JP3857276B2 - 光造形方法、及び光造形装置 - Google Patents
光造形方法、及び光造形装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3857276B2 JP3857276B2 JP2004051879A JP2004051879A JP3857276B2 JP 3857276 B2 JP3857276 B2 JP 3857276B2 JP 2004051879 A JP2004051879 A JP 2004051879A JP 2004051879 A JP2004051879 A JP 2004051879A JP 3857276 B2 JP3857276 B2 JP 3857276B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- cured
- total reflection
- evanescent
- evanescent light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
全反射媒体に所定の光波を入射させるとともに全反射させることによって、エバネッセント光を生成する工程と、
被硬化部材に対して、前記被硬化部材の所定の部分を露光するようにして前記エバネッセント光を照射し、前記被硬化部材の前記部分を硬化させる工程と、
を具えることを特徴とする、光造形方法に関する。
所定の光波を生成し発射させるための光源と、
前記光波を入射させるとともに全反射させ、エバネッセント光を生成するための全反射媒体と、
を具えることを特徴とする、光造形装置に関する。
5 液状樹脂
8 規制露光面
9 伝搬光波
13 硬化部材
14 結像光波
18 高屈折率媒質
19 低屈折率媒質
20 伝搬光波
21 エバネッセント光(局在光)
22 高屈折率固体浸レンズ
23 屈折率整合液
24 エバネッセント光
27 光源
28 伝搬光波
29 ハーフミラー
30 透過光
31 反射光
32 ミラー
33 全反射角度制御ユニット
34 レンズ
35 ミラー
36 レンズ
37 動的マスク
38 中央部遮蔽フィルタ付きレンズ
39 高屈折率固体浸レンズ
40 油浸オイル
41 規制露光面透明基板
42 制御用コンピュータ
43 硬化造形物引き上げロッド
44 硬化物
45 硬化造形物引き上げロッド駆動ステージ
46 レンズ
47 CCDエリアセンサ
48 光硬化性樹脂
49 樹脂漕
51 硬化領域設定絞り
52 レンズ
53 位相調整用ピエゾアクチュエータ
Claims (32)
- 全反射媒体に所定の光波を入射させるとともに全反射させることによって、エバネッセント光を生成する工程と、
被硬化部材に対して、前記被硬化部材の所定の部分を露光するようにして前記エバネッセント光を照射し、前記被硬化部材の前記部分を硬化させる工程と、
前記エバネッセント光の光強度を変調する工程と、
を具え、
前記光強度の変調は、動的マスクを用いて行う
ことを特徴とする光造形方法。 - 全反射媒体に所定の光波を入射させるとともに全反射させることによって、エバネッセント光を生成する工程と、
被硬化部材に対して、前記被硬化部材の所定の部分を露光するようにして前記エバネッセント光を照射し、前記被硬化部材の前記部分を硬化させる工程と、
前記光波の、前記全反射媒体への入射角度及び全反射角度を調節することにより、前記エバネッセント光の前記被硬化部材中での局在状態を制御する工程と、
を具えたことを特徴とする光造形方法。 - 前記光波の、前記全反射媒体への前記入射角度の調節は、所定のレンズと、その焦点位置に設けられたミラーとを含む全反射角制御ユニットによって行う
ことを特徴とする請求項2に記載の光造形方法。 - 全反射媒体に所定の光波を入射させるとともに全反射させることによって、エバネッセント光を生成する工程と、
被硬化部材に対して、前記被硬化部材の所定の部分を露光するようにして前記エバネッセント光を照射し、前記被硬化部材の前記部分を硬化させる工程と、
前記エバネッセント光の光強度を変調する工程と、
を具え、
前記光波は、中央部遮蔽フィルタを介して前記全反射媒体に入射させ、前記全反射媒体で全反射させるようにした
ことを特徴とする光造形方法。 - 全反射媒体に所定の光波を入射させるとともに全反射させることによって、エバネッセント光を生成する工程と、
被硬化部材に対して、前記被硬化部材の所定の部分を露光するようにして前記エバネッセント光を照射し、前記被硬化部材の前記部分を硬化させる工程と、
前記エバネッセント光の光強度を変調する工程と、
を具え、
前記全反射媒体は、固体浸レンズ、又は対物レンズを含む
ことを特徴とする光造形方法。 - 全反射媒体に所定の光波を入射させるとともに全反射させることによって、エバネッセント光を生成する工程と、
被硬化部材に対して、前記被硬化部材の所定の部分を露光するようにして前記エバネッセント光を照射し、前記被硬化部材の前記部分を硬化させる工程と、
前記エバネッセント光の光強度を変調する工程と、
