JP3771050B2

JP3771050B2 - Control system

Info

Publication number: JP3771050B2
Application number: JP16816098A
Authority: JP
Inventors: 克彦松田; 和久中間; 重典戸舘
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1997-06-20
Filing date: 1998-06-16
Publication date: 2006-04-26
Anticipated expiration: 2018-06-16
Also published as: JPH1174170A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体製造装置、液晶パネル製造装置等の製造装置を制御するシステムに係り、特に複数の基板処理装置を一元管理する機能を持つた制御システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体ウエハや液晶パネル等の製造システムの大規模化により、被処理基板に対して成膜処理、エッチング処理、熱酸化処理等の処理（プロセス）を行う多数の処理装置を一元管理する要求が益々高まっている。
【０００３】
複数の処理装置を一元管理する機能を持った従来の制御システムによると、被処理基板に対して各種処理を行う処理装置は、ＥＣＣ制御部によって個別に制御される。ＥＣＣ制御部は、ホストコンピュータとの論理的なインターフェイス手段であるＨＣＩを有し、このＨＣＩによって、ホストコンピュータとの間での各種データのやりとりがＴＣＰ／ＩＰ等のデータ伝送系を通じて行われる。ホストコンピュータは、各処理装置のＥＣＣ制御部との間で各種データのやりとりを通じて各処理装置のトラッキング処理を行うとともに、各処理装置より受信したプロセスデータをデータベースに履歴として蓄積し、その内容をモニタに表示したり、そのプロセスデータに基づいて処理装置の各種パラメータ捕正や異常検出などを行う。
【０００４】
各処理装置のＥＣＣ制御部からポストコンピュータへのプロセスデータ転送の際、ＨＣＩは、ＥＣＣ制御部にて生成された全プロセスデータの中からトラッキング処理、パラメータ補正、異常検出等に最低限必要とされる一部の種類のデータだけを選択してポストコンピュータに送信する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような制御システムによる一元管理方式では、ポストコンピュータに蓄積されるプロセスデータが限定されることになり、モニタに表示されたプロセスデータから各処理装置の状態として獲得できる情報も制限されたものとなる。また、処理装置の経年的な特性の劣化状態を反映したプロセスデータの変化等は、モニタに表示されたプロセスデータを単に参照しただけでは発見できない場合が多い。このような事情から、処理装置の異常や特性劣化を確実且つ早期に発見することは現実的に難しいという問題があった。
【０００６】
本発明は、より詳細なプロセスデータの集中モニタリングを実現して、処理装置の異常や特性劣化の早期発見に寄与することのできる制御システムを提供することを目的としている。
【０００７】
また、本発明は、各処理装置のより詳細な一元管理を実現して保守性の向上を図れる制御システムの提供を目的としている。
【０００８】
また、本発明は、プロセスデータの解析結果を通しての各処理装置の詳細な一元管理を実現して、処理装置の異常や特性劣化の早期発見に寄与することのできる制御システムの提供を目的としている。
【０００９】
本発明は、各処理装置のプロセス条件の自動的な最適化を実現した制御システムを提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明は、基板に対して所定の処理を行う複数の処理装置を個別に制御する複数の制御装置であって、当該制御装置の各々で生成された全てのプロセスデータの中から予め設定された一部の種類のプロセスデータだけを送信する第１のインターフェースと、前記制御装置の各々で生成された全てのプロセスデータを送信する第２のインターフェースを具備した制御部を有する制御装置と、前記制御装置の各々で生成され前記第２のインターフェースによって送信された全てのプロセスデータを取り込んで蓄積する蓄積部を有するサーバ装置と、前記サーバ装置から前記蓄積されたプロセスデータを取り込み編集する編集部と、編集データを表示する表示部を有するクライアント装置を含むコントロール装置とにより構成される制御システムを提供する。
【００１１】
すなわち、この発明において、コントロール装置のサーバ装置は各制御装置から取り込んだプロセスデータを蓄積する。クライアント装置はサーバ装置に蓄積されているプロセスデータを取り込み、これを自クライアント装置上で利用可能な形式のデータに変換して表示する。サーバ装置に蓄積されているプロセスデータは、各処理装置のほぼ全てのプロセスデータであり、従来のホストコンピュータ上でプロセスデータを集中モニタリングする方式に比べ、より詳細なプロセスデータの集中モニタリングが可能となり、処理装置の異常や特性劣化を早期に発見することが可能となる。また、プロセスデータを収集、表示するコントロール装置のハードウェアをサーバ装置とクライアント装置とに分離し、プロセスデータの収集、表示のための制御負荷を分散化したことで、接続可能な処理装置数を増加することができる。
【００１２】
また、本発明は、複数のグループに分けられ、基板に対して所定のプロセスを行う複数の処理装置をホストコンピュータと関連して個別に制御する複数の制御装置であって、当該制御装置の各々で生成された全てのプロセスデータの中から予め設定された一部の種類のプロセスデータだけを送信する第１のインターフェースと、前記制御装置の各々で生成された全てのプロセスデータを送信する第２のインターフェースを具備した制御部を有する制御装置と、処理装置のグループ毎に対応して設けられ、制御装置の各々で生成され前記第２のインターフェースによって送信された全てのプロセスデータを取り込んで蓄積する蓄積部を有する複数のサーバ装置と、これらサーバ装置から蓄積されたプロセスデータを取り込み編集する編集部と、編集データを表示する表示部を有するクライアント装置とを含むコントロール装置とにより構成される制御システムを提供する。
【００１３】
さらに、本発明は、基板に対する所定のプロセスを行う複数の処理装置を個別に制御する複数の制御装置と、前記制御装置の各々で生成された一部のプロセスデータに基づいて前記制御装置を制御するホストコンピュータと、同一のプロセス条件が設定された処理装置のグループ毎に対応して設けられ、各制御装置で生成されたほぼ全てのプロセスデータを取り込んで蓄積する手段を有する複数のサーバ装置と、前記サーバ装置から前記蓄積されたプロセスデータを取り込み、編集するクライアント装置と、編集データを表示する手段とを有するクライアント装置を含むコントロール装置とを具備する制御システムを提供する。
【００１４】
本発明によれば、プロセスデータを蓄積するサーバ装置を、予め決められた処理装置のグループ毎、例えば同一のプロセス条件が設定された処理装置毎に設けたことで、接続可能な処理装置数をさらに増加させることができるとともに、個々のサーバ装置の機能をバージョンアップしたり保守点検を行う際に、他のサーバ装置の管理下にある処理装置群の動作を止める必要がなくなる。
【００１５】
本発明は、被処理基板に対する所定のプロセスを行う複数の処理装置を個別に制御する複数の制御装置と、各制御装置より受信したプロセスデータに基づいて各制御装置を制御するホストコンピュータと、各制御装置より受信したプロセスデータを収集し、前記収集したプロセスデータを解析し、解析の結果を出力するコントロール装置とを具備し、個々の制御装置は、プロセスデータを生或する手段と、生成されたプロセスデータの中から予め設定された一部のプロセスデータをホストコンピュータに送信する手段と、生成された全てのプロセスデータを前記コントロール装置に送信する手段を有する、制御システムを提供する。
【００１６】
すなわち、この発明において、コントロール装置は各処理装置の制御装置で生成された全てのプロセスデータを解析してその結果を出力するので、従来のホストコンピュータ上で一部のプロセスデータを集中モニタリングする方式に比べ、各処理装置の状態として掴み得る情報の幅が広がり、各処理装置の状態の経時的な変化も早期に発見することができる。
【００１７】
また、本発明は、被処理基板に対する所定のプロセスを行う複数の処理装置を個別に制御する複数の制御装置と、各制御装置より受信したプロセスデータに基づいて各制御装置を制御するホストコンピュータと、各制御装置より受信したプロセスデータを収集し、前記収集したプロセスデータを解析し、前記解析の結果に基づいて各処理装置のプロセス条件を更新するコントロール装置とを具備し、前記個々の制御装置は、プロセスデータを生成する手段と、前記生成されたプロセスデータの中から予め設定された一部のプロセスデータを前記ホストコンピュータに送信する手段と、前記生成された全てのプロセスデータを前記コントロール装置に送信する手段とを有する、制御システムを提供する。
【００１８】
この発明は、各制御装置にて生成された全てのプロセスデータの解析結果に基づいてプロセス条件を更新する手段をさらに設けたことによって、各処理装置の経時的な特性の変動をも考慮した様々な観点から最適なプロセス条件を自動的に得ることが可能となり、プロセス条件設定のための人為的な試行錯誤を不要なものとすることができる。
【００１９】
さらに、本発明は、被処理基板に対する所定のプロセスを行う複数の処理装置を個別に制御する複数の制御装置と、各制御装置より受信した一部のプロセスデータに基づいて各制御装置を制御するホストコンピュータと、各制御装置より受信したプロセスデータを収集し、前記収集したプロセスデータを解析し、前記解析の結果を出力し、前記収集したプロセスデータで前記ホストコンピュータのプロセスデータ受信不能期間の欠落プロセスデータを補填するコントロール装置とを具備し、前記個々の制御装置は、プロセスデータを生成する手段と、前記生成されたプロセスデータの中から予め設定された一部のプロセスデータを前記ホストコンピュータに送信する手段と、前記生成された全てのプロセスデータを前記コントロール装置に送信する手段を有する、制御システムを提供する。
【００２０】
本発明は、コントロール装置で収集したプロセスデータでホストコンピュータのプロセスデータ受信不能期間の欠落プロセスデータを補填する手段をさらに設けたことで、ホストコンピュータはダウン状態から復旧した直後より、各処理装置の制御装置に対する制御を直ちに再開することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面に基づいて説明する。
【００２２】
本発明に係る制御システムは、例えば次のような複合プロセス型の半導体ウエハ製造装置等に適用される。
【００２３】
図１に示すように、この半導体ウエハ製造装置は、半導体ウエハに対して各種の処理例えばＣＶＤ処理またはスパッタリング処理やエッチング処理や熱酸化処理等を行う複数例えば３つののプロセスチャンバ１、２、３と、多数枚例えば２５枚のウエハＷを収納できるカセットＣ１、Ｃ２を収容するカセットチャンバ４、５と、プロセスチャンバ１、２、３とカセットチャンバ４、５との間でウエハＷの受け渡しを行う搬送チャンバ６とを備えて構成される。各チャンバ間はゲートバルブＧを介して開閉自在に連結されている。搬送チャンバ６内には、屈伸動作及び回転動作が可能な例えば多関節式の搬送アーム７が設けられており、この搬送アーム７によりチャンバ間でのウエハＷの搬送が行われる。カセットＣ１、Ｃ２はカセットチャンバ４、５内に取り込まれる際に９０度反転されると共にそのカセットＣ１、Ｃ２のウエハ挿脱口が搬送チャンバ６内の中心を向くように回転され、以て搬送アーム７によるウエハＷの出し入れが可能な姿勢に設置される。図２に示す制御システムによると、処理装置１１（１１−１〜１１−Ｎ）は、例えばＣＶＤ処理またはスパッタリング処理、エッチング処理、熱酸化処理等の被処理基板に対する各種処理を行い、ＥＣＣ制御部１２（１２−１〜１２−Ｎ）は各処理装置１１の上位制御系であり、ＭＣ（マシンコントローラ）１０（１０−１〜１０−Ｎ）は各処理装置１１の下位制御系である。
【００２４】
図３に示すように、ＥＣＣ制御部１２は、ホストコンピュータ１５との論理的なインターフェイス手段であるＨＣＩ（Host Communication Interface）１３を有し、このＨＣＩ１３によって、ホストコンピュータ１５との間での各種データのやりとりがＴＣＰ／ＩＰ等のデータ伝送系１４を通じて行われる。また、ＥＣＣ制御部１２は、アドバンスド・グループ・コントローラ（以下、ＡＧＣと称す）１７との論理的なインターフェイス手段であるＲＡＰ（Remote Agent Process）１６を有し、このＲＡＰ１６によってＡＧＣ１７との間での各種データのやりとりがデータ伝送系１４を通じて行われる。
【００２５】
ここで、プロセスデータ転送に係るＨＣＩ１３とＲＡＰ１６の機能の違いについて説明する。
【００２６】
ＨＣＩ１３は、ＥＣＣ制御部１２にて処理装置１１から得た全てのプロセスデータの中から予め設定された一部の種類のプロセスデータだけを選択してホストコンピュータ１５に送信する。すなわち、図３において、メモリ１８はＥＣＣ制御部１２にて生成された全プロセスデータを一時的に蓄積し、ＨＣＩ１３は、このメモリ１８から予め設定された一部の種類のプロセスデータ（データ１，３）を取り出してＨＣＩ送信バッファ１９に書き込み、ＨＣＩ送信バッファ１９の内容をまとめてホストコンピュータ１５に送信する。また、ＨＣＩ１３は、ＥＣＣ制御部１２で生成されたステータスデータなどもホストコンピュータ１５に送信する。
【００２７】
