JP3771944B2 - ダイナミック型半導体記憶装置 - Google Patents

ダイナミック型半導体記憶装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3771944B2
JP3771944B2 JP18884793A JP18884793A JP3771944B2 JP 3771944 B2 JP3771944 B2 JP 3771944B2 JP 18884793 A JP18884793 A JP 18884793A JP 18884793 A JP18884793 A JP 18884793A JP 3771944 B2 JP3771944 B2 JP 3771944B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pause
refresh
address
addresses
good
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP18884793A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07141864A (ja
Inventor
大三郎 高島
英史 大場
浩明 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP18884793A priority Critical patent/JP3771944B2/ja
Publication of JPH07141864A publication Critical patent/JPH07141864A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3771944B2 publication Critical patent/JP3771944B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Dram (AREA)

Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、ダイナミック型半導体記憶装置(DRAM)に係わり、特にポーズ特性の改善をはかったDRAMに関する。
【0002】
【従来の技術】
トランジスタとキャパシタからメモリセルを構成したDRAMにおいては、セルキャパシタへの電荷の蓄積後にセルキャパシタからプレート,ワード線,基板等へ電荷がリークするため、ある一定期間内にメモリセルにデータを再書き込みする必要がある。図13(a)に一般的なDRAMのリフレッシュ動作を示す。/RASより/CASを先にアクティブにすることにより、DRAM内部で図13(b)に示すようなリフレッシュ・ロータを用いて、内部でリフレッシュアドレスを発生している。
【0003】
図14に示すように、例えば16MビットDRAMの4K/64msリフレッシュでは4096個のロウアドレスがあり、これを1個のメモリセルでも読み出し不良にならないように、64msの間で4096個のロウアドレスを選択し、全メモリセルをリフレッシュする。このリフレッシュは、最大リフレッシュ時間Tmax の間であれば、図14(a)に示すように等間隔でリフレッシュしてもよいし、(b)に示すように最後にまとめてリフレッシュしてもよい。
【0004】
一般には、1アドレスで複数のワード線を選択している。例えば図15では、1セルアレイで256本のワード線があり、1チップで64個のセルアレイのうち4つを選択するため、ロウのリフレッシュアドレスは256×64/4=4096アドレスとなる。
【0005】
ところで、DRAMの世代が進み、集積度が4倍,更にその4倍と増加していくと、チップのパワーも4倍,4倍と増加する。これを抑えるためにDRAMでは、世代毎にアクティブにするセルアレイの全体のセルアレイに占める割合を、16Mでは1/16、64Mでは1/32と減らし、結果としてアクティブになるセルアレイ数を各世代毎に2倍の範囲に抑えている。この2倍になる増加分もVccを下げたりビット線容量を減らすことで抑えている。
【0006】
しかしながら、アクティブにするセルアレイの数を1/2,更にその1/2としているために、リフレッシュアドレスの数は世代と共に2倍,2倍となり、最大リフレッシュ時間も2倍,2倍とならざるをえない。リフレッシュアドレスの数を増加させ、最大リフレッシュ時間を一定のままにすると、最大リフレッシュ時間に占める、リフレッシュしている時間の割合(Busy Rate:ビジーレート) が増加するので避けるべきである。よって、図16に示すように、最大リフレッシュ時間Tmax は世代と共に2倍で増加する。即ち、世代と共にポーズ特性は2倍向上しなくてはならない。
【0007】
ところが、メモリセルの縮小により、ポーズの特性の向上は困難なものになってきた。図17にポーズ特性の一例を示す。16MビットDRAMでは、ポーズ時間により、まず1ビットが不良となってある時間後、全ビットが不良となる。この例では16MビットDRAMチップとしては、最初に1ビットが不良となった時点がチップの最大リフレッシュ時間となる。これを、1リフレッシュアドレス当りの不良として示したのが図18である。16MビットDRAMでは4096アドレスあり、これも1アドレスでも不良となる点が最大リフレッシュ時間となる。