を具え、
前記エバネッセント光による前記被硬化部材の厚さ方向に対する分解能が100nm以下である
ことを特徴とする光造形方法。 - 全反射媒体に所定の光波を入射させるとともに全反射させることによって、エバネッセント光を生成する工程と、
被硬化部材に対して、前記被硬化部材の所定の部分を露光するようにして前記エバネッセント光を照射し、前記被硬化部材の前記部分を硬化させる工程と、
前記エバネッセント光の光強度を変調する工程と、
を具え、
前記エバネッセント光による前記被硬化部材の面内方向に対する分解能が200nm以下である
ことを特徴とする光造形方法。 - 全反射媒体に所定の光波を入射させるとともに全反射させることによって、エバネッセント光を生成する工程と、
被硬化部材に対して、前記被硬化部材の所定の部分を露光するようにして前記エバネッセント光を照射し、前記被硬化部材の前記部分を硬化させる工程と、
前記エバネッセント光の光強度を変調する工程と、
前記エバネッセント光の前記被硬化部材への露光状態を観察する工程と、
を具えたことを特徴とする光造形方法。 - 前記被硬化部材を、その厚さ方向に連続的に移動させ、前記エバネッセント光を、前記被硬化部材の表層部分から厚さ方向に向けて順次焦点させ、前記被硬化部材を前記厚さ方向において硬化させる
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の光造形方法。 - 前記エバネッセント光の前記光強度を、前記被硬化部材の前記厚さ方向において変化させる
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の光造形方法。 - 全反射媒体に所定の光波を入射させるとともに全反射させることによって、エバネッセント光を生成する工程と、
被硬化部材に対して、前記被硬化部材の所定の部分を露光するようにして前記エバネッセント光を照射し、前記被硬化部材の前記部分を硬化させる工程と、
前記全反射媒体に対して複数の光波を入射させるとともに全反射させ、定在波型のエバネッセント光を生成する工程と、
を具えたことを特徴とする光造形方法。 - 前記被硬化部材を、その厚さ方向に連続的に移動させ、前記エバネッセント光を、前記被硬化部材の表層部分から厚さ方向に向けて順次焦点させ、前記被硬化部材を前記厚さ方向において硬化させる
ことを特徴とする請求項11に記載の光造形方法。 - 前記光波の、前記全反射媒体への入射角度、全反射角度及び前記複数の光波のなす角度を調節することにより、前記エバネッセント光の前記被硬化部材中での局在状態を制御する工程を具える
ことを特徴とする請求項11または12に記載の光造形方法。 - 前記光波の、前記全反射媒体への前記入射角度の調節は、所定のレンズと、その焦点位置に設けられたミラーとを含む全反射角制御ユニットによって行う
ことを特徴とする請求項13に記載の光造形方法。 - 前記複数の光波間の位相差を制御することにより、前記エバネッセント光の前記被硬化部材中での局在状態を制御する工程を具える
ことを特徴とする請求項11乃至14のいずれかに記載の光造形方法。 - 前記全反射媒体は、プリズム、固体浸レンズ又は対物レンズを含む
ことを特徴とする請求項11乃至15のいずれかに記載の光造形方法。 - 前記エバネッセント光による前記被硬化部材の厚さ方向に対する分解能が100nm以下である
ことを特徴とする請求項11乃至16のいずれかに記載の光造形方法。 - 前記エバネッセント光による前記被硬化部材の面内方向に対する分解能が200nm以下である
ことを特徴とする請求項11乃至17のいずれかに記載の光造形方法。 - 前記エバネッセント光の前記被硬化部材への露光状態を観察する工程を具える
ことを特徴とする請求項11乃至18のいずれかに記載の光造形方法。 - 所定の光波を生成し発射させるための光源と、
前記光波を入射させるとともに全反射させ、エバネッセント光を生成するための全反射媒体と、
前記エバネッセント光の光強度を変調する光強度変調手段と、
を具え、
前記光強度変調手段は、動的マスクである
ことを特徴とする光造形装置。 - 被硬化部材を、その厚さ方向に連続的に移動させ、前記エバネッセント光を、前記被硬化部材の表層部分から厚さ方向に向けて順次焦点させ、前記被硬化部材を前記厚さ方向において硬化させるための移動手段を具える
ことを特徴とする請求項20に記載の光造形装置。 - 所定の光波を生成し発射させるための光源と、
前記光波を入射させるとともに全反射させ、エバネッセント光を生成するための全反射媒体と、
前記エバネッセント光の光強度を変調する光強度変調手段と、
前記光波の、前記全反射媒体への入射角度及び全反射角度を調節することにより、前記エバネッセント光の被硬化部材中での局在状態を制御するための、調節手段と、
を具え、
前記調節手段は、所定のレンズと、その焦点位置に設けられたミラーとを含む全反射角制御ユニットである
ことを特徴とする光造形装置。 - 所定の光波を生成し発射させるための光源と、
前記光波を入射させるとともに全反射させ、エバネッセント光を生成するための全反射媒体と、
前記エバネッセント光の光強度を変調する光強度変調手段と、
前記光波を前記全反射媒体で全反射させるための中央部遮蔽フィルタと、
を具えたことを特徴とする光造形装置。 - 前記全反射媒体は、固体浸レンズ、又は対物レンズを含む
ことを特徴とする請求項20乃至23のいずれかに記載の光造形装置。 - 前記エバネッセント光の被硬化部材への露光状態を観察するための、観察手段を具える
ことを特徴とする請求項20乃至24のいずれかに記載の光造形装置。 - 所定の光波を生成し発射させるための光源と、
前記光波を入射させるとともに全反射させ、エバネッセント光を生成するための全反射媒体と、
前記全反射媒体に対して複数の光波を入射させるとともに全反射させ、定在波型のエバネッセント光を生成するための生成手段と、
を具えたことを特徴とする光造形装置。 - 被硬化部材を、その厚さ方向に連続的に移動させ、前記エバネッセント光を、前記被硬化部材の表層部分から厚さ方向に向けて順次焦点させ、前記被硬化部材を前記厚さ方向において硬化させるための移動手段を具える
ことを特徴とする請求項26に記載の光造形装置。 - 前記光波の、前記全反射媒体への入射角度、全反射角度及び前記複数の光波のなす角度を調節することにより、前記エバネッセント光の被硬化部材中での局在状態を制御するための、調節手段を具える
ことを特徴とする請求項26または27に記載の光造形装置。 - 前記調節手段は、所定のレンズと、その焦点位置に設けられたミラーとを含む全反射角制御ユニットである
ことを特徴とする請求項28に記載の光造形装置。 - 前記複数の光波間の位相差を制御することにより、前記エバネッセント光の被硬化部材中での局在状態を制御する位相差制御手段を具える
ことを特徴とする請求項26乃至29のいずれかに記載の光造形装置。 - 前記全反射媒体は、プリズム、固体浸レンズ又は対物レンズを含む
ことを特徴とする請求項26乃至30のいずれかに記載の光造形装置。 - 前記エバネッセント光の被硬化部材への露光状態を観察するための、観察手段を具える
ことを特徴とする請求項26乃至31のいずれかに記載の光造形装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004051879A JP3857276B2 (ja) | 2004-02-26 | 2004-02-26 | 光造形方法、及び光造形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004051879A JP3857276B2 (ja) | 2004-02-26 | 2004-02-26 | 光造形方法、及び光造形装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005238650A JP2005238650A (ja) | 2005-09-08 |
JP3857276B2 true JP3857276B2 (ja) | 2006-12-13 |
Family
ID=35020905
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004051879A Expired - Fee Related JP3857276B2 (ja) | 2004-02-26 | 2004-02-26 | 光造形方法、及び光造形装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3857276B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4797165B2 (ja) * | 2005-10-20 | 2011-10-19 | 国立大学法人静岡大学 | 光硬化性樹脂の微細加工方法及び装置 |
WO2017030151A1 (ja) * | 2015-08-19 | 2017-02-23 | 国立大学法人 東京大学 | 母型の製造方法 |
CN108454100B (zh) * | 2018-04-09 | 2024-04-02 | 常州工业职业技术学院 | 基于全反射原理提高成型效果的光固化成型设备 |
-
2004
- 2004-02-26 JP JP2004051879A patent/JP3857276B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005238650A (ja) | 2005-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Wang et al. | Toward near-perfect diffractive optical elements via nanoscale 3D printing | |
JP5234319B2 (ja) | 光造形装置および光造形方法 | |
CN109997081B (zh) | 在非二维初始结构上光刻生成目标结构的方法和装置 | |
CN103080843B (zh) | 用于印刷具有大焦深的周期图案的方法和设备 | |
CN101563212A (zh) | 聚合物对象光学制造工艺 | |
US10442133B2 (en) | Optical method and apparatus for fabricating a structured object | |
US6841340B2 (en) | Optical fabricating method and apparatus | |
Urness | Liquid Deposition Photolithography for Efficient Three Dimensional Structuring | |
JP4669843B2 (ja) | 光造形装置及び光造形方法 | |
JP2020524623A (ja) | 光造形物の製造方法および光造形装置 | |
JP2023505910A (ja) | 体積マイクロリソグラフィ | |
Yu et al. | Multiphoton polymerization using femtosecond Bessel beam for layerless three-dimensional printing | |
JP3857276B2 (ja) | 光造形方法、及び光造形装置 | |
JP5362254B2 (ja) | 計測システム及び計測方法 | |
JP2009166448A (ja) | 光造形装置および光造形方法 | |
KR101389323B1 (ko) | 광경화성수지를 이용한 위상격자 하이브리드 렌즈, 광경화성수지를 이용한 위상격자 하이브리드 렌즈 제조방법 | |
Stender et al. | Industrial-Scale Fabrication of Optical Components Using High-Precision 3D Printing: Aspects-Applications-Perspectives | |
JPH0820072A (ja) | 微小領域感光方法、それを用いた光造形方法および感光性物質加工装置 | |
JP2021154713A (ja) | プリンタ用ヘッド、及び、3次元プリンタ装置 | |
JPS6299753A (ja) | 立体形状の形成方法 | |
WO2022269979A1 (ja) | 3次元造形装置及び3次元造形方法 | |
Lehtinen et al. | Controlling penetration depth in projection stereolithography by adjusting the operation wavelength | |
JPH0514839Y2 (ja) | ||
JPH11170377A (ja) | 光造形加工法、該加工法を用いた可動装置および光造形加工装置 | |
RU2646086C1 (ru) | Способ получения трехмерных объектов |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060307 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060428 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060428 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060428 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060620 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060815 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060913 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3857276 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100922 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110922 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110922 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120922 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120922 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130922 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |