしてセルギャップを保持する方法が採られている。
この液晶表示パネルに液晶駆動用回路等の付帯要素を組み合わせることにより反射型液晶表示装置が構成されている。
このプラスチック基板を用いた液晶表示装置（ＰＦＰ）は、従来のガラス基板を用いたものと比べて、薄い、軽い、割れない等の優れた特徴を有する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来の反射型液晶表示装置においては、プラスチック基板を用いているために、製造プロセスにおけるプロセス温度を高くすることができず、プラスチック基板上に反射板やカラーフィルタを成膜することが困難であり、したがって、カラー表示が難しいという問題点があった。
また、セルギャップを保持する方法として、プラスチック基板の表面にギャップ剤を固着させて形成する方法も考えられるが、ポリエステルフィルム自体が柔軟性を有するものであるから、セルギャップを維持することは困難であり、仮に初期的にセルギャップを形成したとしても、その精度は非常に悪いものとなる。
【０００５】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであって、表示装置の反り、伸び、割れ等がなく、表示装置を構成する基板間の間隔を所定の間隔（セルギャップ）に保持することで、電気光学装置としての機能である画像の解像度、色度等を向上させることができる電気光学装置を提供することを課題としている。
また、前記電気光学装置を得るための電気光学装置の製造方法を提供することを課題としている。
また、前記電気光学装置を備えた電子機器を提供することを課題としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気光学装置は、一対の基板間に電気光学材料が挟持されてなる電気光学装置であって、前記一対の基板のうち一方の基板が透明基板、他方の基板が金属基板とされ、前記金属基板の前記電気光学材料側の表面には、前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで形成された散乱反射面である凹凸面、及び前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで前記凹凸面と同時に形成されるとともに前記金属基板自体の一部として形成され、前記透明基板との間隔を保持するための、前記金属基板と一体となった突部または突条が形成されていることを特徴とする。
この電気光学装置では、電気光学材料を挟持する一対の基板のうち一方の基板を透明基板、他方の基板を金属基板としたことにより、従来のプラスチック基板を両方の基板に用いたものに比べ、金属基板の反り、伸び、縮み等が従来のプラスチック基板と比べて小さく、透明基板と金属基板とのセルギャップが所望の間隔に良好に保持されるので、画像の解像度が向上する。
【００１２】
また、前記金属基板の前記電気光学材料側の表面に、前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで形成された凹凸面を散乱反射面とするので、外部からの光を効果的に反射・散乱させることができ、画像の解像度、色度の面内均質性を高めることができる。
また、前記金属基板の前記電気光学材料側の表面に、前記透明基板との間隔を保持するための、前記金属基板と一体となった突部または突条を形成するので、金属基板と前記透明基板とを対向配置するだけで、これらの基板間の間隔を良好に保持することができる。しかも、別途セルギャップを用意する必要が無く、部品の点数を削減することができ、製品のコストダウンを図ることができる。
【００１３】
本発明の電気光学装置は、前記金属基板に、外部機器取付用の取付部を形成することが好ましい。
このような構成によれば、前記金属基板の端部等を利用して外部機器へ直接取り付けることができるので、外部機器への取り付けを容易に行うことができる。本発明の電気光学装置は、前記金属基板に、外部機器取付用の突片を形成することが好ましい。
このような構成によれば、前記金属基板の端部等に形成された突片を利用して外部機器へ直接取り付けることができるので、外部機器への取り付けを容易に行うことができる。
【００１４】
本発明の電気光学装置は、前記取付部および／または前記突片に、外部機器取付用の穴を形成することが好ましい。
このような構成によれば、前記外部機器取付用の穴を利用して外部機器へ直接取り付けることができるので、外部機器への取り付けを容易に行うことができる。
【００１７】
本発明の電気光学装置の製造方法は、一対の基板間に電気光学材料が挟持され、前記一対の基板のうち一方の基板が透明基板、他方の基板が金属基板とされ、該金属基板の前記電気光学材料側の表面が反射面とされた電気光学装置の製造方法であって、前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことにより、前記金属基板自体の表面に、散乱反射面である凹凸面及び前記透明基板との間隔を保持するための突部または突条を同時に形成することを特徴とする。
