JP3724260B2 - Laser exposure method and laser exposure apparatus - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ露光方法及びレーザ露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
画像データに基づいて画像を記録するために、ハロゲン化銀写真感光材料をレーザ光により露光するレーザ露光装置を備えた画像形成装置が従来から知られている。かかる画像形成装置によれば、レーザ露光後において、ハロゲン化銀写真感光材料の液処理が必要であり、それにより処理に手間がかかる共に、装置の大型化を招いていた。これに対し、近年、液処理が不要で熱現像により画像を顕像化できるハロゲン化銀熱現像感光材料が登場した。しかし、これをレーザ光で露光すると、干渉縞が形成されることが判った。かかる干渉縞は、レーザ露光によって感光材料に形成される画像の画質を低下させる。
【０００３】
特に、ハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に設けた、前記感光層のハロゲン化銀粒子の含有量が１ｇ／ｍ2以下で、前記感光層のハロゲン化銀粒子の平均粒径が０．１μｍ以下で、レーザ光の平均波長での光透過率が２０％以上で、γが２以上のハロゲン化銀熱現像感光材料の場合、干渉縞が顕著に形成され、感光材料に形成される画像の画質を著しく低下させることが判った。
【０００４】
これに対し、特開平８−２１１５２１号では、高周波信号をレーザダイオードへの入力信号に重畳してレーザダイオードを駆動して干渉縞を防止することが開示されている。
【０００５】
【発明が解決する課題】
この従来技術による干渉縞防止の原理は、以下の通りである。レーザダイオードには、高周波重畳された信号を入力しなくても常時、縦マルチモード発光するレーザダイオードと、本来、縦シングルモード発光するレーザダイオードとがある。常時、縦マルチモード発光するレーザダイオードは、縦シングルモード発光するレーザダイオードより、通常、発光点が大きく、かつ、多数のレーザ発振モードの波長分布が広いので、光学系の色収差などの収差の影響を受けやすく、感光材料を露光するためのレーザ露光装置、特にレーザ光を偏向走査するレーザ露光装置では、感光材料の感光面上にビームを絞るための光学系の設計・制作が難しく、高価なものになりがちなので、通常、縦シングルモード発光するレーザダイオードが好ましい。
【０００６】
しかし、通常、縦シングルモード発光するレーザダイオードを、縦シングルモード発光する状態を維持しながら露光すると、干渉縞が生じてしまう。通常、縦シングルモード発光するレーザダイオードは、閾値電流値を超えて電流を供給した直後の数ｎ秒の間、多数のレーザ発振モードが励起されているスペクトルである縦マルチモード発光し、その後、単一のレーザ発振モードのみが励起されているスペクトルである縦シングルモード発光するという特性を有する。
【０００７】
一方、レーザダイオードが縦マルチモード発光した場合、多数のレーザ発振モードが励起されているスペクトルであるため、各レーザ発振モードによる干渉縞どうしが互いに相殺しあい、干渉縞を抑止できる。
【０００８】
そこで、高周波信号をレーザダイオードへの入力信号に重畳してレーザダイオードを駆動して、数ｎ秒毎に、閾値電流値を超えて電流を供給し、レーザダイオードを縦マルチモード発光させ、縦シングルモード発光になる前に、供給する電流を閾値電流値以下にし、発光を中止させ、また、閾値電流値を超えて電流を供給し、縦マルチモード発光させることを繰り返すことにより、縦マルチモード発光状態を維持し、干渉縞を抑えるものである。
【０００９】
なお、これにより、通常、縦シングルモード発光するレーザダイオードは、縦マルチモード発光し、波長が精々数十ｎｍ程度バラつくが、偏向走査しても、悪影響は殆どない。
【００１０】
しかし、従来技術では干渉縞の抑制は不十分であった。特に、平均粒径が０．１μｍ以下のハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に設けた、レーザ光の平均波長での光透過率が２０％以上で、γが２以上のハロゲン化銀熱現像感光材料の場合、干渉縞の抑制が不十分であった。
【００１１】
この点について、本発明者は鋭意検討した結果、以下のことが判った。従来の液現像で現像処理されるハロゲン化銀写真感光材料においては問題とならなかった干渉縞が、新しいハロゲン化銀熱現像感光材料で問題となる理由は、かかる感光材料における感光層に存在するハロゲン化銀の粒子がより小さくなり、感光層を透過するレーザ光が散乱しにくくなったことと、液現像を不要とするために、予め感光層や感光層より支持体側の層に混入できる染料の量を低減したことが考えられる。
【００１２】
一方、重畳する高周波信号が変調部に流れると、レーザダイオードに入力される信号に十分な振幅の高周波信号が乗らず、数ｎ秒毎に供給する電流を閾値電流値以下にすることができず、レーザダイオードが縦シングルモード発光する時間の割合が増えてしまい、それにより干渉縞が十分抑制されなかいことが判明した。
【００１３】
また、レーザダイオードの発光強度を所定強度に保つためのフィードバック系により、変調部が高周波信号と逆位相の変調を行い、結果としてレーザダイオードに入力される信号に十分な振幅の高周波信号が乗らず、数ｎ秒毎に供給する電流を閾値電流値以下にすることができず、レーザダイオードが縦シングルモード発光する時間の割合が増えてしまい、それにより干渉縞が十分抑制されないことと、レーザダイオードの発光強度が所定強度に保てないことが判明した。
【００１４】
加えて、高周波重畳部から出力される高周波信号が、他の回路に流れて悪影響を与える恐れがあるため、これを回避する必要もある。
【００１５】
本発明は、これらの課題を鑑みなされたもので、従来の問題点を改良し、干渉縞を減少させうるレーザ露光方法及びレーザ露光装置を提供するものである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記課題は、以下の手段により解決できる。以下、この解決するための手段及び作用について説明する。
（１）変調部で画像データに応じて変調信号を出力し、出力された前記変調信号に高周波重畳部で高周波信号を重畳し、前記高周波信号が重畳された重畳信号をレーザダイオードに入力して、レーザ光を発振させ、前記レーザーダイオードから発振された前記レーザ光の強度を検出し、検出された前記レーザ光の強度により、前記変調信号をフィードバック制御しながら、ハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に設けた、前記感光層のハロゲン化銀粒子の含有量が１ｇ／ｍ2以下で、前記感光層のハロゲン化銀粒子の平均粒径が０．１μｍ以下で、前記レーザ光の平均波長での光透過率が２０％以上で、γが２以上のハロゲン化銀熱現像感光材料を、前記レーザダイオードから発振された前記レーザ光により走査露光するレーザ露光方法において、前記レーザ光の強度の検出により出力され、前記変調信号の画素周波数の周波数成分を通過させ、前記高周波信号の周波数以上の周波数の高周波数成分をカットする高周波カットフィルタを通した検出信号により前記変調信号を制御し、前記変調部と前記高周波重畳部との間に、前記高周波カットフィルタとは別の高周波カットフィルタを有することを特徴とするレーザ露光方法であるので、
これにより、レーザダイオードの発光強度を所定強度に保つためのフィードバック系が前記高周波信号の周波数より低い周波数で前記変調信号を制御するため、重畳する高周波信号と逆位相の変調を行うことを抑制し、高周波信号の周期毎に供給する電流を閾値電流値以下にすることができ、レーザダイオードが縦マルチモード発光する時間が長くなり、干渉縞を良好に減少でき、また、液現像をしなくても判別性及び視認性の良い画像が得られる。また、医療診断用の画像を記録すると、良好な診断ができる。
更に、これにより、高周波信号が変調信号を出す側に流れることを抑制し、レーザダイオードに入力される信号に十分な振幅の高周波信号が乗り、高周波信号の周期毎に供給する電流を閾値電流値以下にすることができ、レーザダイオードが縦マルチモード発光する時間が長くなり、干渉縞を良好に減少でき、また、液現像をしなくても判別性及び視認性の良い画像が得られる。また、医療診断用の画像を記録すると、良好な診断ができる。
【００１８】
（２）前記別の高周波カットフィルタは、前記画素周波数をｈ１、前記高周波信号の前記周波数をｈ２とするときに、ｈ１＜ｈ３＜ｈ２を満足する周波数ｈ３以上の周波数成分をカットする高周波カットフィルタであることを特徴とする（１）に記載のレーザ露光方法であるので、
これにより、高周波信号が変調信号を出す側に流れることをより効果的に抑制し、レーザダイオードが縦マルチモード発光する時間がより長くなり、干渉縞をより良好に減少でき、判別性及び視認性のより良い画像が得られる。特に、医療診断用の画像を記録すると、より良好な診断ができる。
【００２３】
（３）前記ハロゲン化銀熱現像感光材料に入射するレーザ光の全照射時間中の縦マルチモード発光時間の割合が８０％以上であることを特徴とする（１）〜（２）のいずれか１項に記載のレーザ露光方法であるので、
これにより、干渉縞をより良好に減少でき、判別性及び視認性のより良い画像が得られる。また、医療診断用の画像を記録すると、より良好な診断ができる。
【００２５】
（４）レーザ光による走査露光が、前記ハロゲン化銀熱現像感光材料を搬送しながら行うものであり、前記ハロゲン化銀熱現像感光材料に入射するレーザ光の副走査方向に関する入射角が５°以下であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載のレーザ露光方法であるので、
これにより、レーザ光による走査露光が、前記熱現像感光材料を搬送しながら行うものであるから、トータルのプロセス時間が短くなる。また、干渉縞を良好に減少できるにも関わらず、熱現像感光材料に入射するレーザ光の副走査方向に関する入射角が５°以下であることから、搬送による熱現像感光材料のバタツキによる走査ムラの発生も抑制でき、判別性及び視認性のより良い画像が得られる。特に、トータルのプロセス時間が短く、判別性及び視認性がより良いので、医療診断用の画像を記録すると、より良好な診断を速やかにできる。
【００２６】
（５）画像データに応じて変調信号を出力する変調部と、
前記変調信号に高周波信号を重畳する高周波重畳部と、
前記高周波信号が重畳された重畳信号が入力され、レーザ光を発振するレーザダイオードと、
前記レーザーダイオードから発振されたレーザ光の強度を検出する光強度センサとを有し、
前記光強度センサの出力を検出した検出信号を前記変調部に入力して前記検出信号によりフィードバック制御しながら、前記レーザダイオードにより発振されたレーザ光によりハロゲン化銀熱現像感光材料を露光するレーザ露光装置において、
前記光強度センサと前記変調部との間に、前記高周波信号の周波数以上の周波数成分をカットし、画素周波数成分を通す高周波カットフィルタを有し、
前記変調部と前記高周波重畳部との間に、前記高周波カットフィルタとは別の高周波カットフィルタを有することを特徴とするレーザ露光装置であるので、
これにより、レーザダイオードの発光強度を所定強度に保つためのフィードバック系が前記高周波信号の周波数より低い周波数で前記変調信号を制御するため、重畳する高周波信号と逆位相の変調を行うことを抑制し、高周波信号の周期毎に供給する電流を閾値電流値以下にすることができ、レーザダイオードが縦マルチモード発光する時間が長くなり、干渉縞を良好に減少でき、また、液現像をしなくても判別性及び視認性の良い画像が得られる。また、医療診断用の画像を記録すると、良好な診断ができる。
更に、これにより、高周波信号が変調信号を出す側に流れることを抑制し、レーザダイオードに入力される信号に十分な振幅の高周波信号が乗り、高周波信号の周期毎に供給する電流を閾値電流値以下にすることができ、レーザダイオードが縦マルチモード発光する時間が長くなり、干渉縞を良好に減少でき、また、液現像をしなくても判別性及び視認性の良い画像が得られる。また、医療診断用の画像を記録すると、良好な診断ができる。
【００２７】
（６）前記別の高周波カットフィルタは、前記画素周波数をｈ１、前記高周波信号の前記周波数をｈ２とするときに、ｈ１＜ｈ３＜ｈ２を満足する周波数ｈ３以上の周波数成分をカットする高周波カットフィルタであることを特徴とする（５）のレーザ露光装置。であるので、
これにより、高周波信号が変調信号を出す側に流れることをより効果的に抑制し、レーザダイオードが縦マルチモード発光する時間がより長くなり、干渉縞をより良好に減少でき、判別性及び視認性のより良い画像が得られる。特に、医療診断用の画像を記録すると、より良好な診断ができる。
【００４２】
（用語の説明）
平均粒径や平均粒子サイズは、特に断りの無い限り、体積平均粒径である。
また、縦モードとは、レーザダイオードから発振されたレーザ光の波長スペクトル成分を表す。そして、縦シングルモード発光とは、単一のレーザ発振モードのみが励起されているスペクトルをいう。これに対し、縦マルチモード発光とは、多数のレーザ発振モードが励起されているスペクトルのことで、通常、半値幅が０．５ｎｍ以上のレーザ発光である。なお、この半値幅は、本発明の効果の観点から、３ｎｍ以上であることが好ましく、特に５ｎｍ以上であることが好ましい。
【００４３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一例である発明の実施の形態及び実施例を説明する。従って、発明の用語の意義や発明自体を、発明の実施の形態及び実施例の記載により限定して解釈すべきではなく、適宜変更／改良が可能であることは言うまでもない。
【００４４】
（実施形態１）
図１は、本実施形態のレーザ露光装置２００を組み込んだ画像記録装置の正面図であり、図２は、この画像記録装置の左側面図である。画像記録装置１００は、シート状の熱現像材料であるフィルムＦを１枚ずつ給送する給送部１１０と、給送されたフィルムＦを露光するレーザ露光装置２００と、露光されたフィルムＦを現像する熱現像部１３０とを有している。以下、図面を用いて本実施形態の画像記録装置を説明する。
【００４５】
図２において、給送部１１０は堆積された複数枚のフィルムＦを収容するトレイＴが上下二段に設けられている。各トレイＴの前方端部側の上部には、フィルムＦの前端部を吸着して上下動する吸着ユニット１１１が設けられている。また、吸着ユニット１１１の近傍には、吸着ユニット１１１により供給されたフィルムＦを矢印(1)方向(水平方向)へ給送する給送ローラ対１１２が設けられている。また、吸着ユニット１１１は前後にも移動可能で吸着したフイルムＦを給送ローラ対１１２へ運ぶことができる。そして、給送ローラ対１１２により給送されたフイルムＦを垂直方向に搬送する複数の搬送ローラ対１４１が設けられいる。これらの搬送ローラ対１４１により、フィルムＦを図２の矢印（２）に示す方向（下方）に搬送する。
