JP3804809B2 - Manufacturing method of multilayer printed wiring board - Google Patents

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JP3804809B2
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スルホールを有する多層プリント配線板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
多層プリント配線板の層間接続方法としては、一般的に、ドリルによる穴明けを行い、スルホールにめっきを行う方法が用いられている。このスルホールを形成する工程のドリルによる穴明けを行う際に、ドリルが高速で回転するため、摩擦熱が生じ、その削りかすや絶縁樹脂が軟化する。この軟化した樹脂が穴側面に再付着し、付着した箇所の導体回路とスルーホールめっきとが接続されないといういわゆるスミアが生じて導通不良がおきることがある。
そこで、このようなスミアを除去するデスミア処理が必要であるが、デスミア処理液としては、濃硫酸、クロム酸、アルカリ過マンガン酸塩等を使用することが、特開昭54−144968号公報、特開昭62−104197号公報により知られている。また、このような薬品を使用せず、プラズマを使用したデスミア方法が、特開昭63−311797号公報により知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
従来の技術において、デスミア処理液として、濃硫酸、クロム酸、アルカリ過マンガン酸塩を使用する方法には、これらの液が労働安全衛生法の特定化学物質に該当する薬品であり、安全上取扱いに十分な注意が必要であり、さらに取扱い者には定期的に健康診断が義務付けられるため管理を厳重にしなければならないという課題がある。さらに、濃硫酸は吸水性が強いために、十分な濃度管理が必要である。
また、プラズマをデスミア処理に使用する方法には、投入/減圧/プラズマ処理/減圧解除/取り出しを行わなければならず、作業効率が著しく低いという課題がある。
【0004】
本発明は、安全性に優れ、かつ効率に優れた多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の多層プリント配線板の製造方法は、内層回路を有する銅張ガラスエポキシ積層板にドリルにより穴明けを行い、デスミア処理、スルホールめっき、回路形成を行う多層プリント配線板の製造方法において、デスミア処理に、アミド系溶媒と、アルカリ金属水酸化物のアルコール系溶媒溶液からなる溶液を用いることを特徴とするものである。
【0006】
本発明で使用するデスミア液は、アミド系溶媒、アルカリ金属水酸化物のアルコール系溶媒溶液を配合、混合して調製する。
本発明で使用するアミド系溶媒には、例えばホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N,N’,N’−テトラメチル尿素、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、カルバミド酸エステル等がある。これらのうちN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンには、エポキシ樹脂硬化物を膨潤させる効果があり、分解物の溶解性が良好なために特に好ましい。これらの溶媒は併用することができる。
【0007】
また、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒等に代表されるその他の溶媒と併用しても構わない。
ここで併用できるケトン系溶媒には、例えばアセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等がある。
また、ここで併用できるエーテル系溶媒には、例えばジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等がある。
【0008】
本発明で使用するアルカリ金属水酸化物は、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム等がある。これらのうち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムがエポキシ樹脂硬化物の分解速度が高いために、特に好ましい。
【0009】
本発明で使用するアルコール系溶媒には、例えばメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、iso−ブタノール、tert−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、iso−ペンチルアルコール、tert−ペンチルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペタノール、4−メチル−2−ペタノール、2−エチル−1−ブタノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、シクロヘキサノール、1−メチルシクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ぺンタンジオール、グリセリン、ジプロピレングリコール等がある。これらのうちエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール(分子量200〜400)、1,2−プロパンジオールがアルカリ金属水酸化物の溶解性が高く、さらに沸点が高く取扱いが容易なために、特に好ましい。これらの溶媒は、何種類かを併用することができる。