【0008】
このように従来の方式では、世代と共にパワーを減らすために必要とされる最大ポーズ時間は2倍,更にその2倍となるにも拘らず、メモリセルの縮小でセル容量が低下し、Vccの低下で蓄積電荷が減るためにポーズ時間はあまり伸びず、このままではポーズ時間を2倍で増加できなくなる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように従来のDRAMにおいては、世代が進んで必要とされるポーズ特性が2倍で増加するにも拘らず、メモリセルの縮少、Vccの低下でポーズ特性の改善は困難となっている。特に、ポーズ特性にばらつきがある場合、ポーズ特性が最も悪いリフレッシュアドレスで最大リフレッシュ時間が決まる。つまり、ポーズ特性の最も悪いリフレッシュアドレスで見かけ上のポーズ特性が決まることになり、この見かけ上のポーズ特性を向上させるのは非常に困難であった。
【0010】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、見かけ上のポーズ特性を向上させることができ、最大リフレッシュ時間の増大をはかり得るDRAMを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は、次のような構成を採用している。
【0012】
即ち本発明は、一定のポーズ時間内でメモリセルのリフレッシュを必要とするダイナミック型半導体記憶装置において、ポーズ特性が悪いワード線とポーズ特性が良いワード線の少なくとも一方を記憶する手段と、該手段に記憶された情報に基づいて、同一のアドレスで選択される複数のワード線間で、一定時間内のリフレッシュ回数を可変する手段とを具備してなることを特徴とする。
【0018】
【作用】
ポーズ特性が悪いリフレッシュアドレスの一定時間内のリフレッシュ回数をポーズ特性が良いリフレッシュアドレスのリフレッシュ回数より多くすることにより、DRAMチップの見かけ上のポーズ特性が最も悪いリフレッシュアドレスで決まらずに、平均して見かけ上のポーズ特性は向上し、最初にポーズ特性が悪くなるポーズ時間は従来より向上する。
【0019】
従って、最大リフレッシュ時間の増加によりビジーレートは低減でき、スタンドバイ時のリフレッシュ電流が低減できる。また、ビジーレートを同じにするとアクティブ時にアクティブにするセルアレイの数を低減でき、アクティブ電流を下げられ、さらにリフレッシュ電流も同時に低減できる。
【0020】
【実施例】
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。
【0021】
(実施例1)
図1は本発明の第1の実施例に係わるDRAMのリフレッシュ回路部構成を示すブロック図である。図中11はポーズ特性が良いワード線又は悪いワード線を記憶しておくメモリであり、このデータはDRAMの出荷時に不揮発性のメモリ(フューズなど)で記憶しておく。12はメモリ11の情報に応じてリフレッシュアドレスを決めるリフレッシュ・スキップ・ロータ、13は制御回路である。リフレッシュ・スキップ・ロータ12は、通常のカウンターではなく、任意のアドレスにスキップできるカウンタを備えている。
【0022】
この構成により、ポーズ特性が良いアドレスのリフレッシュ回数よりポーズ特性が悪いアドレスのリフレッシュ回数を増加させることにより、DRAMのチップのポーズ特性が最も悪いリフレッシュアドレスで決まらずに、見かけ上のポーズ特性は向上し、最初にポーズが悪く、不良となるアドレスのポーズ時間を従来より数倍向上できる。
【0023】
(実施例2)
図2は、本発明の第2の実施例の要部構成を示すブロック図である。図中21はポーズ特性が悪いリフレッシュアドレスを記憶するメモリ、22はメモリ21の記憶情報に応じて所定のリフレッシュアドレスをスキップするスキップ・ロータ、23は全てのリフレッシュアドレスを順次出力するリフレッシュ・ロータ、24はスキップ・ロータ22及びリフレッシュ・ロータ23の一方の出力を選択するデコーダ(セレクタ)、25は制御回路である。
【0024】
図3を用いて、本実施例の動作方式を説明する。従来の全リフレッシュ回数をXとする。例えば16MビットDRAMでは、X=4096回であり、これを図3の左側に示すようにn分割する。まず、図2のリフレッシュ・ロータ23で0アドレスから(X/n)−1アドレスまでのX−n個のカウントアップを行いリフレッシュアドレスを出す。
【0025】
ここで、図2に示すメモリ21には0からX−1アドレスまでにどのアドレスがポーズが悪いかを示すデータが格納されている。各1ビットのメモリ、計Xビットのメモリを持ち、16MビットDRAMに対してX=4096ビットのメモリのため、面積のオーバヘッドは無視できる。このビットとして、悪いアドレスを図3の右側に示すように“1”とする。この“1”の数をKとする。そして、このアドレスを用いて、0からX−1アドレスまでに“1”のデータのアドレスをスキップしながらK回リフレッシュアドレスを示す。これは、図2のスキップ・ロータ22で行う。