【００４６】
画像記録装置１００の下部には、搬送方向変換部１４５が設けられている。この搬送方向変換部１４５は、図１及び図２に示すように、搬送ローラ対１４１により図２の矢印（２）に示す鉛直方向下方に搬送されたフィルムＦを矢印（３）で示すように水平方向に搬送し、次いで、搬送方向を矢印（３）から矢印（４）へ直角に変換して搬送し次いで、搬送方向を変換され搬送されたフイルムＦを図１の矢印（５）に示す鉛直方向上方に搬送方向を変えて搬送する。
【００４７】
そして、図１に示すように、搬送方向変換部１４５から搬送されたフイルムＦを図１の矢印（６）で示す鉛直方向上方に搬送する複数の搬送ローラ対１４２が設けられ、フィルムＦを画像記録装置１００の左側面から図１の矢印（６）で示す鉛直方向上方に搬送する。
【００４８】
この鉛直方向上方への搬送途中で、レーザ露光装置２００は、フィルムＦの感光面を赤外域７８０〜８６０ｎｍの範囲のレーザ光(本実施形態では８１０ｎｍ)で走査露光し、露光画像信号に応じた潜像を形成させる。
【００４９】
画像記録装置１００の装置の上部には熱現像部１３０が設けられ、熱現像部１３０のドラム１４の近傍には、搬送ローラ対１４２で図１の矢印（６）に示す鉛直方向上方に搬送されたフィルムＦをドラム１４へ供給する供給ローラ対１４３が設けられている。
【００５０】
ドラム１４へフィルムＦを供給するタイミングは、成り行きによるランダムなタイミングで供給する。
【００５１】
なお、ランダムなタイミングによる供給の代わりに、タイミングを図って供給してもよい。タイミングを図って供給する例としては、供給ローラ対１４３が、ドラム１４の周上の次の被供給位置が所定回転位置に到達するまで停止し、ドラム１４の周上の次の被供給位置が所定回転位置に到達した時点で回転するようにしても良い。すなわち、供給ローラ対１４３の回転を制御することにより、ドラム１４の所定の被供給位置に、フィルムＦを供給するようにしてもよい。
【００５２】
熱現像部１３０のドラム１４は、フィルムＦとドラム１４の外周面とが密着した状態で、図１の矢印（７）に示す方向に共に回転しながら、ドラム１４がフィルムＦを加熱し熱現像する。すなわち、フイルムＦの潜像を可視画像に形成する。その後、図１のドラム１４に対し右方まで回転したときに、ドラム１４からフィルムＦを離す。熱現像部１３０の右側方には、複数の搬送ローラ対１４４が設けられており、ドラム１４から離れたフイルムＦを、図１の矢印（８）に示すように右斜め下方に搬送しつつ、冷却する。そして、搬送ローラ対１４４が冷却されたフイルムＦを搬送しつつ、濃度計１１８がフイルムＦの濃度を測定する。その後、複数の搬送ローラ対１４４は、ドラム１４から離れたフイルムＦを図１の矢印（９）に示すように水平方向に搬送し、画像記録装置１００の上部から取り出せるように、画像記録装置１００の右上方部に設けられた排出トレイ１６０に排出する。
【００５３】
図３は、レーザ露光装置２００の構成を示す概略図である。レーザ露光装置２００は、画像信号Ｓに基づき強度変調されたレーザ光Ｌを、回転多面鏡２５５によって偏向して、フィルムＦ上を主走査すると共に、フィルムＦをレーザ光Ｌに対して主走査の方向と略直角な方向に相対移動させることにより副走査し、レーザ光Ｌを用いてフィルムＦに潜像を形成するものである。
【００５４】
レーザ露光装置２００では、画像信号発生装置２１０が、放射線ＣＴ装置、スキャナ等の装置から送信された画像データに応じて画像信号を発生させ、レーザ光源部２２０に送る。レーザ光源部２２０は、送られた画像信号Ｓに応じて、所定の強度のレーザ光を照射するように制御する。
【００５５】
詳細は後述するレーザ光源部２２０から出射したレーザ光Ｌは、集光レンズ２５１で平行光とされ、シリンドリカルレンズ２５３で一方向(本実施形態では、上下方向)にのみ収束され、図３で矢印Ａに示す回転方向に回転する回転多面鏡２５５に対し、その回転軸に垂直な線像として入射するようになっている。回転多面鏡２５５は、レーザ光Ｌを主走査方向に反射偏向し、偏向されたレーザ光Ｌは、４枚のレンズを組み合わせてなるシリンドリカルレンズを含むｆθレンズ２５７を通過した後、光路上に主走査方向に延在して設けられたミラー２５９で反射されて、搬送装置１４２により矢印Ｙ方向に搬送されている（副走査されている）フィルムＦの被走査面上を、矢印Ｘ方向に繰り返し主走査される。このようにして、レーザ光Ｌは、フィルムＦ上の被走査面全面にわたって走査する。
【００５６】
ｆθレンズ２５７のシリンドリカルレンズは、入射したレーザ光ＬをフィルムＦの被走査面上に、副走査方向にのみ収束させる。このように、本レーザ露光装置２００においては、シリンドリカルレンズを含むｆθレンズ２５７及びミラー２５９を配設しており、レーザ光Ｌが回転多面鏡２５５上で、一旦副走査方向にのみ収束させるようになっているので、回転多面鏡２５５に面倒れや軸ブレが生じても、フィルムＦの被走査面上において、レーザ光Ｌの走査位置が副走査方向にずれることがなく、等ピッチの走査線を形成することができるようになっている。回転多面鏡２５５は、たとえばガルバノメータミラー等、その他の光偏光器に比べ走査安定性の点で優れているという利点がある。以上のようにして、フィルムＦに画像信号Ｓに基づく潜像が形成される。尚、集光レンズ２５１，シリンドリカルレンズ２５３，回転多面鏡２５５，ｆθレンズ２５７及びミラー２５９により、偏向光学系２５０（図４）を構成する。
【００５７】
図４は、レーザ光源部２２０の回路構成を示す図である。図４において、レーザ光源部２２０は、変調部２２１と、３つの高周波カットフィルタ２２２、２２３、２２４と、高周波重畳部２３０と、レーザダイオード２２５とを有している。このレーザダイオードは、通常、縦シングルモード発光するレーザダイオードを用いる。このようなレーザダイオードとしては、例えば、ＳＤＬ社製のＳＤＬ−５４××シリーズ、サンヨー社製のＤＬ−６×××シリーズ、ＤＬ−７×××シリーズが挙がられる。後述する実施例では、ＳＤＬ社製のＳＤＬ−５４２１を用いた。
【００５８】
変調部２２１は、画像信号発生装置２１０（図３）から画像信号Ｓを入力し、各画素の出力値に応じた電流値の変調信号Ｖを、レーザダイオード２２５側に出力可能となっており、また画像信号Ｓをそのまま、高周波変調部２３０側へ出力可能となっている。変調部２２１から出力された画像信号Ｓは、高周波カットフィルタ２２２を介して高周波重畳部２３０に供給され、これに基づいて重畳する高周波信号の振幅が決定される。
【００５９】
一方、変調部２２１から出力された変調信号Ｖは、高周波カットフィルタ２２３を通過し、高周波重畳部２３０から出力される高周波信号Ｒを重畳した後に、レーザダイオード２２５に供給されるようになっている。レーザダイオード２２５は、重畳された信号に応じた強度で、レーザ光Ｌを出力する。
【００６０】
レーザ光Ｌは、ビームスプリッタ２２６において一部を反射された後に、偏向光学系２５０を介して、搬送ローラ対１４２により上下に支持されたフィルムＦに照射され、画像データに対応した画像を形成する。尚、ここで、レーザ光Ｌの感光材料表面に対する入射角は、５度以下となっている。
【００６１】
ビームスプリッタ２２６において、反射されたレーザ光Ｌの一部は、フォトデテクタ２２７に受光され、かかるフォトデテクタ２２７からは、対応する電気信号Ｐが出力される。電気信号Ｐは、高周波カットフィルタ２２４を介して、変調部２２１と戻されて、変調信号Ｖのフィードバック制御のために用いられる。
【００６２】
図５は、高周波重畳部２３０の高周波回路２３１の回路構成を示す図である。高周波回路２３１には、微弱な高周波信号を発振するＩＣ発振器２３２が設けられている。そして、このようなＩＣ発振器としては、エランテック社製のＩＣ発振器ＥＬ６２００，ＥＬ６２０１又はＥＬ６２７２などが挙げられる。なお、後述する実施例では、エランテック社製のＩＣ発振器ＥＬ６２００を用いた。ＩＣ発振器２３２は、設定により、（実施形態２・３）一定の振幅の高周波信号を発振できるし、また、（実施形態１）画像信号Ｓの大きさに応じた振幅の高周波信号を発振できる。そして、画像信号Ｓの大きさに応じた振幅の高周波信号を発振できるように設定することにより、画像信号Ｓの大きさに応した振幅の高周波信号を重畳できるので、レーザダイオード２２５に印加される電流は、高周波信号の周期毎に、閾値電流値以下になり、縦マルチモード発光時間の割合が長くなる。
【００６３】
ＩＣ発振器２３２の一端は、高周波重畳部２３０に共通のグランドＧＲに接地されており、また、他端は、高周波回路２３１に共通の一定直流電圧の定電圧電源Ｅに高周波カットフイルタ２３３を介して接続されており、その出力端子は、増幅用トランジスタＴｒのベースに接続されている。そして、ＩＣ発振器２３２は、２００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの微弱な高周波信号を発振し、増幅用トランジスタＴｒのベースに供給する。
【００６４】
また、増幅用トランジスタＴｒのベースには、高周波回路２３１に共通の一定直流電圧の定電圧電源Ｅに高周波カットフイルタ２３４を介して一端が接続されている抵抗Ｒ１の他端が接続されている。また、増幅用トランジスタＴｒのエミッタは高周波重畳部２３０に共通のグランドＧＲに接地されている。一方、増幅用トランジスタＴｒのコレクタにも、高周波回路２３１に共通の一定直流電圧の定電圧電源Ｅに高周波カットフイルタ２３５を介して接続されており、電源Ｅからの一定電圧（例えば、５Ｖ）の電力を供給されている。そして、増幅用コンデンサＴｒのコレクタからは、コンデンサＣ２を介して直流成分を除かれた交流の高周波信号Ｒが出力される。
【００６５】
そして、高周波回路２３０から出力された２００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの高周波信号Ｒは、変調部２２１から出力され、高周波カットフイルタ２２３を通過した変調信号Ｖ’に重畳される。
【００６６】
次に、高周波重畳の態様を、図６を参照して説明する。図６（ａ）は、変調部２２１から出力される変調信号Ｖと、高周波重畳部２３０から出力される信号Ｒとを対比させて示したものであり、図６（ｂ）は、重畳により得られた重畳信号ＲＶを示した図である。
【００６７】
図６（ａ）の実線に示すように、変調部２２１から出力される変調信号Ｖは、各画素の画素値に応じてその電流値を段階的に変化させている。かかる変調信号Ｖを直接、レーザダイオード２２５に入力すると、上述したように単一波長光によるシングルモード発光が生じてしまい、それによりフィルムＦの表面に干渉縞が顕著に形成される恐れがある。
【００６８】
そこで、本実施の形態においては、図６（ａ）の点線で示すように、変調信号Ｖ（すなわち画像信号Ｓ）に対応づける形で、高周波重畳部２３０から出力される２００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの高周波信号Ｒの振幅を変化させ、変調信号Ｖに重畳させて、図６（ｂ）に示すような重畳信号ＲＶを得ている。高周波信号Ｒの振幅は、図６（ｂ）に示す重畳信号ＲＶが、周期の谷となる最低電流値において必ず閾値電流値Ｉｔｈ以下となると共に、重畳信号ＲＶの平均値をとると、変調信号Ｖの電流値と一致するように制御される。
【００６９】
このような重畳信号ＲＶをレーザダイオード２２５に供給した場合、供給される電流の値が周期的に閾値電流値Ｉｔｈ以下となることから、ここから信号が立ち上がる際に、縦マルチモード発光を行うようになる。縦マルチモード発光は、数ｎ秒しか持続しないのであるが、重畳信号ＲＶは、２００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周期（１〜５ｎ秒）で、繰り返し閾値電流値Ｉｔｈ以下となるので、その後の立ち上がりに応動して、レーザダイオード２２５は繰り返し縦マルチモード発光を行うこととなる。尚、縦マルチモード発光の時間は、レーザダイオード２２５の全レーザ発光時間に対し、８０％以上であると、干渉縞の影響が少なく、高画質な画像を形成することができる。又、重畳信号の電流値ＲＶは、ゼロに戻す必要はなく、レーザダイオードがＬＥＤ発光するか、レーザ発光するかの分かれ目となる閾値電流値Ｉｔｈ以下に戻せば足りる。
【００７０】
一方、重畳信号ＲＶの平均値は、変調部２２１から出力される変調信号Ｖの値に一致するため、各画素に対応するレーザ光Ｌの強度は変わらず、高周波重畳によって画質を損なう恐れはない。
【００７１】
ところで、高周波重畳部２３０から発生した高周波信号Ｒが、例えば変調部２２１に流れると、その変調信号Ｖに高周波信号が重畳されて、結果として重畳信号ＲＶが異常信号となり、レーザダイオード２２５からのレーザ光Ｌが不適切な強度となることが判明した。
【００７２】
そこで、本実施の形態においては、変調部２２１と高周波重畳部２３０とを、高周波カットフィルタ２２２、２２３を介して接続することにより、変調信号Ｖに高周波信号が重畳されることを防止している。より具体的には、高周波重畳部２３０から出力される高周波信号Ｒは、２００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周波数（ｈ２）を含んでいる。これに対し、変調部２２１から出力される変調信号Ｖ及び信号Ｓは、一般的には２０ＭＨｚ以下の周波数（画素周波数：ｈ１）を含んでいるので、本実施の形態においては、高周波カットフィルタ２２２、２２３のカット周波数（ｈ３）を、２０ＭＨｚより高く２００ＭＨｚより低い値（例えば１００ＭＨｚ）に設定している。すなわち、以下の式が成立する。
ｈ１＜ｈ３＜ｈ２
【００７３】
それにより、変調部２２１から出力される変調信号Ｖ及び信号Ｓは、そのまま高周波カットフィルタ２２２、２２３を通過するが、高周波重畳部２３０からの高周波信号は、高周波カットフィルタ２２２、２２３を通過できないため、高周波重畳部２３０からの高周波信号が、変調部２２１の出力信号Ｖ、Ｓに対して悪影響を及ぼすことを防止できる。
【００７４】
一方、フォトダイオード２２７は、重畳信号ＲＶに応じた強度で変動するレーザ光Ｌの一部を検出するため、その検出信号Ｐも高周波が含まれている。かかる検出信号Ｐをそのまま変調部２２１に入力してフィードバック制御を行うと、変調部２２１の出力信号Ｖ、Ｓに悪影響が及ぶ恐れがある。
【００７５】
そこで、本実施の形態においては、変調部２２１とフォトダイオード２２７とを、高周波カットフィルタ２２４を介して接続することにより、変調信号Ｖに高周波信号が重畳されることを防止している。より具体的には、フォトダイオード２２７から出力される検出信号Ｐは、重畳信号ＲＶの高周波信号に対応する２００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周波数（ｈ２）を含んでいると考えられる。また、フォトダイオード２２７から出力される検出信号Ｐのフィードバック制御に必要な成分は、画素周波数に等しい２０ＭＨｚ以下の周波数（ｈ１）で足りる。そこで、本実施の形態においては、高周波カットフィルタ２２４のカット周波数（ｈ３）を、２０ＭＨｚより高く２００ＭＨｚより低い値（例えば１００ＭＨｚ）に設定している。すなわち、以下の式が成立する。
