JP3881479B2 - Parallel gap seam welding method - Google Patents
Parallel gap seam welding method Download PDFInfo
- Publication number
- JP3881479B2 JP3881479B2 JP28770099A JP28770099A JP3881479B2 JP 3881479 B2 JP3881479 B2 JP 3881479B2 JP 28770099 A JP28770099 A JP 28770099A JP 28770099 A JP28770099 A JP 28770099A JP 3881479 B2 JP3881479 B2 JP 3881479B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- seam welding
- package
- welding method
- lid
- sealing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16195—Flat cap [not enclosing an internal cavity]
Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体セラミックパッケージを封止するためのパラレルギャップシーム溶接方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体セラミックパッケージを気密封止するには、マイクロパラレルシーム溶接工法、電子ビーム工法などが知られている。
マイクロパラレルシーム溶接工法は、図2に示すように、パッケージ1に予めシールフレーム5をロー付けし、該シールフレーム5上にリッド2を載置し、一対のテーパ付きローラ電極6を該リッド2端部に押圧して水平移動し、同時に前記ローラ電極6間に通電することで封止を行う。ここで、前記シールフレーム5の役割は、溶接電流がシールフレーム5に分流することで、封止部の効果的加熱を促進すると共にリッド2全体が発熱することを防止して冷却時のストレスを軽減する。
【0003】
電子ビーム工法は、図3に示すように、パッケージ1に直接リッド2を載置し、電子ビーム7照射により加熱封止を行う。この工法は局部加熱のため冷却時のパッケージ1とリッド2間のストレスが少ないので、シールフレームを必要としない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、マイクロパラレルシーム溶接工法は、電源を含む設備は簡単で安価であるが、前述のようにシールフレーム5を必要とするのでパッケージのコストが高くなってしまう。
一方、電子ビーム工法は、シールフレームを必要としないのでパッケージのコストは安いが、電子ビーム7の設備が高額である。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、上記二工法の短所を補完し、パッケージにシールフレームを必要とせず、かつ、安価な電源と設備によって実施できる方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1のパラレルギャップシーム溶接方法は、半導体セラミックパッケージを気密封止する方法において、先端方向にひろがりを持つテーパ付きローラ電極一対の先端部を対向させて、該電極ギャップが調整範囲内の任意の値で一定になるように保持し、被封止パッケージ上に載置したリッドの封止部外周上を前記一対のローラ電極により押圧、回転、通電しながら一周することによりセラミックパッケージを封止することを特徴とする。
【0006】
請求項1のパラレルギャップシーム溶接方法によれば、発熱部位が接合に必要な最小部分に抑えられることから発熱によるリッドの伸びが少ないので、シールフレームなしでもセラミックパッケージの割れは発生しない。
【0007】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の1実施形態を示す側面模式図である。図において、1はパッケージ、2はリッド、3はパラレルギャップローラ電極を示す。該パラレルギャップローラ電極3は、先端方向にひろがりを持つテーパ付きで該先端が対向し、該電極間ギャップ4は被溶接部に押圧、回転した時の接触部で一定、即ち軌道が平行になるよう保持され、かつ、ギャップ調整を可能とする。前記電極間ギャップの調整範囲は、0.05から0.15mmが実用的である。また、該電極の材質には銅合金を使用するのが一般的である。
【0008】
セラミック製のパッケージ1の封止部は全周にわたって予めタングステン等でメタライズし、その上にニッケルめっき、金めっきを施す。リッド2は例えばコバール(鉄、ニッケル、コバルトの合金)製で、全面にニッケルめっき、金めっき等を施したものを使用する。封止に当たっては、窒素ガス雰囲気中においてパッケージ1上にリッド2を載置し、リッド2外周封止部に沿ってパラレルギャップローラ電極3を押圧しながら水平移動し、該ローラ電極3間に間欠的に通電または連続的に通電することで封止部全周を封止する。電極間ギャップと通電電流は、予めサンプル実験を行うことで、適切な値に設定する。
【0009】
【発明の効果】
本発明によれば、発熱部位が接合に必要な最小部に限定されるので、リッドの発熱による伸びが少なくシールフレームなしでもセラミックパッケージの割れは発生しない。また、シールフレームを必要としないのでパッケージコストが安く、かつ、電源を含む設備は簡単で安価であり、電源についてはマイクロパラレルシーム溶接工法と共用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の1実施の形態であるパラレルギャップシーム溶接方法の側面模式図を示す。
【図2】図2は従来のシールフレームを用いたマイクロパラレルシーム溶接工法の側面模式図を示す。
【図3】図3は従来の電子ビーム工法の側面模式図を示す。
【符号の説明】
1 パッケージ
2 リッド
3 パラレルギャップローラ電極
4 電極間ギャップ
5 シールフレーム
6 一対のテーパ付きローラ電極
7 電子ビーム[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a parallel gap seam welding method for sealing the semiconductor ceramic package.