【0010】
本発明で使用するデスミア処理液において、アミド系溶媒に対する、アルカリ金属水酸化物アルコール系溶媒溶液の組成は、好ましくはアミド系溶媒50〜99重量%に対し、アルカリ金属水酸化物のアルコール系溶媒溶液1〜50重量%の範囲である。
アミド系溶媒の濃度が50重量%未満であるとエポキシ硬化物の膨潤性、分解物の溶解性が低下するため好ましくなく、99重量%を越えると結果的にアルカリ金属水酸化物の濃度が低下するため、エポキシ樹脂硬化物の分解速度が低下するため好ましくない。
【0011】
アルコール系溶媒溶液のアルカリ金属水酸化物濃度は、0.5重量%から40重量%の範囲が好ましい。0.5重量%未満であると、エポキシ樹脂硬化物の分解速度が低下するため好ましくなく、40重量%を越えるとアルコール系溶媒にアルカリ金属水酸化物が完全に溶解できない。
【0012】
このようにして得られたデスミア液には、界面活性剤等を添加することができる。
また、デスミア処理の際に、デスミア液を90℃前後まで加熱して使用することもできる。
デスミア方法としては、被処理物をデスミア液中に浸漬し、さらに気泡を発生させたり、超音波により振動を与えたりすることができる。また、液中に浸漬しなくとも、スプレー等を使用することもできる。
【0013】
本発明の、デスミア液として使用するアミド系溶媒と、アルカリ金属水酸化物のアルコール系溶媒溶液からなる混合液は、特定化学物質に該当せず、また処理条件は、液温60℃−浸漬時間10分程度であり、連続投入も可能である。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を詳細に述べる。
【0015】
【実施例】
【0016】
実施例1
厚さ0.2mmの両面銅張ガラスエポキシ積層板であるMCL−E−67(日立化成工業株式会社、商品名)の両面に、回路加工を行い、さらに、厚さ0.1mmのガラスエポキシプリプレグであるGEA−E−67N(日立化成工業株式会社、商品名)と、厚さ18μmの銅箔であるNDGK−18(日本電解株式会社製、商品名)を、プレスにより接着した4層シールド板を作製し、上板に0.1mmアルミニウム板、下板に1.0mmの紙フェノール積層板をあて板として、直径0.8mmのドリルを使用し、回転数70000rpm、送り速度3m/minで穴明けを行った。
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を調製した。
・N,N−ジメチルホルムアミド・・・・・・・・・・・・・・・・80重量%
・水酸化ナトリウムのエチレングリコール溶液・・・・・・・・・・20重量%
(水酸化ナトリウム濃度:20重量%)
穴明けしたガラスエポキシ積層板を、60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、めっきを行い、回路を形成した。
【0017】
実施例2
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を調製した。
・N,N−ジメチルホルムアミド・・・・・・・・・・・・・・・80重量%、
・水酸化カリウムのエチレングリコール溶液・・・・・・・・・・20重量%
(水酸化カリウム濃度:20重量%)
実施例1で作製した穴明けしたガラスエポキシ積層板を60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0018】
実施例3
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を調製した。
・N,N−ジメチルアセトアミド・・・・・・・・・・・・・・・80重量%
・水酸化ナトリウムのエチレングリコール溶液・・・・・・・・・20重量%
(水酸化ナトリウム濃度:20重量%)
実施例1で作製した穴明けしたガラスエポキシ積層板を60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0019】
実施例4
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を調製した。
・N−メチルピロリドン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・80重量%
・水酸化ナトリウムのエチレングリコール溶液・・・・・・・・・20重量%
(水酸化ナトリウム濃度:20重量%)
実施例1で作製した穴明けしたガラスエポキシ積層板を60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0020】
実施例5
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を調製した。
・N,N−ジメチルホルムアミド・・・・・・・・・・・・・・・・80重量%
・水酸化ナトリウムのジエチレングリコール溶液・・・・・・・・・20重量%
(水酸化ナトリウム濃度:20重量%)
実施例1で作製した穴明けしたガラスエポキシ積層板を60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0021】
実施例6
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を調製した。
・N,N−ジメチルアセトアミド・・・・・・・・・・・・・・・・80重量%
・水酸化ナトリウムのトリエチレングリコール溶液・・・・・・・・20重量%
(水酸化ナトリウム濃度:15重量%)
実施例1で作製した穴明けしたガラスエポキシ積層板を60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0022】