ｈ１＜ｈ３＜ｈ２
【００７６】
それにより、フォトダイオード２２７から出力される検出信号Ｐは、高周波カットフィルタ２２４により、１００ＭＨｚ以上の高周波成分がカットされた状態で、変調部２２１に供給されることとなる。よって、フォトダイオード２２７からの検出信号Ｐが、変調部２２１の出力信号Ｖ、Ｓに対して悪影響を及ぼすことを防止できる。
【００７７】
尚、高周波重畳部２３０において、電源Ｅと増幅用トランジスタＴｒとの間に、高周波カットフィルタ１２５２を設けているが、これは電源Ｅの出力に高周波成分がのることを防止するためのものである。
【００７８】
本実施の形態においては、高周波重畳部２３０に、変調部２２１から画像データに対応する信号Ｓを送信して、高周波重畳部２３０から出力される信号Ｒの振幅を、画素値に応じて変更させているが、これに限らず、例えば高周波重畳部２３０から出力される信号Ｒの振幅を常に一定として、レーザダイオード２２５と並列的に接続したダイオード１２５ｇ（図４に点線で示す）を用いて、レーザダイオード２２５に供される電流方向を常に一定にすることも考えられる。かかる構成によれば、変調部２２１から高周波重畳部２３０へと信号Ｓを供給する回路（高周波カットフィルタ２２２を含む）が不要となり、よりコンパクトな回路構成が供される。
【００７９】
更に、本実施の形態によれば、レーザダイオード２２５の発光強度を所定強度に保つためのフィードバック系（フォトダイオード２２７）が、重畳信号ＲＶの周波数より低い周波数で変調信号を制御するため、重畳する高周波と逆位相の変調を行うことなどを抑制し、レーザダイオードに供給される電流が高周波信号の周期毎に供給する電流を閾値電流値Ｉｔｈ以下にすることができ、レーザダイオードが縦マルチモード発光する時間が長くなり、干渉縞を良好に減少できる。従って、液現像を行うことなく熱現像のみよって、露光されたフィルムＦを現像して画像を形成できるので、画像形成装置を大がかりにすることなく判別性及び視認性の良い画像が得ることができる。特に、画像の判別性及び視認性が良いことから、医療診断用の画像を記録するために用いると、良好な診断ができる。
【００８０】
又、本実施の形態によれば、レーザダイオード２２５に入力される重畳信号ＲＶに十分な振幅の高周波信号をのせることによって、高周波信号の周期毎に、レーザダイオード２２５に供給する電流を閾値電流値Ｉｔｈ以下にすることができ、レーザダイオードが縦マルチモード発光する時間が長くなり（８０％以上）、干渉縞を良好に減少できる。更に、重畳する高周波信号Ｒを効果的にカットする高周波カットフィルタ２２２、２２３を用いることにより、高周波重畳部２３０の高周波信号が変調信号Ｖを出す変調部２２１に影響を与えることを抑制し、安定してレーザダイオード２２５の発光を行わせることができる。加えて、フィードバック制御系を構成するフォトダイオード２２７からの信号に含まれる高周波成分を、高周波カットフィルタ２２４によって効果的にカットできるため、かかる高周波成分が変調信号Ｖを出す変調部２２１に影響を与えることを抑制し、安定してレーザダイオード２２５の発光を行わせることができる。
【００８１】
ところで、図４に示す第１の実施の形態のレーザ光源部によれば、変調部２２１からの変調信号Ｖに、高周波重畳部２３０からの高周波信号Ｒを重畳して、レーザダイオード２２５のレーザ光Ｌの発光強度を変更しているが、そのために変調部２２１と高周波重畳部２３０とを信号伝達可能に接続する必要が生じ、従って、変調部２２１に高周波信号の影響が及ばないようにすべく、高周波カットフィルタ２２３等を配置した比較的複雑な回路構成となっている。これに対し、以下に述べる実施の形態によれば、より簡素化された回路構成を供することができる。
【００８２】
（実施形態２）
次に、実施形態１のレーザ光源部２２５を変形した実施形態２について、実施形態１と相違する点を説明する。
図５は、第２の実施の形態にかかるレーザ光源部２２５の回路構成を示す図である。図５において、レーザ光源部２２５は、定出力部２２１と、高周波カットフィルタ２２３と、高周波重畳部２３０と、レーザダイオード２２５とを有している。
【００８３】
定出力部２２１は、画像データに関わらず、一定電流で信号Ｃを出力する。かかる信号Ｃは、高周波カットフィルタ２２３を介して高周波重畳部２３０に供給され、高周波重畳が行われる。高周波重畳部２３０から出力された重畳信号ＲＣは、レーザダイオード２２５に供給されるようになっている。尚、本実施の形態においても、高周波重畳部２３０の高周波信号の影響を受けないように、高周波カットフィルタ２２３を設けているが、定出力部２２１から出力される信号は、一定電流値であるので、第１の実施の形態と異なり、そのカット周波数は、高周波重畳部２３０の高周波信号の周波数である２００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周波数（ｈ２）より低ければ足りるため、高周波カットフィルタの選定の自由度が高い。
【００８４】
重畳信号ＲＣは、高周波信号の周期毎に閾値電流値Ｉｔｈ以下にすることができ、上述したように繰り返し縦マルチモード発光を行うことができる。また、重畳信号ＲＧは一定の振幅を有するので、レーザダイオード２２５は、平均して一定の強度のレーザ光Ｌを照射することができる。
【００８５】
一方、制御部２４１は、画像信号発生装置２１０（図３）から画像信号Ｓを入力し、かかる信号Ｓに応じて、音響光学変調素子（ＡＯＭ）２４２を駆動制御可能となっている。音響光学変調素子２４２は、レーザダイオード２２５から照射されたレーザ光Ｌの通過光量を調整する機能を有する。従って、レーザ光Ｌは、音響光学変調素子２４２を通過する際に、画素値に応じた光量に制限され、ビームスプリッタ２２６に入射する。尚、制御部２４１は、高周波信号の周波数（ｈ２）以下の周波数で、音響光学変調素子２４２を制御し、すなわち制御部２４１の時定数は、高周波信号の周波数より低くなっているため、安定した制御が行える。
【００８６】
レーザ光Ｌは、ビームスプリッタ２２６において一部を反射された後に、偏向光学系２５０を介して、搬送ローラ対１４２により上下に支持されたフィルムＦに照射され、画像データに対応した画像を形成する。尚、ここで、レーザ光Ｌの感光材料表面への副走査方向に関する入射角は、５度以下となっている。
【００８７】
ビームスプリッタ２２６において、反射されたレーザ光Ｌの一部は、フォトデテクタ２２７に受光され、かかるフォトデテクタ２２７からは、対応する電気信号Ｐが出力される。電気信号Ｐは、制御部２４１に戻されて、音響光学変調素子のフィードバック制御のために用いられる。
【００８８】
本実施の形態によれば、重畳信号ＲＣに基づいて、レーザダイオード２２５が縦マルチモード発光を行うので、上述した実施の形態と同様に、顕著な干渉縞の発生を抑止することができる。加えて、光学変調素子としての音響光学変調素子２４２及び制御部２４１が、高周波信号を重畳する部分である高周波重畳部２３０と、回路的に分離されているので、高周波重畳部２３０が出力する高周波信号が、配線を介して、音響光学変調素子２４２及び制御部２４１に伝達されることはなく、それにより音響光学変調素子２４２を安定して制御することができ、従ってフィルムＦに照射されるレーザ光Ｌの強度を精密に制御できることとなる。また、本実施の形態によれば、液現像を行うことなく熱現像のみよって、露光されたフィルムＦを現像して画像を形成できるので、画像形成装置を大がかりにすることなく判別性及び視認性の良い画像が得ることができる。特に、画像の判別性及び視認性が良いことから、医療診断用の画像を記録するために用いると、良好な診断ができる。
【００８９】
更に、本実施の形態によれば、フォトダイオード２２７によって、音響光学変調素子２４２を通過したレーザ光Ｌの強度を検出し、検出された強度に基づいて、制御部２４１を介して、音響光学変調素子２４２をフィードバック制御しているので、より正確に、フィルムＦに照射されるレーザ光Ｌの強度を調整可能である。
【００９０】
尚、本実施の形態においても、フィルムＦに入射するレーザ光の全照射時間中の縦マルチモード発光時間の割合が８０％以上としているので、これにより、フィルムＦに入射するレーザ光Ｌの殆どが縦マルチモード発光によるものとなるため、レーザ光Ｌに基づく干渉縞を効果的に減少できる。
【００９１】
（実施形態３）
次に、実施形態１のレーザ光源部２２５を変形した実施形態３について、実施形態１と相違する点を説明する。
図６は、第３の実施の形態にかかるレーザ光源部３２５の回路構成を示す図である。図６において、レーザ光源部３２５は、定出力部２２９と、２つの高周波カットフィルタ２２３、２２４と、高周波重畳部２３０と、レーザダイオード２２５とを有している。
【００９２】
定出力部２２９は、画像データに関わらず、一定電流で信号Ｃを出力する。かかる信号Ｃは、高周波カットフィルタ２２３を介して高周波重畳部２３０に供給され、高周波重畳が行われる。高周波重畳部２３０から出力された重畳信号ＲＣは、レーザダイオード２２５に供給されるようになっている。尚、本実施の形態においても、高周波重畳部２３０の高周波信号の影響を受けないように、高周波カットフィルタ２２３を設けているが、定出力部２２９から出力される信号は、一定電流値であるので、第１の実施の形態と異なり、そのカット周波数は、高周波重畳部２３０の高周波信号の周波数である２００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周波数（ｈ２）より低ければ足りるため、高周波カットフィルタの選定の自由度が高い。
【００９３】
レーザダイオード２２５から照射されたレーザ光Ｌは、ビームスプリッタ２２６において一部を反射された後に、音響光学変調素子２４２に入射する。制御装置２４１は、画像信号発生装置２１０（図３）から画像信号Ｓを入力し、かかる信号Ｓに応じて、音響光学変調素子２４２を駆動制御可能となっている。音響光学変調素子２４２は、レーザダイオード２４２から照射されたレーザ光Ｌの通過光量を調整する機能を有するので、レーザ光Ｌは、音響光学変調素子２４２を通過する際に、画素値に応じた光量に制限された後に、偏向光学系２５０を介して、搬送ローラ対１４２により上下に支持されたフィルムＦに照射され、画像データに対応した画像を形成する。尚、ここで、レーザ光Ｌの感光材料への副走査方向Ｙに関する入射角は、５°以下となっている。また、制御部２４１は、高周波信号の周波数（ｈ２）以下の周波数で、音響光学変調素子２４２を制御し、すなわち制御部２４１の時定数は、高周波信号の周期より長くなっているため、安定した制御が行える。
【００９４】
ビームスプリッタ２２６において、反射されたレーザ光Ｌの一部は、フォトデテクタ２２７に受光され、かかるフォトデテクタ２２７からは、対応する電気信号Ｐが出力される。電気信号Ｐは、高周波カットフィルタ２２４を介して、定出力部２２９に戻されて、レーザダイオード発光をフィードバック制御するために用いられる。
【００９５】
フォトダイオード２２７から出力される検出信号Ｐは、高周波カットフィルタ２２４により、高周波成分（２００ＭＨｚ〜１ＧＨｚ）がカットされた状態で、定出力部２２９に供給されることとなる。それにより、フォトダイオード２２７からの検出信号Ｐが定出力部２２９の出力信号Ｃに対して悪影響を及ぼすことを防止できる。
【００９６】
尚、上述した実施の形態では、ビームスプリッタ２４２を用いて、レーザ光Ｌの一部を分離して、フォトダイオード２２７によりその強度を測定しているが、レーザ光の強度を測定する態様は、これに限られない。例えば図８の点線で示すように、レーザダイオード２２５の照射面と反対側にフォトダイオード２２８を設けて、レーザ光Ｌの強度に応じて変化するレーザダイオード２２５の後方向光を測定することによって、レーザ光Ｌの強度を求めても良い。
【００９７】
図９は、実施例に示すフィルムＦの断面図であり、露光時におけるフィルムＦ内の化学的反応を模式的に示した図である。図１０は、加熱時におけるフィルムＦ内の化学的反応を模式的に示した、図９と同様な断面図である。フィルムＦは、ＰＥＴからなる支持体（基層）上に、ポリビニルブチラールを主材とする感光層が形成され、更に、その上にセルロースブチレートからなる保護層が形成されている。感光層には、図９に示すように感光性ハロゲン粒子と、有機酸銀であるベヘン酸銀（Ｂｅｈ．Ａｇ）と、銀イオン還元剤とを含有し、現像性の向上と最大濃度の向上と銀画像色調の向上のために、調色剤が配合されている。
【００９８】
露光時に、レーザ露光装置２００よりレーザ光ＬがフィルムＦに対して照射されると、図９に示すように、レーザ光Ｌが照射された領域に、ハロゲン化銀粒子が感光し、潜像が形成される。そして、フィルムＦは、４０℃以下の温度では実質的に熱現像されないが、フィルムＦを８０℃以上である最低現像温度以上の現像温度に加熱すると、熱現像される。これは、図１０に示すように、ベヘン酸銀から銀イオン（Ａｇ＋）が放出され、銀イオンを放出したべヘン酸は、調色剤と錯体を形成して、銀イオンの拡散能力が高くなり、感光したハロゲン化銀粒子まで拡散し、感光したハロゲン化銀粒子を核として還元剤が作用し、化学的反応により銀画像が形成されるからと思われる。
【００９９】
本実施の形態においては、フィルムＦを、ハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に設けた、前記感光層のハロゲン化銀粒子の含有量が１ｇ／ｍ2以下で、前記感光層のハロゲン化銀粒子の平均粒径が０．１μｍ以下で、レーザ光の平均波長での光透過率が２０％以上で、γが２以上のハロゲン化銀熱現像感光材料から形成している。
【０１００】
熱現像感光材料の詳細は、例えば米国特許第３，１５２，９０４号、同第３，４５７，０７５号、及びＤ．モーガン（Ｍｏｒｇａｎ）による「ドライシルバー写真材料（Ｄｒｙ Ｓｉｌｖｅｒ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌ）」やＤ．モーガン（Ｍｏｒｇａｎ）とＢ．シェリー（Ｓｈｅｌｙ）による「熱によって処理される銀システム（Ｔｈｅｒｍａｌｌｙ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｄ ＳｉｌｖｅｒＳｙｓｔｅｍｓ）」（イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ（Ｉｍａｇｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）Ｎｅｂｌｅｔｔｅ 第８版、スタージ（Ｓｔｕｒｇｅ）、Ｖ、ウォールワース（Ｗａｌｗｏｒｔｈ）、Ａ．シェップ（Ｓｈｅｐｐ）編集、第２頁、１９６９年）等に開示されている。