【0026】
次いで、再び通常のリフレッシュ・ロータ23でX/nアドレスから(2X/n)−1アドレスまで出力し、その後また悪いKビットのアドレスを出力し、これをn回実行する。図3中○数字の1〜13は動作の順番を示す。
【0027】
この様子を、図4のタイミングチャートに示す。通常のリフレッシュと悪いアドレスのリフレッシュをペアとしてn回行う。このため、全体のリフレッシュの回数は、
(X/n+K)n=X+Kn(回)
となる。これにより、同じビジーレートでは、従来の最大リフレッシュ時間をTmax とすると、ポーズ特性が悪いアドレスに必要なポーズ時間Tbad は、
Tbad ={(1+Kn/X)/n}Tmax
となり、ポーズ特性が良い(普通)アドレスに必要なポーズ時間Tgoodは、
Tgood=(1+Kn/X)Tmax
となる。例えば、X=4096,K=512,n=8のとき
Tbad ={(1+1)/8}Tmax =(1/4)Tmax
Tgood=(1+1)Tmax =2Tmax
リフレッシュ回数=2×4096回
よって従来、Tmax =64msのとき、ポーズ特性の良いアドレスは128msポーズが持てばよく、ポーズ特性の悪いアドレスは16msポーズが持てばよいことが分かる。このnとKの値はDRAMのチップ毎に最適化できる。このデータもフューズなどで記憶し、制御できるようにすればよい。
【0028】
本実施例における効果を、図5を参照してより具体的に説明する。まず、図5(a)に示すように全アドレスをポーズ特性が良いアドレスと悪いアドレスに分ける。
【0029】
次いで、図5(b)に示すように、ポーズ特性が悪いアドレスのリフレッシュ回数を増加させることにより見かけ上、ポーズ特性を上げる。逆に、ポーズ特性が良いアドレスはリフレッシュ回数が減ることにより見かけ上、ポーズ特性は悪化する。但し、縦軸がlogスケールで示されているように、ポーズ特性が良いアドレスの数が悪いアドレスの数より十分大きな場合、良いアドレスが見かけ上悪くなり、左にシフトする量は、悪いアドレスが右にシフトして良くなる量より小さくなり、良いアドレスの見かけ上の悪化は小さい。
【0030】
図5(c)はその合成後のポーズ特性を示す。図5(a)に示すように広く分散しているポーズ特性は中心にシフトしてタイトになり、最も悪いポーズで決まるポーズ特性は大幅に向上する。
【0031】
このように本実施例によれば、ポーズ特性が悪いリフレッシュアドレスのリフレッシュ回数をポーズ特性が良いリフレッシュアドレスのリフレッシュ回数より多くすることにより、DRAMチップのポーズ特性が最も悪いリフレッシュアドレスで決まらずに、平均して見かけ上のポーズ特性は向上し、最初にポーズ特性が悪くなるポーズ時間は従来より向上する。
【0032】
従って、最大リフレッシュ時間の増加によりビジーレートは低減でき、スタンドバイ時のリフレッシュ電流が低減できる。さらに、ビジーレートを同じにすると、アクティブ時にアクティブにするセルアレイの数を低減でき、アクティブ電流を下げられ、さらにリフレッシュ電流も同時に低減できる。
【0033】
(実施例3)
図6(a)は、本発明の第3の実施例の要部構成を示すブロック図である。なお、図2と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。この実施例が、第2の実施例と異なる点は、ポーズ特性が悪いアドレスを記憶するメモリと、良いアドレスを記憶するメモリの両方を持つ点にある。
【0034】
具体的には、ポーズ特性が悪いアドレスを記憶するメモリ21と共に、ポーズ特性が良いアドレスの半分と悪いアドレスを記憶するメモリ26a、ポーズ特性が良いアドレスの残り半分と悪いアドレスを記憶するメモリ26bが設けられている。メモリ21の情報は第1のスキップ・ロータ22aに供給され、メモリ26a,26bの情報は第2のスキップ・ロータ22bに供給される。そして、デコーダ24にてスキップ・ロータ22a,22bのいずれかの出力が選択されてリフレッシュアドレスが出力されるものとなっている。
【0035】
なお、図6(a)では、ポーズ特性が良いアドレスの半分と悪いアドレスを記憶するメモリが2個とポーズが悪いアドレスを記憶するメモリの例を示しているが、図6(b)に示すように、ポーズ特性が良いアドレスを記憶するメモリ28とポーズ特性が悪いアドレスを記憶するメモリ21を設け、これらの論理を取ってもよい。この場合、Aからはポーズ特性の悪いアドレスが出力され、Bからはポーズ特性の良いアドレスの半分と悪いアドレスが出力され、Cからはポーズ特性の良いアドレスの残り半分と悪いアドレスが出力される。
【0036】
図7を用いて、本実施例の動作方式を説明する。全アドレスXをn分割したアドレス数X/nの間に、ポーズ特性が普通のアドレス,良いアドレスの半分,悪い全アドレスをリフレッシュする。これを2n回実行する。詳述するとポーズ特性が良いアドレス数Ng を2分割し、図7に示すようにメモリ26aにはポーズ特性が良いアドレスの半分を“1”として、メモリ26bにもポーズ特性が良いアドレスの残り半分を“1”とする。次にさらに、メモリ26a,26bにポーズ特性が悪いアドレス数Nb を“1”として入れる。
【0037】
そしてまず、(X/n−Nb )回だけメモリ26aから“1”をスキップして“0”だけカウントするように、スキップ・ロータ22をカウントアップする。即ち、ポーズ特性が普通のアドレスとポーズ特性が良いアドレスの半分に値するものをリフレッシュする。次に、Nb 回ポーズ特性が悪いアドレスをメモリ21を用いてリフレッシュする。このとき、“0”をスキップして“1”だけカウントするように、スキップ・ロータ22aをカウントアップする。そして、合計X/n回リフレッシュする。
【0038】
次に、メモリ26aのロータに戻って同じことをする。n回終った後、今度はポーズ特性が良いアドレスの残り半分をスキップするメモリ26bを用いて同様のことを行う。
【0039】
結果としてポーズ特性が良いアドレスは図8に示すように、2n回に1回、即ち必要なポーズ時間の従来の2倍、2×Tmax となる。ポーズが普通のアドレスは従来通りTmax 時間、ポーズが悪いアドレスはTmax /nに短縮される。
【0040】
この効果を図9に示す。まず、図9(a)に示すように、広いポーズ分布に対して良い,悪い,普通のアドレスを3分割する。そして、図9(b)に示すように、悪いアドレスを見かけ上良くし、良いアドレスを見かけ上悪くする。結果として、図9(c)に示すように、分布幅の小さい分布となる。よって、最も悪いポーズで決まるポーズ時間を大幅に長くすることができる。
【0041】
この第3の実施例は、第2の実施例と比べるとリフレッシュアドレスのメモリの量は2倍になるものの、次のような利点がある。即ち、第2の実施例ではポーズ特性が良いアドレスを図5(b)に示すように左に分布をシフトするため、シフトした左端でポーズの時間が決まる可能性があるが、図9の(b)に示すように第3の実施例ではポーズが良い分の分布が左にシフトしてもポーズが普通のアドレスより悪くならなければ、上記のデメリットはなくなる。
【0042】
(実施例4)
図10は、本発明の第4の実施例に係わるDRAMの効果を説明するための図である。この実施例では図10(a)に示すように、ポーズの分布を、ポーズ特性が非常に悪い,悪い,普通,良い,非常に良いの5分割している。そして、非常に悪い,悪いを図10(b)に示すように右にシフトし、良い,非常に良いを図10(c)に示すように左にシフトしている。その結果、図10(d)に示すように、第2,第3の実施例よりさらにポーズ分布幅を狭くでき、ポーズ特性を良くできる。
【0043】
このようにポーズ分布を多数個に分割することにより、ポーズ特性を更に改善することが可能となる。
【0044】
(実施例5)
図11は、本発明の第5の実施例に係わるDRAMの構成を示す図である。なお、図中50はDRAMチップ、51はカラムデコーダ、52はロウデコーダ、53は周辺回路であり、また斜線部54は1セルアレイを示している。
【0045】
これまでの実施例は1リフレッシュアドレスで、例えば前記図15に示すように、4つのブロックで等価な位置に相当する4本のWL(ワード線)を立ててリフレッシュしていたのであるが、これを図11に示すように、各々のブロック毎にワード線選択する位置を変えて別のワード線にする。即ち、ワード線単位で悪いワード線を多くリフレッシュし、良いワード線を少なくリフレッシュすることにより、ポーズ特性を見かけ上良くする。
【0046】
例えば、ある時間tでチップの1ビットが不良となっている確率をf(t)とすると、ロウ=mアドレス、カラム=nアドレス、計m×n=1チップのビット数とすると、1アドレスが不良となっている確率Fa は、
Fa =1−(1−f(t))n
であるが、図11のように1アドレスでSワード線選択するものだと、ワード線単位では
Fw =1−(1−f(t))n/s
となり、図12に示すように不良数が低減できる。よって、1ワード線当りで、先の第1〜第4の実施例を行うと、更にポーズ特性は良くなる。
【0047】
なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができる。
【0048】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、ポーズ特性が悪いワード線の一定時間内のリフレッシュ回数をポーズ特性が良いワード線のリフレッシュ回数より多くすることにより、見かけ上のポーズ特性を向上させることができ、最大リフレッシュ時間の増大をはかり得るDRAMを実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施例に係わるDRAMのリフレッシュ回路部構成を示すブロック図。
【図2】第2の実施例の要部構成を示すブロック図。
【図3】第2の実施例のカウンタ動作を説明するための模式図。
【図4】第2の実施例におけるリフレッシュのタイミングを示す図。
【図5】第2の実施例の効果を説明するための模式図。
【図6】第3の実施例の要部構成を示すブロック図。
【図7】第3の実施例のカウンタ動作を説明するための模式図。
【図8】第3の実施例におけるリフレッシュのタイミングを示す図。
【図9】第3の実施例の効果を説明するための模式図。
【図10】第4の実施例の効果を説明するための模式図。
【図11】第5の実施例に係わるDRAMの概略構成を示す図。
【図12】第5の実施例におけるポーズ特性向上を示す図。
【図13】従来のDRAMのリフレッシュ動作及び内部リフレッシュアドレス発生を示す図。
【図14】従来のDRAMにおけるリフレッシュ動作のタイミングを示す図。
【図15】従来のリフレッシュ時のDRAMのワード線の選択方法を示す図。
【図16】DRAMの世代によるリフレッシュ時間とリフレッシュ回数の関係を示す図。
【図17】従来のDRAMのポーズ特性を示す図。
【図18】1リフレッシュアドレス当りの従来の不良率を示す図。
【符号の説明】
11,21,26a,26b,28…メモリ
12…リフレッシュ・スキップ・ロータ
13,25…制御回路
22,22a,22b…スキップ・ロータ
23…リフレッシュ・ロータ
24…セレクタ(デコーダ)
27…カウンタ
50…DRAMチップ
51…カラムデコーダ
52…ロウデコーダ
53…周辺回路
54…1セルアレイ

Claims (1)

  1. 一定のポーズ時間内でメモリセルのリフレッシュを必要とするダイナミック型半導体記憶装置において、
    ポーズ特性が悪いワード線とポーズ特性が良いワード線の少なくとも一方を記憶する手段と、1つのリフレッシュアドレスに対して複数のワード線が選択され、且つリフレッシュアドレスの1周期に対して、ポーズ特性が良いワード線よりもポーズ特性が悪いワード線の方が多い回数選択されるように、前記記憶手段に記憶された情報に基づいて各リフレッシュアドレスに対してワード線を対応付ける手段とを具備してなることを特徴とするダイナミック型半導体記憶装置。
JP18884793A 1993-06-30 1993-06-30 ダイナミック型半導体記憶装置 Expired - Fee Related JP3771944B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18884793A JP3771944B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 ダイナミック型半導体記憶装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18884793A JP3771944B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 ダイナミック型半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07141864A JPH07141864A (ja) 1995-06-02
JP3771944B2 true JP3771944B2 (ja) 2006-05-10

Family

ID=16230888

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18884793A Expired - Fee Related JP3771944B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 ダイナミック型半導体記憶装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3771944B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6272588B1 (en) * 1997-05-30 2001-08-07 Motorola Inc. Method and apparatus for verifying and characterizing data retention time in a DRAM using built-in test circuitry
KR100443791B1 (ko) * 2000-12-29 2004-08-09 주식회사 하이닉스반도체 리플래쉬 기능을 갖는 반도체 메모리 소자
KR100468720B1 (ko) * 2002-03-08 2005-01-29 삼성전자주식회사 메모리 셀들의 리프레쉬 방법 및 리프레쉬 제어회로
KR100479821B1 (ko) * 2002-05-17 2005-03-30 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치의 리프레쉬 제어회로 및 리프레쉬 제어방법
US7095669B2 (en) * 2003-11-07 2006-08-22 Infineon Technologies Ag Refresh for dynamic cells with weak retention
KR100655288B1 (ko) 2004-11-16 2006-12-08 삼성전자주식회사 셀프-리프레쉬 동작을 제어하는 로직 엠베디드 메모리 및그것을 포함하는 메모리 시스템
KR101977665B1 (ko) * 2012-07-12 2019-08-28 삼성전자주식회사 리프레쉬 주기를 조절하는 반도체 메모리 장치, 메모리 시스템 및 그 동작방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07141864A (ja) 1995-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4353331B2 (ja) 半導体記憶装置
US11935576B2 (en) Semiconductor device performing row hammer refresh operation
US8885432B2 (en) Semiconductor device that performs refresh operation
US6262935B1 (en) Shift redundancy scheme for wordlines in memory circuits
US20050105362A1 (en) Semiconductor memory device for performing refresh operation
US5991218A (en) Dynamic random access memory
US5777921A (en) Non-volatile semiconductor memory device
US20060104139A1 (en) Method of refreshing a memory device utilizing PASR and piled refresh schemes
US5329490A (en) Dynamic semiconductor memory with refresh function
US20050060488A1 (en) Self-refresh system and method for dynamic random access memory
JP4191018B2 (ja) 半導体記憶装置のリフレッシュ制御方式
US20230207040A1 (en) Semiconductor memory devices and methods of operating semiconductor memory devices
US6807121B2 (en) Semiconductor memory device for realizing external 8K Ref/internal 4K Ref standard without lengthening the refresh cycle
US6212121B1 (en) Semiconductor memory device with multiple sub-arrays of different sizes
US5966316A (en) Semiconductor memory device having storage capacity of 22N+1 bits
JP3771944B2 (ja) ダイナミック型半導体記憶装置
US20030081485A1 (en) Semiconductor memory device
US6775177B2 (en) Semiconductor memory device switchable to twin memory cell configuration
US7675767B2 (en) Semiconductor memory device for achieving high reliability without increasing process complexity and cost
US6529435B2 (en) Semiconductor memory device
US8355270B2 (en) Semiconductor device having open bit line architecture
US10741235B2 (en) Refresh address controlling scheme based on refresh counter and mask circuit
US20080298153A1 (en) Semiconductor memory device
US5537347A (en) Dynamic semiconductor memory device
US7797511B2 (en) Memory refresh system and method

Legal Events

Date Code Title Description
A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060213

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees