JP3839859B2 - 包接化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は効率的に包接化合物を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ホスト化合物を用いた包接化合物、特に包接錯体の製法としては、多分子系ホストでは従来、
ア）ホスト化合物を溶解した溶液中に、ゲスト化合物を溶解した溶液を添加する方法（特開昭６１−５３２０１、特公平３−３３１２１、特開平５−４９７８）、
イ）ゲスト及びホスト化合物の溶液とする方法（特開昭６０−２２２８４７、特開昭６２−１４２１４７、特開平５−１６３１８７、特開平６−７２９０３）、ウ）ホスト化合物が不溶か難溶性の有機溶剤にゲスト化合物を溶解し、水の非存在下でホスト化合物を添加する方法（特開平３−１７８９０６）、
エ）ホスト化合物の懸濁水中にゲスト化合物の水溶液を添加、反応させる方法（特開平４−３１６５６４）、
オ）粉末ゲスト化合物と粉末ホスト化合物とを混合する方法（特開昭６３−３５５３３）、
カ）固体ホスト化合物と液状または加熱融解した液状ゲスト化合物とを混合する方法（特開昭６０−２６０３８７、特開昭６２−１６０２７９、特開平１−１６０９２５、特開平４−１５０９１７、特開平５−１７０６８６）、
キ）ホスト及びゲスト化合物が不溶の水媒体中、または、ホスト化合物が不溶でゲスト化合物が溶解するヘキサン中で撹はんする方法（Ｊ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．，ＣＨＥＭ．ＣＯＭＭＵＮ．，１９９３、１２３８）等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前記ア）やイ）の方法では、比較的良好な包接化合物が得られる反面、ホストまたはゲスト化合物を溶解するために多量の溶剤が必要であるため、大きな反応槽が必要となり、イニシャルコストの増大、溶剤のコストや使用した溶剤の処理コストの増大を招き、結果的に高価な包接化合物となる。また、溶解度を増加させるため高温に加熱したりする必要があり危険性を伴う。エ）の方法は有機溶剤未使用でありコスト面では好ましいが、ホスト化合物の溶解度が比較的高い事が必要であり、限られた場合にしか適用できない。オ）の場合は溶剤に起因するコスト問題や危険性は排除できるが、混合が均一に行われ難く包接効率が良好でない上、混合時に粉立ちが発生する可能性がある。更に、カ）の方法は溶剤を必要とせずコスト的に大変好ましいが、ホストまたはゲスト化合物が比較的低温で融解しなければならず、通常の比較的高温で融点を持つ化合物には使用できず限られた化合物のみにしか適応できない。更に、包接体は塊で得られることが多く、粉砕工程が必要となることがある。また、キ）の方法は包接に長時間を要したり、ホスト及びゲスト化合物を水に懸濁させる場合に分散助剤を必要とする。他方、ウ）を含めホストまたはゲスト化合物どちらか一方のみが不溶である媒体を探索することは容易ではない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、この課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、固液不均一系、即ち、ホスト化合物及びゲスト化合物を液体媒体中に溶解及び分散させた系から包接化合物を効率的に得ることが可能であることを見い出し、本発明を完成した。
【０００５】
詳しくは、ホスト化合物およびゲスト化合物の一部を溶剤に溶解し、更に、残りの不溶解分を懸濁または乳濁の分散状態で存在させておき、溶解しているホスト化合物とゲスト化合物を反応させ、包接化反応で消費した化合物を分散状態の化合物から溶解補充しつつ、最終的に包接化合物を製造するものである。更に詳しくは、１）ホスト化合物及びゲスト化合物の両方が一部溶剤に溶解している場合、２）ホスト化合物が一部溶剤に溶解し、ゲスト化合物のほとんどまたはすべてが溶剤に溶解している場合、３）ゲスト化合物が一部溶剤に溶解し、ホスト化合物のほとんどまたはすべてが溶剤に溶解している場合がある。両者ともに溶剤に当量溶解していることが理想的であるが、両化合物が少量でも溶解していればよい。溶解量としては添加量の１％〜５０％で、多いほど好ましく、溶解量は多い程反応時間は少なくて済む。
【０００６】
本製造方法は、使用溶剤が少量で済むことから、反応槽を小型化でき、廃液が少量になり、廃液処理も容易となり、大きな経済的効果をもたらすものである。
【０００７】
反応液相が単独溶剤や互いに溶けあう複数の溶剤の均一混合系の場合、また、互いに溶け合わない溶剤の多層系の場合はその内の少なくとも１層がホスト及びゲスト化合物を溶解する必要があり、ホストおよびゲスト化合物の溶剤に対する溶解度は１％以上が好ましい。溶解度が小さい場合は多量の溶剤を必要としたり、包接速度が遅くなる。液相は均一系でも良いが、不均一系、例えば水と有機溶剤とからなる多成分系でもよい。一般に有機化合物は水に溶け難いため、ホストおよびゲスト化合物の易溶性有機溶剤と水の混合系が特に有用である。
【０００８】
反応液相の例としては、ホスト化合物及びゲスト化合物に対し溶解度を持てばどのような溶剤でも使用できる。単一溶剤では水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、ブチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族類に代表される通常の反応溶剤が使用できる。
【０００９】
混合溶剤の場合も前記溶剤の適当な組合せが使用できる。特に、生成する包接化合物が有機溶剤に可溶な場合は、有機溶剤のほかに水を加え生成した包接化合物を分離することが有効である。例えば水溶性のゲスト化合物と非水溶性でかつ有機溶剤に可溶なホスト化合物による包接化合物の製造は水−メタノール、水−アセトン等の均一溶媒が、また、水−イソブタノール、水−メチルイソブチルケトン、水−酢酸エチル、水−ブチルエーテル、水−トルエン等の２層溶媒が有用である。更に、有機溶剤を濃縮または留去し、ホスト及びゲスト化合物の溶解量を下げることは収量を上げるのに有用である。
【００１０】
ホストおよびゲスト化合物としては、ホスト化合物およびゲスト化合物の溶解度が、両者からなる包接化合物の溶解度よりも高ければどのような化合物でも使用できる。
【００１１】