ＲＡＰ１６は、ＥＣＣ制御部１２にて処理装置１１から得た全てのプロセスデータを無条件にＡＧＣ１７に送信する。すなわち、ＲＡＰ１６は、ＥＣＣ制御部１２内のプロセスデータ蓄積用メモリ１８に蓄積されたプロセスデータを先頭から順次読み出し、そのデータ構造のままＡＧＣ１７に転送する。但し、データの順番を並び換えたり、ごく一部のデータを排除する程度の操作をここで行ってもよい。
【００２８】
ホストコンピュータ１５は、各処理装置１１のＥＣＣ制御部１２との間での各種データをやりとりを通じて各処理装置１１のトラッキング処理を行うなど各処理装置１１の全体的な動作制御を行う。
【００２９】
ＡＧＣ１７は、各処理装置毎のレシピ（プロセス条件値）の集中管理やレシピに基づく各処理装置１１のプロセスコントロールをはじめとして、各処理装置１１から得られる全てのプロセスデータを対象に、その解析処理、統計処理、プロセスデータやその解析／統計結果の集中モニタリング処理、更には解析／統計結果をレシピに反映させる処理等を行う。
【００３０】
ＡＧＣ１７はＡＧＣサーバ１７ａとＡＧＣクライアント１７ｂから構成されている。ＡＧＣサーバ１７ａの通信Ｉ／Ｆ（インターフェース部）２１は、各処理装置１１のＥＣＣ制御部１２およびＡＧＣクライアント１７ｂとの間でデータ伝送系１４を通じて各種テータを送受信する。ＥＱＭ制御部２２は、予め定義されたプロセス条件と各処理装置１１から得られるプロセスデータに基づいて処理装置毎のプロセスの各種パラメータの補正を行うとともに、受信したパラメータをデータベース２３へ格納し、ＡＧＣクライアント１７ｂに転送すべきプロセスデータをデータベース２３から検索する処理等を主に行う。
【００３１】
ＡＧＣクライアント１７ｂには、ＡＧＣサーバ１７ａより転送されてきたプロセスデータの解析処理および統計処理を行うデータ解析部２５と、取り込んだプロセスデータやその解析結果等をクライアントユーザが利用し、加工できる形式のデータに変換するデータ変換部２６と、変換データをモニタ等に表示するデータ表示部２７と、被処理基板上の膜厚等の測定データを含むプロセスデータの解析結果に基づいてレシピ（プロセス条件）を最適化するように更新するレシピ修正部２８等の機能が用意されている。
【００３２】
次に、このシステムの動作をＡＧＣの関与する動作を中心に説明する。
【００３３】
まず、各処理装置１１のＥＣＣ制御部１２は、ＡＧＣ１７によるプロセスコントロールの下で、対応する処理装置１１を制御して被処理基板に対する処理を実行させる。
【００３４】
個々のＥＣＣ制御部１２にて処理装置１１から得たプロセスデータは、図３に示したプロセスデータ蓄積用メモリ１８に書き込まれる。プロセスデータ蓄積用メモリ１８に書き込まれたプロセスデータは、その外部転送に係る論理的なインターフェイス手段であるＨＣＩ１３とＲＡＰ１６によって、ＴＣＰ／ＩＰ等のデータ伝送系１４の独立したチャンネルを通じてホストコンピュータ１５とＡＧＣ１７に転送される。
【００３５】
ここで、ＨＣＩ１３は、プロセスデータ蓄積用メモリ１８に保持されたすべてのプロセスデータの中から予め設定された一部の種類のプロセスデータだけを引き出してＨＣＩ送信バッファ１９に書き込み、ＨＣＩ送信バッファ１９の内容をデータ伝送系１４を通じてホストコンピュータ１５に送信する。一方、ＲＡＰ１６は、プロセスデータ蓄積用メモリ１８から全てのプロセスデータを読み出してＡＧＣ１７に転送する。
【００３６】
ＡＧＣ１７（ＡＧＣサーバ１７ａ）は、各処理装置のＥＣＣ制御部１２のＲＡＰ１６によって送信されたプロセスデータを受信し、このプロセスデータをデータベース２３に蓄積するとともにこのプロセスデータとレシピデータから各処理装置のパラメータ補正値を生成してこれをＥＣＣ制御部１２に送信することによってプロセスコントロールを行う。
【００３７】
また、ＡＧＣサーバ１７ａは、ＡＧＣクライアント１７ｂからプロセスデータ転送要求を受けると、データベース２３から該当するプロセスデータを読み出し、通信Ｉ／Ｆ２１を通じてＡＧＣクライアント１７ｂに送信する。ＡＧＣクライアント１７ｂに転送されたプロセスデータは、データ変換部２６にてクライアントユーザが利用し、加工できる形式のデータに変換され、データ表示部２７によってモニタに表示される。さらに、ＡＧＣクライアント１７ｂに転送されたプロセスデータは、データ解析部２５にて解析および統計処理され、その解析結果はデータ変換部２６にてプロセスデータと同様にユーザ利用可能な形式のデータに変換され、モニタに表示される。これによりＡＧＣクライアント１７ｂ上での基板処理システム全体の一元管理が実現される。
【００３８】
また、ＡＧＣクライアント１７ｂのデータ解析部２５は、プロセスデータの解析結果から処理装置の異常検出や異常予測を行い、異常を検出した場合および予測した場合は、その旨をデータ表示部２７を通してモニタに出力するとともにＡＧＣサーバ１７ａに通知する。この通知に従ってＡＧＣサーバ１７ａは、例えば、異常検出或いは異常予測された処理装置１１を制御しているＥＣＣ制御部１２に対して処理装置の停止を指示するなどの制御を行う。
【００３９】
さらに、ＡＧＣクライアント１７ｂのレシビ修正部２８は、基板上の膜厚測定結果等の測定データを含むプロセスデータに対する解析結果からレシビ（プロセス条件）を最適化するための修正処理を行う。
【００４０】
また、本実施形態では、ホストコンピュータ１５がダウンした場合にＡＧＣＩ７によるプロセスデータのスプーリング処理が行われる。すなわち、ホストコンピュータ１５は、復旧後、ダウン期間のプロセスデータをＡＧＣから直ちに取り込むことができる。これにより、ホストコンピュータ１５による各処理装置１１のトラッキング処理を復旧後直ちに再開することができる。
【００４１】
次に、上記制御システムにおいてレシピデータを編集して処理を実行する動作を図５を参照して説明する。
【００４２】
まず、ＡＧＣクライアント１７ｂはＡＧＣサーバ１７ａを介してデータベース２３に対してレシピデータの読み込みを行う。データベースから読み出されたレシピデータがクライアント１７ｂに送られると、クライアント１７ｂはレシピデータの編集を行う。編集処理が終了すると、クライアント１７ｂは編集済みのレシピデータをデータペース２３に書き込む。これによりデータベース２３のレシピデータが更新される。
【００４３】
一方、ホストコンピュータ１５が処理装置１１−１に対して処理開始命令、例えば処理に対応するレシピＩＤ情報を出すと、処理装置１１−１のＥＣＣ制御部１２−１はＡＧＣサーバ１７ａのＥＱＭ２２にレシピＩＤ情報に対応するレシピデータを要求する。ＡＧＣサーバ１７ａはこの要求に対してＡＧＣサーバのデータベース２３からレシピデータを読み出し、処理装置１１−１のＥＣＣ制御部１２−１に転送する。処理装置１１−１は送られたレシピデータに従って所定の処理を実行する。このとき、処理装置１１−１のＥＣＣ制御部１２−１は処理実行中に発生する実際の処理データを保存する。
【００４４】
なお、処理装置１１−１のＥＣＣ制御部１２−１に転送されたレシピデータを処理装置１１−１と同じ処理を行う他の処理装置にコピーすることができ、このコピーされたレシピデータに従って他の処理装置、例えば処理装置１１−２，１１−３は処理装置１１−１と同じレシピデータに従って処理を実行することができる。従って、処理装置１１−１〜１１−３はＡＧＣサーバにより一括管理できる。
【００４５】
上記実施形態では、データベース２３に格納されたレシピデータに従って処理が行われているが、データベース２３を使用しない実施形態での制御システムの動作を図６を参照して説明する。
【００４６】
この実施形態では、ＡＧＣクライアント１７ｂがＡＧＣサーバ１７ａを介して例えば処理装置１１−１のＥＣＣ制御部１２−１にレシピ要求を行う。ＥＣＣ制御部１２−１は要求に応じて保存しているレシピデータをＡＧＣサーバ１７ａを介してクライアント１７ｂに転送する。レシピデータを受けたクライアント１７ｂはレシピデータに対して編集処理を行う。レシピデータの編集が終わると、クライアアント１７ｂはＡＧＣサーバ１７ａを介して処理装置１１−１のＥＣＣ制御部１２−１にレシピデータの登録要求を出す。ＥＣＣ制御部１７ａはレシピデータを登録すると共にタイムスタンプを記録する。
【００４７】
次に、同じ編集レシピデータを他の処理装置１１−２のＥＣＣ制御部１２−２にコピーするためにＥＣＣ制御部１２−２に登録要求をする。ＥＣＣ制御部１２−２はこの登録要求に対してＡＣＫを出すと、ＡＧＣサーバ１７ａはレシピデータの登録を行う。
【００４８】
上記のようにしてレシピデータが編集された後に、ホストコンピュータ１５から処理実行命令を例えば処理装置１１−１に出すと、処理装置１１−１のＥＣＣ制御部１２−１はレシピ実行承認要求をＡＧＣサーバ１７ａに送る。ＡＧＣサーバ１７ａはタイムスタンプをチェックし、ＥＣＣ制御部１２−１に対して実行承認ＡＣＫを送る。これにより、処理装置１１−１はレシピデータに従って処理を実行する。この処理実行により発生する実際データはＥＣＣ制御部１２−１に逐次保存される。
【００４９】
以上説明したように、本実施形態の制御システムによれば、各処理装置から得られる全て或いはほぼ全ての詳細なプロセスデータをＡＧＣ１７に取り込んで集中モニタリングすることができるので、各処理装置の状態として掴むことのできる情報の幅が広がり、処理装置の異常や劣化状態をより詳細かつ早期に発見することができる。また、各処理装置から得られる全て或いはほぼ全ての詳細なプロセスデータを解析してその解説結果を集中モニタリングすることができるので、各処理装置の状態の経時的な変化を早期に発見することができる。これにより、多数の処理装置からなる製造システムの保守信頼性を高めることが可能となる。また、本実施形態では、基板上の膜厚測定結果等の測定データを含む詳細なプロセスデータに対する解析結果や統計結果からレシピにおける各データをより好ましい値に更新することによって、各処理装置の経時的な特性の変動をも考慮した様々な観点から最適なプロセス条件を自動的に得ることが可能となり、信頼性の向上を図ることができる。
【００５０】
さらに、ＡＧＣ１７をハード的にプロセスデータ収集用のＡＧＣサーバ１７ａと、そのプロセスデータを実際に運用するＡＧＣクライアント１７ｂとに別けたことで、各々の制御負荷が分散され、より多数の処理装置を接続した構成においても性能が低下することがなくなる。
【００５１】
なお、以上説明した実施形態において、ＡＧＣ１７は一台のＡＧＣサーバ１７ａと一台のＡＧＣクライアント１７ｂとで構成したが、処理装置の接続数がさらに増大した場合、ＡＧＣサーバ１７ａの負荷が非常に大きくなることが予想される。そこで、図４に示すように、機能例えばレシピの種類毎にＡＧＣサーバ１７ａ（１７ａ−１〜１７ａ−Ｍ）を設ける形態をとる方式が考えられる。このような形態をとった場合、個々のＡＧＣサーバの機能をバージョンアップしたり保守点検を行う際に、他のＡＧＣサーバの管理下にある処理装置群の動作を止める必要がなくなり、システム全体の処理効率を高めることが可能となる。
【００５２】
さらに、本発明の制御システムによれば、従来のホストコンピュータ上でプロセスデータを集中モニタリングする方式に比べ、より詳細なプロセスデータの集中モニタリングが可能となり、処理装置の異常や特性劣化を早期に発見することが可能となる。また、プロセスデータを収集、表示するコントロール装置のハードウェアをサーバ装置とクライアント装置とに分離し、プロセスデータの収集、表示のための制御負荷を分散化したことで、接続可能な処理装置数を増加することができる。
【００５３】
また、本発明の制御システムによれば、プロセスデータを蓄積するサーバ装置を、予め決められた前記処理装置のグループ毎、例えば同一のプロセス条件が設定された処理装置毎に設けたことで、接続可能な処理装置数をさらに増加させることができるとともに、個々のサーバ装置の機能をバージョンアップしたり保守点検を行う際に、他のサーバ装置の管理下にある処理装置群の動作を止める必要がなくなる。
【００５４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の制御システムによれば、コントロール装置は各処理装置の制御装置で生成された全てのプロセスデータを解析してその結果を出力するので、従来のホストコンピュータ上で一部のプロセスデータを集中モニタリングする方式に比べ、各処理装置の状態として掴み得る情報の幅が広がり、各処理装置の状態の経時的な変化も早期に発見することができる。
【００５５】
また、各制御装置にて生成された全てのプロセスデータの解析結果に基づいてプロセス条件を更新する手段をさらに設けたことによって、各処理装置の経時的な特性の変動をも考慮した様々な観点から最適なプロセス条件を自動的に得ることが可能となり、プロセス条件設定のための人為的な試行錯誤を不要なものとすることができる。
【００５６】
さらに、本発明の制御システムによれば、コントロール装置で収集したプロセスデータでホストコンピュータのプロセスデータ受信不能期間の欠落プロセスデータを補填する手段をさらに設けたことで、ホストコンピュータはダウン状態から復旧した直後より、各処理装置の制御装置に対する制御を直ちに再開することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る制御システムの制御対象である複合プロセス型の半導体ウエハ製造装置の概略構成図
【図２】本発明の第１の実施形態である制御システムのブロック図
【図３】図２のＥＣＣ制御部のブロック図
【図４】本発明の第２の実施形態である制御システムのブロック図
【図５】レシピ編集処理の手順を示すシーケンス図
【図６】他のレシピ編集処理の手順を示すシーケンス図
【符号の説明】
１１（１１-1〜１１-N）……処理装置
１２（１２-1〜１２-N）……ＥＣＣ制御部
１３……ＨＣＩ
１４……データ伝送路
１５……ホストコンピュータ
１６……ＲＡＰ
１７……ＡＧＣ
１７ａ……ＡＧＣサーバ
１７ｂ……ＡＧＣクライアント
２１……通信Ｉ／Ｆ
２２……ＥＱＭ制御部
２３……データベース
２５……データ解析部
２６……データ変換部
２７……データ表示部