【０１０１】
その中でも本発明は、感光材料を８０〜１４０℃で熱現像することで画像を形成させ、定着を行わないものに有用である。この場合、通常、未レーザ露光装置に残ったハロゲン化銀や有機銀塩は除去されずにそのまま感光材料中に残ることになる。
【０１０２】
本発明におけるハロゲン化銀粒子は光センサーとして機能するものである。本発明に於いては、画像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を得るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒子サイズが０．１μｍ以下、より好ましくは０．０１μｍ〜０．１μｍ、特に０．０２μｍ〜０．０８μｍが好ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶でない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。又ハロゲン化銀は単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以下をいう。更に好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１％以上２０％以下となる粒子である。
単分散度（％）＝（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００
【０１０３】
本発明に於いては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径０．１μｍ以下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
【０１０４】
ハロゲン化銀粒子の形状については、特に制限はないが、ミラー指数｛１００｝面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が５０％以上、更には７０％以上、特に８０％以上であることが好ましい。ミラー指数｛１００｝面の比率は増感色素の吸着における｛１１１｝面と｛１００｝面との吸着依存性を利用したＴ．Ｔａｎｉ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，２９，１６５（１９８５）により求めることができる。
【０１０５】
又もう一つの好ましいハロゲン化銀の形状は、平板状粒子である。ここでいう平板状粒子とは、投影面積の平方根を粒径ｒμｍとし、垂直方向の厚みをｈμｍとした場合のアスペクト比＝ｒ／ｈが３以上のものをいう。その中でも好ましくはアスペクト比が３以上５０以下である。又粒径は０．１μｍ以下であることが好ましく、更に０．０１μｍ〜０．０８μｍが好ましい。これらは米国特許第５，２６４，３３７号、第５，３１４，７９８号、第５，３２０，９５８号等に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。本発明に於いてこれらの平板状粒子を用いた場合、更に画像の鮮鋭性も向上する。
【０１０６】
ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、具化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳剤は、Ｐ．Ｇ１ａｆｋｉｄｅｓ著Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ（Ｐａｕｌ Ｍｏｎｔｅｌ社刊、１９６７年）、Ｇ．Ｆ．Ｄｕｆｆｉｎ著 Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ刊、１９６６年）、Ｖ．Ｌ．Ｚｅｌｉｋｍａｎ ｅｔ ａｌ著Ｍａｋｉｎｇ ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ刊、１９６４年）等に記載された方法を用いて調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、又可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいずれを用いてもよい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像形成層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元可能な銀源に近接するように配置する。又、ハロゲン化銀は有機酸銀とハロゲンイオンとの反応による有機酸銀中の銀の一部又は全部をハロゲン化銀に変換することによって調製してもよいし、ハロゲン化銀を予め調製しておき、これを有機銀塩を調製するための溶液に添加してもよく、又はこれらの方法の組み合わせも可能であるが、後者が好ましい。一般にハロゲン化銀は有機銀塩に対して０．７５〜３０重量％の量で含有することが好ましい。
【０１０７】
本発明に用いられるハロゲン化銀には、照度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の６族から１０族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有することが好ましい。上記の金属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕが好ましい。
【０１０８】
これらの金属は錯体の形でハロゲン化銀に導入できる。本発明に於いては、還移金属錯体は、下記一般式で表される６配位錯体が好ましい。
一般式〔ＭＬ６〕ｍ
【０１０９】
式中、Ｍは元素周期表の６〜１０族の元素から選ばれる遷移金属、Ｌは架橋配位子、ｍは０、−、２−又は３−を表す。Ｌで表される配位子の具体例としては、ハロゲン化物（弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物）、シアン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが好ましい。Ｌは同一でもよく、又異なっていてもよい。
Ｍとして特に好ましい具体例は、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、イリジウム（Ｉｒ）及びオスミウム（Ｏｓ）である。
【０１１０】
以下に遷移金属配位錯体の具体例を示す。
１：〔ＲｈＣ１６〕３−
２：〔ＲｕＣ１６〕３−
３：〔ＲｅＣ１６〕３−
４：〔ＲｕＢｒ６〕３−
５：〔ＯｓＣ１６〕３−
６；〔ＩｒＣ１６〕２−
７；〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃ１５〕２−
８：〔ＲｕＢｒ４（Ｈ２Ｏ）〕２−
９：〔Ｒｕ（ＮＯ）（Ｈ２Ｏ）Ｃ１４〕−
１０：〔ＲｈＣｌ５（Ｈ２Ｏ）〕２−
１１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃ１５〕２−
１２：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣＮ５〕２−
１３：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣｌＣＮ４〕２−
１４：〔Ｒｈ（ＮＯ）２Ｃｌ４〕−
１５：〔Ｒｈ（ＮＯ）（Ｈ２Ｏ）Ｃｌ４〕−
１６：〔Ｒｕ（ＮＯ）ＣＮ５〕２−
１７：〔Ｆｅ（ＣＮ）６〕３−
１８：〔Ｒｈ（ＮＳ）Ｃｌ５〕２−
１９：〔Ｏｓ（ＮＯ）Ｃｌ５〕２−
２０：〔Ｃｒ（ＮＯ）Ｃｌ５〕２−
２１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ５〕−
２２：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ４（ＴｅＣＮ）〕２−
２３：〔Ｒｕ（ＮＳ）Ｃｌ５〕２−
２４：〔Ｒｅ（ＮＳ）Ｃｌ４（ＳｅＣＮ）〕２−
２５：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ（ＳＣＮ）４〕２−
２６：〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ５〕２−
２７：〔Ｉｒ（ＮＳ）Ｃｌ５〕２−
【０１１１】
これらの金属のイオン又は錯体イオンは一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用してもよい。これらの金属のイオン又は錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲン化銀１モル当たり１×１０−９，〜１×１０−２モルが適当であり、好まじくは１×１０−８〜１×１０−４モルである。これらの金属のイオン又は錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。添加に際しては、数回に渡って分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭６３‐２９６０３号、特開平２‐３０６２３６号、同３−１６７５４５号、同４−７６５３４号、同６‐１１０１４６号、同５‐２７３６８３号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。好ましくは粒子内部に分布をもたせることができる。これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類）に溶解して添加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第３の水溶液として添加し、３液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もしくは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。
【０１１２】
感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水洗により脱塩することができるが本発明に於いては脱塩してもしなくてもよい。
【０１１３】
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感法としては当業界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができる。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物を用いることができるが、特開平７−２４２７６８号等に記載の化合物を使用することができる。貴金属増感法に好ましく用いられる化合物としては例えば塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナイド、或いは米国特許２，４４８，０６０号、英国特許６１８，０６１号などに記載されている化合物を好ましく用いることができる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、アミノイミノメ夕ンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。又、乳剤のｐＨを７以上又はｐＡｇを８．３以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。又、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより還元増感することができる。
【０１１４】
熱現像材料に用いられる感光性のハロゲン化銀は、有機銀塩に対して、０．７５〜２５ｍｏｌ％の範囲で用いられることができ、好ましくは、２〜２０ｍｏｌ％の範囲で用いられることができる。
【０１１５】
有機銀塩には、銀イオンの供給源である有機材料を全て含む。有機酸（特に長鎖脂肪酸（１０〜３０の炭素原子：好ましくは１５〜２８の炭素原子））の銀塩が好ましい。配位子が全体的に４．０〜１０．０の間で一定の安定性を有する有機又は無機の銀塩錯体であることが好ましい。そして、画像形成層の重量の約５〜３０％であることが好ましい。
【０１１６】
この有機銀塩は、露光された光触媒（たとえば写真用ハロゲン化銀等）と還元剤の存在において、８０℃以上好ましくは１１５℃以上、特に１２０℃以上の温度に加熱されたときに銀イオンを供給する銀塩であることが望ましい。
【０１１７】
好ましい有機銀塩には、カルボキシル基を有する有機化合物の銀塩が含まれる。それらには、脂肪族カルボン酸の銀塩及び芳香族カルボン酸の銀塩が含まれる。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例には、べヘン酸銀、ステアリン酸銀等が含まれる。脂肪族カルボン酸におけるハロゲン原子又はヒドロキシルとの銀塩も効果的に用いうる。メルカプト又はチオン基を有する化合物及びそれらの誘導体の銀塩も用いうる。更に、イミノ基を有する化合物の銀塩を用いうる。
【０１１８】
本発明に於いて有機銀塩は、還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びへテロ有機酸の銀塩、特に長鎖（１０〜３０、好ましくは１５〜２５の炭素原子数）の脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環を含むことが好ましい。配位子が、４．０〜１０．０の銀イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ（以下、ＲＤとする）第１７０２９及び２９９６３に記載されており、次のものがある：有機酸の塩（例えば、没食子酸、シュウ酸、べへン酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の塩）；銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩（例えば、１−（３−カルボキシプロピル）チオ尿素、１−（３−カルボキシプロピル）−３，３−ジメチルチオ尿素等）；アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀錯体（例えば、アルデヒド類（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等）、ヒドロキシ置換酸類（例えば、サリチル酸、安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、５，５−チオジサリチル酸）、チオエン類の銀塩又は錯体（例えば、３−（２−カルボキシエチル）−４−ヒドロキシメチル−４−（チアゾリン−２−チオエン、及び３−カルボキシメチル−４−チアゾリン−２−チオエン）、イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、１，２，４−チアゾール及び１Ｈ−テトラゾール、３−アミノ−５−べンジルチオ−１，２，４−トリアゾール及びべンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体又塩；サッカリン、５−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩；及びメルカプチド類の銀塩。これらの内、好ましい銀源はベヘン酸銀、アラキジン酸及び／又はステアリン酸である。
