JP3860186B2 - エマルションの製造装置 - Google Patents
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〔1〕エマルションの製造装置において、平行電極を持つ基板と、この基板上に形成されるマイクロチャンネルとを備え、前記マイクロチャンネルの上流側の分散相を前記平行電極に印加される移動電界により吸引・排出してエマルションを生成させることを特徴とする。
Claims (7)
- (a)平行電極を持つ基板と、
(b)該基板上に形成されるマイクロチャンネルとを備え、
(c)前記マイクロチャンネルの上流側の分散相を前記平行電極に印加される移動電界により吸引・排出してエマルションを生成させることを特徴とするエマルションの製造装置。 - 請求項1記載のエマルションの製造装置において、連続相側の平行電極の配置を変えることにより、生成されたエマルションを所定の方向に案内可能にすることを特徴とするエマルションの製造装置。
- 請求項1記載のエマルションの製造装置において、前記平行電極に印加する移動電界の移動速度を変えることにより、エマルションの生成速度を変化可能にすることを特徴とするエマルションの製造装置。
- (a)分散相の液槽下部に、複数のマイクロチャンネルが形成された剛体部材に挟着される弾性部材と、
(b)該弾性部材に応力を印加するアクチュエータと、
(c)前記複数のマイクロチャンネルが連通する連続相を具備することを特徴とするエマルションの製造装置。 - 請求項4記載のエマルションの製造装置において、複数の分散相を供給する手段として、基板と被駆動板と該基板と被駆動板間に配置される弾性部材及び前記被駆動板を駆動するアクチュエータとを備え、前記複数の分散相を同時に供給することを特徴とするエマルションの製造装置。
- 請求項4記載のエマルションの製造装置において、前記複数のマイクロチャンネルの流路の径の下部が絞られるテーパを形成することを特徴とするエマルションの製造装置。
- 請求項4記載のエマルションの製造装置において、前記複数のマイクロチャンネルの流路の径の下部が絞られる第1のテーパと流路の径の更なる下部が拡げられる第2のテーパを有する突起を形成することを特徴とするエマルションの製造装置。
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