このような製造方法によれば、フォトリソグラフィ技術の替りに機械的な表面加工を適用することにより、前記金属基板の表面に、散乱反射面である凹凸面及び前記透明基板との間隔を保持するための突部または突条を同時に形成するので、容易にかつ短時間で前記金属基板の表面に、セルギャップとしての機能を有する突部または突条を容易にかつ極めて短時間で形成することができる。
【００１８】
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
このような電子機器とすることで、画像の解像度が向上し、しかも、電子機器の薄厚化、構成の簡単化を図ることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明の電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器の各実施形態について図面に基づき説明する。
【００２０】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態について図面に基づき説明する。
まず、本発明の電気光学装置として、一枚偏光板方式（ＳＰＤ方式）のパッシブマトリクス型の反射型カラー液晶装置を例に採り、この液晶装置の画素部について、図１から図４を参照して説明する。
【００２１】
（液晶装置の構成）
まず、本実施の形態の液晶装置の要部である画像表示領域について説明する。図１は、液晶装置１の全体構成を示す平面図で、下側基板となる液晶装置用基板１２をその上に形成された各構成要素と共に上側基板となる対向基板１３の側から見た図である。図２は図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。図３は対向基板１３を示す断面図である。図４は液晶装置用基板１２を示す断面図である。なお、上述した全ての図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００２２】
これらの図において、液晶装置１は、ガラス等からなる液晶装置用基板１２と対向基板１３とがシール材１５を介して所定間隔で貼着され、シール材１５の内側には液晶１４が封入されている。シール材１５は、図１に示すように、液晶装置用基板１２及び対向基板１３の周縁部間に略環状に形成されていて、その一部には液晶１４を注入するための液晶注入孔３６が形成されている。液晶注入孔３６から液晶装置用基板１２、対向基板１３間（液晶セル内）に液晶１４を注入した後、液晶注入孔３６は封止材３７により封止されている。
【００２３】
液晶装置用基板１２、対向基板１３の液晶１４側表面上には、各々複数のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などからなる信号電極（導電部）２、走査電極（導電部）３が形成されており、信号電極２、走査電極３間に所定の電圧を印加することにより、液晶１４の配向状態を変化させ、これを光学的に識別することにより、表示することが可能な構造になっている。
図１に示すように、信号電極２、走査電極３はいずれもストライプ状に形成されており、かつ、各信号電極２と各走査電極３とは互いに交差するように形成されている。なお、本実施形態においては、液晶装置用基板１２の表面に形成された電極を信号電極２とし、対向基板１３の表面に形成された電極を走査電極３としているが、これは逆であってもかまわない。
【００２４】
この液晶装置１において、信号電極２、走査電極３が交差する部分が画素となっており、液晶１４を各画素毎に外部から駆動する方式が採用されている。図１には例として、液晶１４を外部から駆動する手段として、各基板上の非表示領域を互いに対向する基板の外側に張り出させ、その領域に各基板の電極に対して信号を供給する駆動用回路をそれぞれ実装し、各駆動用回路と各透明電極とを引き回し配線を用いて電気的に接続する構成を採用した場合について図示している。また、例として、駆動用回路の実装方法として、チップ部品をガラス基板上に実装する、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）実装と呼ばれる実装方法を採用した場合について図示している。
【００２５】
すなわち、液晶装置１においては、液晶装置用基板１２は図示下端部が対向基板１３より外側に位置し、この部分に信号電極２に対して信号を供給する駆動用回路３１が直接搭載されている。また、対向基板１３の図示右端部が液晶装置用基板１２より外側に位置しており、この部分に走査電極３に信号を供給する駆動用回路３２が直接搭載されている。信号電極２、走査電極３は、それぞれ同じ基板の表面に形成された駆動用回路３１、３２に図示は省略している引き回し配線を介して電気的に接続されている。
【００２６】
次に、図２に基づいて、液晶装置１の断面構造について説明する。
図２に示すように、液晶装置用基板１２の液晶１４側表面上には、反射層２０、カラーフィルター２１、平坦化膜２２、信号電極２、配向膜２７が順次積層形成されている。一方、対向基板１３の液晶１４側表面上には走査電極３と配向膜２８とが順次積層形成されている。また、液晶１４内には液晶セルのセルギャップを均一化するために、二酸化珪素、ポリスチレン等からなる多数の球状のスペーサー２９が配置されている。また、対向基板１３の外側には偏光板、位相差板などの光学素子が設けられているが、図面上は省略している。
【００２７】
反射層２０は光を反射する銀やアルミニウムなどからなり、対向基板１３側（観察者側）から入射した太陽光などの外光が液晶１４を透過し、反射層２０で反射されて、再び液晶１４、対向基板１３を透過して外部に出射され、表示することが可能な構造になっている。
カラーフィルター２１は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層２１ａと隣接する着色層２１ａ間を遮光する遮光層（ブラックマトリクス）２１ｂとからなっている。液晶装置１において、信号電極２と走査電極３とが交差する部分が画素になっており、各画素に対応して、赤、緑、青の着色層２１ａのうちいずれかの着色層が配置され、赤、緑、青を表示する３つの画素で１つの表示が可能になっている。平坦化膜２２は有機膜などからなり、カラーフィルター２１を形成した液晶装置用基板１２の表面を平坦化するために設けられている。
【００２８】
信号電極２の一方の端部は、信号電極２と同じ材料あるいは信号電極２よりも低抵抗なニッケル、銅などからなる引き回し配線３４に電気的に接続されている。引き回し配線３４はシール材１５の外側にまで延出形成されており、信号電極２は引き回し配線３４を介してシール材１５の外側に設けられた駆動用回路３１（図２においては省略）に電気的に接続されている。走査電極３についても同様に、図示は省略しているが、引き回し配線を介してシール材１５の外側に設けられた駆動用回路３２に電気的に接続されている。
配向膜２７、２８は、ポリイミドなどの配向性高分子からなり、電界を印加しないときの液晶１４の配向状態に合わせて、その表面は布などを用いて所定の方向にラビングされている。
【００２９】
液晶装置用基板１２は、図４に示すように、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、ステンレススチール、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）等からなる金属基板１６と、この金属基板１６上に形成された反射層２０及び光透過性樹脂等からなる光透過性の絶縁層１７と、この絶縁層１７上に形成されたＩＴＯ等からなるストライプ状の透明電極１８とにより構成されている。この透明電極１８は液晶駆動用の信号電極２である。
この絶縁層１７は、金属基板１６の表面に形成された樹脂層からなるカラーフィルタ２１と、該カラーフィルタ２１上に形成された平坦化膜２２とにより構成されている。このカラーフィルタ２１は、既に説明したように、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層２１ａと、隣接する着色層２１ａ間を遮光する遮光層（ブラックマトリクス）２１ｂとからなっている。
前記金属基板１６の表面１６ａは研磨により鏡面化されることで光反射性の反射面とされており、この金属基板１６の厚みは１００〜２０００μｍ、最良は４００μｍである。
【００３０】
対向基板１３は、図３に示すように、例えば、透明なプラスチック基板２３と、このプラスチック基板２３の液晶１４側の表面（下面）に形成され前記透明電極１８と交差するＩＴＯ等からなるストライプ状の透明電極２４と、このプラスチック基板２３の液晶１４と反対側の表面（上面）に形成された光散乱フィルム２５及び偏光フィルム２６とにより構成されている。
このプラスチック基板２３は、例えば、メタクリレート系樹脂、アクリレート系樹脂、ポリカボネート（ＰＣ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、シアヌル酸トリアリルエステル（トリアリルシアヌレート：ＴＡＣ）等からなるプラスチック板、もしくはプラスチックフィルムからなるもので、その厚みは５０〜２０００μｍ、より好ましくは１００〜２００μｍ、最良は２００μｍである。
【００３１】
シール材１５としては、エポキシ樹脂、各種の紫外線硬化樹脂等の高分子材料を用いることができる。
また、ギャップ材としては、約２μｍ〜約１０μｍの径の無機あるいは有機質のファイバ若しくは球を用いることができる。
ここで、シール材１５は部分的に途切れており、この途切れた部分が液晶注入孔３６を構成している。このため、液晶装置用基板１２と対向基板１３とを貼り合わせた後、シール材１５の内側領域を減圧状態にすれば、液晶１４を液晶注入孔３６からシール材１５の内側領域に減圧注入することができる。液晶１４を密封状態にするには、シール材１５の内側領域に液晶１４を封入した後、液晶注入孔３６を封止材３７で塞げばよい。
【００３２】
本実施形態の液晶装置によれば、下側基板をアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、ステンレススチール、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）等の金属基板１６とし、該下側基板に対向配置された上側基板を透明なプラスチック基板２３としたので、金属基板１６の反り、伸び、縮み等が従来のプラスチック基板と比べて小さいために、この金属基板１６と透明なプラスチック基板２３とのセルギャップを所望の間隔に良好に保持することができ、装置全体を薄厚化することができるとともに、該液晶装置が表示する画像の解像度を向上させることができる。
また、金属基板１６の表面１６ａを研磨により鏡面化して光反射性の反射面としたので、基板の表面に従来のような反射板を別途設ける必要が無く、薄厚化、構成の簡単化、製品のコストダウンを図ることができる。
【００３３】
［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態について図面に基づき説明する。
図５は本実施形態に係る液晶装置の液晶装置用基板４１を示す断面図であり、この液晶装置用基板４１は、陽極酸化法により金属基板１６の表面１６ａに光透過性の絶縁層である陽極酸化膜４２を形成し、この陽極酸化膜４２を部分毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色に染色してカラーフィルタ４３とした構成である。
【００３４】
次に、本実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図面に基づき説明する。
まず、図６（ａ）に示すように、陽極酸化法により、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金等からなる金属基板１６を硫酸（Ｈ2ＳＯ4）やシュウ酸〔（ＣＯＯＨ）2〕等の電解液中に浸漬し、この金属基板１６を陽極として電解を行い、この金属基板１６の表面１６ａに透光性を有する酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）等の光透過性の絶縁層である陽極酸化膜４２を形成する。
次いで、図６（ｂ）に示すように、スピンコート法等により、陽極酸化膜４２上にレジスト４４を塗布し、このレジスト４４を所望のマスクパターンが形成されたマスク４５を用いて露光処理を行い、後述する染色用のマスク４６とする。ここで用いるマスク４５には、Ｒ（赤）領域のみが開口されたマスクパターンが形成されているので、前記レジスト４４を露光処理することにより、該レジスト４４にＲ（赤）領域のみが開口されたマスクパターンが形成される。したがって、このマスク４６には、Ｒ（赤）領域のみが開口されたマスクパターンが形成されたことになる。
【００３５】
次いで、このマスク４６が形成された金属基板１６を染色液に浸漬、あるいは染色液を噴霧することにより、陽極酸化膜４２の所望の領域に不溶性の化合物を沈殿せしめて該領域を染色する。
ここでは、陽極酸化膜４２の表面はＲ（赤）領域のみが露出しているので、赤色を呈する染色液、例えばフェロシアン化カリウム〔Ｋ4Ｆｅ（ＣＮ）6〕水溶液等を用いることにより、陽極酸化膜４２のＲ（赤）領域のみに不溶性の化合物を沈殿せしめ染色することができる。その後、マスク４６を除去する。
次いで、上述したＲ（赤）領域の染色方法と同様の方法を用いて、陽極酸化膜４２のＧ（緑）領域のみに不溶性の化合物を沈殿せしめ染色する。
ここでは、図６（ｃ）に示すように、陽極酸化膜４２上に形成されたレジスト４４のＧ（緑）領域のみを開口してマスク４６’とし、このマスク４６’を用いて陽極酸化膜４２のＧ（緑）領域に不溶性の化合物を沈殿せしめて該領域を染色する。
【００３６】
ここでは、緑色を呈する染色液、例えば次亜ヒ酸ナトリウム〔Ｎａ2ＨＡｓＯ3〕水溶液等を用いることにより、陽極酸化膜４２のＧ（緑）領域のみに不溶性の化合物を沈殿せしめ染色することができる。その後、マスク４６’を除去する。
次いで、上述したＲ（赤）領域及びＧ（緑）領域の染色方法と同様の方法を用いて、陽極酸化膜４２のＢ（青）領域のみに不溶性の化合物を沈殿せしめ染色することにより、図６（ｄ）に示すように、金属基板１６の表面１６ａの陽極酸化膜４２をＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色を有するカラーフィルタ４３とすることができる。
その後、このカラーフィルタ４３上に光透過性の平坦化膜２２及び透明電極１８を順次形成し、図５に示す液晶装置用基板４１とする。
【００３７】
本実施形態の液晶装置によれば、陽極酸化法により金属基板１６の表面１６ａに陽極酸化膜４２を形成し、この陽極酸化膜４２を部分毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色に染色してカラーフィルタ４３としたので、金属基板１６の表面１６ａに、光や熱による色調の変化が極めて少なく、薄厚で、光学特性の安定したカラーフィルタ４３を設けることができる。したがって、色度の高いカラー表示が可能な薄型の反射型液晶装置を実現することができる。
【００３８】
本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、陽極酸化法により金属基板１６の表面１６ａに陽極酸化膜４２を形成するので、光透過性の絶縁層である陽極酸化膜４２を容易に形成することができる。
また、この陽極酸化膜４２を部分毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色に染色してカラーフィルタ４３とするので、金属基板１６の表面１６ａに、光や熱による色調の変化が極めて少なく、薄厚で、光学特性の安定したカラーフィルタを容易に形成することができる。
【００３９】
［第３の実施形態］
本発明の第３の実施形態について図面に基づき説明する。
図７は本実施形態に係る液晶装置の液晶装置用基板５１を示す断面図であり、この液晶装置用基板５１は、金属基板１６の表面に凹凸面１６ｂを形成し、この凹凸面１６ｂ上に高反射率物質である銀（Ａｇ）メッキ層５２及び光透過性の平坦化膜２２を順次形成し、この平坦化膜２２上に透明電極１８を形成し、前記銀（Ａｇ）メッキ層５２の表面を所望の反射率かつ散乱特性を有する散乱反射面とした構成である。
【００４０】
次に、本実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図面に基づき説明する。
まず、図８（ａ）に示すように、金属基板１６を所望の温度、例えば５０〜４００℃に加熱し、この金属基板１６の表面１６ａに凹凸面を形成するためのプレス型５３を押圧する型押処理を施す。
このプレス型５３には形成すべき凹凸面と相補形状の金型５３ａが形成されているので、この型押処理により、前記金属基板１６の表面には、図８（ｂ）に示すようにプレス型５３の金型５３ａと相補形状の凹凸面１６ｂが形成される。この凹凸面１６ｂの形状は、光を効率良く散乱・反射するとともに、基板の平坦性を悪化させないように、凹凸の面内ピッチが１μｍから２μｍの範囲に、また凹凸の高さが０．５μｍから２μｍの範囲に、それぞれ収まるように、金型が設計されている。この凹凸面１６ｂは、上記の型押処理の他、切断加工や研削加工等の機械的な表面加工によっても形成することが可能である。
【００４１】
次いで、図８（ｃ）に示すように、メッキ処理技術を用いて、この凹凸面１６ｂに銀（Ａｇ）メッキ処理を施すことにより、該凹凸面１６ｂ上に厚み０．１〜２μｍの銀（Ａｇ）メッキ層５２を形成する。
これにより、銀（Ａｇ）メッキ層５２の表面は、高反射率かつ高散乱の散乱反射面となる。
次いで、図８（ｄ）に示すように、銀（Ａｇ）メッキ層５２の上に光透過性の平坦化膜２２を形成し、この平坦化膜２２上に透明電極１８を形成することにより、所望の反射率かつ散乱特性を有する散乱反射面を備えた液晶装置用基板５１を作製することができる。
【００４２】
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の表面に凹凸面１６ｂを形成し、この凹凸面１６ｂ上に銀（Ａｇ）メッキ層５２を形成し、この銀（Ａｇ）メッキ層５２の表面を散乱反射面としたので、液晶装置用基板５１の上面を高反射率かつ高散乱特性を有する散乱反射面とすることができる。したがって、液晶装置用基板５１の反射散乱特性を高反射率かつ高散乱特性とすることができる。
【００４３】
本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、型押処理もしくは機械的な表面加工により、金属基板１６の表面に凹凸面１６ｂを形成し、メッキ法により、この凹凸面１６ｂ上に銀（Ａｇ）メッキ層５２を形成するので、この銀（Ａｇ）メッキ層５２に高反射率かつ高散乱特性を有する散乱反射面を容易に形成することができる。したがって、高反射率かつ高散乱特性を有する液晶装置用基板５１を容易に得ることができる。
【００４４】
［第４の実施形態］
本発明の第４の実施形態について図面に基づき説明する。
図９は本実施形態に係る液晶装置を示す断面図であり、この液晶装置６１は、液晶装置用基板６２と、この液晶装置用基板６２に対向配置された対向基板６３と、これらの基板６２、６３間に封入、挟持された反射モードＳＴＮ等からなる液晶１４とから概略構成されている。
【００４５】
液晶装置用基板６２は、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム（Ａｌ）合金、ステンレススチール等からなる金属基板１６の上面に、液晶１４を封入するための深さ２〜１０μｍの凹部６４及びこれらの基板６２、６３間の間隔を良好に保持するための高さ２〜１０μｍの柱状のセルギャップ（突部）６５が一体に形成され、前記凹部６４の底面には、所望の反射率かつ散乱特性の散乱反射面とするために凹凸面６６が形成されている。この凹凸面６６上には樹脂絶縁層６７を介してストライプ状の透明基板１８が形成されている。また、対向基板６３は、透明なプラスチック基板あるいは透明なプラスチックフィルムにより構成されたもので、この対向基板６３は前記液晶装置用基板６２と対向するように配置されている。
【００４６】
このセルギャップ６５は、液晶１４の面内で略均一に分散した状態となるように、金属基板１６の上面に点在するように形成されている。そして、前記透明電極２４には該セルギャップ６５より大径の穴が形成されており、前記基板６２、６３を対向して貼り合せた状態で、このセルギャップ６５が透明電極２４に接触することがない様に、このセルギャップ６５と前記透明電極２４との間に隙間が形成されている。
【００４７】
次に、本実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図面に基づき説明する。
まず、図１０（ａ）に示すように、金属基板１６を所望の温度、例えば５０〜４００℃に加熱し、この金属基板１６の表面１６ａに凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５を形成するために、プレス型６８を押圧する型押処理を施す。
このプレス型６８には、形成すべき凹部６４及びセルギャップ６５と相補形状の金型６９が形成されているので、この型押処理により、前記金属基板１６の表面には、プレス型６８の金型６９と相補形状の凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５が形成される。これにより、上面に凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５が形成された金属基板１６が得られる。
【００４８】
この凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５は、上記の型押処理の他、切断加工や研削加工等の機械的な表面加工によっても形成することが可能である。また、セルギャップ６５の形状は、上記の柱状の他、ストライプ状（突条）としてもよい。
次いで、図１０（ｂ）に示すように、前記凹凸面６６上に樹脂絶縁層６７を形成し、この樹脂絶縁層６７上にストライプ状の透明基板１８を形成し、液晶装置用基板６２とする。
次いで、図１０（ｃ）に示すように、この液晶装置用基板６２と対向基板６３とを対向配置し、該対向基板６３の縁に沿って設けられたシール材（図示略）及び金属基板１６の表面１６ａに形成されたセルギャップ６５により所定の間隙を保持した状態で貼り合わせ、前記凹部６４内に液晶１４を封入する。
【００４９】
以上により、本実施形態に係る液晶装置を作製することができる。
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の上面に、液晶１４を封入するための凹部６４及びこれらの基板６２、６３間の間隔を良好に保持するためのセルギャップ６５を一体に形成したので、これらの基板６２、６３を対向配置するだけで、これらの基板６２、６３間の間隔を良好に保持することができる。しかも、別途セルギャップを用意する必要が無いので、部品としてのセルギャップを削減することができ、製品全体のコストダウンを図ることができる。
また、金属基板１６の上面に形成された凹部６４の底面を凹凸面６６とし、該凹凸面６６を所望の反射率かつ散乱特性の散乱反射面としたので、外部からの光を反射・散乱させることができ、画像の解像度、色度の面内均質性を高めることができる。
【００５０】
本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、金属基板１６の表面１６ａにプレス型６８を押圧する型押処理を施すので、簡単なプレス金型で容易かつ短時間に上面に凹凸面６６を有する凹部６４及びセルギャップ６５が形成された金属基板１６を作製することができる。
【００５１】
［第５の実施形態］
本発明の第５の実施形態について図面に基づき説明する。
図１１は本実施形態に係る液晶装置を示す平面図であり、この液晶装置７１は、金属基板１６の両端部（図１２中、上下方向の各端部）が対向基板１３の外方へ張り出して外部機器へ取り付けるための取付部７２、７３とされている。取付部７２には平板状のＸ側ドライバー部７４が実装され、このＸ側ドライバー部７４には配線３４ａが接続されている。
また、取付部７３には平板状のＹ側ドライバー部７５が実装され、このＹ側ドライバー部７５には配線３４ｂが接続されている。この配線３４ｂは、対向基板１３のプラスチック基板側に有る配線がＡＣＦコンタクト部７６を介して一旦金属基板１６に落とされたものである。
【００５２】
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の両端部を対向基板１３の外方へ張り出して外部機器へ取り付けるための取付部７２、７３としたので、この取付部７２、７３を利用して外部機器へ直接取り付けることができ、外部機器への取り付けを容易に行うことができる。
【００５３】
［第６の実施形態］
本発明の第６の実施形態について図面に基づき説明する。
図１２は本実施形態に係る液晶装置を示す平面図であり、この液晶装置８１は、金属基板１６の隅部（ここでは、４隅）に取り付け用の穴８２をそれぞれ形成した構成である。この穴８２の径は、ネジ等の様々な固定具に適用可能とするために多少の余裕を持たせてある。
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の金属基板１６の隅部に外部機器取付用の穴８２を形成したので、この穴８２に固定具等を差し込む等の簡単な方法により、外部機器へ直接かつ容易に取り付けることができる。
【００５４】
［第７の実施形態］
本発明の第７の実施形態について図面に基づき説明する。
図１３は本実施形態に係る液晶装置を示す平面図であり、この液晶装置９１は、金属基板１６の一方の側部に、該金属基板１６の端部をその主面に沿う方向に張り出した突片９２、９３を形成し、これら突片９２、９３に外部機器へ取り付けるための穴８２をそれぞれ形成した構成である。これらの突片９２、９３は、取り付ける外部機器に対応して様々な形状に変形可能である。例えば、その先端部が金属基板１６の主面に沿う方向に延在してもよく、あるいは、金属基板１６の主面に対して任意の角度で折れ曲げてもよい。
【００５５】
本実施形態の液晶装置によれば、金属基板１６の側部に突片９２、９３を形成し、これら突片９２、９３に外部機器へ取り付けるための穴８２をそれぞれ形成したので、この穴８２に固定具等を差し込む等の簡単な方法により、外部機器へ直接かつ容易に取り付けることができる。
また、取り付ける外部機器に対応して様々な形状に変形可能であるから、異形基板や折れ曲げにも即座に対応することができる。
【００５６】
次に、本発明の液晶装置を使用した電子機器の例を示す。
図１４は、それぞれ本発明の反射型液晶装置を使用した電子機器の例を示す斜視図である。
図１４（ａ）は携帯電話の例を示す斜視図である。図中１０００は携帯電話本体を示し、そのうちの１００１は本発明の反射型液晶装置を使用した液晶表示部である。
図１４（ｂ）は腕時計型電子機器の例を示す斜視図である。図中１１００は時計本体を示し、そのうちの１１０１は本発明の反射型液晶装置を使用した液晶表示部である。この反射型液晶装置は、従来の時計表示部に比べて高精細の画像を表示することができる。
図１４（ｃ）はワープロ、パソコン等の携帯型情報処理装置の例を示す斜視図である。図中１２００は情報処理装置を示し、そのうちの１２０２はキーボード等の入力部、１２０４は情報処理装置本体、１２０６は本発明の反射型液晶装置を使用した表示部である。
【００５７】
各々の電子機器は電池により駆動される電子機器であるので、光源ランプを有しない反射型液晶装置を用いれば、電池の寿命を延ばすことができる。また表示装置を構成する２枚の基板に、金属やプラスチックを用いることにより、機器に衝撃が加わった際にも、液晶装置が破損することを防ぐことができる。
また、本発明のように、基板に外部機器へ取り付けるための取付部を設ける構成とすれば、周辺回路を基板に内蔵することができ、部品点数の削減を図ることができ、より小型化、軽量化を図ることができる。
【００５８】
なお、本発明の技術範囲は上記各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記の第１の実施形態では、表面が反射面とされる金属基板１６上に、樹脂層からなるカラーフィルタ２１と平坦化膜２２とにより構成される光透過性の絶縁層１７を形成したが、金属基板１６と樹脂層からなるカラーフィルタ２１との密着性を高めるために、金属基板１６とカラーフィルタ２１との間に光透過性の中間層を形成してもよい。
【００５９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電気光学装置によれば、電気光学材料を挟持する一対の基板のうち一方の基板を透明基板、他方の基板を金属基板としたので、金属基板の反り、伸び、縮み等が従来のプラスチック基板と比べて小さくなり、したがって、透明基板と金属基板とのセルギャップを所望の間隔に良好に保持することができ、画像の解像度を向上させることができる。
また、金属基板の電気光学材料側の表面を、金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで形成された散乱反射面である凹凸面としたので、基板の表面に従来のような反射板を別途設ける必要が無く、構成を簡単化することができ、製品のコストダウンを図ることができる。
【００６０】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、金属基板に対して機械的な表面加工を行うことにより、前記金属基板自体の表面に、散乱反射面である凹凸面及び前記透明基板との間隔を保持するための突部または突条を同時に形成するので、金属基板の表面に、散乱反射面となる凹凸面及び透明基板との間隔を保持するための突部または突条を容易にしかも短時間で形成することができ、薄厚の電気光学装置を容易に作製することができる。
【００６１】
本発明の電子機器によれば、本発明の電気光学装置を備えたので、画像の解像度を向上させることができ、しかも、電子機器の薄厚化、構成の簡単化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施形態の液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】 図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【図３】 本発明の第１の実施形態の液晶装置の対向基板を示す断面図である。
【図４】 本発明の第１の実施形態の液晶装置の液晶装置用基板を示す断面図である。
【図５】 本発明の第２の実施形態の液晶装置の液晶装置用基板を示す断面図である。
【図６】 本発明の第２の実施形態の液晶装置の製造方法を示す過程図である。
【図７】 本発明の第３の実施形態の液晶装置の液晶装置用基板を示す断面図である。
【図８】 本発明の第３の実施形態の液晶装置の製造方法を示す過程図である。
【図９】 本発明の第４の実施形態の液晶装置を示す断面図である。
【図１０】 本発明の第４の実施形態の液晶装置の製造方法を示す過程図である。
【図１１】 本発明の第５の実施形態の液晶装置を示す平面図である。
【図１２】 本発明の第６の実施形態の液晶装置を示す平面図である。
【図１３】 本発明の第７の実施形態の液晶装置を示す平面図である。
【図１４】 本発明の反射型液晶装置を使用した電子機器の例を示す図であり、（ａ）は携帯電話を示す斜視図、（ｂ）は腕時計型電子機器を示す斜視図、（ｃ）は携帯型情報処理装置を示す斜視図である。
【図１５】 従来の反射型液晶表示装置を示す断面図である。
【符号の説明】
１ 液晶装置
２ 信号電極
３ 走査電極
１２ 液晶装置用基板
１３ 対向基板
１４ 液晶
１５ シール材
１６ 金属基板
１６ａ 表面
１６ｂ 凹凸面
１７ 光透過性の絶縁層
１８ 透明電極
２０ 反射層
２１ カラーフィルタ
２１ａ 着色層
２１ｂ 遮光層
２２ 平坦化膜
２３ プラスチック基板
２４ 透明電極
２５ 光散乱フィルム
２６ 偏光フィルム
２７ 配向膜
２８ 配向膜
２９ スペーサ
３１ 駆動用回路
３２ 駆動用回路
３４ 引き回し配線
３６ 液晶注入孔
３７ 封止材
４１ 液晶装置用基板
４２ 陽極酸化膜
４３ カラーフィルタ
４４ レジスト
４５ マスク
４６、４６’ マスク
５１ 液晶装置用基板
５２ 銀（Ａｇ）メッキ層
５３ プレス型
５３ａ 金型
６１ 液晶装置
６２ 液晶装置用基板
６３ 対向基板
６４ 凹部
６５ セルギャップ（突部）
６６ 凹凸面
６７ 樹脂絶縁層
６８ プレス型
６９ 金型
７１ 液晶装置
７２、７３ 取付部
７４ Ｘ側ドライバー部
７５ Ｙ側ドライバー部
７６ ＡＣＦコンタクト部
８１ 液晶装置
８２ 穴
９１ 液晶装置
９２、９３ 突片
１０００ 携帯電話本体
１００１ 液晶表示部
１１００ 時計本体
１１０１ 液晶表示部
１２００ 情報処理装置
１２０２ 入力部
１２０４ 情報処理装置本体
１２０６ 表示部
Claims (6)
- 一対の基板間に電気光学材料が挟持されてなる電気光学装置であって、
前記一対の基板のうち一方の基板が透明基板、他方の基板が金属基板とされ、前記金属基板の前記電気光学材料側の表面には、前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで形成された散乱反射面である凹凸面、及び前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことで前記凹凸面と同時に形成されるとともに前記金属基板自体の一部として形成され、前記透明基板との間隔を保持するための、前記金属基板と一体となった突部または突条が形成されていることを特徴とする電気光学装置。 - 前記金属基板には、外部機器取付用の取付部が形成されていることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。
- 前記金属基板には、外部機器取付用の突片が形成されていることを特徴とする請求項１または２記載の電気光学装置。
- 前記取付部および／または前記突片には、外部機器取付用の穴が形成されていることを特徴とする請求項２または３記載の電気光学装置。
- 一対の基板間に電気光学材料が挟持され、前記一対の基板のうち一方の基板が透明基板、他方の基板が金属基板とされ、該金属基板の前記電気光学材料側の表面が反射面とされた電気光学装置の製造方法であって、
前記金属基板に対して機械的な表面加工を行うことにより、前記金属基板自体の表面に、散乱反射面である凹凸面及び前記透明基板との間隔を保持するための突部または突条を同時に形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項１ないし４のいずれか１項記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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