例えばホスト化合物としては、１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−クロロ−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−クロロ−５−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス〔４−ヒドロキシ−３−フェニル）フェニル〕エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，３，３−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，４，４−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）ブタンなど一般式〔Ｉ〕で表される化合物、
【００１２】
【化１】
【００１３】
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，２，２−テトラフェニルエタン−１，２−ジオール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−スルホニルビスフェノール、２，２’−メチレンビス（４−クロロフェノール）、２，５−ビス（２，４−ジメチルフェニル）ヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、１，１−ビ−２−ナフトール、４，４’−スルホニルビスフェノール、デオキシコール酸などを挙げることができる。
【００１４】
ゲスト化合物としては、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスルフォニル）ピリジン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−メトキシカルボニルベンズイミダゾール、４、５−ジクロロ−１、２−ジチオラン−３−オン、５−クロロ−４−フェニル−１、２−ジチオラン−３−オン、エチルアルコール、チモール、シネオール、ヒノキチオール、メントール、ボルネオール、メントン、カルボン、オイゲノール、テルピネオール、シトラール、ゲラニオール、Ｎ1 −〔（６−クロロ−３−ピリジル）メチル〕−Ｎ2 −シアノ−Ｎ1 −メチルアセタミジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルアミド、α−ブロムシンナムアルデヒド等があげられる。
【００１５】
本製造法の一般的な工程は、液温や溶剤量を調節した溶剤中にホスト化合物またはゲスト化合物の両方またはどちらかが分散状態で反応すれば良く、両化合物を一度に仕込む方法、両化合物を徐々に添加する方法、一方の化合物に他方を添加していく方法等、化合物に応じ任意の方法をとることが出来る。反応時に、加熱、冷却することも有用である。生成した包接化合物は反応液から分離、必要に応じ洗浄し、乾燥する。
【００１６】
【実施例】
次にホスト化合物として１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ＴＥＰと略）、ゲスト化合物として５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン（ＣＭＩと略）の包接物に関する本発明の実施例を示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。尚、ＣＭＩはＴＥＰの２倍モル添加し、理論的包接比は２．０である。表１にＴＥＰの各種溶剤に対する溶解度をしめした。
【００１７】
【表１】
【００１８】
実施例−１
水−イソブタノール３層系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた１リットルフラスコにイソブタノール５０グラム、ＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時には一部溶解および不溶解ＴＥＰが共存する）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、熟成２時間、約３時間で５℃まで徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００１９】
実施例−２
水−酢エチ３層系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた１リットルのフラスコに酢酸エチル５０グラムとＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時には一部溶解および不溶解ＴＥＰが共存する）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、約２時間熟成し、５℃まで３時間かけ徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００２０】
実施例−３
水−酢エチ３層系（濃縮）
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた１リットルのフラスコに酢酸エチル５０グラムとＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時には一部溶解および不溶解ＴＥＰが共存する）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、約２時間熟成し、酢酸エチルを減圧下、６０℃で留去する。次に５℃まで３時間かけ徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００２１】
実施例−４
水−メチルイソブチルケトン３層系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた１リットルのフラスコにメチルイソブチルケトン１００グラム、ＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時には一部溶解および不溶解ＴＥＰが共存する）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、２時間熟成、３時間で５℃まで徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００２２】
