JP3794660B2 - プローブ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、平板状の被検査体の通電試験に用いられるプローブに関し、特に、集積回路の電気的特性試験用として好適なプローブに関する。
【0002】
なお、本発明においては、後に説明するオーバドライブ時において、プローブの針先が被検査体の端子部に対し、滑るときの針先の変位方向(滑り方向)を前方といい、戻るときの針先の変位方向(戻り方向)を後方という。
【0003】
【従来の技術】
半導体ウエーハ上の集積回路、半導体ウエーハからチップに分離された集積回路(ICチップ)、及び、チップのパッケージングが終了した集積回路に関しては、回路の動作を確認するために通電試験(電気的特性試験)が行われる。
【0004】
この種の試験すなわち検査は、プローブカード、プローブボード等と称されている検査用ヘッドを用いて行われる(特開平7−229949号公報、特開昭60−80772号公報)。検査用ヘッドは、配線基板と、その基板の一方の面に間隔をおいて配置され、かつ、針押えのような適宜な部材により配線基板に片持ち梁状に取り付けられた複数のプローブとを含む。
【0005】
図7に示すように、この種のプローブ10は、一般に、細長い主体部12と、該主体部の一端から基板と反対側(下方)へ曲げられた針先部14とを備える。検査は、集積回路に形成された電極パッド、パッケージから突出したリード等、細長い平板状の端子部16を検査用ヘッドに備えられたプローブ10の先端(すなわち針先)に接触させて、集積回路に通電することにより行われる。
【0006】
検査時、各プローブ10は、集積回路が検査用ヘッドに向けて移動(上昇)させることにより端子部16に僅かに過剰に押圧され、それにより図7に示すように配線基板への片持ち梁状の支持部18を支点にして僅かに反る。これにより、主体部12が端子部16に対し角度を有することに起因して、プローブ10の針先は端子部16に対し、主体部12の長手方向における先端側(支持部18から離れる矢印20の側であり、いわゆる滑り方向の側)へ変位するとともに、配線基板の側(図において上側)へ変位する。
【0007】
上記のような作用は、一般に、オーバドライブと称されている。またオーバドライブに起因する、矢印20で示す滑り方向への針先の変位量Lは滑り量と称されており、端子部16に対し直角な方向(上下方向)への針先の変位量Hはオーバドライブ量と称されている。
【0008】
オーバドライブ時、プローブ10の針先は、図8(A)に示すように端子部16に押し付けられた状態で矢印20の方向へ滑る。これにより、針先と端子部16との間に擦り作用が生じ、図8(B)に示すように端子部16の表面に存在する膜22が掻き取られる。
【0009】
しかし、従来のプローブ10では、その針先が図8に示すように弧状の断面形状を有するにすぎないから、膜22の掻き取り屑26が図8(B)に示すように針先の後方側の部位に付着することを避けることができないし、針先に付着した掻き取り屑がオーバドライブのたびに成長することを避けることができない。
【0010】
端子部16の表面の膜22がアルミニウムの酸化膜のように電気絶縁性を有する膜である場合、針先が端子部16に残存する膜22と掻き取り屑26とに乗り上げることになるから、針先の後部に付着した掻き取り屑26、特に大きな塊に成長した屑と、端子部16に残存する膜22とにより、針先と端子部16との間の電気的接続状態が妨げられ、その結果正しい通電試験をすることができないことがある。
【0011】
また、端子部16の表面の膜22が導電性を有する膜であると、隣り合うプローブが針先において大きな塊に成長した掻き取り屑により電気的に短絡されるから、正しい通電試験をすることができなくなる。
【0012】
【解決しようとする課題】
本発明の目的は、掻き取り屑が針先に残存しにくくすることにある。
【0013】
【解決手段、作用、効果】
本発明のプローブは、細長い主体部と、該主体部の一端に続きかつ主体部に対し曲げられた針先部とを含む。針先部は、その先端側から主体部に向けて斜め後方へ伸びて針先部の後側に達する1以上の凹所を有する。
【0014】
プローブは、検査用ヘッドの配線基板に針先部が配線基板の側と反対の側へ伸びるように主体部において片持ち梁状に支持される。通電試験時、オーバドライブ作用を受けると、プローブは、被検査体の端子部の膜を針先で掻き取り、その端子部の導電性部分を露出させる。掻き取られた屑は、針先部の凹所に受け入れられる。
【0015】
本発明によれば、針先部の先端側から主体部に向けて斜め後方へ伸びて針先部の後側に達する1以上の凹所を針先部に形成したから、針先部の凹所に受け入れられた掻き取り屑はプローブがオーバドライブ作用を受けるたびに凹所内を針先部の後面側へ移動され、掻き取り屑が針先に残存しにくい。
【0016】
凹所を針先部の側方に開口する溝とすることができる。これの代わりに、凹所を針先部の先端側と後方側とに開口する貫通穴としてもよい。
【0017】
前後方向に間隔をおいた複数の突出部を針先に形成し、凹所を隣り合う突出部の間に開口させることができる。このようにすれば、主として最前方の突出部が被検査体の端子部の膜を掻き取り、その端子部の導電性部分を露出させることになるから、少なくとも最後方の突出部が針先の滑りにともって端子部の露出された導電性部分に押圧され、プローブと端子部との電気的接続状態が維持される。
【0018】
ダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素から選択される材料による被膜を針先部の外面の少なくとも先端前側の部分に形成することができる。このようにすれば、掻き取り屑がダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素に付着しにくい性質を有するから、掻き取り屑が針先により付着しにくくなる。
【0019】
さらに、ダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素から選択される材料による被膜を凹所の内面の少なくとも先端側の部分に形成することができる。このようにすれば、ダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素の被膜が凹所内における掻き取り屑の移動を容易にするから、掻き取り屑が針先により残存しにくくなり、針先における掻き取り屑の成長を抑えることができる。
【0020】
【実施の形態】
図1及び図2を参照するに、プローブ30は、タングステン線のような導電性の金属細線から形成されている。プローブ30は、主体部32と、該主体部の一端に続く針先部34とを含む。
【0021】
プローブ30の針先部34は、主体部32から一方向に曲げられている。プローブ30の針先部34は、円柱状の形状を有していてもよいし、先端側(針先側)ほど漸次細くなる円錐形の形状を有していてもよく、さらには方向20における厚さ寸法が針先側ほど漸次小さいテーパ状の形状を有していてもよい。
【0022】
針先部34は、その先端側から主体部32に向けて斜め後方へ伸びて針先部34の後側に達する2つの凹所36を側部に有する。各凹所36は針先部34の側方に開口する溝であり、また図示の例では半円形の断面形状を有する。
【0023】
針先部34は、被膜38を外面の先端前側の部分に有するとともに、被膜38に一体的に続く被膜40を各凹所36に有する。被膜38,40は、ダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素(硬質炭素)から選択される材料により形成されている。被膜38,40は、気相エピタキャシャル成長法により形成することができる。
【0024】
被膜38は、針先部34の端面すなわち針先面の前側部分と、外周面の前側部分とに形成されている。被膜40は、凹所36の長手方向における全内面に形成されている。しかし、被膜40を凹所36を形成する内面の先端側の部分にだけ形成してもよい。
【0025】
プローブ30は、従来のプローブと同様に、検査用ヘッドの配線基板の一方の面に針押えにより、主体部32が端子部16に対し角度を有し、かつ針先部34が配線基板の側と反対の側へ伸び、しかも針先部34の端面(針先面)が端子部16(実際には、配線基板)とほぼ平行に伸びるように、主体部32において片持ち梁状に支持される。実際には、複数のプローブ30が配線基板に間隔をおいて取り付けられる。
【0026】
通電試験時、プローブ30は、集積回路が検査用ヘッドの向けて移動されることにより針先を端子部16に僅かに過剰に押圧されて、僅かに反る。これにより、プローブ30の針先は、端子部16に対し前方(矢印20の方向)へ変位するとともに、配線基板の側(図においては上方)へ変位する。
【0027】
オーバドライブ時、プローブ30の針先部34がその針先を端子部16に押し付けられた状態で矢印20で示す方向へ滑り、針先(特に、被膜38)と端子部16との間に擦り作用が生じるから、図1に示すように、端子部16の表面に存在する膜22の一部が掻き取られ、端子部16の導電性部分24が露出される。
【0028】
膜22は主として前方側の針先部分(特に、膜38の部分)により掻き取られ、掻き取られた屑は針先の滑りにともなって針先の側部を経て針先部34の後方側へ移動しようとする。しかし、針先部34がその先端側から主体部32に向けて斜め後方へ伸びて針先部34の後側に達する凹所36を各側部に有するから、掻き取り屑は凹所36に受け入れられる。
【0029】
凹所36に受け入れられた掻き取り屑は、プローブ30がオーバドライブ作用を受けるたびに凹所36内を針先部の後側へ移動され、最終的に凹所36から針先部34の後方に押し出される。
【0030】
上記の結果、掻き取り屑が針先に残存しにくい。また、たとえ掻き取り屑が針先部34に付着していても、針先の後部が針先の滑りにともって端子部16の露出された導電性部分24に押圧され、プローブ30と端子部16との電気的接続状態が維持される。
【0031】
また、ダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素は掻き取り屑を付着させにくい性質を有するから、被膜38は、掻き取り屑が針先に付着することを押さえるとともに、凹所36への掻き取り屑の移動を容易にし、被膜40は凹所36内における掻き取り屑の移動を容易にする。このため、プローブ30によれば、針先部34の先端の摩耗が少なくなるのみならず、掻き取り屑が針先により残存しにくくなり、針先への掻き取り屑の付着をより確実になり、針先における掻き取りくずの成長が抑止される。
【0032】
図3及び図4を参照するに、プローブ50は凹所52を有する。凹所52は、針先部34の先端側から主体部32に向けて斜め後方へ伸びて針先部34の後側に達する貫通穴であり、また針先部34に針先部34の先端側と後方側とに開口する。
【0033】
プローブ50は、また、被膜54を針先部34の外面の先端前側の部分に有するとともに、被膜54に一体的に続く被膜56を凹所52に有する。被膜54,56は、被膜38,40と同様に、ダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素から選択される材料を用いた気相エピタキャシャル成長法により形成される。
【0034】
被膜54は、針先部34の端面すなわち針先面の前側部分と、外周面の前側部分とに形成されている。被膜56は、凹所52を形成する内面の先端側の部分にだけ形成されている。しかし、被膜56を凹所52の長手方向における全内面に形成してもよい。
【0035】
プローブ50も、プローブ30と同様に、配線基板に片持ち梁状に支持され、針先を端子部16に僅かに過剰に押圧されて、僅かに反る。これにより、プローブ50の針先は、端子部16に対し前方(矢印20の方向)へ変位するとともに、配線基板の側(図においては上方)へ変位する。
【0036】
プローブ50の場合、矢印20方向への針先部34の滑りにより掻き取られた膜16の屑は、凹所52に受け入れられ、プローブ50がオーバドライブ作用を受けるたびに凹所52内を針先部の後側へ移動され、最終的に凹所52から針先部34の後方に押し出される。
【0037】
上記の結果、プローブ50も、プローブ30と同様に作用し、プローブ30と同様の効果を生じる。
【0038】
図5及び図6を参照するに、プローブ60は、複数の突出部62,64を針先部34の先端すなわち針先に有する。突出部62,64は、針先側から針先部34の軸線方向(長手方向)に見て主体部32の長手方向(前後方向)に間隔をおいている。端子部16(ひいては、配線基板)に垂直な方向における突出部62の最先端の高さ位置は、同方向における突出部64の最先端のそれより僅かに低い。
【0039】
図示の例では、突出部62,64は半球状の突部であり、また2つの突出部62,64が形成されている。しかし、突出部62,64は、針先の側から針先部34の軸線方向に見て滑り方向20とほぼ直角の方向(図1及び図2において紙面に垂直な方向)へ伸びるかまぼこ状のような他の形状を有していてもよい。また、3以上の突出部を形成してもよい。
【0040】
プローブ60は、また、先端側から主体部32に向けて斜め後方へ伸びて針先部34の後側に達する凹所66を針先部34の各側部に有する。各凹所66は、針先部34の側方と隣り合う突出部62,64間の凹所68とに開口する溝であり、また図示の例では半円形の断面形状を有する。しかし、プローブ50の凹所52と同様の凹所をプローブ60に形成してもよい。
【0041】
プローブ60は、さらに、被膜70を針先部34の先端前側の部分に有するとともに、被膜70に一体的に続く被膜72を各凹所66に有する。被膜70,72は、ダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素から選択される材料を用いた気相エピタキャシャル成長法により形成されている。
【0042】
被膜70は、突出部62のほぼ全表面範囲にわたって形成されている。被膜72は、凹所66の長手方向における全内面に形成されている。しかし、被膜70を凹所66を形成する内面の先端側の部分にだけ形成してもよい。
【0043】
プローブ60は、配線基板に対する突出部62の高さ位置が配線基板に対する突出部64のそれより僅かに低い状態に配線基板に取り付けられることを除いて、プローブ30と同様に、配線基板に片持ち梁状に支持され、針先を端子部16に僅かに過剰に押圧されて、僅かに反る。これにより、プローブ60の針先は、端子部16に対し前方(矢印20の方向)へ変位するとともに、配線基板の側(図においては上方)へ変位する。
【0044】
プローブ60の場合、膜22は、主として滑り方向20前方側の突出部62により掻き取られ、針先の滑りにともなってその一部が突出部62の後方側へ移動する。しかし、滑り方向20とほぼ直角の方向へ連続する凹所68が突出部62,64間に存在するから、掻き取り屑は、凹所68に移動し、突出部64の後方側へ移動することを突出部64により防止されて、凹所66に入り込み、最終的に凹所66の後端から針先部34の方向へ押し出される。
【0045】
プローブ60の場合、また、少なくとも最後部の突出部64が針先の滑りにともって端子部16の露出された導電性部分24に押圧され、プローブ60と端子部16との電気的接続状態が維持される。
【0046】
上記の結果、プローブ60も、プローブ30と同様に作用し、プローブ60と同様の効果を生じる。
【0047】
本発明は、上記実施例に限定されない。たとえば、ダイヤモンドまたはダイヤモンド状炭素の被膜を針先部の前端部分の一部の形成する代わりに全体に形成してもよいし、そのような被膜を針先部に形成しなくてもよい。本発明は、また、集積回路の通電試験用のプローブのみならず、液晶表示パネルのような他の平板状被検査体の通電試験用のプローブにも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るプローブの第1の実施例を示す図であって、針先部の側の部分を示す図である。
【図2】図1に示すプローブの針先の端面図である。
【図3】本発明に係るプローブの第2の実施例を示す図であって、針先部の側の部分を示す図である。
【図4】図3に示すプローブの針先の端面図である。
【図5】本発明に係るプローブの第3の実施例を示す図であって、針先部の側の部分を示す図である。
【図6】図5に示すプローブの針先部の側の部分を拡大して示す図である。
【図7】オーバドライブ時におけるプローブの反りを説明するための図である。
【図8】従来のプローブの針先部を示す図であって、(A)は針先が端子部16に僅かに過剰に押圧された後端子部に対し滑る前の状態を示す図であり、(B)は針先が端子部に対す滑った状態を示す図である。
【符号の説明】
16 集積回路の端子部
20 滑り方向を示す矢印
22 端子部に形成された膜
24 露出された導電性部分
26 掻き取り屑
30,50,60 プローブ
32 主体部
34 針先部
36,52,66 凹所
38,40,54,56,70,72 被膜
62,64 突出部
Claims (6)
- 平板状の被検査体の通電試験に用いるプローブにおいて、細長い主体部と、該主体部の一端に続きかつ前記主体部に対し曲げられた針先部とを含み、前記針先部は、その先端側から前記主体部に向けて斜め後方へ伸びて前記針先部の後側に達する1以上の凹所を有する、プローブ。
- 前記凹所は前記針先部の側方に開口する溝である、請求項1に記載のプローブ。
- 前記凹所は前記針先部の先端側と後方側とに開口する貫通穴である、請求項1に記載のプローブ。
- 前記針先部はさらに前後方向に間隔をおいた複数の突出部を針先に有し、前記凹所は隣り合う突出部の間に開口する、請求項1,2または3に記載のプローブ。
- 前記針先部は、その外面の少なくとも先端前側の部分をダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素から選択される材料により被覆されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載のプローブ。
- 前記針先部は、さらに、前記凹所の内面の少なくとも先端側の部分をダイヤモンド及びダイヤモンド状炭素から選択される材料により被覆されている、請求項5に記載のプローブ。
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