２８……レシピ修正部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a system for controlling a manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal panel manufacturing apparatus, and more particularly to a control system having a function for centrally managing a plurality of substrate processing apparatuses.
[0002]
[Prior art]
In recent years, due to the increase in the scale of manufacturing systems for semiconductor wafers, liquid crystal panels, etc., there is a demand for centralized management of a large number of processing apparatuses that perform processing (process) such as film formation processing, etching processing, thermal oxidation processing, etc. Is growing more and more.
[0003]
According to a conventional control system having a function for centrally managing a plurality of processing apparatuses, the processing apparatuses that perform various processes on the substrate to be processed are individually controlled by the ECC control unit. The ECC control unit has an HCI which is a logical interface means with the host computer, and exchanges various data with the host computer through a data transmission system such as TCP / IP. The host computer performs tracking processing of each processing device by exchanging various data with the ECC control unit of each processing device, accumulates process data received from each processing device as a history in a database, and monitors the contents Or various parameters of the processing device and abnormality detection are performed based on the process data.
[0004]
When transferring process data from the ECC control unit of each processing device to the post computer, HCI is required for tracking processing, parameter correction, abnormality detection, etc. from all process data generated by the ECC control unit. Select only some types of data to send to the post computer.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in such a unified management method by the control system, the process data stored in the post computer is limited, and the information that can be acquired as the status of each processing device from the process data displayed on the monitor is also limited. It will be a thing. Further, in many cases, a change in process data reflecting a state of deterioration of characteristics of a processing device over time cannot be found by simply referring to process data displayed on a monitor. Under such circumstances, there has been a problem that it is practically difficult to reliably and earlyly detect abnormality and characteristic deterioration of the processing apparatus.
[0006]
An object of the present invention is to provide a control system that can realize centralized monitoring of more detailed process data and contribute to early detection of abnormality or characteristic deterioration of a processing apparatus.
[0007]
Another object of the present invention is to provide a control system capable of realizing more detailed unified management of each processing apparatus and improving maintainability.
[0008]
Another object of the present invention is to provide a control system that can realize detailed unified management of each processing device through the analysis result of process data and contribute to early detection of abnormality or characteristic deterioration of the processing device. .
[0009]
An object of this invention is to provide the control system which implement | achieved the automatic optimization of the process conditions of each processing apparatus.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above-described object, the present invention provides a plurality of control devices that individually control a plurality of processing devices that perform predetermined processing on a substrate. A first interface that transmits only some types of preset process data among all the process data generated by each of the control devices, and the first interface that is generated by each of the control devices. A control device having a control unit with a second interface for transmitting all process data; Generated by each of the control devices All transmitted by the second interface A control apparatus including a server device having a storage unit for capturing and storing all process data, an editing unit for capturing and editing the stored process data from the server device, and a client device having a display unit for displaying the edited data The control system comprised by these is provided.
[0011]
That is, in the present invention, the server device of the control device accumulates process data taken from each control device. The client device takes in the process data stored in the server device, converts it into data in a format that can be used on the client device, and displays it. The process data stored in the server device is almost all process data of each processing device, and more detailed centralized monitoring of process data is possible compared to the conventional method of centrally monitoring process data on a host computer. Thus, it is possible to detect abnormalities and deterioration of characteristics of the processing apparatus at an early stage. In addition, the hardware of the control device that collects and displays process data is separated into the server device and client device, and the control load for collecting and displaying process data is distributed, so the number of processing devices that can be connected is reduced. Can be increased.
[0012]
In addition, the present invention provides a plurality of control devices that are divided into a plurality of groups and individually control a plurality of processing devices that perform a predetermined process on a substrate in association with a host computer. A first interface that transmits only some types of preset process data among all the process data generated by each of the control devices, and the first interface that is generated by each of the control devices. A control device having a control unit with a second interface for transmitting all process data; It is provided for each group of processing devices and is generated by each control device. All transmitted by the second interface A plurality of server devices having a storage unit that captures and stores all process data, an editing unit that captures and edits process data stored from these server devices, and a client device that includes a display unit that displays the edited data Provided is a control system including a control device.
[0013]
Furthermore, the present invention controls a plurality of control devices that individually control a plurality of processing devices that perform a predetermined process on a substrate, and the control device based on some process data generated by each of the control devices. A plurality of server devices having a means for capturing and storing almost all process data generated by each control device, provided corresponding to each group of processing devices in which the same process conditions are set, And a control system including a client device that captures and edits the accumulated process data from the server device, and a control device that includes a client device having means for displaying the edited data.
[0014]
According to the present invention, a server device that accumulates process data is provided for each predetermined group of processing devices, for example, for each processing device for which the same process conditions are set, so that the number of processing devices that can be connected is reduced. In addition, it is not necessary to stop the operation of the processing device group under the control of other server devices when upgrading the functions of individual server devices or performing maintenance inspections.
[0015]
The present invention includes a plurality of control devices that individually control a plurality of processing devices that perform a predetermined process on a substrate to be processed, a host computer that controls each control device based on process data received from each control device, A control device that collects process data received from the control device, analyzes the collected process data, and outputs a result of the analysis; each control device is generated with means for generating process data; There is provided a control system having means for transmitting a part of process data set in advance from the process data to a host computer and means for transmitting all generated process data to the control device.
[0016]
That is, in the present invention, since the control device analyzes all the process data generated by the control device of each processing device and outputs the result, a method for centrally monitoring a part of the process data on the conventional host computer In comparison with this, the range of information that can be grasped as the state of each processing apparatus is widened, and changes in the state of each processing apparatus over time can be detected early.
[0017]
In addition, the present invention provides a plurality of control devices that individually control a plurality of processing devices that perform a predetermined process on a substrate to be processed, a host computer that controls each control device based on process data received from each control device, and A control device that collects process data received from each control device, analyzes the collected process data, and updates a process condition of each processing device based on a result of the analysis, the individual control devices Means for generating process data, means for transmitting a part of the preset process data from the generated process data to the host computer, and all the generated process data in the control device And a means for transmitting to the control system.
[0018]
The present invention further includes means for updating the process conditions based on the analysis results of all the process data generated by each control device, so that various changes that take into account variations in characteristics of each processing device over time are also provided. From this viewpoint, it is possible to automatically obtain the optimum process conditions, and to eliminate the need for artificial trial and error for setting the process conditions.
[0019]
Furthermore, the present invention controls each control device based on a plurality of control devices that individually control a plurality of processing devices that perform a predetermined process on the substrate to be processed, and a part of the process data received from each control device. Process data received from the host computer and each control device is collected, the collected process data is analyzed, the result of the analysis is output, and the process data unreceivable period of the host computer is missing in the collected process data A control device for supplementing the process data, wherein each of the control devices generates means for generating the process data, and a part of the process data preset from the generated process data is stored in the host computer. Means for transmitting and sending all the generated process data to the control device. And means for, providing a control system.
[0020]
The present invention further includes means for supplementing the process data collected by the control device with the missing process data in the host computer process data incapable period, so that the host computer immediately after recovering from the down state Control over the control device can be resumed immediately.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0022]
The control system according to the present invention is applied to, for example, the following composite process type semiconductor wafer manufacturing apparatus.
[0023]
As shown in FIG. 1, this semiconductor wafer manufacturing apparatus includes a plurality of, for example, three process chambers 1, 2, 3 for performing various processes such as a CVD process, a sputtering process, an etching process, and a thermal oxidation process on a semiconductor wafer. Then, the wafer W is transferred between the cassette chambers 4 and 5 for accommodating the cassettes C1 and C2 capable of accommodating a large number of wafers W, for example, 25 wafers W, and the process chambers 1, 2 and 3 and the cassette chambers 4 and 5. And a transfer chamber 6. The chambers are connected to each other through a gate valve G so as to be freely opened and closed. In the transfer chamber 6, for example, an articulated transfer arm 7 capable of bending and extending and rotating is provided, and the transfer arm 7 transfers the wafer W between the chambers. When the cassettes C1 and C2 are taken into the cassette chambers 4 and 5, the cassettes C1 and C2 are inverted 90 degrees and rotated so that the wafer insertion / removal ports of the cassettes C1 and C2 face the center of the transfer chamber 6, thereby transferring the transfer arms Is installed in a posture in which the wafer W can be taken in and out. According to the control system shown in FIG. 2, the processing apparatus 11 (11-1 to 11 -N) performs various processes on the substrate to be processed such as a CVD process or a sputtering process, an etching process, a thermal oxidation process, etc. 12 (12-1 to 12-N) is a higher-level control system of each processing apparatus 11, and MC (machine controller) 10 (10-1 to 10-N) is a lower-level control system of each processing apparatus 11.
[0024]
As shown in FIG. 3, the ECC control unit 12 has an HCI (Host Communication Interface) 13 that is a logical interface means with the host computer 15, and various data between the host computer 15 and the HCI 13. Is exchanged through a data transmission system 14 such as TCP / IP. The ECC control unit 12 has a RAP (Remote Agent Process) 16 that is a logical interface means with the advanced group controller (hereinafter referred to as AGC) 17, and the RAP 16 communicates with the AGC 17. Various types of data are exchanged through the data transmission system 14.
[0025]
Here, a difference in functions between the HCI 13 and the RAP 16 relating to process data transfer will be described.
[0026]
The HCI 13 selects only some types of preset process data from all the process data obtained from the processing device 11 by the ECC control unit 12 and transmits the selected process data to the host computer 15. That is, in FIG. 3, the memory 18 temporarily stores all process data generated by the ECC control unit 12, and the HCI 13 stores some types of process data (data 1, data 1) set in advance from the memory 18. 3) is taken out and written to the HCI transmission buffer 19, and the contents of the HCI transmission buffer 19 are collectively transmitted to the host computer 15. The HCI 13 also transmits status data generated by the ECC control unit 12 to the host computer 15.
[0027]
The RAP 16 unconditionally transmits all process data obtained from the processing device 11 by the ECC control unit 12 to the AGC 17. That is, the RAP 16 sequentially reads the process data stored in the process data storage memory 18 in the ECC control unit 12 from the top, and transfers the process data to the AGC 17 with the data structure unchanged. However, operations that rearrange the order of data or exclude only a small amount of data may be performed here.
[0028]
The host computer 15 performs overall operation control of each processing device 11 such as performing tracking processing of each processing device 11 through exchanging various data with the ECC control unit 12 of each processing device 11.
[0029]
The AGC 17 performs analysis processing on all process data obtained from each processing device 11 including centralized management of recipes (process condition values) for each processing device and process control of each processing device 11 based on the recipe. , Statistical processing, process data and analysis / concentrated monitoring processing of statistical results, and processing for reflecting the analysis / statistic results in the recipe.
[0030]
The AGC 17 includes an AGC server 17a and an AGC client 17b. A communication I / F (interface unit) 21 of the AGC server 17a transmits and receives various data through the data transmission system 14 between the ECC control unit 12 and the AGC client 17b of each processing apparatus 11. The EQM control unit 22 corrects various parameters of the process for each processing device based on the process conditions defined in advance and the process data obtained from each processing device 11, and stores the received parameters in the database 23. The main processing is to search the database 23 for process data to be transferred to the client 17b.
[0031]
The AGC client 17b has a data analysis unit 25 that performs analysis processing and statistical processing of the process data transferred from the AGC server 17a, and a format that can be processed by the client user using the captured process data and its analysis result. A data conversion unit 26 that converts data, a data display unit 27 that displays the conversion data on a monitor, etc., and a recipe (process condition) based on the analysis result of process data including measurement data such as film thickness on the substrate to be processed A function such as a recipe correction unit 28 for updating so as to optimize is prepared.
[0032]
Next, the operation of this system will be described focusing on the operation involving AGC.
[0033]
First, the ECC control unit 12 of each processing apparatus 11 controls the corresponding processing apparatus 11 to execute processing on the target substrate under process control by the AGC 17.
[0034]
The process data obtained from the processing device 11 by each ECC control unit 12 is written in the process data storage memory 18 shown in FIG. The process data written in the process data storage memory 18 is transferred to the host computer 15 and the AGC 17 through independent channels of the data transmission system 14 such as TCP / IP by the HCI 13 and RAP 16 which are logical interface means for external transfer. Forwarded to
[0035]
Here, the HCI 13 extracts only some types of preset process data from all the process data held in the process data storage memory 18 and writes them to the HCI transmission buffer 19. The contents are transmitted to the host computer 15 through the data transmission system 14. On the other hand, the RAP 16 reads all the process data from the process data storage memory 18 and transfers it to the AGC 17.
[0036]
The AGC 17 (AGC server 17a) receives the process data transmitted by the RAP 16 of the ECC control unit 12 of each processing apparatus, accumulates the process data in the database 23, and sets parameters of each processing apparatus from the process data and the recipe data. Process control is performed by generating a correction value and transmitting it to the ECC controller 12.
[0037]
When the AGC server 17a receives a process data transfer request from the AGC client 17b, the AGC server 17a reads out the corresponding process data from the database 23 and transmits it to the AGC client 17b through the communication I / F 21. The process data transferred to the AGC client 17b is converted into data in a format that can be used by the client user in the data conversion unit 26 and processed, and displayed on the monitor by the data display unit 27. Further, the process data transferred to the AGC client 17b is analyzed and statistically processed by the data analysis unit 25, and the analysis result is converted into data in a user-usable format by the data conversion unit 26 in the same manner as the process data. Displayed on the monitor. As a result, unified management of the entire substrate processing system on the AGC client 17b is realized.
[0038]
In addition, the data analysis unit 25 of the AGC client 17b performs abnormality detection and abnormality prediction of the processing apparatus from the analysis result of the process data. When abnormality is detected and predicted, the fact is displayed on the monitor through the data display unit 27. Output and notify the AGC server 17a. In accordance with this notification, for example, the AGC server 17a performs control such as instructing the ECC control unit 12 that controls the processing apparatus 11 that has detected or predicted abnormality to stop the processing apparatus.
[0039]
Further, the reception correction unit 28 of the AGC client 17b performs correction processing for optimizing reception (process conditions) from analysis results for process data including measurement data such as film thickness measurement results on the substrate.
[0040]
Further, in the present embodiment, when the host computer 15 is down, the process data spooling process by the AGCI 7 is performed. That is, the host computer 15 can immediately capture the process data of the down period from the AGC after the recovery. Thereby, the tracking processing of each processing apparatus 11 by the host computer 15 can be resumed immediately after recovery.
[0041]
Next, the operation of editing the recipe data and executing the process in the control system will be described with reference to FIG.
[0042]
First, the AGC client 17b reads recipe data from the database 23 via the AGC server 17a. When the recipe data read from the database is sent to the client 17b, the client 17b edits the recipe data. When the editing process is completed, the client 17b writes the edited recipe data in the data pace 23. As a result, the recipe data in the database 23 is updated.
[0043]
On the other hand, when the host computer 15 issues a processing start command, for example, recipe ID information corresponding to the processing, to the processing device 11-1, the ECC control unit 12-1 of the processing device 11-1 sends a recipe to the EQM 22 of the AGC server 17a. Request recipe data corresponding to the ID information. In response to this request, the AGC server 17a reads recipe data from the database 23 of the AGC server and transfers it to the ECC control unit 12-1 of the processing apparatus 11-1. The processing device 11-1 executes a predetermined process according to the received recipe data. At this time, the ECC control unit 12-1 of the processing device 11-1 stores actual processing data generated during the execution of the processing.
[0044]
The recipe data transferred to the ECC control unit 12-1 of the processing device 11-1 can be copied to another processing device that performs the same processing as the processing device 11-1, and other data can be copied according to the copied recipe data. The processing devices, for example, the processing devices 11-2 and 11-3, can execute processing according to the same recipe data as the processing device 11-1. Accordingly, the processing devices 11-1 to 11-3 can be collectively managed by the AGC server.
[0045]
In the above embodiment, the processing is performed according to the recipe data stored in the database 23, but the operation of the control system in the embodiment that does not use the database 23 will be described with reference to FIG.
[0046]
In this embodiment, the AGC client 17b makes a recipe request to, for example, the ECC control unit 12-1 of the processing apparatus 11-1 via the AGC server 17a. The ECC control unit 12-1 transfers the stored recipe data to the client 17b via the AGC server 17a in response to the request. The client 17b that has received the recipe data edits the recipe data. When the editing of the recipe data is completed, the client 17b issues a recipe data registration request to the ECC control unit 12-1 of the processing apparatus 11-1 via the AGC server 17a. The ECC control unit 17a registers recipe data and records a time stamp.
[0047]
Next, a registration request is made to the ECC control unit 12-2 in order to copy the same editing recipe data to the ECC control unit 12-2 of another processing apparatus 11-2. When the ECC control unit 12-2 issues an ACK to this registration request, the AGC server 17a registers the recipe data.
[0048]
After the recipe data is edited as described above, when a processing execution command is issued from the host computer 15 to the processing device 11-1, for example, the ECC control unit 12-1 of the processing device 11-1 sends a recipe execution approval request to the AGC. Send to server 17a. The AGC server 17a checks the time stamp and sends an execution approval ACK to the ECC control unit 12-1. Thereby, the processing apparatus 11-1 performs a process according to recipe data. Actual data generated by this processing execution is sequentially stored in the ECC control unit 12-1.
[0049]
As described above, according to the control system of the present embodiment, all or almost all detailed process data obtained from each processing apparatus can be taken into the AGC 17 and centrally monitored. The range of information that can be grasped is widened, and abnormalities and deterioration states of the processing apparatus can be discovered in more detail and at an early stage. In addition, it is possible to analyze all or almost all detailed process data obtained from each processing device and centrally monitor the explanation results, so that changes in the state of each processing device over time can be detected early. it can. Thereby, it becomes possible to improve the maintenance reliability of the manufacturing system which consists of many processing apparatuses. Further, in this embodiment, by updating each data in the recipe to a more preferable value from analysis results and statistical results for detailed process data including measurement data such as a film thickness measurement result on the substrate, the time of each processing apparatus is changed. Therefore, it is possible to automatically obtain optimum process conditions from various viewpoints in consideration of fluctuations in general characteristics, and to improve reliability.
[0050]
Furthermore, by separating the AGC 17 into an AGC server 17a for collecting process data and an AGC client 17b that actually operates the process data, each control load is distributed and a larger number of processing devices are connected. Even in such a configuration, the performance does not deteriorate.
[0051]
In the embodiment described above, the AGC 17 is composed of one AGC server 17a and one AGC client 17b. However, when the number of processing devices further increases, the load on the AGC server 17a is very large. It is expected to be. Therefore, as shown in FIG. 4, there can be considered a method in which an AGC server 17a (17a-1 to 17a-M) is provided for each function, for example, the type of recipe. When such a form is adopted, it is not necessary to stop the operation of the processing device group under the control of other AGC servers when upgrading the functions of individual AGC servers or performing maintenance inspections. Processing efficiency can be increased.
[0052]
Furthermore, according to the control system of the present invention, more detailed centralized monitoring of process data is possible compared to the conventional method of centralized monitoring of process data on a host computer, so that abnormalities and deterioration of characteristics of processing devices can be detected at an early stage. It becomes possible to do. In addition, the hardware of the control device that collects and displays process data is separated into the server device and client device, and the control load for collecting and displaying process data is distributed, so the number of processing devices that can be connected is reduced. Can be increased.
[0053]
Further, according to the control system of the present invention, a server device for storing process data is provided for each predetermined group of processing devices, for example, for each processing device for which the same process conditions are set. The number of possible processing devices can be further increased, and when upgrading the functions of individual server devices or performing maintenance inspections, it is necessary to stop the operation of the processing device group under the control of other server devices. Disappear.
[0054]
【The invention's effect】
As described above, according to the control system of the present invention, the control device analyzes all the process data generated by the control device of each processing device and outputs the result. Compared with the method of centrally monitoring the process data, the range of information that can be grasped as the state of each processing apparatus is widened, and a change with time of the state of each processing apparatus can be detected early.
[0055]
In addition, by providing a means for updating process conditions based on the analysis results of all process data generated by each control device, various viewpoints that also take into account variations in characteristics of each processing device over time Therefore, it is possible to automatically obtain the optimum process conditions from the above, and to eliminate the need for artificial trial and error for setting the process conditions.
[0056]
Furthermore, according to the control system of the present invention, the host computer is recovered from the down state by further providing means for compensating the missing process data of the host computer process data unreceivable period with the process data collected by the control device. Immediately after that, it is possible to immediately resume control of each processing apparatus with respect to the control apparatus.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a composite process type semiconductor wafer manufacturing apparatus which is a control target of a control system according to the present invention.
FIG. 2 is a block diagram of a control system according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a block diagram of the ECC control unit in FIG. 2;
FIG. 4 is a block diagram of a control system according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a sequence diagram showing the procedure of recipe editing processing.
FIG. 6 is a sequence diagram showing the procedure of another recipe editing process.
[Explanation of symbols]
11 (11-1 to 11-N) …… Processing device
12 (12-1 to 12-N): ECC controller
13 …… HCI
14 …… Data transmission path
15 …… Host computer
16 …… RAP
17 …… AGC
17a …… AGC server
17b …… AGC client
21 …… Communication I / F
22 …… EQM control unit
23 …… Database
25 …… Data Analysis Department
26 …… Data converter
27 …… Data display section
28 …… Recipe correction part

Claims

A plurality of control devices that individually control a plurality of processing devices that perform predetermined processing on a substrate, and some types that are set in advance from all the process data generated by each of the control devices A control device having a control unit including a first interface that transmits only the process data of the first interface, and a second interface that transmits all the process data generated by each of the control devices;
Edit To edit capture a server apparatus having a storage section for storing captures process data of all the hand sent generated in each of said control device by said second interface, the process data the storage from the server device And a control device including a client device having a display unit for displaying edit data,
A control system comprising:

2. The control system according to claim 1, wherein the control device controls each of the corresponding processing devices in response to a command from a host computer.

Wherein the controller includes a memory for storing all the process data, and a buffer for storing a preset some types of process data is retrieved from the memory temporarily
The first interface collectively transmits the contents of the buffer to a host computer ,
The control system of claim 1, wherein said second interface is characterized by the Turkey to transmit all process data of the memory in the control device.

The server device corrects various parameters of the process for each processing device based on the process conditions defined in advance and process data obtained from each of the processing devices, and stores the received parameters in the storage unit, The control system according to claim 1, wherein a process for retrieving process data to be transferred to the client device from the storage unit is performed.

The server device reads recipe data from a database, transfers the data to the control device of the processing device, and the processing device executes a predetermined process according to the sent recipe data. The described control system.

A plurality of control devices that are divided into a plurality of groups and that individually control a plurality of processing devices that perform a predetermined process on a substrate in association with a host computer, all of the control devices generated by each of the control devices A control having a first interface for transmitting only some types of process data set in advance from among process data, and a second interface for transmitting all the process data generated by each of the control devices. A control device having a section;
Provided corresponding to each group of said processing unit, a plurality of server devices having a storage section for storing captures process data of all the hand sent generated in each of said control device by said second interface, A control system comprising: an editing unit that takes in and edits the accumulated process data from the server device; and a control device that includes a client device having a display unit that displays the edited data.

The client device includes a data analysis unit that performs analysis and statistical processing of the process data, and a display unit that displays an analysis result of the data analysis unit,
The data analysis unit performs abnormality detection and abnormality prediction of the processing device from the analysis result of the process data, and when abnormality is detected and when abnormality is predicted, outputs to the display unit and abnormality detection or abnormality prediction is performed. The control system according to claim 6, wherein control for instructing the control device that controls the processing device to stop the processing device is performed.

Wherein each of the control device, the only pre-set some types of process data from among all of the process data obtained from said processing unit controls said processor receives a command from the host computer The control system according to claim 6, further comprising a control unit that transmits to the host computer through the first interface .

Wherein the controller includes a memory for storing all the process data, and a buffer for storing a preset some types of process data is retrieved from the memory temporarily
The first interface collectively transmits the contents of the buffer to a host computer ,
The control system of claim 8, wherein said second interface is characterized by the Turkey to transmit all process data of the memory in the control device.

The server device corrects various process parameters for each processing device based on pre-defined process conditions and process data obtained from each of the processing devices, and stores the received parameters in the storage unit. The control system according to claim 6 , wherein a process for retrieving process data to be transferred to the client device from the storage unit is performed.

The control system according to claim 6, wherein the client device has a function of copying the same recipe to the control device corresponding to the processing device in the same group.

A plurality of controls, each of which is divided into a plurality of groups each including a plurality of processing devices set to the same process condition, and which individually controls a plurality of processing devices which perform a predetermined process on the substrate in association with the host computer A first interface that transmits only some of the preset types of process data among all the process data generated by each of the control devices, and is generated by each of the control devices. A control device having a control unit with a second interface for transmitting all process data;
Provided corresponding to each group, a control device including a client device having a display means for said second capture process data transmitted by the interface, displays the data obtained by means and editing for editing,
A control system comprising:

A plurality of control devices that individually control a plurality of processing devices that perform a predetermined process on the substrate;
A host computer for controlling the control device based on a part of the process data generated by each of the control devices;
Same process conditions is provided corresponding to each group of the set processing device, a plurality of server devices having means for storing captures all hands of the process data generated by the control device, from said server device A client device that captures and edits the accumulated process data; and a display device that displays the edited data; and
A control system comprising:

A plurality of control devices that individually control a plurality of processing devices that perform a predetermined process on the substrate;
A host computer for controlling each of the control devices based on process data received from each of the control devices;
A control device having means for collecting process data received from each of the control devices, means for analyzing the collected process data, and means for outputting the result of the analysis;
Each of the control devices includes means for generating process data, means for transmitting a part of process data set in advance from the generated process data to the host computer, and all the generated process data. A control system comprising means for transmitting to the control device.

15. The control system according to claim 14 , wherein the control device has means for compensating for missing process data during a period in which the host computer cannot receive data in the collected process data.

A plurality of control devices that individually control a plurality of processing devices that perform a predetermined process on the substrate;
A host computer for controlling the control device based on process data received from each of the control devices;
A control device having means for collecting process data received from each of the control devices, means for analyzing the collected process data, and means for updating process conditions of each processing device based on the result of the analysis; And
The individual control devices include means for generating process data, means for transmitting a part of process data set in advance from the generated process data to the host computer, and all the generated process data. A control system comprising means for transmitting to the control device.

17. The control system according to claim 16 , wherein the control device has means for capturing missing process data in a period during which the host computer cannot receive data in the collected process data.