比較例−１
水−メタノール均一系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた２リットルのフラスコにメタノール５５０グラム（メタノールの量がこれより少ないとＴＥＰが全量溶解しない）とＴＥＰ１００グラムを入れ、６５℃に加温しＴＥＰを溶解する。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）７６０グラムを２５分で滴下、１時間熟成した後、撹はんしながら１時間空冷し、更に１時間水冷し２０℃まで冷却し、固形物を減圧濾過した。
【００２３】
比較例−２
水−不均一系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた２リットルのフラスコに水５００グラムとＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時ＴＥＰは殆ど溶解しない）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、約２時間熟成し、５℃まで３時間かけ徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００２４】
表２に実施例１〜４と比較例１〜２の結果をまとめて示した。
【００２５】
【表２】
【００２６】
【発明の効果】
本製造方法は、使用溶剤が少量で済むことから、反応槽を小型化でき、廃液が少量になり、廃液処理も容易になる効率の良い製法であり、製造された包接化合物はホスト化合物及びゲスト化合物両者を完全溶解した後、包接化合物を調製したものと比較しても品質的に遜色のないものである。
【産業上の利用分野】
本発明は効率的に包接化合物を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ホスト化合物を用いた包接化合物、特に包接錯体の製法としては、多分子系ホストでは従来、
ア）ホスト化合物を溶解した溶液中に、ゲスト化合物を溶解した溶液を添加する方法（特開昭６１−５３２０１、特公平３−３３１２１、特開平５−４９７８）、
イ）ゲスト及びホスト化合物の溶液とする方法（特開昭６０−２２２８４７、特開昭６２−１４２１４７、特開平５−１６３１８７、特開平６−７２９０３）、ウ）ホスト化合物が不溶か難溶性の有機溶剤にゲスト化合物を溶解し、水の非存在下でホスト化合物を添加する方法（特開平３−１７８９０６）、
エ）ホスト化合物の懸濁水中にゲスト化合物の水溶液を添加、反応させる方法（特開平４−３１６５６４）、
オ）粉末ゲスト化合物と粉末ホスト化合物とを混合する方法（特開昭６３−３５５３３）、
カ）固体ホスト化合物と液状または加熱融解した液状ゲスト化合物とを混合する方法（特開昭６０−２６０３８７、特開昭６２−１６０２７９、特開平１−１６０９２５、特開平４−１５０９１７、特開平５−１７０６８６）、
キ）ホスト及びゲスト化合物が不溶の水媒体中、または、ホスト化合物が不溶でゲスト化合物が溶解するヘキサン中で撹はんする方法（Ｊ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．，ＣＨＥＭ．ＣＯＭＭＵＮ．，１９９３、１２３８）等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前記ア）やイ）の方法では、比較的良好な包接化合物が得られる反面、ホストまたはゲスト化合物を溶解するために多量の溶剤が必要であるため、大きな反応槽が必要となり、イニシャルコストの増大、溶剤のコストや使用した溶剤の処理コストの増大を招き、結果的に高価な包接化合物となる。また、溶解度を増加させるため高温に加熱したりする必要があり危険性を伴う。エ）の方法は有機溶剤未使用でありコスト面では好ましいが、ホスト化合物の溶解度が比較的高い事が必要であり、限られた場合にしか適用できない。オ）の場合は溶剤に起因するコスト問題や危険性は排除できるが、混合が均一に行われ難く包接効率が良好でない上、混合時に粉立ちが発生する可能性がある。更に、カ）の方法は溶剤を必要とせずコスト的に大変好ましいが、ホストまたはゲスト化合物が比較的低温で融解しなければならず、通常の比較的高温で融点を持つ化合物には使用できず限られた化合物のみにしか適応できない。更に、包接体は塊で得られることが多く、粉砕工程が必要となることがある。また、キ）の方法は包接に長時間を要したり、ホスト及びゲスト化合物を水に懸濁させる場合に分散助剤を必要とする。他方、ウ）を含めホストまたはゲスト化合物どちらか一方のみが不溶である媒体を探索することは容易ではない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、この課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、固液不均一系、即ち、ホスト化合物及びゲスト化合物を液体媒体中に溶解及び分散させた系から包接化合物を効率的に得ることが可能であることを見い出し、本発明を完成した。
【０００５】
詳しくは、ホスト化合物およびゲスト化合物の一部を溶剤に溶解し、更に、残りの不溶解分を懸濁または乳濁の分散状態で存在させておき、溶解しているホスト化合物とゲスト化合物を反応させ、包接化反応で消費した化合物を分散状態の化合物から溶解補充しつつ、最終的に包接化合物を製造するものである。更に詳しくは、１）ホスト化合物及びゲスト化合物の両方が一部溶剤に溶解している場合、２）ホスト化合物が一部溶剤に溶解し、ゲスト化合物のほとんどまたはすべてが溶剤に溶解している場合、３）ゲスト化合物が一部溶剤に溶解し、ホスト化合物のほとんどまたはすべてが溶剤に溶解している場合がある。両者ともに溶剤に当量溶解していることが理想的であるが、両化合物が少量でも溶解していればよい。溶解量としては添加量の１％〜５０％で、多いほど好ましく、溶解量は多い程反応時間は少なくて済む。
【０００６】
本製造方法は、使用溶剤が少量で済むことから、反応槽を小型化でき、廃液が少量になり、廃液処理も容易となり、大きな経済的効果をもたらすものである。
【０００７】
反応液相が単独溶剤や互いに溶けあう複数の溶剤の均一混合系の場合、また、互いに溶け合わない溶剤の多層系の場合はその内の少なくとも１層がホスト及びゲスト化合物を溶解する必要があり、ホストおよびゲスト化合物の溶剤に対する溶解度は１％以上が好ましい。溶解度が小さい場合は多量の溶剤を必要としたり、包接速度が遅くなる。液相は均一系でも良いが、不均一系、例えば水と有機溶剤とからなる多成分系でもよい。一般に有機化合物は水に溶け難いため、ホストおよびゲスト化合物の易溶性有機溶剤と水の混合系が特に有用である。
【０００８】
反応液相の例としては、ホスト化合物及びゲスト化合物に対し溶解度を持てばどのような溶剤でも使用できる。単一溶剤では水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、ブチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族類に代表される通常の反応溶剤が使用できる。
【０００９】
混合溶剤の場合も前記溶剤の適当な組合せが使用できる。特に、生成する包接化合物が有機溶剤に可溶な場合は、有機溶剤のほかに水を加え生成した包接化合物を分離することが有効である。例えば水溶性のゲスト化合物と非水溶性でかつ有機溶剤に可溶なホスト化合物による包接化合物の製造は水−メタノール、水−アセトン等の均一溶媒が、また、水−イソブタノール、水−メチルイソブチルケトン、水−酢酸エチル、水−ブチルエーテル、水−トルエン等の２層溶媒が有用である。更に、有機溶剤を濃縮または留去し、ホスト及びゲスト化合物の溶解量を下げることは収量を上げるのに有用である。
【００１０】
ホストおよびゲスト化合物としては、ホスト化合物およびゲスト化合物の溶解度が、両者からなる包接化合物の溶解度よりも高ければどのような化合物でも使用できる。
【００１１】
例えばホスト化合物としては、１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−クロロ−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−クロロ−５−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス〔４−ヒドロキシ−３−フェニル）フェニル〕エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，３，３−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，４，４−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）ブタンなど一般式〔Ｉ〕で表される化合物、
【００１２】
【化１】
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，２，２−テトラフェニルエタン−１，２−ジオール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−スルホニルビスフェノール、２，２’−メチレンビス（４−クロロフェノール）、２，５−ビス（２，４−ジメチルフェニル）ヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、１，１−ビ−２−ナフトール、４，４’−スルホニルビスフェノール、デオキシコール酸などを挙げることができる。
【００１４】
ゲスト化合物としては、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスルフォニル）ピリジン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−メトキシカルボニルベンズイミダゾール、４、５−ジクロロ−１、２−ジチオラン−３−オン、５−クロロ−４−フェニル−１、２−ジチオラン−３−オン、エチルアルコール、チモール、シネオール、ヒノキチオール、メントール、ボルネオール、メントン、カルボン、オイゲノール、テルピネオール、シトラール、ゲラニオール、Ｎ1 −〔（６−クロロ−３−ピリジル）メチル〕−Ｎ2 −シアノ−Ｎ1 −メチルアセタミジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルアミド、α−ブロムシンナムアルデヒド等があげられる。
【００１５】
本製造法の一般的な工程は、液温や溶剤量を調節した溶剤中にホスト化合物またはゲスト化合物の両方またはどちらかが分散状態で反応すれば良く、両化合物を一度に仕込む方法、両化合物を徐々に添加する方法、一方の化合物に他方を添加していく方法等、化合物に応じ任意の方法をとることが出来る。反応時に、加熱、冷却することも有用である。生成した包接化合物は反応液から分離、必要に応じ洗浄し、乾燥する。
【００１６】
【実施例】
次にホスト化合物として１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ＴＥＰと略）、ゲスト化合物として５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン（ＣＭＩと略）の包接物に関する本発明の実施例を示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。尚、ＣＭＩはＴＥＰの２倍モル添加し、理論的包接比は２．０である。表１にＴＥＰの各種溶剤に対する溶解度をしめした。
【００１７】
【表１】
実施例−１
水−イソブタノール３層系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた１リットルフラスコにイソブタノール５０グラム、ＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時には一部溶解および不溶解ＴＥＰが共存する）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、熟成２時間、約３時間で５℃まで徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００１９】
実施例−２
水−酢エチ３層系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた１リットルのフラスコに酢酸エチル５０グラムとＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時には一部溶解および不溶解ＴＥＰが共存する）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、約２時間熟成し、５℃まで３時間かけ徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００２０】
実施例−３
水−酢エチ３層系（濃縮）
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた１リットルのフラスコに酢酸エチル５０グラムとＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時には一部溶解および不溶解ＴＥＰが共存する）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、約２時間熟成し、酢酸エチルを減圧下、６０℃で留去する。次に５℃まで３時間かけ徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００２１】
実施例−４
水−メチルイソブチルケトン３層系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた１リットルのフラスコにメチルイソブチルケトン１００グラム、ＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時には一部溶解および不溶解ＴＥＰが共存する）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、２時間熟成、３時間で５℃まで徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００２２】
比較例−１
水−メタノール均一系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた２リットルのフラスコにメタノール５５０グラム（メタノールの量がこれより少ないとＴＥＰが全量溶解しない）とＴＥＰ１００グラムを入れ、６５℃に加温しＴＥＰを溶解する。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）７６０グラムを２５分で滴下、１時間熟成した後、撹はんしながら１時間空冷し、更に１時間水冷し２０℃まで冷却し、固形物を減圧濾過した。
【００２３】
比較例−２
水−不均一系
蛇管冷却器、温度計、撹はん器を備えた２リットルのフラスコに水５００グラムとＴＥＰ５０グラムを入れ６５℃に加温する（この時ＴＥＰは殆ど溶解しない）。これにケーソンＷＴ（ローム・アンド・ハース社製：ＣＭＩを約１０％含有する水溶液）３６０グラムを２０分で滴下、約２時間熟成し、５℃まで３時間かけ徐冷し、固形物を濾過、減圧乾燥した。
【００２４】
表２に実施例１〜４と比較例１〜２の結果をまとめて示した。
【００２５】
【表２】
【発明の効果】
本製造方法は、使用溶剤が少量で済むことから、反応槽を小型化でき、廃液が少量になり、廃液処理も容易になる効率の良い製法であり、製造された包接化合物はホスト化合物及びゲスト化合物両者を完全溶解した後、包接化合物を調製したものと比較しても品質的に遜色のないものである。
Claims (4)
- 分子中に、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、フェニル基で置換されていてもよいフェノール性水酸基を２個以上含む化合物、２，５−ビス（２，４−ジメチルフェニル）ハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、１，１−ビ−２−ナフトール、４，４’−スルホニルビスフェノール、及びデオキシコール酸から選ばれる１種のホスト化合物が、イソブタノール、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、ブチルエーテル及びトルエンから選ばれる一種の有機溶媒に一部溶解した有機溶媒液に、ゲスト化合物の水溶液又は水分散液を添加することを特徴とする包接化合物の製造方法。
- 前記ホスト化合物が、１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−クロロ−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−クロロ−５−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，３，３−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３，３−テトラキス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，４，４−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、１，１，２，２−テトラフェニルエタン−１，２−ジオール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−スルホニルビスフェノール、２，２’−メチレンビス（４−クロロフェノール）、２，５−ビス（２，４−ジメチルフェニル）ヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、１，１−ビ−２−ナフトール、４，４’−スルホニルビスフェノール、またはデオキシコール酸であることを特徴とする請求項１に記載の包接化合物の製造方法。
- 前記ゲスト化合物が、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルアミド、α−ブロムシンナムアルデヒド、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、シネオール及びヒノキチオールから選ばれる１種または２種以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の包接化合物の製造方法。
- 前記ゲスト化合物が、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンであることを特徴とする請求項１または２に記載の包接化合物の製造方法。
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