実施例7
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を調製した。
・N,N−ジメチルホルムアミド・・・・・・・・・・・・・・・・80重量%
・水酸化ナトリウムのテトラエチレングリコール溶液・・・・・・・20重量%
(水酸化ナトリウム濃度:15重量%)
実施例1で作製した穴明けしたガラスエポキシ積層板を60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0023】
実施例8
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を調製した。
・N,N−ジメチルホルムアミド・・・・・・・・・・・・・・・・80重量%
・水酸化ナトリウムのポリエチレングリコール溶液・・・・・・・・20重量%
(水酸化ナトリウム濃度:10重量%、ポリエチレングリコールの分量:200)
実施例1で作製した穴明けしたガラスエポキシ積層板を60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0024】
実施例9
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を調製した。
・N,N−ジメチルアセトアミド・・・・・・・・・・・・・・・・80重量%
・水酸化ナトリウムの1,2−プロパンジオール溶液・・・・・・・20重量%
(水酸化ナトリウム濃度:15重量%)
実施例1で作製した穴明けしたガラスエポキシ積層板を60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0025】
実施例10
実施例1で使用したガラスエポキシプリプレグに代えて、厚さ0.05mmのエポキシ接着フィルムであるAS−3000(日立化成工業株式会社、商品名)を使用した以外、実施例1と同様に作製した。
穴明けしたガラスエポキシ積層板を、60℃の実施例1で用いたデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0026】
実施例11
デスミア液として、以下の組成の混合溶液を使用した。
・N,N−ジメチルホルムアミド・・・・・・・・・・・・・・・・80重量%
・水酸化カリウムのポリエチレングリコール溶液・・・・・・・・・20重量%
(水酸化カリウム濃度:20重量%、ポリエチレングリコールの分子量:200)実施例1で作製した穴明けしたガラスエポキシ積層板を60℃のデスミア液に浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行い、めっきを行い、回路を形成した。
【0027】
比較例1
実施例1で穴明けしたガラスエポキシ積層板を、60℃のジメチルホルムアミドに浸し、10分間軽く振とうした。その後流水により10分間洗浄し、デスミア処理を行った。
【0028】
(断面観察)
スルホール内の断面観察は、作製したガラスエポキシ積層板を、エポキシ系樹脂で注型成形し、スルーホールの箇所が断面として観察できるようになるまで研磨した試料を作製し、顕微鏡200倍の倍率で観察した。
その結果、実施例はいずれも、スルホール内にはめっきボイド、剥がれ等は確認されず、また内層回路との接続部分にスミアは確認されず、比較例においては、スルホール内にはボイドがあった。
【0029】
(ホットオイル試験)
260℃に加熱したホットオイルに、10秒浸漬し、25℃の水に20秒浸漬し、これを1サイクルとした。実施例はいずれも、30サイクルの試験後も接続抵抗の低下はなく、アルカリ過マンガン酸塩を使用したデスミア処理を行ったものと同等の接続信頼性であった。
また、比較例は、10サイクル後に断線が起きた。
【0030】
【発明の効果】
本発明の、デスミア液として使用するアミド系溶媒と、アルカリ金属水酸化物のアルコール系溶媒溶液からなる混合液は、特定化学物質に該当せず、また処理条件は、液温60℃−浸漬時間10分程度であり、安全性に優れ、かつ効率に優れた多層プリント配線板の製造方法を提供することができる。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board having through holes.
[0002]
[Prior art]
As an interlayer connection method for a multilayer printed wiring board, a method of drilling holes and plating through holes is generally used. When drilling with a drill in the process of forming this through hole, the drill rotates at a high speed, so that frictional heat is generated, and the shavings and insulating resin are softened. This softened resin is reattached to the side surface of the hole, so that a so-called smear that the conductor circuit and the through-hole plating at the attached portion are not connected may occur, resulting in poor conduction.
Therefore, desmear treatment for removing such smear is necessary. However, as the desmear treatment liquid, it is possible to use concentrated sulfuric acid, chromic acid, alkaline permanganate, etc., as disclosed in JP-A-54-144968, This is known from Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-104197. Further, a desmear method using plasma without using such a chemical is known from Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-311797.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
In the conventional technology, when using concentrated sulfuric acid, chromic acid, or alkali permanganate as desmear treatment liquid, these liquids are chemicals that fall under the specified chemical substances of the Industrial Safety and Health Act, and are handled for safety. In addition, there is a problem that the management must be strictly controlled because a regular medical examination is required for the handler. Furthermore, since concentrated sulfuric acid has a strong water absorption, sufficient concentration control is required.
In addition, the method of using plasma for desmear processing has to perform input / depressurization / plasma treatment / decompression release / removal, and there is a problem that the working efficiency is extremely low.
[0004]
An object of this invention is to provide the manufacturing method of the multilayer printed wiring board excellent in safety | security and excellent in efficiency.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention is a method for producing a multilayer printed wiring board in which a copper-clad glass epoxy laminated board having an inner layer circuit is drilled to perform desmear treatment, through-hole plating, and circuit formation. In the treatment, a solution comprising an amide solvent and an alcohol solvent solution of an alkali metal hydroxide is used.
[0006]
The desmear liquid used in the present invention is prepared by blending and mixing an amide solvent and an alcohol solvent solution of an alkali metal hydroxide.
Examples of the amide solvent used in the present invention include formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, N, N, N ′, N′-. Examples include tetramethylurea, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, carbamic acid ester, and the like. Among these, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone are particularly preferable because they have an effect of swelling the epoxy resin cured product and the solubility of the decomposition product is good. . These solvents can be used in combination.
[0007]
Moreover, you may use together with the other solvent represented by the ketone solvent, the ether solvent, etc.
Examples of ketone solvents that can be used together include acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, diisobutyl ketone, and cyclohexanone.
Examples of ether solvents that can be used in combination here include dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, anisole, phenetole, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether.
[0008]
Examples of the alkali metal hydroxide used in the present invention include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, and cesium hydroxide. Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are particularly preferable because the decomposition rate of the cured epoxy resin is high.
[0009]
Examples of the alcohol solvent used in the present invention include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, iso-butanol, tert-butanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-1-butanol, iso-pentyl alcohol, tert-pentyl alcohol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 1-hexanol, 2-methyl-1-petanol, 4-methyl 2-petanol, 2-ethyl-1-butanol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, cyclohexanol, 1-methylcyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol, 4-methylcyclo Hexanol, Tylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol, triethylene glycol Ethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4 -Butanediol, 2,3-butanediol, 1 5 Bae Ntanjioru, glycerin, dipropylene glycol or the like. Among these, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol (molecular weight 200 to 400), and 1,2-propanediol have high solubility of alkali metal hydroxide, and have a high boiling point and are easy to handle. Therefore, it is particularly preferable. Several kinds of these solvents can be used in combination.
[0010]
In the desmear treatment liquid used in the present invention, the composition of the alkali metal hydroxide alcohol solvent solution with respect to the amide solvent is preferably 50 to 99% by weight of the amide solvent with respect to the alcohol solvent of the alkali metal hydroxide. The range is 1 to 50% by weight of the solution.
If the concentration of the amide solvent is less than 50% by weight, the swellability of the epoxy cured product and the solubility of the decomposed product are not preferable, and if it exceeds 99% by weight, the concentration of the alkali metal hydroxide decreases as a result. Therefore, the decomposition rate of the cured epoxy resin is reduced, which is not preferable.
[0011]
The alkali metal hydroxide concentration of the alcohol solvent solution is preferably in the range of 0.5 wt% to 40 wt%. If it is less than 0.5% by weight, the decomposition rate of the cured epoxy resin decreases, which is not preferable. If it exceeds 40% by weight, the alkali metal hydroxide cannot be completely dissolved in the alcohol solvent.
[0012]
A surfactant or the like can be added to the desmear liquid thus obtained.
In addition, the desmear liquid can be heated to around 90 ° C. during the desmear treatment.
As the desmearing method, the object to be treated can be immersed in a desmear liquid to generate bubbles or to vibrate by ultrasonic waves. Moreover, spray etc. can also be used even if it does not immerse in a liquid.
[0013]
The mixed solution comprising the amide solvent used as the desmear liquid and the alcohol solvent solution of the alkali metal hydroxide of the present invention does not correspond to the specific chemical substance, and the processing conditions are a liquid temperature of 60 ° C. and an immersion time. It takes about 10 minutes, and continuous charging is possible.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
[0015]
【Example】
[0016]
Example 1
Circuit processing was performed on both sides of MCL-E-67 (Hitachi Chemical Industry Co., Ltd., trade name), a double-sided copper-clad glass epoxy laminate with a thickness of 0.2 mm, and a glass epoxy prepreg with a thickness of 0.1 mm. GEA-E-67N (Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name) and NDGK-18 (trade name, manufactured by Nippon Electrolytic Co., Ltd.), which is a copper foil with a thickness of 18 μm, are bonded by a press. Using a drill with a diameter of 0.8 mm, using a 0.1 mm aluminum plate on the upper plate and a 1.0 mm paper phenol laminate on the lower plate, a hole with a rotation speed of 70000 rpm and a feed rate of 3 m / min Dawned.
As a desmear liquid, a mixed solution having the following composition was prepared.
・ N, N-dimethylformamide ... 80wt%
・ Sodium hydroxide in ethylene glycol solution 20% by weight
(Sodium hydroxide concentration: 20% by weight)
The perforated glass epoxy laminate was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, plated, and a circuit was formed.
[0017]
Example 2
As a desmear liquid, a mixed solution having the following composition was prepared.
N, N-dimethylformamide 80% by weight,
-Potassium hydroxide in ethylene glycol solution 20% by weight
(Potassium hydroxide concentration: 20% by weight)
The perforated glass epoxy laminate produced in Example 1 was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0018]
Example 3
As a desmear liquid, a mixed solution having the following composition was prepared.
・ N, N-dimethylacetamide ... 80% by weight
・ Sodium hydroxide in ethylene glycol solution 20% by weight
(Sodium hydroxide concentration: 20% by weight)
The perforated glass epoxy laminate produced in Example 1 was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0019]
Example 4
As a desmear liquid, a mixed solution having the following composition was prepared.
・ N-methylpyrrolidone ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 80% by weight
・ Sodium hydroxide in ethylene glycol solution 20% by weight
(Sodium hydroxide concentration: 20% by weight)
The perforated glass epoxy laminate produced in Example 1 was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0020]
Example 5
As a desmear liquid, a mixed solution having the following composition was prepared.
・ N, N-dimethylformamide ... 80wt%
・ Diethylene glycol solution of sodium hydroxide ... 20% by weight
(Sodium hydroxide concentration: 20% by weight)
The perforated glass epoxy laminate produced in Example 1 was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0021]
Example 6
As a desmear liquid, a mixed solution having the following composition was prepared.
・ N, N-dimethylacetamide ... 80% by weight
・ Sodium hydroxide in triethylene glycol solution: 20% by weight
(Sodium hydroxide concentration: 15% by weight)
The perforated glass epoxy laminate produced in Example 1 was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0022]
Example 7
As a desmear liquid, a mixed solution having the following composition was prepared.
・ N, N-dimethylformamide ... 80wt%
・ Sodium hydroxide in tetraethylene glycol solution ... 20% by weight
(Sodium hydroxide concentration: 15% by weight)
The perforated glass epoxy laminate produced in Example 1 was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0023]
Example 8
As a desmear liquid, a mixed solution having the following composition was prepared.
・ N, N-dimethylformamide ... 80wt%
・ Sodium hydroxide in polyethylene glycol solution: 20% by weight
(Sodium hydroxide concentration: 10% by weight, polyethylene glycol content: 200)
The perforated glass epoxy laminate produced in Example 1 was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0024]
Example 9
As a desmear liquid, a mixed solution having the following composition was prepared.
・ N, N-dimethylacetamide ... 80% by weight
-1,2-propanediol solution of sodium hydroxide ... 20% by weight
(Sodium hydroxide concentration: 15% by weight)
The perforated glass epoxy laminate produced in Example 1 was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0025]
Example 10
Instead of the glass epoxy prepreg used in Example 1, AS-3000 (Hitachi Chemical Industry Co., Ltd., trade name), which is an epoxy adhesive film having a thickness of 0.05 mm, was used. .
The perforated glass epoxy laminate was immersed in the desmear solution used in Example 1 at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0026]
Example 11
As the desmear liquid, a mixed solution having the following composition was used.
・ N, N-dimethylformamide ... 80wt%
・ Polyethylene glycol solution of potassium hydroxide ... 20% by weight
(Potassium hydroxide concentration: 20% by weight, molecular weight of polyethylene glycol: 200) The perforated glass epoxy laminate produced in Example 1 was immersed in a desmear solution at 60 ° C. and gently shaken for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes, subjected to desmear treatment, plated, and a circuit was formed.
[0027]
Comparative Example 1
The glass epoxy laminated board perforated in Example 1 was immersed in dimethylformamide at 60 ° C. and shaken lightly for 10 minutes. Thereafter, it was washed with running water for 10 minutes and subjected to desmear treatment.
[0028]
(Cross section observation)
The cross-sectional observation inside the through-hole is made by casting the produced glass epoxy laminate with an epoxy-based resin, polishing a sample until the through-hole portion can be observed as a cross-section, and at a magnification of 200 times the microscope. Observed.
As a result, in all of the examples, plating voids, peeling, etc. were not confirmed in the through hole, and smear was not confirmed in the connection portion with the inner layer circuit, and in the comparative example, there was a void in the through hole. .
[0029]
(Hot oil test)
It was immersed in hot oil heated to 260 ° C. for 10 seconds and immersed in water at 25 ° C. for 20 seconds, and this was defined as one cycle. In all the examples, the connection resistance did not decrease even after the 30-cycle test, and the connection reliability was the same as that obtained after desmear treatment using an alkali permanganate.
In the comparative example, disconnection occurred after 10 cycles.
[0030]
【The invention's effect】
The mixed solution comprising the amide solvent used as the desmear liquid and the alcohol solvent solution of the alkali metal hydroxide of the present invention does not correspond to the specific chemical substance, and the processing conditions are a liquid temperature of 60 ° C. and an immersion time. It takes about 10 minutes, and can provide a method for producing a multilayer printed wiring board that is excellent in safety and efficiency.

Claims (5)

内層回路を有する銅張ガラスエポキシ積層板にドリルにより穴明けを行い、デスミア処理、スルホールめっき、回路形成を行う多層プリント配線板の製造方法において、デスミア処理に、アミド系溶媒と、アルカリ金属水酸化物のアルコール系溶媒溶液からなる溶液を用いることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。In a method of manufacturing a multilayer printed wiring board in which a copper-clad glass epoxy laminated board having an inner layer circuit is drilled, desmeared, through-hole plated, and circuit-formed, in the desmeared process, an amide solvent and an alkali metal hydroxide are used. A method for producing a multilayer printed wiring board, wherein a solution comprising an alcohol solvent solution is used. アミド系溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンのいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線板の製造方法。2. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the amide solvent is any one of N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone. アルカリ金属水酸化物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのいずれかであることを特徴とする請求項1または2に記載の多層プリント配線板の製造方法。3. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the alkali metal hydroxide is any one of sodium hydroxide and potassium hydroxide. アルコール系溶媒が、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、1,2−プロパンジオールのいずれかであることを特徴とする請求項1〜3のうちいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。The multilayer solvent according to any one of claims 1 to 3, wherein the alcohol solvent is one of ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, and 1,2-propanediol. A method for manufacturing a printed wiring board. アミド系溶媒が、50〜99重量%、アルカリ金属水酸化物のアルコール系溶媒溶液(アルカリ金属水酸化物濃度0.5〜40重量%)が、1〜50重量%の範囲であることを特徴とする請求項1〜4のうちいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。The amide solvent is 50 to 99% by weight, and the alcohol solvent solution of alkali metal hydroxide (alkali metal hydroxide concentration 0.5 to 40% by weight) is in the range of 1 to 50% by weight. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board in any one of Claims 1-4.
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