[0002]
[Prior art]
In order to hermetically seal a semiconductor ceramic package , a micro parallel seam welding method, an electron beam method, and the like are known.
In the micro parallel seam welding method, as shown in FIG. 2, a
[0003]
In the electron beam method, as shown in FIG. 3, the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the micro parallel seam welding method, the equipment including the power source is simple and inexpensive. However, since the
On the other hand, since the electron beam method does not require a seal frame, the cost of the package is low, but the equipment for the
The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a method that complements the disadvantages of the above two methods, does not require a seal frame in the package, and can be implemented with an inexpensive power source and equipment. Objective.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The parallel gap seam welding method according to
[0006]
According to the parallel gap seam welding method of the first aspect, since the heat generating portion is suppressed to the minimum part necessary for joining, the lid does not stretch due to heat generation, so that the ceramic package does not crack even without the seal frame.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a schematic side view showing an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a package, 2 is a lid, and 3 is a parallel gap roller electrode. The parallel
[0008]
The sealing portion of the
[0009]
【The invention's effect】
According to the present invention, since the heat generating portion is limited to the minimum portion necessary for joining, the ceramic package is not cracked even without a seal frame, with little elongation due to heat generation of the lid. Further, since no seal frame is required, the package cost is low, the equipment including the power source is simple and inexpensive, and the power source can be shared with the micro parallel seam welding method.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic side view of a parallel gap seam welding method according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic side view of a micro parallel seam welding method using a conventional seal frame.
FIG. 3 is a schematic side view of a conventional electron beam method.
[Explanation of symbols]
1
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28770099A JP3881479B2 (en) | 1999-10-08 | 1999-10-08 | Parallel gap seam welding method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28770099A JP3881479B2 (en) | 1999-10-08 | 1999-10-08 | Parallel gap seam welding method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001110924A JP2001110924A (en) | 2001-04-20 |
JP3881479B2 true JP3881479B2 (en) | 2007-02-14 |
Family
ID=17720618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28770099A Expired - Lifetime JP3881479B2 (en) | 1999-10-08 | 1999-10-08 | Parallel gap seam welding method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3881479B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4523481B2 (en) * | 2005-05-13 | 2010-08-11 | オリジン電気株式会社 | Seam joining method and seam joining apparatus |
JP2012004182A (en) * | 2010-06-14 | 2012-01-05 | Nippon Avionics Co Ltd | Connection method and apparatus for solar battery connecting member |
JP5455809B2 (en) * | 2010-06-21 | 2014-03-26 | 日本アビオニクス株式会社 | Method and apparatus for connecting solar cell connecting member |
CN113843489B (en) * | 2021-09-26 | 2023-03-14 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | Ceramic shell parallel seam welding clamp |
-
1999
- 1999-10-08 JP JP28770099A patent/JP3881479B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001110924A (en) | 2001-04-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2002070184B1 (en) | Crack free welding of silicon | |
JP3881479B2 (en) | Parallel gap seam welding method | |
JPH1012270A (en) | Sodium-sulfur battery and manufacture thereof | |
TW200510105A (en) | TIG welding apparatus and TIG welding method | |
CA2385985A1 (en) | Method and arrangement for a martensite-free brazing process | |
JP3712322B2 (en) | Plasma arc welding method and apparatus | |
JP2004363703A (en) | Vacuum sealing method of package for piezoelectric device | |
US3147361A (en) | Vacuum tight joint and method of making such joint | |
GB2055317A (en) | Electron beam welding | |
KR960004340B1 (en) | Brazing method by electro-beam | |
JP2758819B2 (en) | Wire bonding method | |
JP3548109B2 (en) | Parallel seamlow attachment method | |
JP2500480B2 (en) | Seam welder | |
JPS5874289A (en) | Resistance welding method and electrode for resistance welding | |
JP2001321930A (en) | Combining method for metallic plate members | |
JP2002319640A (en) | Package for semiconductor integrated circuit, and manufacturing method therefor | |
JP2002246490A (en) | Package for semiconductor integrated circuit and its manufacturing method | |
JPH0132658B2 (en) | ||
JPS6134958A (en) | Weld-sealing method for semiconductor device | |
Pregelj et al. | TIG-plasma brazed vacuum joints | |
US487607A (en) | Method of arc and incandescent m etal-h eating | |
SK9044Y1 (en) | Method of soldering a combination of ceramic / metal materials with an electron beam and soldering jig | |
JPH0363820B2 (en) | ||
JPH0246309B2 (en) | ||
JPS6248888B2 (en) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060926 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061010 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061110 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3881479 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101117 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101117 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111117 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111117 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121117 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121117 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131117 Year of fee payment: 7 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |