JP3821148B2 - Electro-optical device drive circuit, electro-optical device, and electronic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、高品位な表示とともに、形成領域において無駄な領域の発生を防止した電気光学装置の駆動回路、および、この駆動回路を内蔵する電気光学装置、並びに、この電気光学装置を用いた電子機器に関する。   The present invention relates to a drive circuit of an electro-optical device that prevents generation of a useless region in a formation region with a high-quality display, an electro-optical device incorporating the drive circuit, and an electron using the electro-optical device Regarding equipment.

従来の電気光学装置、例えば、液晶装置の駆動回路は、画像表示領域に配設されたデータ線や走査線などに、画像信号や走査信号などを所定タイミングで供給するデータ線駆動回路や、走査線駆動回路、サンプリング回路などから構成されている。このうち、データ線駆動回路は、一般には、複数のラッチ回路(シフトレジスタ回路)を備え、水平走査期間の最初に供給される転送信号をクロック信号に応じて順次シフトして、これをサンプリング制御信号として出力するものであり、同様に、走査線駆動回路は、複数のラッチ回路を備え、垂直走査期間の最初に供給される転送信号をクロック信号に応じて順次シフトして、これを走査信号として出力するものである。また、サンプリング回路は、各データ線毎に設けられるサンプリング用のスイッチからなり、外部から供給される画像信号を、サ
ンプリング制御信号にしたがってサンプリングして、各データ線に供給するものである。
A driving circuit of a conventional electro-optical device, for example, a liquid crystal device, includes a data line driving circuit that supplies an image signal, a scanning signal, and the like to a data line and a scanning line arranged in an image display area at a predetermined timing, and a scanning circuit. It is composed of a line drive circuit, a sampling circuit, and the like. Among these, the data line driving circuit generally includes a plurality of latch circuits (shift register circuits), and sequentially shifts the transfer signal supplied at the beginning of the horizontal scanning period according to the clock signal, and performs sampling control thereof. Similarly, the scanning line driving circuit includes a plurality of latch circuits, and sequentially shifts the transfer signal supplied at the beginning of the vertical scanning period in accordance with the clock signal, and outputs this signal as the scanning signal. Is output as The sampling circuit is composed of a sampling switch provided for each data line, samples an image signal supplied from the outside according to a sampling control signal, and supplies it to each data line.

また、ラッチ回路とサンプリング回路との間に、バッファ回路を介在させて、転送信号を波形整形して前述のサンプリング制御信号とするとともに、ラッチ回路の駆動能力がサンプリングスイッチを駆動するのに十分でなくても、サンプリングスイッチの負荷に十分対応可能な構成も採用されている。   In addition, a buffer circuit is interposed between the latch circuit and the sampling circuit to shape the transfer signal to obtain the above-described sampling control signal, and the driving capability of the latch circuit is sufficient to drive the sampling switch. A configuration that can sufficiently cope with the load of the sampling switch is also adopted even if it is not.

一方、これら駆動回路自体を、電気光学装置を構成する基板上に設けた駆動回路内蔵型の電気光学装置が開発されている。このタイプの電気光学装置では、製造プロセスを効率化するなどの観点から、駆動回路を構成する素子が、画素を駆動するスイッチング素子と共通プロセスで製造される。例えば、電気光学材料として液晶を用いた液晶装置において駆動回路を構成する素子は、液晶画素を駆動する薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:以下「TFT」と称する)などによって構成される。このような駆動回路内蔵型の電気光学装置は、駆動回路を別基板上に形成して外付けするタイプの電気光学装置と比較して、装置全体の小型化やコスト低下を図る上で有利である。   On the other hand, a drive circuit built-in type electro-optical device in which these drive circuits are provided on a substrate constituting the electro-optical device has been developed. In this type of electro-optical device, the elements constituting the drive circuit are manufactured in a common process with the switching elements for driving the pixels from the viewpoint of improving the efficiency of the manufacturing process. For example, an element constituting a driving circuit in a liquid crystal device using liquid crystal as an electro-optic material is constituted by a thin film transistor (hereinafter referred to as “TFT”) for driving a liquid crystal pixel. Such an electro-optical device with a built-in drive circuit is advantageous in reducing the size and cost of the entire device as compared with an electro-optical device in which a drive circuit is formed on a separate substrate and externally attached. is there.

さて近年、電気光学装置に限られず表示装置全般にあっては、例えばXGA(1024×768ドット)や、SXGA(1280×1024ドット)、UXGA(1600×1200ドット)などのように、高精細化の要請が高まっており、これに対応して、電気光学装置のドット周波数も高める必要が生じている。ここで、上記駆動回路内蔵型の電気光学装置において、ドット周波数を高めると、前述したサンプリングスイッチのサンプリング能力不足や、駆動回路を構成する素子の動作遅延などが発生して、例えば、本来次のデータ線に書き込まれるべき画像信号が、前のデータ線にも書込まれる結果、いわゆるゴーストやクロストークが生じて、表示画像の品位が低下する。これを解決するために、サンプリングスイッチや駆動回路の構成素子の性能自体を高めるのでは、コストの顕著な上昇を招いてしまう。   In recent years, not only electro-optical devices but also display devices in general have become high-definition, such as XGA (1024 x 768 dots), SXGA (1280 x 1024 dots), UXGA (1600 x 1200 dots), etc. Accordingly, there is a need to increase the dot frequency of the electro-optical device. Here, in the electro-optical device with a built-in drive circuit, when the dot frequency is increased, the sampling capability of the sampling switch described above is insufficient, the operation delay of elements constituting the drive circuit, and the like occur. As a result of the image signal to be written to the data line being written also to the previous data line, so-called ghost and crosstalk occur, and the quality of the display image is degraded. In order to solve this problem, if the performance of the sampling switch and the constituent elements of the drive circuit itself is increased, the cost will increase significantly.

そこで最近では、1系統の画像信号を複数系統に分配するとともに、時間軸に伸長(シリアル−パラレル変換)する一方、サンプリング回路においては複数系統の画像信号を同時にサンプリングして、複数本のデータ線に同時に供給する技術が開発されている。この技術によれば、同時駆動されるデータ線の本数に応じて、各サンプリングスイッチによるサンプリングする時間が、同時駆動されるデータ線の本数倍となるので、駆動回路における駆動周波数が、実質的に、同時駆動されるデータ線の逆数にまで低下する。このため、サンプリングスイッチや、駆動回路の構成素子、画素の駆動素子などの性能自体を向上させることなく、高ドット周波数化に対処することが可能となる。   Recently, therefore, one system of image signals is distributed to a plurality of systems and is expanded on the time axis (serial-parallel conversion). On the other hand, the sampling circuit simultaneously samples a plurality of systems of image signals to generate a plurality of data lines. Technology has been developed that can be supplied simultaneously. According to this technique, the sampling time by each sampling switch is double the number of simultaneously driven data lines in accordance with the number of simultaneously driven data lines, so that the drive frequency in the drive circuit is substantially reduced. Further, the number of data lines is reduced to the reciprocal of the data lines that are driven simultaneously. For this reason, it is possible to cope with a higher dot frequency without improving the performance of the sampling switch, the drive circuit components, the pixel drive elements, and the like.

このように複数のデータ線を同時駆動する場合、複数のサンプリングスイッチに対して同時に、あるいは、同一のサンプリング制御信号を供給する必要がある。このため、ラッチ回路とサンプリングスイッチとの間に介在するバッファ回路の駆動能力を、複数のサンプリングスイッチの負荷合計に応じて高めることが必要となる。   When a plurality of data lines are simultaneously driven in this way, it is necessary to supply the same sampling control signal to a plurality of sampling switches simultaneously. For this reason, it is necessary to increase the drive capability of the buffer circuit interposed between the latch circuit and the sampling switch in accordance with the total load of the plurality of sampling switches.

ここで、バッファ回路の駆動能力を高める方策としては、まず、バッファ回路を構成する論理回路、例えばインバータを構成する素子を、大サイズ化することが考えられる。ただし、この方策において、駆動回路の構成素子を単純に大サイズ化したのでは、今度は、この構成素子を駆動することになるラッチ回路の駆動能力を高める必要性が生じてしまい、複数ラッチ回路からなるシフトレジスタ回路の低消費電力化という、当該電気光学装置の技術分野における一般的要請とは相矛盾する結果を招く。そこで、複数のインバータを直列に多段接続してバッファ回路を構成して、バッファ回路の駆動能力を各段毎に段階的に高める構成が採用されている。すなわち、バッファ回路において、ラッチ回路側の段のインバータを構成する素子サイズが小さい一方、かつ、サンプリングスイッチ側の段のインバータを構成する素子サイズが大きい構成が採用されている。   Here, as a measure for increasing the drive capability of the buffer circuit, first, it is conceivable to increase the size of the logic circuit that constitutes the buffer circuit, for example, the element that constitutes the inverter. However, in this measure, if the constituent elements of the driving circuit are simply increased in size, it will be necessary to increase the driving capability of the latch circuit that will drive the constituent elements. This results in a contradiction with the general demand in the technical field of the electro-optical device for reducing the power consumption of the shift register circuit. Therefore, a configuration is adopted in which a plurality of inverters are connected in multiple stages in series to constitute a buffer circuit, and the driving capability of the buffer circuit is increased step by step for each stage. That is, the buffer circuit employs a configuration in which the element size constituting the inverter at the stage on the latch circuit side is small and the element size constituting the inverter at the stage on the sampling switch side is large.

しかしながら、直列に多段接続されたインバータから構成されるバッファ回路を、上記駆動回路内蔵型の電気光学装置に設けようとすると、基板領域において、バッファ回路が大型化するため、バッファ回路による占有面積や非有効利用面積の増加が問題となる。特に、バッファ回路が形成される領域は、通常、画像信号線とシフトレジスタ回路との間に介在する領域であるために、データ線の延在方向とは交差する方向に長手となる。したがって、単に、データ線の延在方向に長手状に伸びる素子から各段のインバータを形成するとともに、これをデータ線の延在方向に複数段直列に接続しただけの構成では、当該領域おいて非有効利用面積の割合が顕著に大きくなってしまう。そして、最終的には、画像表示領域の一端外側にデータ線駆動回路が形成されるので、非画像表示領域が広がることになり、装置全体の小型軽量化や、同一装置サイズにおける画像表示領域の大型化という、当該電気光学装置の一般的要請に相矛盾する結果を招くことになる。   However, if a buffer circuit composed of inverters connected in multiple stages in series is provided in the electro-optical device with a built-in driving circuit, the buffer circuit is enlarged in the substrate region. An increase in ineffective use area becomes a problem. In particular, since the region where the buffer circuit is formed is usually a region interposed between the image signal line and the shift register circuit, it is long in a direction intersecting with the extending direction of the data line. Therefore, in the configuration in which each stage of inverter is formed from elements extending in the longitudinal direction in the direction of extension of the data line and this is simply connected in a plurality of stages in the direction of extension of the data line, The proportion of the ineffective use area will be significantly increased. Finally, since the data line driving circuit is formed outside one end of the image display area, the non-image display area is expanded, and the entire apparatus can be reduced in size and weight, and the image display area in the same apparatus size can be reduced. This leads to a result that contradicts the general demand for the electro-optical device, that is, an increase in size.

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、駆動回路内蔵型であって、かつ、複数のデータ線を同時駆動する液晶装置等の電気光学装置において、基板領域を効率的に利用して、装置全体を小型化することが可能な電気光学装置の駆動回路、及び、この駆動回路を内蔵する電気光学装置、並びに、この電気光学装置を有する電子機器を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object thereof is an electro-optical device such as a liquid crystal device that has a built-in driving circuit and simultaneously drives a plurality of data lines. A drive circuit for an electro-optical device capable of efficiently downsizing the entire device by efficiently using a substrate region, an electro-optical device incorporating the drive circuit, and an electronic apparatus having the electro-optical device It is to provide.

上記課題を解決するため、本発明は、複数の走査線と、複数のデータ線と、前記複数の走査線と前記複数のデータ線との各交点に対応して設けられた複数の画素とを備えた電気光学装置を駆動するための電気光学装置の駆動回路において、前記駆動回路は、シフトレジスタ回路と、前記シフトレジスタ回路から供給される転送信号の信号幅を所定の幅に制限する位相調整回路と、前記位相調整回路によって信号幅が制限された前記転送信号をサンプリング制御信号として出力するバッファ回路と、を有し、前記バッファ回路は、前記データ線の延在方向とは交差する方向に並び、且つ、並列接続された複数の論理回路によって構成される段が、複数直列接続して構成されたものであり、前記論理回路を構成するトランジスタのチャネル幅は、前記論理回路を含む段の前段に含まれる論理回路を構成するトランジスタのチャネル幅よりも広いことを特徴とする。
また、複数の走査線と、複数のデータ線と、前記複数の走査線と前記複数のデータ線との各交点に対応して設けられた複数の画素とを備えた電気光学装置を駆動するための電気光学装置の駆動回路において、前記駆動回路は、シフトレジスタ回路と、前記シフトレジスタ回路から供給される転送信号に基づいてサンプリング制御信号を出力するバッファ回路と、を有し、前記バッファ回路は、前記データ線の延在方向と交差する方向に並び、且つ、並列接続された複数の論理回路を、含み、前記複数の論理回路を構成する各々のトランジスタは、当該トランジスタのチャネル幅の方向が前記データ線の延在する方向となるように配置されたことを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention includes a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and a plurality of pixels provided corresponding to the intersections of the plurality of scanning lines and the plurality of data lines. In the electro-optical device drive circuit for driving the electro-optical device, the drive circuit includes a shift register circuit and a phase adjustment that limits a signal width of a transfer signal supplied from the shift register circuit to a predetermined width. And a buffer circuit that outputs the transfer signal, the signal width of which is limited by the phase adjustment circuit, as a sampling control signal. The buffer circuit intersects with the direction in which the data line extends. A plurality of stages constituted by a plurality of logic circuits connected in parallel are connected in series, and the channel width of the transistors constituting the logic circuit is: Serial characterized wider than the channel width of the transistor included in the logic circuit included in the preceding stage including a logic circuit.
And driving an electro-optical device including a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and a plurality of pixels provided corresponding to intersections of the plurality of scanning lines and the plurality of data lines. In the drive circuit of the electro-optical device, the drive circuit includes a shift register circuit, and a buffer circuit that outputs a sampling control signal based on a transfer signal supplied from the shift register circuit. Including a plurality of logic circuits arranged in a direction intersecting with the extending direction of the data lines and connected in parallel, and each transistor constituting the plurality of logic circuits has a channel width direction of the transistors. The data lines are arranged in the extending direction.

そして上記の電気光学装置の駆動回路において、前記バッファ回路は、前記データ線の延在方向とは交差する方向に並び、且つ、並列接続されてなる複数の論理回路によって構成される段を有し、さらに前記段を複数直列接続することが望ましい。   In the driving circuit of the electro-optical device, the buffer circuit includes a stage configured by a plurality of logic circuits arranged in a direction intersecting with the extending direction of the data lines and connected in parallel. Furthermore, it is desirable to connect a plurality of the stages in series.

さらに、前記論理回路を構成するトランジスタのチャネル幅は、前記論理回路を含む段の前段に含まれる論理回路を構成するトランジスタのチャネル幅よりも広いことが望ましい。   Furthermore, it is desirable that the channel width of the transistors constituting the logic circuit is wider than the channel width of the transistors constituting the logic circuit included in the preceding stage including the logic circuit.

このように構成すると、論理回路を構成するトランジスタのサイズが各段毎に段階的に大きくなるので、バッファ回路全体の駆動能力を高めることができる。このため、サンプリング制御信号によって同時駆動可能なサンプリングの数を増やすことが可能となる。一方、初段の論理回路を構成するトランジスタのサイズは、比較的小さくて済むため、このトランジスタに転送信号を供給するラッチ回路の駆動能力は、低くても構わない。このため、複数のラッチ回路を備えるシフトレジスタ回路にあっては、回路規模が縮小されるとともに、低消費電力化が図られることとなる。さらに、位相調整回路によって転送信号の信号幅(信号がアクティブレベルとされる時間)が所定の期間に制限されるので、ラッチ回路から相前後して出力される転送信号同士の重複が低減される。このため、本来、異なるサンプリング制御信号によって駆動されるべきデータ線に、同時に同一の画像信号がサンプリングされるという事態が防止されるので、クロストークやゴーストなどの発生が未然に抑えられることとなる。   With this configuration, the size of the transistors constituting the logic circuit increases step by step for each stage, so that the drive capability of the entire buffer circuit can be increased. For this reason, it is possible to increase the number of samplings that can be simultaneously driven by the sampling control signal. On the other hand, since the size of the transistor constituting the first stage logic circuit may be relatively small, the driving capability of the latch circuit that supplies a transfer signal to this transistor may be low. For this reason, in a shift register circuit including a plurality of latch circuits, the circuit scale is reduced and power consumption is reduced. Furthermore, since the signal width of the transfer signal (the time during which the signal is at the active level) is limited to a predetermined period by the phase adjustment circuit, duplication of transfer signals output before and after the latch circuit is reduced. . For this reason, the situation where the same image signal is sampled simultaneously on data lines that should be driven by different sampling control signals is prevented, so that the occurrence of crosstalk, ghosts, etc. can be suppressed in advance. .

なお、直列接続の段数が増加するにつれ、これらの論理回路を構成するトランジスタによる遅延時間の合計も増加する。このため、実際には、この遅延時間の合計が最終的に表示画像に悪影響を与えないように、かつ、ドット周波数や、必要とされる仕様、さらには画像品位などを総合的に勘案して、直列接続の段数を定めるようにすることが望ましい。   As the number of stages connected in series increases, the total delay time by the transistors constituting these logic circuits also increases. Therefore, in practice, the total delay time will not adversely affect the displayed image, and the dot frequency, required specifications, and image quality will be comprehensively taken into consideration. It is desirable to determine the number of stages of series connection.

なお、直列接続される構成において、1段分において並列接続される論理回路の個数は、全段にわたって互いに等しいことが望ましい。このように構成すると、論理回路が、データ線の延在方向およびこの交差方向にマトリクス状に配置するので、バッファ回路における設計が容易となる。さらに、各段分の論理回路を、データ線の延在方向と交差する方向において、限度一杯に並列接続すると、基板領域を限度一杯に利用することが可能となる。   Note that in a configuration in which the circuits are connected in series, it is desirable that the number of logic circuits connected in parallel in one stage is equal to all other stages. With this configuration, the logic circuit is arranged in a matrix in the extending direction of the data lines and in the intersecting direction, so that the buffer circuit can be easily designed. Furthermore, if the logic circuits for each stage are connected in parallel in the direction crossing the extending direction of the data lines, the board area can be fully used.

さらに、論理回路がマトリクス状に配置する構成において、全段の論理回路のうち、同列に位置する論理回路は、前記データ線の延在方向に形成された電源配線を互いに共用することが望ましい。このように構成すると、バッファ回路の設計が容易となるだけでなく、共用される電源配線の分だけ、基板領域が有効に活用されるためである。なお、このように同列に位置する論理回路において電源配線を共用するためには、2つの電源配線を、互いに櫛歯状に対向させて配設する構成で可能である。特に、この構成では、同段の論理回路のうち、相隣接する論理回路において、一方の電源配線が共用されるので、電源配線の引き回しが非常に簡略化されることとなる。   Further, in the configuration in which the logic circuits are arranged in a matrix, it is desirable that among the logic circuits in all stages, the logic circuits located in the same column share the power supply wiring formed in the extending direction of the data lines. This is because not only the design of the buffer circuit is facilitated, but also the substrate area is effectively utilized for the shared power supply wiring. In order to share the power supply wiring in the logic circuits located in the same row in this way, it is possible to have a configuration in which two power supply wirings are arranged facing each other in a comb-tooth shape. In particular, in this configuration, among the logic circuits in the same stage, one power supply wiring is shared by adjacent logic circuits, so that the wiring of the power supply wiring is greatly simplified.

一方、本発明に係る駆動回路にあっては、シリアル−パラレル変換されて、複数本の画像信号線を介して供給されることが望ましい。これによれば、画像信号は、複数系統に変換されるので、実質的に時間軸に余裕が生じるので、ドット周端数が高い場合であっても、比較的性能の低いサンプリングスイッチを用いることが可能となる。   On the other hand, in the drive circuit according to the present invention, it is desirable that the drive circuit is serial-parallel converted and supplied via a plurality of image signal lines. According to this, since the image signal is converted into a plurality of systems, a margin is substantially generated in the time axis, so that a sampling switch with relatively low performance can be used even when the dot peripheral number is high. It becomes possible.

また、上記目的を達成するため、本発明に係る電気光学装置にあっては、上記
駆動回路を備えたことを特徴としている。本発明によれば、基板の効率的利用が
図られるので、装置全体の小型化や、同一サイズの装置における画像表示領域の
大型化とともに、高品位の画像表示が可能となる。
In order to achieve the above object, the electro-optical device according to the present invention is characterized by including the drive circuit. According to the present invention, since the substrate can be efficiently used, high-quality image display can be achieved along with downsizing of the entire apparatus and enlargement of the image display area in the same size apparatus.

ここで、本発明にあっては、前記基板には、マトリクス状に配置された画素電極と、前記画素電極および前記データ線の間に介挿されるとともに、前記走査線に供給される走査信号にしたがって開閉するトランジスタとをさらに備えることが望ましい。この構成によれば、トランジスタによりオン画素とオフ画素とを電気的に分離できるので、高コントラストでクロストークのない高品位でかつ、高精細な表示が可能となる。   Here, in the present invention, the substrate is provided with pixel electrodes arranged in a matrix, the pixel electrodes and the data lines, and scanning signals supplied to the scanning lines. Therefore, it is desirable to further include a transistor that opens and closes. According to this configuration, since the on-pixel and the off-pixel can be electrically separated by the transistor, high-definition and high-definition display with high contrast and no crosstalk is possible.

さらに、上記目的を達成するため本発明に係る電気機器にあっては、上記電気光学装置を備えることを特徴としているので、ゴーストやクロストークのない高品位な表示が可能となる。   Further, in order to achieve the above object, the electric apparatus according to the present invention is characterized by including the above electro-optical device, so that high-quality display without ghost and crosstalk becomes possible.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

<液晶装置>
まず、本発明に係る電気光学装置として、液晶装置を一例にとって説明する。液晶装置の構成は、後述するように、TFTアレイ基板と対向基板とが互いに電極形成面を対向させて、かつ、一定の間隙を保って貼付されて、この間隙に液晶が挟持された構成となっている。このうち、TFTアレイ基板の画像表示領域にあっては、図1に示されるような等価回路となっている。
この図に示されるように、m本の走査線3aが、X方向に沿って平行に配列して形成される一方、n本のデータ線6aが、Y方向に沿って平行に配列して形成されている。そして、これらの走査線3aとデータ線6aとの各交点においては、TFT30のゲートが走査線3aに接続される一方、TFT30のソースがデータ線6aに接続されるとともに、TFT30のドレインが画素電極9aに接続されている。そして、各画素は、画素電極9aと、対向基板に形成される対向電極(後述する)と、これら両電極間に挟持された液晶とによって構成される結果、走査線3aとデータ線6aとの各交点に対応して、マトリクス状に配列することとなる。
<Liquid crystal device>
First, a liquid crystal device will be described as an example of an electro-optical device according to the present invention. As will be described later, the configuration of the liquid crystal device is such that the TFT array substrate and the counter substrate are attached to each other with the electrode forming surfaces facing each other and with a certain gap, and the liquid crystal is sandwiched between the gaps. It has become. Among them, the image display area of the TFT array substrate has an equivalent circuit as shown in FIG.
As shown in this figure, m scanning lines 3a are formed in parallel along the X direction, while n data lines 6a are formed in parallel along the Y direction. Has been. At each intersection of the scanning line 3a and the data line 6a, the gate of the TFT 30 is connected to the scanning line 3a, the source of the TFT 30 is connected to the data line 6a, and the drain of the TFT 30 is connected to the pixel electrode. 9a. Each pixel is composed of a pixel electrode 9a, a counter electrode (described later) formed on the counter substrate, and a liquid crystal sandwiched between the two electrodes. As a result, the scanning line 3a and the data line 6a Corresponding to each intersection, they are arranged in a matrix.

ここで、本実施形態に係る液晶装置において、特に、データ線6aにサンプリングされた画像信号S1、S2、…、Snは、当該液晶装置に画像信号S1、S2、…、Snを供給する画像信号処理回路内のシリアル−パラレル変換回路(図示省略)によって、予めシリアル−パラレル変換されて12系統に分配されたものであって、相隣接する12本のデータ線6aからなるグループ毎に、同時に供給されるものである。なお、シリアル−パラレル変換数については一般には、ドット周波数が相対的に低ければ(あるいは後述のサンプリング回路におけるサンプリング能力が相対的に高ければ)、例えば「3」や「6」のように小さな値に設定しても良い。逆に、ドット周波数が相対的に高ければ(あるいはサンプリング能力が相対的に低ければ)、例えば「24」のように大きな値に設定してもよ
い。また、シリアル−パラレル変換数としては、カラー画像信号が3つの色に係る信号からなることとの関係から、3の倍数であると、ビデオ表示をする際の制御や回路構成を簡易化する上で好ましい。さらに、近時のXGAや、SXGA、UXGAなどのように高ドット周波数の場合、既存のTFT製造技術に鑑みれば、本実施形態である「12」や、ほかに「24」のような大きな値に設定するのが好ましい。
Here, in the liquid crystal device according to the present embodiment, in particular, the image signals S1, S2,..., Sn sampled on the data line 6a are image signals that supply the image signals S1, S2,. Serial-parallel conversion circuit (not shown) in the processing circuit is serial-parallel converted in advance and distributed to 12 systems, and simultaneously supplied to each group of 12 data lines 6a adjacent to each other. It is what is done. In general, if the dot frequency is relatively low (or if the sampling capability in a sampling circuit described later is relatively high), the serial-parallel conversion number is a small value such as “3” or “6”. It may be set to. Conversely, if the dot frequency is relatively high (or if the sampling capability is relatively low), a large value such as “24” may be set. In addition, since the number of serial-parallel conversions is a multiple of 3 because the color image signal is composed of signals related to three colors, control and circuit configuration for video display are simplified. Is preferable. Furthermore, in the case of a high dot frequency such as recent XGA, SXGA, UXGA, etc., in view of the existing TFT manufacturing technology, a large value such as “12” in this embodiment and “24” in addition to this. It is preferable to set to.

また、TFT30のゲートが接続される走査線3aには、走査信号G1、G2、…、Gmが、パルス的に線順次で印加される構成となっている。このため、ある走査線3aに走査信号が供給されると、当該走査線3aに接続されるTFT30がオンするので、データ線6aから所定のタイミングで供給される画像信号S1、S2、…、Snは、対応する画素に順番に書き込まれた後、所定の期間保持されることとなる。   Further, scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the scanning line 3a to which the gate of the TFT 30 is connected in a pulse-by-line manner. For this reason, when a scanning signal is supplied to a certain scanning line 3a, the TFT 30 connected to the scanning line 3a is turned on, so that the image signals S1, S2,..., Sn supplied from the data line 6a at a predetermined timing. Are sequentially written in the corresponding pixels and then held for a predetermined period.

ここで、各画素に印加される電圧レベルに応じて液晶分子の配向や秩序が変化するので、光変調による階調表示が可能となる。例えば、液晶を通過する光量は、ノーマリーホワイトモードであれば、印加電圧が高くなるにつれて制限される一方、ノーマリーブラックモードであれば、印加電圧が高くなるにつれて緩和されるので、液晶装置全体では、画像信号に応じたコントラストを持つ光が各画素毎に出射される。このため、所定の表示が可能となっているのである。   Here, since the orientation and order of liquid crystal molecules change according to the voltage level applied to each pixel, gradation display by light modulation becomes possible. For example, in the normally white mode, the amount of light passing through the liquid crystal is limited as the applied voltage increases. In the normally black mode, the amount of light that passes through the liquid crystal is reduced as the applied voltage increases. Then, light having contrast according to the image signal is emitted for each pixel. For this reason, a predetermined display is possible.

また、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、蓄積容量70が、画素電極9aと対向電極との間に形成される液晶容量と並列に付加される。例えば、画素電極9aの電圧は、ソース電圧が印加された時間よりも3桁も長い時間だけ蓄積容量70により保持されるので、保持特性が改善される結果、高コントラスト比が実現されることとなる。   In order to prevent the held image signal from leaking, the storage capacitor 70 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9a and the counter electrode. For example, since the voltage of the pixel electrode 9a is held by the storage capacitor 70 for a time that is three orders of magnitude longer than the time when the source voltage is applied, the holding characteristics are improved, and as a result, a high contrast ratio is realized. Become.

次に、本実施形態に係る液晶装置の駆動回路について説明する。図2は、TFTアレイ基板の構成を、特に、画像表示領域の外側周辺に形成される駆動回路の構成を示すブロック図である。   Next, the drive circuit of the liquid crystal device according to this embodiment will be described. FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the TFT array substrate, in particular, the configuration of the drive circuit formed around the outside of the image display area.

この図に示されるように、TFTアレイ基板10には、走査線3aおよびデータ線6aの交差領域たる画像表示部100aが設けられており、その外側周辺には、データ線駆動回路101、走査線駆動回路104およびサンプリング回路301を含む駆動回路200が設けられている。すなわち、本実施形態は、TFTアレイ基板10上に、駆動回路200が形成された駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置である。   As shown in this figure, the TFT array substrate 10 is provided with an image display unit 100a that is an intersection region of the scanning lines 3a and the data lines 6a. A drive circuit 200 including a drive circuit 104 and a sampling circuit 301 is provided. That is, the present embodiment is a TFT active matrix driving type liquid crystal device with a built-in driving circuit in which a driving circuit 200 is formed on the TFT array substrate 10.

さて、駆動回路200のうち、走査線駆動回路104は、1垂直走査期間において、走査信号G1、G2、…、Gmを、走査線3aに対しパルス的に線順次で供給するものである。一方、データ線駆動回路101は、1水平走査期間において、すなわち、走査線駆動回路104が1本の走査線3aに走査信号を供給している期間において、サンプリング制御信号X1、X2、…、Xnを、サンプリング制御信号線114に対し順次供給するものである。   Of the driving circuit 200, the scanning line driving circuit 104 supplies the scanning signals G1, G2,..., Gm to the scanning line 3a in a pulse-sequential manner in one vertical scanning period. On the other hand, the data line driving circuit 101 has sampling control signals X1, X2,..., Xn in one horizontal scanning period, that is, in a period in which the scanning line driving circuit 104 supplies a scanning signal to one scanning line 3a. Are sequentially supplied to the sampling control signal line 114.

また、サンプリング回路301は、データ線6a毎にサンプリングスイッチ302を備えて、画像信号線115に供給される画像信号を、サンプリング制御信号X1、X2、…、Xnにしたがってサンプリングして、対応するデータ線6aに供給するものである。ここで、本実施形態にあっては、上述のように1系統の画像信号が12系統の画像信号VID1〜VID12にシリアル−パラレル変換されるため、相隣接する12本のデータ線6aに接続される12個のサンプリングスイッチ302が、同一のサンプリング制御信号によって同時駆動されて、当該12本のデータ線6aの各々に、画像信号VID1〜VID12がそれぞれサンプリングされて供給される構成となっている。   The sampling circuit 301 includes a sampling switch 302 for each data line 6a, samples the image signal supplied to the image signal line 115 in accordance with the sampling control signals X1, X2,. It is supplied to the line 6a. Here, in the present embodiment, since one image signal is serial-parallel converted into 12 image signals VID1 to VID12 as described above, they are connected to 12 adjacent data lines 6a. 12 sampling switches 302 are simultaneously driven by the same sampling control signal, and image signals VID1 to VID12 are sampled and supplied to each of the 12 data lines 6a.

<データ線駆動回路>
次に、データ線駆動回路101の詳細について説明する。図3は、データ線駆動回路101の構成を示すブロック図である。図3に示されるように、データ線駆動回路101は、転送信号を順次出力するシフトレジスタ回路400と、順次出力された転送信号を波形整形するバッファ回路500とを備えている。このうち、シフトレジスタ回路400は、直列接続された複数段のラッチ回路401から構成されており、各ラッチ回路401は、実際には、クロック信号CLXおよびその反転クロック信号CLX´にしたがって入力信号の取込・保持を行う遅延型フリップフロップ回路などが用いられる。
<Data line drive circuit>
Next, details of the data line driving circuit 101 will be described. FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the data line driving circuit 101. As shown in FIG. 3, the data line driving circuit 101 includes a shift register circuit 400 that sequentially outputs transfer signals, and a buffer circuit 500 that shapes the waveform of the sequentially output transfer signals. Among these, the shift register circuit 400 includes a plurality of stages of latch circuits 401 connected in series, and each latch circuit 401 actually has an input signal according to the clock signal CLX and its inverted clock signal CLX ′. A delay flip-flop circuit that takes in and holds is used.

さらに、データ線駆動回路101には、位相調整回路402が設けられる。この位相調整回路402は、各ラッチ回路401の出力に対応して設けられるNAND回路403からなり、このうち、図において左から数えて奇数段目のNAND回路403は、対応するラッチ回路401から入力される転送信号ST2i-1(ただし、iは自然数)と位相調整信号ENB1との否定論理積信号を、一方、左から数えて偶数段目のNAND回路403は、対応するラッチ回路401から入力される転送信号ST2iと位相調整信号ENB2との否定論理積信号を、それぞれ配線404を介してバッファ回路500に供給している。 Further, the data line driving circuit 101 is provided with a phase adjustment circuit 402. The phase adjustment circuit 402 includes NAND circuits 403 provided corresponding to the outputs of the latch circuits 401, and the odd-numbered NAND circuits 403 counted from the left in the drawing are input from the corresponding latch circuits 401. The NAND circuit 403 of the even-numbered stage counted from the left is input from the corresponding latch circuit 401, while the negative AND signal of the transfer signal ST 2i-1 (where i is a natural number) and the phase adjustment signal ENB1. The NAND signal of the transfer signal ST 2i and the phase adjustment signal ENB 2 is supplied to the buffer circuit 500 via the wiring 404.

また、バッファ回路500は、各NAND回路403に対応して設けられ、直列接続された3段のインバータ501〜503からなり、位相調整回路402による出力信号を波形整形等して、サンプリング制御信号線114を介してサンプリング制御信号として出力する。ここで、各インバータ501〜503では、後述するように、それを構成するTFTのサイズが後段となるにつれて大きくなるように形成されているため、バッファ回路500全体でみれば、駆動能力が高い一方で、その入力インピーダンスが低く抑えられている。   The buffer circuit 500 is provided corresponding to each NAND circuit 403 and includes three stages of inverters 501 to 503 connected in series. The output signal from the phase adjustment circuit 402 is subjected to waveform shaping or the like, and the sampling control signal line As 114, it outputs as a sampling control signal. Here, as will be described later, each of the inverters 501 to 503 is formed so that the size of the TFTs constituting the inverters 501 to 503 increases as the latter stage is reached. Therefore, the input impedance is kept low.

次に、このような構成されたデータ線駆動回路101の動作について説明する。図4は、データ線駆動回路101の動作を説明するためのタイミングチャートである。この図に示されるように、スタートパルスSPが、1水平走査期間の最初において、画像信号VID1〜VID12に同期して外部の画像信号処理回路から供給されると、図3において最左端に位置するラッチ回路401は、X側基準クロック信号CLX(および、その反転クロック信号CLX´)に基づく転送動作を開始して、転送信号ST1を出力するとともに、この転送信号を左から数えて第2段目のラッチ回路401に供給する。次に、第2段目のラッチ回路401は、転送信号ST1を、クロック信号CLXの半周期だけシフトさせて、転送信号ST2として出力するとともに、この転送信号を左から数えて第3段目のラッチ回路401に供給する。そして、以下同様な転送動作が各段のラッチ回路401において繰り返される結果、1水平走査期間において、転送信号ST1、ST2、…、STnが順次出力されることとなる。   Next, the operation of the data line driving circuit 101 configured as described above will be described. FIG. 4 is a timing chart for explaining the operation of the data line driving circuit 101. As shown in FIG. 3, when the start pulse SP is supplied from an external image signal processing circuit in synchronization with the image signals VID1 to VID12 at the beginning of one horizontal scanning period, it is positioned at the leftmost end in FIG. The latch circuit 401 starts the transfer operation based on the X-side reference clock signal CLX (and its inverted clock signal CLX ′), outputs the transfer signal ST1, and counts the transfer signal from the left to the second stage. To the latch circuit 401. Next, the second-stage latch circuit 401 shifts the transfer signal ST1 by a half cycle of the clock signal CLX and outputs it as the transfer signal ST2, and counts the transfer signal from the left and outputs it to the third-stage latch circuit 401. This is supplied to the latch circuit 401. Subsequently, the same transfer operation is repeated in each stage of the latch circuit 401. As a result, transfer signals ST1, ST2,..., STn are sequentially output in one horizontal scanning period.

さらに、このように順次出力される転送信号ST1、ST2、…、STnは、位相調整回路402によって、位相調整信号ENB1またはENB2のパルス幅に制限された後、バッファ回路500によって波形整形されて、サンプリング制御信号X1、X2、…、Xnとして、トランジスタ等で形成されるサンプリング回路301に供給されることとなる。   Further, the transfer signals ST1, ST2,..., STn sequentially output in this way are limited by the phase adjustment circuit 402 to the pulse width of the phase adjustment signal ENB1 or ENB2, and then shaped by the buffer circuit 500, Sampling control signals X1, X2,..., Xn are supplied to a sampling circuit 301 formed of transistors or the like.

本実施形態では、特に、位相調整回路402によるパルス幅の制限により、相前後するサンプリング制御信号X1、X2、…、Xnのパルス間隔は、図4に示されるように時間的に隔絶されるため、これらの信号パルスの重複に起因するクロストークやゴーストなどの発生が未然に防止される。すなわち、サンプリング制御信号X1、X2、…、Xnが重複していると、本来、あるグループのデータ線にサンプリングされるべき画像信号が、そのグループの前後に位置するグループのデータ線に対してもサンプリングされてしまうため、クロストークやゴーストなどが発生して表示品位が低下するが、本実施形態によれば、サンプリング制御信号X1、X2、…、Xnのパルスが時間的に隔絶されて出力されるため、クロストークやゴーストなどの発生が未然に防止されることとなる。   In the present embodiment, the pulse intervals of the sampling control signals X1, X2,..., Xn that follow each other are temporally separated as shown in FIG. The occurrence of crosstalk, ghosts and the like due to the overlap of these signal pulses is prevented in advance. That is, if the sampling control signals X1, X2,..., Xn overlap, an image signal that should be sampled on a data line of a certain group is also applied to a data line of a group located before and after that group. However, according to the present embodiment, the pulses of the sampling control signals X1, X2,..., Xn are temporally isolated and output. Therefore, occurrence of crosstalk, ghost, etc. is prevented in advance.

また、ラッチ回路401や位相調整回路402の駆動能力よりも、バッファ回路500の駆動能力の方が遥かに大きい。このためラッチ回路401や位相調整回路402の駆動能力が低くても、バッファ回路500から出力されるサンプリング制御信号X1、X2、…、Xnによって、12個のサンプリングスイッチ302を良好に同時駆動されることとなる。   In addition, the drive capability of the buffer circuit 500 is much greater than the drive capability of the latch circuit 401 and the phase adjustment circuit 402. Therefore, even if the driving capability of the latch circuit 401 and the phase adjustment circuit 402 is low, the twelve sampling switches 302 can be driven simultaneously well by the sampling control signals X1, X2,..., Xn output from the buffer circuit 500. It will be.

<データ線駆動回路のレイアウト>
ここで、データ線駆動回路101の回路レイアウトについて説明する。図5は、データ線駆動回路101の要部回路についてのレイアウトを示す平面図である。この図においては、配線404を介して供給される位相調整回路402の出力信号が、第1に、バッファ回路500によって波形整形等されて、サンプリング制御信号線114を介しサンプリング制御信号として出力され、第2に、このサンプリング制御信号にしたがって、12個のサンプリングスイッチ302を駆動制御する構成とともに、12本の画像信号線115に供給される画像信号VID1〜VID12が、当該12個のサンプリングスイッチによりサンプリングされて、対応する12本のデータ線6aに供給される構成が示されている。
また、図5に示されるように、バッファ回路500は、ラッチ回路401や位相調整回路402が形成される領域と、シリアル−パラレル変換された12系統の画像信号VID1〜VID12が供給される12本の画像信号線115が形成される領域との間に形成されている。
<Layout of data line driving circuit>
Here, a circuit layout of the data line driving circuit 101 will be described. FIG. 5 is a plan view showing a layout of a main circuit of the data line driving circuit 101. In this figure, the output signal of the phase adjustment circuit 402 supplied via the wiring 404 is first subjected to waveform shaping or the like by the buffer circuit 500 and output as a sampling control signal via the sampling control signal line 114. Secondly, the twelve sampling switches 302 are driven and controlled according to the sampling control signal, and the image signals VID1 to VID12 supplied to the twelve image signal lines 115 are sampled by the twelve sampling switches. Thus, the configuration supplied to the corresponding 12 data lines 6a is shown.
Further, as shown in FIG. 5, the buffer circuit 500 is provided with an area where the latch circuit 401 and the phase adjustment circuit 402 are formed, and 12 lines supplied with 12 systems of serial-parallel converted image signals VID1 to VID12. Are formed between the image signal line 115 and the region where the image signal line 115 is formed.

<バッファ回路のレイアウト>
次に、バッファ回路500の詳細について図6〜図8を参照して説明する。ここで、図6は、バッファ回路500のレイアウトを示す平面図であり、図7は、図6のレイアウトを簡略化した回路図であり、図8は、バッファ回路500の構成を示す等価回路図である。これらの図に示されるように、バッファ回路500では、インバータ501〜503がデータ線6aの延在方向(Y方向)に3段直列接続して構成されており、さらに、各段のインバータ501〜503では、それぞれ7個のインバータが走査線3aの延在方向(X方向)に並列接続して構成されている。すなわち、第1段目のインバータ501はインバータ511〜517が、第2段目のインバータ502はインバータ521〜527が、第3段目のインバータ503はインバータ531〜537が、それぞれ並列接続されたもの
である。
<Buffer circuit layout>
Next, details of the buffer circuit 500 will be described with reference to FIGS. 6 is a plan view showing the layout of the buffer circuit 500, FIG. 7 is a circuit diagram in which the layout of FIG. 6 is simplified, and FIG. 8 is an equivalent circuit diagram showing the configuration of the buffer circuit 500. It is. As shown in these drawings, in the buffer circuit 500, the inverters 501 to 503 are configured by serially connecting three stages in the extending direction (Y direction) of the data line 6a. In 503, seven inverters are connected in parallel in the extending direction (X direction) of the scanning line 3a. That is, the first-stage inverter 501 is connected in parallel with inverters 511-517, the second-stage inverter 502 is connected with inverters 521-527, and the third-stage inverter 503 is connected with inverters 531-537 in parallel. It is.

さらに、これらのインバータ511〜517、521〜527、531〜537は、いずれもチャネル幅方向がY方向に形成されたPチャネル型TFTおよびNチャネル型TFTを組み合わせた相補型TFTとして構成されている。すなわち、インバータ511〜517、521〜527、531〜537は、いずれも、引き出し配線601a、602a間において、Pチャネル型TFTおよびNチャネル型TFTが直列接続されている。   Further, each of these inverters 511 to 517, 521 to 527, and 531 to 537 is configured as a complementary TFT in which a P-channel TFT and an N-channel TFT having a channel width direction formed in the Y direction are combined. . That is, in each of the inverters 511 to 517, 521 to 527, and 531 to 537, a P-channel TFT and an N-channel TFT are connected in series between the lead wirings 601a and 602a.

また、これらのTFTのチャネル長は、すべてにわたって略同一となっている。したがって、バッファ回路500を構成するインバータ511〜517、521〜527、531〜537は、レイアウト的には3行7列のマトリクス状に配置している。   The channel lengths of these TFTs are substantially the same throughout. Therefore, the inverters 511 to 517, 521 to 527, and 531 to 537 constituting the buffer circuit 500 are arranged in a matrix of 3 rows and 7 columns in terms of layout.

ここで、第1段目のインバータ501(インバータ511〜517)を構成するTFTのチャネル幅L1、第2段目のインバータ502(インバータ521〜527)を構成するTFTのチャネル幅L2、および、第3段目のインバータ503(インバータ531〜537)を構成するTFTのチャネル幅L3は、L1<L2<L3となっている。上述したように、第1段目〜第3段目のインバータ501〜503は、それぞれ同数(7個)のインバータを並列接続したものであるから、そのオン抵抗は、チャネル幅で定まることになり、インバータ501>インバータ502>インバータ503>となっている。   Here, the channel width L1 of the TFT constituting the first stage inverter 501 (inverters 511 to 517), the channel width L2 of the TFT constituting the second stage inverter 502 (inverters 521 to 527), and the first The channel width L3 of the TFT constituting the third-stage inverter 503 (inverters 531 to 537) is L1 <L2 <L3. As described above, since the first to third stage inverters 501 to 503 are the same number (7) of inverters connected in parallel, the on-resistance is determined by the channel width. Inverter 501, inverter 502> inverter 503>.

したがって、バッファ回路500全体で見れば、入力インピーダンスが高くなる一方、出力インピーダンスが低くなる。このため、転送信号を出力するラッチ回路401、または、この転送信号のパルス幅を狭める位相調整回路402を構成するTFTサイズが小さくて済むので、消費電力の大きさが問題視されるシフトレジスタ回路400の低消費電力化が図られる一方で、多数(12個)のサンプリングスイッチ302を同時に駆動制御することが良好に行われることとなる。   Therefore, when viewed as a whole in the buffer circuit 500, the input impedance is increased while the output impedance is decreased. For this reason, the size of the TFT constituting the latch circuit 401 for outputting the transfer signal or the phase adjustment circuit 402 for narrowing the pulse width of the transfer signal can be reduced. While a reduction in power consumption of 400 is achieved, it is possible to drive and control a large number (12) of sampling switches 302 at the same time.

一方、高電圧(Vcc)配線601および低電圧(GND)配線602は、それぞれTFT素子アレイ基板10のX方向にわたって引き通して配設されているが、バッファ回路500が形成される領域にあっては、特に図7において太線で示されるように、高電圧配線601からは引き出し配線601aが、低電圧配線602からは引き出し配線602aが、それぞれY方向に延長配設されるとともに、互いに櫛歯状に対向して形成されている。   On the other hand, the high-voltage (Vcc) wiring 601 and the low-voltage (GND) wiring 602 are respectively arranged so as to extend through the TFT element array substrate 10 in the X direction, but in the region where the buffer circuit 500 is formed. In particular, as shown by a thick line in FIG. 7, a lead-out wiring 601a is extended from the high-voltage wiring 601 and a lead-out wiring 602a is extended from the low-voltage wiring 602 in the Y direction and is comb-toothed. It is formed to face.

ここで、X方向に相隣接するインバータは、一方のチャネル領域を共有して、これが折り返して連続した形となっているため、1段分のインバータを構成するTFTのチャネル型は、図6または図7において左側から順番に、P、N、N、P、P、N、N、…、P、P、Nとなっている。このため、同一段において相隣接するインバータ同士は、同一のチャネル領域となるだけでなく、その共有領域に接続される引き出し配線も共有した構成となっている。例えば、インバータ511、512同士は、Nチャネル型とされるチャネル領域を共有しているだけでなく、その共有領域のうちドレイン領域に接続される引き出し配線602aも共有している。また、例えば、インバータ522、523同士は、Pチャネル型とされるチャネル領域を共有しているだけでなく、その共有領域のうちソース領域
に接続される引き出し配線601aも共有している。すなわち、言うなれば、引き出し配線601aまたは602aを中心として左右対称化して各インバータが配列している。
Here, the inverters adjacent to each other in the X direction share one channel region and have a continuous shape that is folded back. Therefore, the TFT channel type constituting the inverter for one stage is shown in FIG. In FIG. 7, P, N, N, P, P, N, N,... For this reason, inverters adjacent to each other in the same stage not only have the same channel region, but also share the lead-out wiring connected to the common region. For example, the inverters 511 and 512 not only share an N channel type channel region, but also share a lead wiring 602a connected to the drain region of the shared region. Further, for example, the inverters 522 and 523 not only share a channel region that is a P-channel type, but also share a lead-out wiring 601a that is connected to the source region in the shared region. That is, in other words, the respective inverters are arranged so as to be symmetric with respect to the lead wiring 601a or 602a.

一方、第1段目のインバータ511〜517を構成する各TFTにあっては、パルス幅が狭められた転送信号を供給する配線404が、櫛歯状に延設されてゲート電極となっている。一方、第1段目のインバータ511〜517を構成するPチャネル型TFTのソース領域と同Nチャネル型TFTのドレイン領域とに接続される配線は、コンタクトホールを介してインバータ511〜517の出力として共通接続されるとともに、櫛歯状に延設されて、第2段目のインバータ521〜527を構成する各TFTのゲート電極となっている。同様に、第2段目のインバータ521〜527を構成するPチャネル型TFTのソース領域と同Nチャネル型TFTのドレイン領域とに接続される配線は、コンタクトホールを介してインバータ521〜527の出力として共通接続されるとともに、櫛歯状に延
設されて、第3段目のインバータ531〜537を構成する各TFTのゲート電極となっている。そして、第3段目のインバータ531〜537を構成するPチャネル型TFTのソース領域と同Nチャネル型TFTのドレイン領域とは、コンタクトホールを介してインバータ531〜537の出力として共通接続されて、これがサンプリング制御信号線114となっている。そして、このようなバッファ回路500は、図9に示されるように、同時に駆動される12本のデータ線6aの合計幅(ΔW)と一致するピッチでX方向に、シフトレジスタ回路400におけるラッチ回路401に対応して配列している。
On the other hand, in each TFT constituting the first-stage inverters 511 to 517, a wiring 404 for supplying a transfer signal with a narrowed pulse width is extended in a comb shape to serve as a gate electrode. . On the other hand, wirings connected to the source region of the P-channel TFT and the drain region of the N-channel TFT constituting the first-stage inverters 511 to 517 serve as outputs of the inverters 511 to 517 through contact holes. The gate electrodes of the TFTs constituting the second stage inverters 521 to 527 are connected in common and extended in a comb shape. Similarly, wirings connected to the source region of the P-channel TFT and the drain region of the N-channel TFT constituting the second stage inverters 521 to 527 are output from the inverters 521 to 527 through the contact holes. As a gate electrode of each TFT constituting the third-stage inverters 531 to 537, extending in a comb shape. Then, the source region of the P-channel TFT and the drain region of the N-channel TFT constituting the third stage inverters 531 to 537 are commonly connected as outputs of the inverters 531 to 537 through the contact holes, This is the sampling control signal line 114. Then, as shown in FIG. 9, the buffer circuit 500 has a latch circuit in the shift register circuit 400 in the X direction at a pitch that matches the total width (ΔW) of the twelve data lines 6a that are driven simultaneously. Arranged corresponding to 401.

このようなバッファ回路500によれば、複数個のインバータが並列接続されて1段分のインバータを構成しているので、通常X方向が長手となる領域が効率的に利用されるとともに、1段分のインバータによる駆動能力を向上させることができる。さらに、インバータ501〜503を構成するTFTのチャネル幅L1〜L3が段階的に大きくなるので、バッファ回路500全体で高負荷に対応でき、同時駆動可能なサンプリングスイッチ302の個数を増やすことが可能となる。   According to such a buffer circuit 500, since a plurality of inverters are connected in parallel to form a single-stage inverter, a region whose length is normally in the X direction is efficiently used and It is possible to improve the driving capability by the inverter of the minute. Further, since the channel widths L1 to L3 of the TFTs constituting the inverters 501 to 503 are increased stepwise, the entire buffer circuit 500 can cope with a high load, and the number of sampling switches 302 that can be driven simultaneously can be increased. Become.

また、複数並列接続された1段分のインバータのうち、X方向に相隣接するインバータでは、Pチャネル領域またはNチャネル領域が共用されているので、TFT毎にチャネル領域を形成する場合と比較して、基板領域が効率的に利用されることになる。さらに、共用チャネル領域にあっては、そのドレイン領域またはソース領域についても共用されるので、電源配線からの引き出し配線も共用することができる。   In addition, among the inverters for one stage connected in parallel, the inverters adjacent to each other in the X direction share the P channel region or the N channel region. Compared with the case where the channel region is formed for each TFT. Thus, the substrate area is efficiently used. Further, in the shared channel region, since the drain region or the source region is also shared, the lead-out wiring from the power supply wiring can be shared.

くわえて、第1段目〜第3段目のインバータ501〜503は、いずれも同数(7個)並列接続されたインバータからなり、さらに、これらインバータを構成する相補型TFTは、いずれもチャネル長が略同一(チャネル幅は、段毎に異なる)であるため、インバータ511〜517、521〜527、531〜537が、X方向およびY方向にマトリクス状に配列することになる。このため、シフトレジスタ回路400(ラッチ回路401や位相調整回路402)と、複数本の画像信号線115とに挟まれるX方向に長手に延伸する領域において、各インバータを効率良く配置させることができるとともに、Y方向に隣接する相異なる段のインバータ同士において電源配線からの引き出し配線を共用することが容易となる。例えば、インバータ511、521、531において引き出し配線601
a、602aを共用することができる。したがって、本実施形態にあっては、引き出し配線601a、602aは、上述のようにX方向に相隣接するインバータ同士のみならず、Y方向に相隣接するインバータ同士でも共用されるので、基板領域が極めて効率良く利用されていることになる。
In addition, the first to third stage inverters 501 to 503 are all composed of the same number (seven) of inverters connected in parallel, and the complementary TFTs constituting these inverters all have channel lengths. Are substantially the same (channel widths differ from stage to stage), so that inverters 511 to 517, 521 to 527, and 531 to 537 are arranged in a matrix in the X direction and the Y direction. Therefore, each inverter can be efficiently arranged in a region extending in the X direction between the shift register circuit 400 (the latch circuit 401 and the phase adjustment circuit 402) and the plurality of image signal lines 115. At the same time, it becomes easy to share the lead-out wiring from the power supply wiring between the inverters at different stages adjacent in the Y direction. For example, in the inverters 511, 521, 531, the lead wiring 601
a and 602a can be shared. Therefore, in the present embodiment, the lead-out wirings 601a and 602a are shared not only between the inverters adjacent to each other in the X direction as described above, but also between the inverters adjacent to each other in the Y direction. It will be used extremely efficiently.

さらに、本実施形態にあっては、各インバータを構成するTFTのサイズ調整は、比較的容易に行うことができる。例えば、チャネル長の調整は、1段分において並列接続されるインバータ個数を増減することで可能であるし、チャネル幅の調整は、シフトレジスタ回路400と複数本の画像信号線115との間隔を広狭することで可能である。特に、バッファ回路500の駆動能力を決定付ける最終段インバータのチャネル幅が調整容易であるのは、装置設計上大変有利といえる。しかも、TFTのサイズ調整にかかわらず、X方向には1段分のインバータが複数個並列接続されるから、基板領域の効率的利用とともに駆動能力の向上が図られることとなる。   Furthermore, in this embodiment, the size adjustment of the TFTs constituting each inverter can be performed relatively easily. For example, the channel length can be adjusted by increasing or decreasing the number of inverters connected in parallel in one stage, and the channel width can be adjusted by changing the interval between the shift register circuit 400 and the plurality of image signal lines 115. It is possible by widening. In particular, it is very advantageous in terms of device design that the channel width of the final stage inverter that determines the driving capability of the buffer circuit 500 can be easily adjusted. In addition, since a plurality of inverters for one stage are connected in parallel in the X direction regardless of the size adjustment of the TFT, the driving ability is improved along with the efficient use of the substrate region.

なお、上述したバッファ回路500では、インバータの直接段数が3段であったが、これ以外の段数として良いのはもちろんである。同様に、上述したバッファ回路500では、1段分のインバータにおける並列個数が7個であったが、これ以外の個数として良いのはもちろんである。   In the buffer circuit 500 described above, the number of direct inverter stages is three, but it is needless to say that other stages may be used. Similarly, in the above-described buffer circuit 500, the number of parallel inverters in one stage is seven, but it goes without saying that other numbers may be used.

ところで、サンプリング回路301を構成するサンプリングスイッチ302の具体的な構成例としては、例えば、図10(1)に示されるように、Nチャネル型TFT302aにより構成しても良いし、同図(2)に示されるように、Pチャネル型TFT302bにより構成しても良いし、また、同図(3)に示されるように、両者TFT302a、302bを相補型として構成しても良い。なお、図3に示される構成にあっては、図10(1)に示されるNチャネル型TFT302aを用いた場合を想定しているので、Pチャネル型TFTを用いる場合には、サンプリング制御信号114aに対してレベル反転させたサンプリング制御信号114bを生成する必要があり、さらに、相補型TFTを用いる場合には、サンプリング制御信号114a、114bをそれぞれ供給する信号線も必要となる。   By the way, as a specific configuration example of the sampling switch 302 constituting the sampling circuit 301, for example, as shown in FIG. 10A, the sampling switch 302 may be configured by an N-channel TFT 302a, or FIG. As shown in FIG. 3, the TFT may be constituted by a P-channel TFT 302b, or the TFTs 302a and 302b may be complementary as shown in FIG. In the configuration shown in FIG. 3, it is assumed that the N-channel TFT 302a shown in FIG. 10A is used. Therefore, when the P-channel TFT is used, the sampling control signal 114a is used. It is necessary to generate the sampling control signal 114b whose level is inverted with respect to the above. Further, in the case where the complementary TFT is used, a signal line for supplying the sampling control signals 114a and 114b is also required.

また、サンプリング回路301を構成する各サンプリングスイッチ302は、製造効率等の観点から好ましくは、画素部におけるTFT30と共通プロセスにより製造されるNチャネル型TFT、または、Pチャネル型TFT、および両者の相補型等から構成される。   Further, each sampling switch 302 constituting the sampling circuit 301 is preferably an N-channel TFT or a P-channel TFT manufactured by a common process with the TFT 30 in the pixel portion, and the complement of both from the viewpoint of manufacturing efficiency and the like. It consists of molds.

以上説明したように本実施形態によれば、バッファ回路500が、TFTアレイ基板10の領域を効率的に利用するようにレイアウトされているので、液晶装置全体の小型化や同一サイズの装置における画像表示領域の大型化が可能となるだけでなく、高ドット周波数にも対応して、高品位の画像表示が可能となる。   As described above, according to the present embodiment, since the buffer circuit 500 is laid out so as to efficiently use the area of the TFT array substrate 10, the entire liquid crystal device can be reduced in size and the image in the same size device can be obtained. Not only can the display area be increased in size, but also high-quality image display can be achieved in response to high dot frequencies.

<液晶装置の全体構成>
次に、上述した実施形態に係る液晶装置の全体構成について図11および図12を参照して説明する。ここで、図11は、液晶装置100の構成を示す斜視図であり、図12は、図11におけるA−A´線の断面図である。
<Overall configuration of liquid crystal device>
Next, the overall configuration of the liquid crystal device according to the above-described embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 12. Here, FIG. 11 is a perspective view showing the configuration of the liquid crystal device 100, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line AA 'in FIG.

これらの図に示されるように、液晶装置100は、画素電極9a等が形成されたガラスや、半導体、石英などからなるTFTアレイ基板10と、対向電極23等が形成されたガラスなどの透明な対向基板20とが、スペーサSPの混入されたシール材52によって一定の間隙を保って、互いに電極形成面が対向するように貼り合わせられるとともに、この間隙に電気光学材料としての液晶50が封入された構造となっている。なお、シール材52は、対向基板20の周辺に沿って形成されるが、液晶50を封入するために一部が開口している。このため、液晶50の封入後に、その開口部分が封止材SRによって封止されている。   As shown in these drawings, the liquid crystal device 100 is made of a transparent material such as glass on which pixel electrodes 9a and the like are formed, TFT array substrate 10 made of semiconductor, quartz, and the like, and glass on which counter electrodes 23 and the like are formed. The counter substrate 20 is bonded to the counter substrate 20 with a sealant 52 mixed with spacers SP so that the electrode forming surfaces face each other, and a liquid crystal 50 as an electro-optic material is sealed in the gap. It has a structure. The sealing material 52 is formed along the periphery of the counter substrate 20, but a part thereof is opened to enclose the liquid crystal 50. For this reason, after the liquid crystal 50 is sealed, the opening is sealed with the sealing material SR.

ここで、TFTアレイ基板10の対向面であって、シール材52の外側一辺においては、上述したデータ線駆動回路101やサンプリング回路301(図11および図12では省略)が形成されて、Y方向に延在するデータ線6aを駆動する構成となっている。さらに、この一辺には複数の外部回路接続端子102が形成されて、外部回路によってシリアル−パラレル変換された画像信号VID1〜VID12などの各種信号を入力する構成となっている。また、この一辺に隣接する2辺には、2個の走査線駆動回路104が形成されて、X方向に延在する走査線3aをそれぞれ両側から駆動する構成となっている。なお、走査線3aに供給される走査信号の遅延が問題にならないのであれば、走査線駆動回路104を片側1個だけに形成する構成でも良い。ほかに、TFTアレイ基板10においては、データ線6aへの画像信号の書込負荷を低減するため、各データ線6aを、画像信号のサンプリングに先行するタイミングにおいて、所定電位にプリチャージするプリチャージ回路を形成しても良い。   Here, the data line driving circuit 101 and the sampling circuit 301 (not shown in FIGS. 11 and 12) described above are formed on the opposite surface of the TFT array substrate 10 and on the outer side of the sealing material 52, and the Y direction. The data line 6a extending in the direction is driven. Further, a plurality of external circuit connection terminals 102 are formed on one side, and various signals such as image signals VID1 to VID12 that are serial-parallel converted by the external circuit are input. Further, two scanning line driving circuits 104 are formed on two sides adjacent to the one side, and the scanning line 3a extending in the X direction is driven from both sides. Note that if the delay of the scanning signal supplied to the scanning line 3a does not become a problem, a configuration in which the scanning line driving circuit 104 is formed only on one side may be employed. In addition, in the TFT array substrate 10, in order to reduce the load of writing the image signal to the data line 6a, the precharge for precharging each data line 6a to a predetermined potential at the timing preceding the sampling of the image signal. A circuit may be formed.

一方、対向基板の対向電極23は、貼合部分における4隅のうち、少なくとも1箇所において設けられた導通材によって、TFTアレイ基板10との電気的導通が図られている。ほかに、対向基板20には、液晶装置100の用途に応じて、例えば、第1に、ストライプ状や、モザイク状、トライアングル状等に配列したカラーフィルタが設けられ、第2に、例えば、クロムやニッケルなどの金属材料や、カーボンやチタンなどをフォトレジストに分散した樹脂ブラックなどの遮光膜が設けられる。なお、色光変調の用途の場合には、カラーフィルタは形成されずに遮光膜が対向基板20に設けられる。また、必要に応じて液晶装置10に光を照射するバックライトが、いずれか一方の基板の背面側に設けられる。   On the other hand, the counter electrode 23 of the counter substrate is electrically connected to the TFT array substrate 10 by a conductive material provided in at least one of the four corners of the bonded portion. In addition, the counter substrate 20 is provided with a color filter arranged in a stripe shape, a mosaic shape, a triangle shape, or the like according to the use of the liquid crystal device 100, and secondly, for example, chromium. A light shielding film such as resin black in which a metal material such as nickel or nickel, carbon, titanium, or the like is dispersed in a photoresist is provided. In the case of color light modulation, a light shielding film is provided on the counter substrate 20 without forming a color filter. In addition, a backlight for irradiating the liquid crystal device 10 with light as needed is provided on the back side of one of the substrates.

くわえて、TFTアレイ基板10および対向基板20の対向面には、それぞれ所定の方向にラビング処理された配向膜(図示省略)などが設けられる一方、その各背面側には配向方向に応じた偏光板(図示省略)がそれぞれ設けられる。ただし、液晶50として、高分子中に微小粒として分散させた高分子分散型液晶を用いれば、前述の配向膜や偏光板などが不要となる結果、光利用効率が高まるので、高輝度化や低消費電力化などの点において有利である。   In addition, the opposing surfaces of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are each provided with an alignment film (not shown) that is rubbed in a predetermined direction, and the back surface thereof is polarized according to the alignment direction. Each plate (not shown) is provided. However, if a polymer dispersion type liquid crystal dispersed as fine particles in a polymer is used as the liquid crystal 50, the above-described alignment film, polarizing plate, etc. are not required. This is advantageous in terms of reducing power consumption.

なお、駆動回路200等の周辺回路の一部または全部を、TFTアレイ基板10に形成する替わりに、例えば、TAB(Tape Automated Bonding)技術を用いてフィルムに実装された駆動用ICチップを、TFTアレイ基板10の所定位置に設けられる異方性導電フィルムを介して電気的および機械的に接続する構成としても良いし、駆動用ICチップ自体を、COG(Chip On Grass)技術を用いて、TFTアレイ基板10の所定位置に異方性導電フィルムを介して電気的および機械的に接続する構成としても良いが、上述したように、本実施形態に係る液晶装置の効果が最も表れるのは、この駆動回路200をTFTアレイ基板10に形成した場合である。   Instead of forming part or all of the peripheral circuits such as the drive circuit 200 on the TFT array substrate 10, for example, a driving IC chip mounted on a film using a TAB (Tape Automated Bonding) technique is used. It may be configured to be electrically and mechanically connected via an anisotropic conductive film provided at a predetermined position of the array substrate 10, or the driving IC chip itself may be TFT using COG (Chip On Grass) technology. Although it may be configured to be electrically and mechanically connected to a predetermined position of the array substrate 10 through an anisotropic conductive film, as described above, the effect of the liquid crystal device according to the present embodiment is most apparent. This is a case where the drive circuit 200 is formed on the TFT array substrate 10.

<その他>
また、実施形態においては、液晶装置を構成するTFTアレイ基板10として、ガラス等の透明な絶縁性基板を用いて、当該基板上にシリコン薄膜を形成するとともに、当該薄膜上にソース、ドレイン、チャネルが形成されたTFTによって、画素のスイッチング素子(TFT30)や駆動回路200を構成するTFTを形成するものとして説明したが、本発明はこれに限られるものではない。
<Others>
In the embodiment, a transparent insulating substrate such as glass is used as the TFT array substrate 10 constituting the liquid crystal device, a silicon thin film is formed on the substrate, and a source, drain, channel is formed on the thin film. In the above description, the TFTs forming the pixel switching elements (TFTs 30) and the TFTs constituting the driving circuit 200 are formed. However, the present invention is not limited to this.

例えば、TFTアレイ基板10を半導体基板により構成して、当該半導体基板の表面にソース、ドレイン、チャネルが形成された絶縁ゲート型電界効果トランジスタによって、画素のスイッチング素子や駆動回路200の構成素子を形成しても良い。このようにTFTアレイ基板10として半導体基板を用いる場合には、透過型として用いることができないため、画素電極9aをアルミニウムなどで形成して、反射型として用いられることとなる。また、TFTアレイ基板10を透明基板として、単に、画素電極9aにアルミニウムなどで形成して反射型としても良い。   For example, the TFT array substrate 10 is composed of a semiconductor substrate, and the switching elements of the pixels and the constituent elements of the drive circuit 200 are formed by insulated gate field effect transistors in which the source, drain, and channel are formed on the surface of the semiconductor substrate. You may do it. Thus, when a semiconductor substrate is used as the TFT array substrate 10, it cannot be used as a transmissive type, and therefore, the pixel electrode 9a is formed of aluminum or the like and used as a reflective type. Alternatively, the TFT array substrate 10 may be a transparent substrate, and the pixel electrode 9a may be formed of aluminum or the like to be a reflective type.

さらに、上述した実施形態にあっては、画素のスイッチング素子を、TFTで代表される3端子素子として説明したが、ダイオード等の2端子素子で構成しても良い。ただし、画素のスイッチング素子として2端子素子を用いる場合には、走査線3aを一方の基板に形成し、データ線6aを他方の基板に形成するとともに、2端子素子を、走査線3aまたはデータ線6aのいずれか一方と、画素電極9aとの間に形成する必要がある。この場合、画素は、二端子素子が接続される画素電極9aと、対向基板20に形成される信号線(データ線6aまたは走査線3aの一方)と、これらの間に挟持される液晶50とから構成されることとなる。   Furthermore, in the above-described embodiment, the switching element of the pixel has been described as a three-terminal element typified by a TFT, but may be configured by a two-terminal element such as a diode. However, when a two-terminal element is used as a pixel switching element, the scanning line 3a is formed on one substrate, the data line 6a is formed on the other substrate, and the two-terminal element is connected to the scanning line 3a or the data line. It is necessary to form between either one of 6a and the pixel electrode 9a. In this case, the pixel includes a pixel electrode 9a to which the two-terminal element is connected, a signal line (one of the data line 6a or the scanning line 3a) formed on the counter substrate 20, and the liquid crystal 50 sandwiched between them. It will be composed of.

また、アクティブマトリクス型液晶装置に限られず、STN(Super Twisted Nematic)液晶などを用いたパッシブ型にも適用可能である。この場合、画素は、電極として作用する走査線3aと、同じく電極として作用するデータ線6aと、これら電極間に挟持される液晶50とから構成されることとなる。   Further, the present invention is not limited to an active matrix liquid crystal device, and can also be applied to a passive type using STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal. In this case, the pixel is composed of the scanning line 3a acting as an electrode, the data line 6a also acting as an electrode, and the liquid crystal 50 sandwiched between these electrodes.

さらに、電気光学材料としては、液晶のほかに、エレクトロルミネッセンス素子などを用いて、その電気光学効果により表示を行う表示装置に適用可能である。すなわち、本発明は、上述した液晶装置と類似の構成を有するすべての電気光学装置に適用可能である。   Furthermore, as an electro-optic material, in addition to liquid crystal, an electroluminescence element or the like can be used for a display device that performs display by the electro-optic effect. That is, the present invention can be applied to all electro-optical devices having a configuration similar to that of the liquid crystal device described above.

<電子機器>
次に、上述した液晶装置を各種の電子機器に適用される場合について説明する。この場合、電子機器は、図13に示されるように、主に、表示情報出力源1000、表示情報処理回路1002、駆動回路1004、液晶装置100、クロック発生回路1008並びに電源回路1010を備えて構成されている。このうち、表示情報出力源1000は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)などのメモリや、光ディスク装置などのストレージユニット、画像信号を同調して出力する同調回路等を含み、クロック発生回路1008からのクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの表示情報を表示情報処理回路1002に出力するものである。また、表示情報処理回路1002は、上述したシリアル−パラレル変換回路や、増幅・極性反転回路、ローテーショ
ン回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種処理回路を含んで構成されており、クロック信号に基づいて入力された表示情報からデジタル信号を順次生成し、クロック信号CLKとともに駆動回路1004に出力するものである。駆動回路1004は、液晶装置100を駆動するものであり、上述した駆動回路200のほか、製造後の検査に用いる検査回路などを含んだものである。電源回路1010は、上述の各回路に所定の電源を供給するものである。
<Electronic equipment>
Next, the case where the above-described liquid crystal device is applied to various electronic devices will be described. In this case, as shown in FIG. 13, the electronic apparatus mainly includes a display information output source 1000, a display information processing circuit 1002, a drive circuit 1004, a liquid crystal device 100, a clock generation circuit 1008, and a power supply circuit 1010. Has been. Among these, the display information output source 1000 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) and a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as an optical disk device, a tuning circuit that tunes and outputs an image signal, and the like. Based on a clock signal from the generation circuit 1008, display information such as an image signal in a predetermined format is output to the display information processing circuit 1002. The display information processing circuit 1002 includes various processing circuits such as the above-described serial-parallel conversion circuit, amplification / polarity inversion circuit, rotation circuit, gamma correction circuit, and clamp circuit. The digital signal is sequentially generated from the display information input based on the above and is output to the drive circuit 1004 together with the clock signal CLK. The drive circuit 1004 drives the liquid crystal device 100 and includes an inspection circuit used for inspection after manufacture in addition to the drive circuit 200 described above. The power supply circuit 1010 supplies predetermined power to the above-described circuits.

次に、上述した液晶装置を具体的な電子機器に用いた例のいくつかについて説明する。   Next, some examples in which the above-described liquid crystal device is used in a specific electronic device will be described.

<その1:プロジェクタ>
まず、この液晶装置100をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。図14は、このプロジェクタの構成を示す平面図である。この図に示されるように、プロジェクタ1100内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット1102が設けられている。このランプユニット1102から射出された投射光は、内部に配置された3枚のミラー1106および2枚のダイクロイックミラー1108によってRGBの3原色に分離されて、各原色に対応するライトバルブ100R、100Gおよび100Bにそれぞれ導かれる。
<Part 1: Projector>
First, a projector using the liquid crystal device 100 as a light valve will be described. FIG. 14 is a plan view showing the configuration of the projector. As shown in this figure, a lamp unit 1102 made of a white light source such as a halogen lamp is provided inside the projector 1100. The projection light emitted from the lamp unit 1102 is separated into three primary colors of RGB by three mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108 disposed therein, and light valves 100R, 100G corresponding to the primary colors and 100B, respectively.

ここで、ライトバルブ100R、100Gおよび100Bの構成は、上述した液晶装置100と同様であり、画像信号処理回路(図示省略)から供給されるR、G、Bの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。また、B色の光は、他のR色やG色と比較すると、光路が長いので、その損失を防ぐために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123および出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。   Here, the configuration of the light valves 100R, 100G, and 100B is the same as that of the liquid crystal device 100 described above, and is driven by R, G, and B primary color signals supplied from an image signal processing circuit (not shown). It is. In addition, B light has a long optical path compared to other R colors and G colors, and therefore, in order to prevent the loss, B light passes through a relay lens system 1121 including an incident lens 1122, a relay lens 1123, and an exit lens 1124. Led.

さて、ライトバルブ100R、100G、100Bによってそれぞれ変調された光は、ダイクロイックプリズム1112に3方向から入射される。このダイクロイックプリズム1112において、R色およびB色の光は90度に屈折する一方、G色の光は直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ1114を介して、スクリーン1120にカラー画像が投射されることとなる。   The light modulated by the light valves 100R, 100G, and 100B is incident on the dichroic prism 1112 from three directions. In the dichroic prism 1112, the R and B light beams are refracted at 90 degrees, while the G light beam goes straight. Therefore, as a result of the synthesis of the images of the respective colors, a color image is projected onto the screen 1120 via the projection lens 1114.

なお、ライトバルブ100R、100Gおよび100Bには、ダイクロイックミラー1108によって、R、G、Bの各原色に対応する光が入射するので、上述したようにカラーフィルタを設ける必要はない。   Since light corresponding to the primary colors R, G, and B is incident on the light valves 100R, 100G, and 100B by the dichroic mirror 1108, it is not necessary to provide a color filter as described above.

<その2:モバイル型コンピュータ>
次に、この液晶装置を、モバイル型のパーソナルコンピュータに適用した例について説明する。図15は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図において、コンピュータ1200は、キーボード1202を備えた本体部1204と、液晶表示ユニット1206とから構成されている。この液晶表示ユニット1206は、先に述べた液晶装置100の背面にバックライトを付加することにより構成されている。
<Part 2: Mobile computer>
Next, an example in which this liquid crystal device is applied to a mobile personal computer will be described. FIG. 15 is a perspective view showing the configuration of this personal computer. In the figure, a computer 1200 includes a main body 1204 having a keyboard 1202 and a liquid crystal display unit 1206. The liquid crystal display unit 1206 is configured by adding a backlight to the back surface of the liquid crystal device 100 described above.

なお、電子機器としては、図14および図15を参照して説明した他にも、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、携帯電話、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器に対して、実施形態の液晶装置、さらには電気光学装置が適用可能なのは言うまでもない。   In addition to the electronic devices described with reference to FIGS. 14 and 15, the electronic devices include a liquid crystal television, a viewfinder type, a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, and a word processor. , Workstations, mobile phones, videophones, POS terminals, devices with touch panels, and the like. Needless to say, the liquid crystal device and the electro-optical device according to the embodiments can be applied to these various electronic devices.

本発明の実施形態に係る液晶装置を構成するTFTアレイ基板のうち、画像表示領域の構成を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram which shows the structure of an image display area | region among the TFT array substrates which comprise the liquid crystal device which concerns on embodiment of this invention. 同液晶装置におけるTFTアレイ基板の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the TFT array substrate in the liquid crystal device. 同液晶装置におけるデータ線駆動回路の詳細構成を示すブロック図である。2 is a block diagram illustrating a detailed configuration of a data line driving circuit in the liquid crystal device. FIG. 同液晶装置におけるデータ線駆動回路の動作を説明するためのタイミングチャートである。4 is a timing chart for explaining the operation of the data line driving circuit in the liquid crystal device. 同液晶装置におけるデータ線駆動回路のレイアウトを示す平面図である。4 is a plan view showing a layout of a data line driving circuit in the liquid crystal device. FIG. 同液晶装置におけるバッファ回路のレイアウトを示す平面図である。4 is a plan view showing a layout of a buffer circuit in the liquid crystal device. FIG. 同液晶装置におけるバッファ回路の詳細構成を示す回路図である。2 is a circuit diagram illustrating a detailed configuration of a buffer circuit in the liquid crystal device. FIG. 同液晶装置におけるバッファ回路の詳細構成を示すブロック図である。3 is a block diagram illustrating a detailed configuration of a buffer circuit in the liquid crystal device. FIG. 同液晶装置におけるバッファ回路の配置を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing an arrangement of buffer circuits in the liquid crystal device. (1)〜(3)は、それぞれ同液晶装置におけるサンプリング回路のスイッチ構成を示す回路図である。(1)-(3) is a circuit diagram which shows the switch structure of the sampling circuit in the liquid crystal device, respectively. 同液晶装置の構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the liquid crystal device. 同液晶装置の構造を説明するための一部断面図である。2 is a partial cross-sectional view for explaining the structure of the liquid crystal device. FIG. 同液晶装置を適用した電子機器の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the electronic device to which the liquid crystal device is applied. 同液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the projector which is an example of the electronic device to which the liquid crystal device is applied. 同液晶装置を適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the personal computer which is an example of the electronic device to which the liquid crystal device is applied.

符号の説明Explanation of symbols

3a…走査線
3b…容量線
6a…データ線
9a…画素電極
10…TFTアレイ基板
20…対向基板
30…TFT
50…液晶
52…シール材
70…蓄積容量
101…データ線駆動回路
104…走査線駆動回路
114…サンプリング制御信号線
115…画像信号線
301…サンプリング回路
302…サンプリングスイッチ
400…シフトレジスタ回路
401…ラッチ回路
402…位相調整回路
403…NAND回路
500…バッファ回路
501…インバータ(1段目)
502…インバータ(2段目)
503…インバータ(3段目)
601…高電圧配線
602…低電圧配線
3a ... Scanning line 3b ... Capacitance line 6a ... Data line 9a ... Pixel electrode 10 ... TFT array substrate 20 ... Counter substrate 30 ... TFT
50 ... Liquid crystal 52 ... Sealing material 70 ... Storage capacitor 101 ... Data line driving circuit 104 ... Scanning line driving circuit 114 ... Sampling control signal line 115 ... Image signal line 301 ... Sampling circuit 302 ... Sampling switch 400 ... Shift register circuit 401 ... Latch Circuit 402 ... Phase adjustment circuit 403 ... NAND circuit 500 ... Buffer circuit 501 ... Inverter (first stage)
502 ... Inverter (second stage)
503 ... Inverter (third stage)
601 ... High voltage wiring 602 ... Low voltage wiring

Claims (3)

複数の走査線と、複数のデータ線と、前記複数の走査線と前記複数のデータ線との各交
点に対応して設けられた複数の画素とを備えた電気光学装置を駆動するための電気光学装
置の駆動回路において、
前記駆動回路は、
シフトレジスタ回路と、
前記シフトレジスタ回路から供給される転送信号の信号幅を所定の幅に制限する位相調
整回路と、
前記位相調整回路によって信号幅が制限された前記転送信号をサンプリング制御信号と
して出力するバッファ回路と、
を有し、
前記バッファ回路は、
前記データ線の延在方向とは交差する方向に並び、且つ、並列接続された複数の論理回
路によって構成される段が、複数直列接続して構成されたものであり、
前記論理回路を構成するトランジスタのチャネル幅は、前記論理回路を含む段の前段に
含まれる論理回路を構成するトランジスタのチャネル幅よりも広いこと
を特徴とする電気光学装置の駆動回路。
Electricity for driving an electro-optical device comprising a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and a plurality of pixels provided corresponding to intersections of the plurality of scanning lines and the plurality of data lines In the drive circuit of the optical device,
The drive circuit is
A shift register circuit;
A phase adjustment circuit that limits a signal width of a transfer signal supplied from the shift register circuit to a predetermined width;
A buffer circuit that outputs the transfer signal, the signal width of which is limited by the phase adjustment circuit, as a sampling control signal;
Have
The buffer circuit is
A plurality of stages constituted by a plurality of logic circuits arranged in a direction intersecting with the extending direction of the data lines and connected in parallel are configured by connecting in series.
A drive circuit of an electro-optical device, wherein a channel width of a transistor constituting the logic circuit is wider than a channel width of a transistor constituting a logic circuit included in a stage preceding the stage including the logic circuit.
請求項1に記載の電気光学装置の駆動回路を備えたことを特徴とする電気光学装置。   An electro-optical device comprising the drive circuit for the electro-optical device according to claim 1. 請求項2に記載の電気光学装置を備えたこと、
を特徴とする電子機器。
The electro-optical device according to claim 2 is provided.
Electronic equipment characterized by
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