【０１１９】
有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平９−２２７６４３号に記載されている様なコントロールドダブルジェット法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカリ金属塩（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ（例えば、べヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど）を作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよい。
【０１２０】
本発明に於いて有機銀塩は平均粒径が２μｍ以下でありかつ単分散であることが好ましい。有機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒径は好ましくは０．０５μｍ〜１．５μｍ、特に０．０５μｍ〜１．０μｍが好ましい。又単分散とは、ハロゲン化銀の場合と同義であり、好ましくは単分散度が１〜３０である。又、本発明の有機銀塩に於いては、全有機銀塩の６０％以上が平板状粒子であることが好ましい。本発明に於いて平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、いわゆる下記式で表されるアスペクト比（ＡＲと略す）が３以上のものをいう。
ＡＲ＝平均粒径（μｍ）／厚さ（μｍ）
【０１２１】
有機銀塩をこれらの形状にするためには、前記有機銀結晶をバインダーや界面活性剤などをボールミルなどで分散粉砕することで得られる。この範囲にすることで濃度が高く、かつ画像保存性に優れた感光材料が得られる。
【０１２２】
本発明に於いては感光材料の失透を防ぐためには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量が銀量に換算して１ｍ２当たり０．５ｇ以上２．２ｇ以下であることが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得られる。又銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比で５０％以下、好ましくは２５％以下、更に好ましくは０．
１％〜１５％の間である。
【０１２３】
還元剤は、銀イオンを金属銀に還元できるいずれの材料でも良く、好ましくは有機材料である。フェニドン、ヒドロキノン及びカテコールのような従来の写真現像剤が有用である。しかし、フェノール還元剤が好ましい。還元剤は画像形成層の１〜１０重量％存在するべきである。多層構成においては、還元剤が乳剤層以外の相に添加される場合は、わずかに高い割合である約２〜１５重量％がより望ましい。
【０１２４】
好適な還元剤の例は、米国特許第３，７７０，４４８号、同第３，７７３，５１２号、同第３，５９３，８６３号、及びＲＤ１７０２９及び２９９６３に記載されており、次のものがある。
【０１２５】
アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物（例えば、２−ヒドロキシピペリジノ−２−シクロヘキセノン）；還元剤の前駆体としてアミノリダクトン類（ｒｅｄｕｃｔｏｎｅｓ）エステル（例えば、ピペリジノへキソースリダクトンモノアセテート）；Ｎ−ヒドロキシ尿素誘導体（例えば、Ｎ−ｐ−メチルフェニル−Ｎ−ヒドロキシ尿素）；アルデヒド又はケトンのヒドラゾン類（例えば、アントラセンアルデヒドフェニルヒドラゾン）；ホスファーアミドフェノール類；ホスファーアミドアニリン類；ポリヒドロキシベンゼン類（例えば、ヒドロキノン、ｔ−ブチル−ヒドロキノン、イソプロピルヒドロキノン及び（２，５−ジヒドロキシ−フェニル）メチルスルホン）；スルフヒドロキサム酸類（例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸）；スルホンアミドアニリン類（例えば、４−（Ｎ−メタンスルホンアミド）アニリン）；２−テトラゾリルチオヒドロキノン類（例えば、２−メチル−５−（１−フェニル−５−テトラゾリルチオ）ヒドロキノン）：テトラヒドロキノキサリン類（例えば、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン）；アミドオキシム類；アジン類（例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラザイド類とアスコルビン酸の組み合わせ）；ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシルアミンの組み合わせ、リダクトン及び／又はヒドラジン；ヒドロキサン酸類：アジン類とスルホンアミドフェノール類の組み合わせ；α−シアノフェニル酢酸誘導体；ビス−β−ナフトールと１，３−ジヒドロキシべンゼン誘導体の組み合わせ；５−ピラゾロン類；スルホンアミドフェノール還元剤；２−フェニルインダン−１，３−ジオン等；クロマン；１，４−ジヒドロピリジン類（例えば、２，６ージメトキシ−３，５−ジカルボエトキシ−１，４−ジヒドロピリジン）；ビスフェノール類（例えば、ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタン、ビス（６−ヒドロキシ−ｍ−トリ）メシトール（ｍｅｓｉｔｏｌ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、４，５−エチリデン−ビス（２−ｔ−ブチル−６−メチル）フェノール）、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体及び３−ピラゾリドン類等。中でも特に好ましい。
【０１２６】
還元剤はヒンダードフェノール類である。ヒンダードフェノール類としては下記一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。
【化１】
式中、Ｒは水素原子、又は炭素原子数１〜１０のアルキル基（例えば、−Ｃ４Ｈ９、２，４，４−トリメチルペンチル）を表し、Ｒ′及びＲ″は炭素原子数１〜５のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｔ−ブチル）を表す。
一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定されるものではない。
【化２】
前記一般式（Ａ）で表される化合物を始めとする還元剤の使用量は好ましくは銀１モル当り１×１０−２〜１０モル、特に１×１０−２〜１．５モルである。
【０１２９】
本発明の熱現像感光材料に好適なバインダは透明又は半透明で、一般に無色であることが好ましく、天然ポリマーや合成樹脂ポリマー及びコポリマーなどが好ましい。また、熱現像の速度を速めるために、感光層のバインダー量が１０ｇ／ｍ２以下（特に、８ｇ／ｍ２以下）であることが好ましい。また、未レーザ露光装置の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合が生じないように、即ち、濃度が安定するように、１．５ｇ／ｍ２以上（特に、１．７ｇ／ｍ２以上）であることが好ましい。
【０１３０】
このようなバインダとしては、例えば：ゼラチン、アラビアゴム、ポリ（ビニルアルコール）、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリ（ビニルピロリドン）、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メチルメタクリル酸）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（メタクリル酸）、コポリ（スチレン−無水マレイン酸）、コポリ（スチレン−アクリロニトリル）、コポリ（スチレン−ブタジエン）、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）及びポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）、ポリ（エポキシド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ（ビニルアセテート）、セルロースエステル類、ポリ（アミド）類がある。バインダは、親水性でも疎水性でもよいが、本発明に於いては、熱現像後のカブリを低減させるために、疎水性透明バインダーを使用することが好ましい。好ましいバインダとしては、ポリ（ビニルブチラール）、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリル酸、ポリウレタンなどが挙げられる。その中でもポリビニルブチラール、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステルは特に好ましく用いられる。
【０１３１】
また、疎水性バインダの場合、残留溶媒が含有されていることが好ましい。残留溶媒としては、メチル−エチル−ケトンやアセトンなどが挙げられるが、これらに限られない。また、残留溶媒量としては、２０ｍｇ／ｍ２以上（特に、２５ｍｇ／ｍ２以上）であることが好ましく、また、５００ｍｇ／ｍ２以下（特に、３００ｍｇ／ｍ２以下）であることが好ましい。なお、残留溶煤量の測定には、ガスクロマトグラフィーを用いると良い。
【０１３２】
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、還元可能な銀源（有機銀塩）、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀の色調を抑制する色調剤を通常（有機）バインダーマトリックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常温で安定であるが、露光後高温（例えば、８０℃〜１４０℃）に加熱することで現像される。加熱することで有機銀塩（酸化剤として機能する）と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から水等の処理液を供給することなしで進行する。
【０１３３】
本発明に用いられる好適な色調剤の例はＲＤ１７０２９号に開示されており、次のものがある。イミド類（例えば、フタルイミド）；環状イミド類、ピラゾリン−５−オン類、及びキナゾリノン（例えば、スクシンイミド、３−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−フェニルウラゾール、キナゾリン及び２，４−チアゾリジンジオン）；ナフタールイミド類（例えば、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタールイミド）；コバルト錯体（例えば、コバルトのへキサミントリフルオロアセテート）、メルカプタン類（例えば、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール）；Ｎ−（アミノメチル）アリールジカルボキシイミド類（例えば、Ｎ−（ジメチルアミノメチル）フタルイミド）；ブロックされたピラゾール類、イソチウロニウム（ｉｓｏｔｈｉｕｒｏｎｉｕｍ）誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ（例えば、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレン（１−カルバモイル−３，５−ジメチルピラゾール）、１，８−（３，６−ジオキサオクタン）ビス（イソチウロニウムトリフルオロアセテート）、及び２−（トリブロモメチルスルホニル）べンゾチアゾールの組み合わせ）；メロシアニン染料（例えば、３−エチル−５−（（３−エチル−２−ベンゾチアゾリニリデン（ベンゾチアゾリニリデン））−１−メチルエチリデン）−２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン）：フタラジノン、フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩（例えば、４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノン、５，７−ジメチルオキシフタラジノン、及び２，３‐ジヒドロ−１，４−フタラジンジオン）；フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ（例えば、６−クロロフタラジノン＋ベンゼンスルフィン酸ナトリウム又は８−メチルフタラジノン＋ｐ−トリスルホン酸ナトリウム）；フタラジン＋フタル酸の組み合わせ；フタラジン（フタラジンの付加物を含む）とマレイン酸無水物、及びフタル酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物）から選択される少なくとも１つの化合物との組み合わせ；キナゾリンジオン類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導体；ベンズオキサジン−２，４−ジオン類（例えば、１，３−ベンズオキサジン−２，４−ジオン）；ピリミジン類及び不斉−トリアジン類（例えば、２，４−ジヒドロキシピリミジン）、及びテトラアザペンタレン誘導体（例えば、３，６−ジメルカプト−１，４−ジフェニル−１Ｈ，４Ｈ−２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペンタレン）。これらの内、好ましい色調剤としてはフタラゾン又はフタラジンである。
【０１３４】
本発明には現像を抑制或いは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができる。
【０１３５】
本発明にメルカプト化合物を使用する場合、いかなる構造のものでも良いが、Ａｒ−ＳＭ、Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒで表されるものが好ましい。
【０１３６】
式中、Ｍは水素原子又はアルカリ金属原子であり、Ａｒは１個以上の窒素、イオウ、酸素、セレニウム又はテルリウム原子を有する芳香環又は縮合芳香環である。好ましくは、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、べンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、べンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン又はキナゾリノンである。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン（例えば、Ｂｒ及びＣｌ）、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、アルキル（例えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有するもの）及びアルコキシ（例えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有するもの）からなる置換基群から選択されるものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香族化合物としては、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトべンズオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプト−５−メチルべンゾチアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトキノリン、８−メルカプトプリン、２，３，５，６−テトラクロロ−４−ピリジンチオール、４−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、２−メルカプト−４−フェニルオキサゾールなどが挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１３７】
本発明の熱現像感光材料中にはかぶり防止剤が含まれて良い。有効なかぶり防止剤として例えば米国特許第３，５８９，９０３号などで知られている水銀化合物は環境的に好ましくない。そのため非水銀かぶり防止剤の検討が古くから行われてきた。非水銀かぶり防止剤としては例えば米国特許第４，５４６，０７５号及び同第４，４５２，８８５号及び特開昭５９−５７２３４号に開示されている様なかぶり防止剤が好ましい。
【０１３８】
特に好ましい非水銀かぶり防止剤は、米国特許第３，８７４，９４６号及び同第４，７５６，９９９号に開示されているような化合物、−Ｃ（Ｘ１）（Ｘ２）（Ｘ３）（ここでＸ１及びＸ２はハロゲンであり、Ｘ３は水素又はハロゲン）で表される１以上の置換基を備えたヘテロ環状化合物である。好適なかぶり防止剤の例としては、特開平９−２８８３２８号段落番号〔００３０〕〜〔００３６〕に記載されている化合物等が好ましく用いられる。又もう一つの好ましいかぶり防止剤の例としては特開平９−９０５５０号段落番号〔００６２〕〜〔００６３〕に記載されている化合物である。更にその他の好適なかぶり防止剤は米国特許第５，０２８，５２３号及び英国特許出願第９２２２１３８３．４号、同第９３００１４７．７号、同第９３１１７９０．１号に開示されている。
【０１３９】
本発明の熱現像感光材料には、例えば特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４５号、米国特許第４，６３９，４１４号、同第４，７４０，４５５号、同第４，７４１，９６６号、同第４，７５１，１７５号、同第４，８３５，０９６号に記載された増感色素が使用できる。本発明に使用される有用な増感色素は例えばＲＤ１７６４３ＩＶ−Ａ項（１９７８年１２月ｐ．２３）、同Ｉｔｅｍ１８３１Ｘ項（１９７８年８月ｐ．４３７）に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に各種スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。例えば特開平９−３４０７８号、同９−５４４０９号、同９−８０６７９号記載の化合物が好ましく用いられる。
【０１４０】
本発明の熱現像感光材料は支持体上に少なくとも一層の感光層を有している。支持体上に感光層のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも１層の非感光層を形成することが好ましい。この非感光層に用いられるバインダーは感光層に用いられるバインダーと同じ種類でも異なった種類でもよい。感光層に通過する光の量又は波長分布を制御するために感光層と同じ側にフィルター染料層及び／又は反対側にアンチハレーション染料層、いわゆるバッキング層を形成しても良いし、感光層に染料又は顔料を含ませても良い。用いられる染料としては所望の波長範囲で目的の吸収を有するものであればいかなる化合物でも良いが、例えば特開昭５９−６４８１号、特開昭５９−１８２４３６号、米国特許４，２７１，２６３号、米国特許４，５９４，３１２号、欧州特許公開５３３００８号、欧州特許公開６５２４７３号、特開平２−２１６１４０号、特開平４−３４８３３９号、特開平７−１９１４３２号、特開平７−３０１８９０号などの記載の化合物が好ましく用いられる。
【０１４１】
又これらの非感光層には前記のバインダーやマット剤を含有することが好ましく、更にポリシロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベリ剤を含有してもよい。
【０１４２】
感光層は複数層にしても良く、又階調の調節のため感光層を高感度層／低感度層又は低感度層／高感度層にしても良い。
【０１４３】
また、感光材料の表面を保護したり擦り傷を防止するために、感光層の外側に非感光層として保護層を有することができる。
【０１４４】
また、感光層側（特に保護層）にマット剤を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止のためには、感光材料の表面にマット剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対し、重量比で０．５〜３０％含有することが好ましい。又、支持体を挟み感光層とは反対側の面に非感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも１層中にマット剤を含有することが好ましく、感光材料の滑り性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の層の全バインダーに対し、重量比で０．５〜４０％含有することが好ましい。
【０１４５】
マット剤の材質は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機物としては、スイス特許第３３０，１５８号等に記載のシリカ、仏国特許第１，２９６，９９５号等に記載のガラス粉、英国特許第１，１７３，１８１号等に記載のアルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩、等をマット剤として用いることができる。有機物としては、米国特許第２，３２２，０３７号等に記載の澱粉、ベルギー特許第６２５，４５１号や英国特許第９８１，１９８号等に記載された澱粉誘導体、特公昭４４−３６４３号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第３３０，１５８号等に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリレート、米国特許第３，０７９，２５７号等に記載のポリアクリロニトリル、米国特許第３，０２２，１６９号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット剤を用いることができる。
【０１４６】
マット剤の形状は、定形、不定形どちらでも良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられる。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算したときの直径で表される。本発明に於いてマット剤の粒径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
【０１４７】
マット剤は、平均粒径が０．５μｍ〜１０μｍであることが好ましく、更に好ましくは１．０μｍ〜８．０μｍである。又、粒子サイズ分布の変動係数としては、５０％以下であることが好ましく、更に好ましくは４０％以下であり、特に好ましくは３０％以下となるマット剤である。
【０１４８】
ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表される値である。
（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００
【０１４９】
マット剤は任意の構成層中に含むことができるが、好ましくは感光層以外の構成層であり、更に好ましくは支持体から見て最も外側の層である。
【０１５０】
マット剤の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いてもよい。又複数の種類のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
【０１５１】
各種の添加剤は感光層、非感光層、又はその他の形成層のいずれに添加しても良い。本発明の熱現像感光材料には例えば、界面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良い。これらの添加剤及び上述したその他の添加剤はＲＤ１７０２９（１９７８年６月ｐ．９〜１５）に記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【０１５２】
本発明で用いられる支持体は現像処理後の画像の変形を防ぐためにプラスチックフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポリエチレンナフタレート）であることが好ましい。支持体の厚みとしては５０〜３００μｍ程度、好ましくは７０〜１８０μｍである。又熱処理したプラスチック支持体を用いることもできる。採用するプラスチックとしては、前記のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれらの支持体を製膜後、感光層が塗布されるまでの間に、支持体のガラス転移点より３０℃以上高い温度に、好ましくは３５℃以上高い温度に、更に好ましくは４０℃以上高い温度に加熱することがよい。但し、支持体の融点を超えた温度に加熱しては本発明の効果は得られない。
【０１５３】
本発明に係る支持体の製膜方法及び下引製造方法は公知の方法を用いることができるが、好ましくは、特開平９−５００９４号の段落〔００３０〕〜〔００７０〕に記載された方法を用いることである。
【０１５４】
帯電性を改良するために金属酸化物及び／又は導電性ポリマーなどの導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バッキング層、感光層と下引の間の層などに含まれる。本発明に於いては米国特許５，２４４，７７３号カラム１４〜２０に記載された導電性化合物が好ましく用いられる。
【０１５５】
【実施例】
実施形態１〜３の画像記録装置をそれぞれ作成した。そして、以下に示すフィルム１及び２の各々毎に、補正データなどを予め設定した上で、対応するフィルムで、ＣＴスキャン画像とコンピュータラジオグラフィから出力されたＸ線写真画像をそれぞれプリントアウトした。そして、得られた画像で濃度ムラや擬画像の発生の有無を検査した。
【０１５６】
このような検査の結果、いずれの組み合わせでも、実用上問題となるような濃度ムラや擬画像の発生はなかった。この本発明者らによる実験結果により、上述した実施の形態による露光制御により、濃度ムラを効果的に抑制できることが確認できた。
【０１５７】
＜ハロゲン化銀写真感光性熱現像材料のフィルム１＞
［支持体の作製］
濃度０．１７０（コニカ（株）製デンシトメータＰＤＡ−６５）に青色着色した、厚み１７５μｍのＰＥＴフィルムの両面に８ｗ／ｍ２・分のコロナ放電処理を施した。
【０１５８】
［感光性ハロゲン化銀乳剤Ａの調製］
水９００ｍｌ中に平均分子量１０万のオセインゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解して温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液及び塩化イリジウムを銀１モル当たり１×１０−４モルを、ｐＡｇ７．７に保ちながらコントロールドダブルジェット法で１０分間かけて添加した。その後４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン０．３ｇを添加しＮａＯＨでｐＨを５に調整して平均粒子サイズ０．０６μｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率８７％の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤Ａを得た。
【０１５９】
［ベへン酸Ｎａ溶液の調製］
３４０ｍｌのイソプロパノールにベへン酸３４ｇを６５℃で溶解した。次に攪拌しながら０．２５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液をｐＨ８．７になる様に添加した。この際水酸化ナトリウム水溶液は約４００ｍｌ必要とした。次にこのベヘン酸ナトリウム水溶液を減圧濃縮を行いべヘン酸ナトリウムの濃度が重量％で８．９％とした。
【０１６０】
［ベへン酸銀の調製］
７５０ｍｌの蒸留水中に３０ｇのオセインゼラチンを溶解した溶液に２．９４Ｍの硝酸銀溶液を加え銀電位を４００ｍＶとした。この中にコントロールドダブルジェット法を用いて７８℃の温度下で前記ベヘン酸ナトリウム溶液３７４ｍｌを４４．６ｍｌ／分のスピードで添加し同時に２．９４Ｍの硝酸銀水溶液を銀電位が４００ｍＶになる様に添加した。添加時のベヘン酸ナトリウム及び硝酸銀の使用量はそれぞれ０．０９２モル、０．１０１モルであった。
【０１６１】
添加終了後さらに３０分攪拌し限外濾過により水溶性塩類を除去した。
【０１６２】
［感光性乳剤Ｂの調製］
このべへン酸銀分散物に前記ハロゲン化銀乳剤Ａをそれぞれ０．０１モル加え、更に攪拌しながらポリ酢酸ビニルの酢酸ｎ−ブチル溶液（１．２ｗｔ％）１００ｇを徐々に添加して分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に２回の水洗と水の除去を行った後、残った分散物２００ｇに対し、バインダーとしてポリビニルブチラール（平均分子量３０００）の２．５ｗｔ％の酢酸ブチルとイソブロピルアルコールの１：２混合溶液６０ｇを攪拌しながら加えた後、こうして得られたゲル状のベへン酸及びハロゲン化銀の混合物にバインダーとしてポリビニルブチラール（平均分子量４０００）１．５ｇ及びイソプロピルアルコール２４０ｍｌを加え５００ｇに仕上げて分散し、感光性乳剤Ｂを調製した。
【０１６３】
［感光層塗布液Ｂの調製］
前記感光性乳剤Ｂ（５００ｇ）およびＭＥＫ１００ｇを攪拌しながら２１℃に保温した。ピリニジウムヒドロブロミドパーブロミド（ＰＨＰ、０．４５ｇ）を加え、１時間攪拌した。さらに臭化カルシウム（１０％メタノール溶液３．２５ｍｌ）を添加して３０分攪拌した。
【０１６４】
次に増感色素−１、４−クロロ−２−べンゾイル安息香酸、および強色増感剤（５−メチル−２−メルカプトべンズイミダゾール）の混合溶液（混合比率１：２５０：２０、増感色索で０．１％メタノール溶液、７ｍｌ）を添加して１時間攪拌した後に温度を１３℃まで降温してさらに３０分攪拌する。
【０１６５】
１３℃に保温したまま、ポリビニルブチラール４８ｇを添加して充分溶解してから、以下の添加物を添加し、感光層塗布液Ｂを調製する。
還元剤−１：１５ｇ（０．０４８４ｍｏｌ）
デスモデュＮ３３００（モーベイ社、脂肪族イソシアネート） １．１０ｇ
フタラジン（色調剤） １．５ｇ
テトラクロロフタル酸 ０．５ｇ
４−メチルフタル酸 ０．５ｇ
ＩＲ染料：８ｍｇ
【０１６６】
［感光層面側塗布］
感光層塗布液Ｂを調製した後、１３℃に保温して所定時間、停滞保持してから、支持体上に以下の各層を順次形成し、試料を作成した。尚、乾燥は各々７５℃，５分間で行い、フィルム１を得た。
感光層１：感光層塗布液Ｂを塗布銀量２ｇ／ｍ２になる様に塗布する。
【０１６７】
＜ハロゲン化銀写真感光性熱現像材料のフィルム２＞
［感光性乳剤Ｃの調製］
ハロゲン化銀−ベヘン酸銀ドライ乳剤を、米国特許第３，８３９，０４９号に記載の方法によって調製した。上記ハロゲン化銀は総銀量の９モル％を有し、一方べへン酸銀は総銀量の９１モル％を有した。上記ハロゲン化銀は、ヨウ化物２％を有する０．０５５μｍ臭化ヨウ化銀乳剤であった。
【０１６８】
［感光層塗布液Ｃの調製］
熱現像乳剤を、上記ハロゲン化銀−ベヘン酸銀ドライ乳剤４５５ｇ、トルエン２７ｇ、２−ブタノン１９１８ｇ、およびポリビニルブチラール（モンサント製のＢ−７９）と均質化した。上記均質化熱現像乳剤（６９８ｇ）および２−ブタノン６０ｇを攪拌しながら１２．８℃まで冷却した。ピリジニウムヒドロブロミドペルブロミド（０．９２ｇ）を加えて、２時間攪拌した。
【０１６９】
臭化カルシウム溶液（ＣａＢｒ（１ｇ）とメタノール１０ミリリットル）３．２５ミリリットルを加え、統いて３０分間撹拌した。更にポリビニルブチラール（１５８ｇ；モンサント製Ｂ−７９）を加え、２０分間攪拌した。温度を２１．１℃まで上昇し、以下のものを攪拌しながら１５分間かけて加え、感光層塗布液Ｃを調製した。
尚、染料Ｓ−１は以下の構造を有する。
【化４】
［保護層溶液Ｃの調整］
保護層溶液Ｃを以下の成分を用いて調製した。
この感光層塗布液Ｃと保護層溶液Ｃとを、ナイフ・コータにより、同時に、０．１８ｍｍの青色ポリエステル・フィルム・べースに塗布する。この際、感光層塗布液Ｃの上に保護層溶夜Ｃを塗布する。また、感光層塗布液は、１ｍ２当たりの乾燥被膜重量が２３ｇとなるように、そして、保護層溶液Ｃは、ｌｍ２当たりの乾燥被膜重量が２．４ｇとなるように塗布される。そして、塗布されたポリエステル・べースを、７９．４℃で４分間乾燥して、フィルム２を得る。
【０１７３】
【発明の効果】
本発明によれば、感光性熱現像材料に形成される干渉縞が減少し、より高画質な画像を形成することができるため、特に医療分野の画像形成装置に用いた場合、医者等の診断に大きく貢献する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態にかかる画像記録装置の正面図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかる画像記録装置の左側面図である。
【図３】レーザ露光装置１２０の構成を示す概略図である。
【図４】第１の実施の形態にかかるレーザ光源部の回路構成を示す図である。
【図５】高周波重畳部２３０の回路構成を示す図である。
【図６】図６（ａ）は、変調部２２１から出力される変調信号Ｖと、高周波重畳部２３０から出力される信号Ｒとを対比させて示したものであり、図６（ｂ）は、重畳により得られた重畳信号ＲＶを示した図である。
【図７】第２の実施の形態にかかるレーザ光源部の回路構成を示す図である。
【図８】第３の実施の形態にかかるレーザ光源部の回路構成を示す図である。
【図９】フィルムＦの断面図であり、露光時におけるフィルムＦ内の化学的反応を模式的に示した図である。
【図１０】加熱時におけるフィルムＦ内の化学的反応を模式的に示した、図８と同様な断面図である。
【符号の説明】
１００ 画像記録装置
１１０ 格納部
１２０ レーザ露光装置
１２５，２２５，３２５ レーザ照射部
２３０ 高周波重畳部
２２２、２２３、２２４ 高周波カットフィルタ
１３０ 現像部
１４２ 搬送ローラ
Ｆ フィルム[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laser exposure method and a laser exposure apparatus.
[0002]
[Prior art]
In order to record an image based on image data, an image forming apparatus provided with a laser exposure apparatus that exposes a silver halide photographic light-sensitive material with a laser beam is conventionally known. According to such an image forming apparatus, after the laser exposure, the silver halide photographic light-sensitive material needs to be subjected to liquid processing, which takes time for processing and increases the size of the apparatus. On the other hand, in recent years, a silver halide photothermographic material that does not require liquid processing and can visualize an image by heat development has appeared. However, it has been found that when this is exposed with laser light, interference fringes are formed. Such interference fringes degrade the image quality of the image formed on the photosensitive material by laser exposure.
[0003]
In particular, a photosensitive layer containing silver halide grains and organic acid silver is provided on a support, and the content of silver halide grains in the photosensitive layer is 1 g / m.2In the following, the silver halide photothermographic material in which the average grain size of silver halide grains in the photosensitive layer is 0.1 μm or less, the light transmittance at an average wavelength of laser light is 20% or more, and γ is 2 or more In this case, it was found that the interference fringes are remarkably formed, and the image quality of the image formed on the photosensitive material is remarkably lowered.
[0004]
On the other hand, Japanese Patent Laid-Open No. 8-21521 discloses that a high frequency signal is superimposed on an input signal to a laser diode to drive the laser diode to prevent interference fringes.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
The principle of interference fringe prevention by this prior art is as follows. Laser diodes are classified into laser diodes that always emit longitudinal multimode light without inputting high-frequency superimposed signals, and laser diodes that originally emit light in longitudinal single mode. Laser diodes that emit longitudinal multimode light at all times usually have a larger emission point and a wider wavelength distribution in many laser oscillation modes than laser diodes that emit light in longitudinal single mode. In a laser exposure apparatus for exposing a photosensitive material, particularly a laser exposure apparatus for deflecting and scanning laser light, it is difficult and expensive to design and produce an optical system for focusing the beam on the photosensitive surface of the photosensitive material. In general, a laser diode that emits light in a single longitudinal mode is preferable.
[0006]
However, when a laser diode that emits light in a longitudinal single mode is exposed while maintaining a state that emits light in a longitudinal single mode, interference fringes usually occur. Usually, a laser diode that emits a longitudinal single mode emits a longitudinal multimode that is a spectrum in which a number of laser oscillation modes are excited for a few seconds immediately after supplying a current exceeding a threshold current value, and then It has the characteristic of emitting longitudinal single mode, which is a spectrum in which only a single laser oscillation mode is excited.
[0007]
On the other hand, when the laser diode emits light in the longitudinal multimode, the spectrum in which a large number of laser oscillation modes are excited, the interference fringes due to the respective laser oscillation modes cancel each other, and the interference fringes can be suppressed.
[0008]
Therefore, the laser diode is driven by superimposing the high-frequency signal on the input signal to the laser diode, and the current is supplied over the threshold current value every few seconds to cause the laser diode to emit longitudinal multimode light. Before the mode light emission, the current to be supplied is made lower than the threshold current value, the light emission is stopped, the current is supplied exceeding the threshold current value, and the vertical multimode light emission is repeated to repeat the vertical multimode light emission. The state is maintained and interference fringes are suppressed.
[0009]
As a result, a laser diode that emits light in a longitudinal single mode usually emits light in a longitudinal multimode, and the wavelength varies at most on the order of several tens of nanometers.
[0010]
However, the conventional technology has not sufficiently suppressed interference fringes. In particular, a photosensitive layer containing silver halide grains having an average particle diameter of 0.1 μm or less and organic acid silver is provided on a support, and the light transmittance at an average wavelength of laser light is 20% or more, γ In the case of a silver halide photothermographic material having 2 or more, interference fringes were not sufficiently suppressed.
[0011]
As a result of intensive studies on this point, the present inventors have found the following. The reason why interference fringes, which have not been a problem in silver halide photographic materials developed by conventional liquid development, is a problem in new silver halide photothermographic materials is in the photosensitive layer of such photosensitive materials. Dye that can be mixed in advance with the photosensitive layer and the layer on the support side of the photosensitive layer in order to make the silver halide grains smaller and the laser beam that passes through the photosensitive layer is less likely to scatter and to eliminate the need for liquid development It is conceivable that the amount of is reduced.
[0012]
On the other hand, if the superimposed high-frequency signal flows through the modulation unit, the high-frequency signal with sufficient amplitude cannot be applied to the signal input to the laser diode, and the current supplied every few seconds cannot be reduced below the threshold current value. It has been found that the ratio of time during which the laser diode emits light in the longitudinal single mode increases, and that interference fringes are not sufficiently suppressed.
[0013]
In addition, a feedback system for maintaining the emission intensity of the laser diode at a predetermined intensity allows the modulation unit to perform a phase modulation opposite to the high frequency signal, and as a result, the signal input to the laser diode does not get a sufficiently high frequency signal. The current supplied every few seconds cannot be made lower than the threshold current value, and the ratio of the time during which the laser diode emits light in the longitudinal single mode increases, thereby preventing interference fringes from being sufficiently suppressed, and the laser diode. It has been found that the emission intensity of can not be kept at a predetermined intensity.
[0014]
In addition, since the high frequency signal output from the high frequency superimposing unit may flow to other circuits and have an adverse effect, it is necessary to avoid this.
[0015]
The present invention has been made in view of these problems, and provides a laser exposure method and a laser exposure apparatus that can improve conventional problems and reduce interference fringes.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
The above-described problems of the present invention can be solved by the following means. Hereinafter, means and actions for solving this will be described.
(1)In the modulation sectionA modulation signal is output according to the image data, and the output modulation signalIn the high frequency superimposing sectionSuperimposing a high-frequency signal, inputting the superimposed signal on which the high-frequency signal is superimposed to a laser diode, oscillating laser light, detecting the intensity of the laser light oscillated from the laser diode, and detecting the detected laser A photosensitive layer containing silver halide grains and organic acid silver is provided on a support while feedback controlling the modulation signal according to the intensity of light, and the content of silver halide grains in the photosensitive layer is 1 g / m2In the following, the silver halide photothermographic material wherein the average grain size of silver halide grains in the photosensitive layer is 0.1 μm or less, the light transmittance at the average wavelength of the laser beam is 20% or more, and γ is 2 or more. In a laser exposure method of scanning and exposing a material with the laser light oscillated from the laser diode, the material is output by detecting the intensity of the laser light, passes a frequency component of a pixel frequency of the modulation signal, and The modulation signal is controlled by a detection signal that passes through a high-frequency cut filter that cuts high-frequency components above the frequency.And a high-frequency cut filter different from the high-frequency cut filter is provided between the modulation unit and the high-frequency superposition unit.Since the laser exposure method is characterized by
As a result, the feedback system for keeping the emission intensity of the laser diode at a predetermined intensity controls the modulation signal at a frequency lower than the frequency of the high-frequency signal, so that the modulation of the opposite phase to the superposed high-frequency signal is suppressed. The current supplied for each period of the high-frequency signal can be reduced below the threshold current value, the time for the laser diode to emit light in the longitudinal multimode can be lengthened, interference fringes can be reduced well, and liquid development is not required. Also, an image with good discrimination and visibility can be obtained. Moreover, if an image for medical diagnosis is recorded, a good diagnosis can be made.
In addition, this prevents the high-frequency signal from flowing to the side that outputs the modulation signal, and a high-frequency signal with sufficient amplitude rides on the signal input to the laser diode, and the current supplied for each cycle of the high-frequency signal is the threshold current value. The time required for the laser diode to emit light in the longitudinal multimode can be lengthened, interference fringes can be reduced well, and an image with good discrimination and visibility can be obtained without liquid development. Moreover, if an image for medical diagnosis is recorded, a good diagnosis can be made.
[0018]
(2) The other high-frequency cut filter is a high-frequency cut filter that cuts a frequency component equal to or higher than a frequency h3 that satisfies h1 <h3 <h2 when the pixel frequency is h1 and the frequency of the high-frequency signal is h2. IsSince this is the laser exposure method according to (1),
ThisThis effectively suppresses the flow of high-frequency signals to the side that outputs the modulation signal, and the time during which the laser diode emits longitudinal multi-mode light becomes longer, and interference fringes can be reduced more effectively. Better images. In particular, if an image for medical diagnosis is recorded, a better diagnosis can be made.
[0023]
(3)The ratio of the longitudinal multi-mode emission time in the total irradiation time of the laser light incident on the silver halide photothermographic material is 80% or more (1) to(2)Since the laser exposure method according to any one of the above,
Thereby, interference fringes can be reduced more favorably, and an image with better discrimination and visibility can be obtained. Further, if an image for medical diagnosis is recorded, a better diagnosis can be performed.
[0025]
(4)Scanning exposure with laser light is performed while conveying the silver halide photothermographic material, and the incident angle of the laser beam incident on the silver halide photothermographic material with respect to the sub-scanning direction is 5 ° or less. (1)-(3)Since the laser exposure method according to any one of the above,
As a result, the scanning exposure with the laser beam is performed while the photothermographic material is conveyed, so that the total process time is shortened. In addition, although the interference fringes can be reduced satisfactorily, the incident angle in the sub-scanning direction of the laser light incident on the photothermographic material is 5 ° or less. Can be suppressed, and an image with better discrimination and visibility can be obtained. In particular, since the total process time is short, and the discrimination and visibility are better, recording a medical diagnosis image can quickly make a better diagnosis.
[0026]
(5) a modulation unit that outputs a modulation signal according to image data;
A high-frequency superimposing unit that superimposes a high-frequency signal on the modulation signal;
A laser diode that oscillates a laser beam by receiving a superimposed signal on which the high-frequency signal is superimposed;
A light intensity sensor for detecting the intensity of laser light oscillated from the laser diode;
Laser exposure for exposing a silver halide photothermographic material with laser light oscillated by the laser diode while inputting a detection signal detected from the output of the light intensity sensor into the modulation unit and performing feedback control based on the detection signal In the device
Between the light intensity sensor and the modulation unit, a high frequency cut filter that cuts a frequency component equal to or higher than the frequency of the high frequency signal and passes a pixel frequency component,
Since it is a laser exposure apparatus characterized by having a high-frequency cut filter different from the high-frequency cut filter between the modulation unit and the high-frequency superposition unit,
As a result, the feedback system for keeping the emission intensity of the laser diode at a predetermined intensity controls the modulation signal at a frequency lower than the frequency of the high-frequency signal, so that the modulation of the opposite phase to the superposed high-frequency signal is suppressed. The current supplied for each period of the high-frequency signal can be reduced below the threshold current value, the time for the laser diode to emit light in the longitudinal multimode can be lengthened, interference fringes can be reduced well, and liquid development is not required. Also, an image with good discrimination and visibility can be obtained. Moreover, if an image for medical diagnosis is recorded, a good diagnosis can be made.
In addition, this prevents the high-frequency signal from flowing to the side that outputs the modulation signal, and a high-frequency signal with sufficient amplitude rides on the signal input to the laser diode, and the current supplied for each cycle of the high-frequency signal is the threshold current value. The time required for the laser diode to emit light in the longitudinal multimode can be lengthened, interference fringes can be reduced well, and an image with good discrimination and visibility can be obtained without liquid development. Moreover, if an image for medical diagnosis is recorded, a good diagnosis can be made.
[0027]
(6) The another high-frequency cut filter is a high-frequency cut filter that cuts a frequency component equal to or higher than a frequency h3 that satisfies h1 <h3 <h2 when the pixel frequency is h1 and the frequency of the high-frequency signal is h2. (5) The laser exposure apparatus according to (5).So
As a result, the high-frequency signal is more effectively suppressed from flowing to the modulation signal output side, the time for the laser diode to emit light in the longitudinal multi-mode is longer, interference fringes can be reduced better, discriminability and visibility Better images. In particular, if an image for medical diagnosis is recorded, a better diagnosis can be made.
[0042]
(Explanation of terms)
The average particle size and the average particle size are volume average particle sizes unless otherwise specified.
The longitudinal mode represents the wavelength spectrum component of the laser light oscillated from the laser diode. The longitudinal single mode emission refers to a spectrum in which only a single laser oscillation mode is excited. On the other hand, longitudinal multimode emission is a spectrum in which a large number of laser oscillation modes are excited, and is usually laser emission with a half-value width of 0.5 nm or more. In addition, from the viewpoint of the effect of the present invention, the half width is preferably 3 nm or more, and particularly preferably 5 nm or more.
[0043]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments and examples of the present invention which are examples of the present invention will be described below. Accordingly, the meaning of the terms of the invention and the invention itself should not be construed as being limited by the description of the embodiments and examples of the invention, and it goes without saying that changes / improvements can be made as appropriate.
[0044]
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a front view of an image recording apparatus incorporating the
[0045]
In FIG. 2, the
[0046]
A conveyance
[0047]
As shown in FIG. 1, a plurality of transport roller pairs 142 are provided for transporting the film F transported from the transport
[0048]
In the middle of the conveyance upward in the vertical direction, the
[0049]
A
[0050]
The timing at which the film F is supplied to the
[0051]
Instead of supplying at random timing, the timing may be supplied. As an example of timing supply, the
[0052]
The
[0053]
FIG. 3 is a schematic diagram showing the configuration of the
[0054]
In the
[0055]
The laser light L emitted from the laser
[0056]
The cylindrical lens of the
[0057]
FIG. 4 is a diagram illustrating a circuit configuration of the laser
[0058]
The
[0059]
On the other hand, the modulation signal V output from the
[0060]
The laser beam L is partially reflected by the
[0061]
In the
[0062]
FIG. 5 is a diagram illustrating a circuit configuration of the
[0063]
One end of the
[0064]
The other end of the resistor R1 is connected to the base of the amplifying transistor Tr. The other end of the resistor R1 is connected to a constant voltage power source E having a constant DC voltage common to the
[0065]
The high-frequency signal R of 200 MHz to 1 GHz output from the high-
[0066]
Next, the high frequency superposition mode will be described with reference to FIG. FIG. 6A shows a comparison between the modulation signal V output from the
[0067]
As shown by the solid line in FIG. 6A, the modulation signal V output from the
[0068]
Therefore, in the present embodiment, as shown by the dotted line in FIG. 6A, a high frequency signal of 200 MHz to 1 GHz output from the high
[0069]
When such a superimposed signal RV is supplied to the
[0070]
On the other hand, since the average value of the superimposed signal RV matches the value of the modulated signal V output from the
[0071]
By the way, when the high-frequency signal R generated from the high-
[0072]
Therefore, in the present embodiment, the
h1 <h3 <h2
[0073]
Thereby, the modulation signal V and the signal S output from the
[0074]
On the other hand, since the
[0075]
Therefore, in this embodiment, the
h1 <h3 <h2
[0076]
Accordingly, the detection signal P output from the
[0077]
In the high
[0078]
In the present embodiment, the signal S corresponding to the image data is transmitted from the
[0079]
Furthermore, according to the present embodiment, the feedback system (photodiode 227) for keeping the light emission intensity of the
[0080]
Further, according to the present embodiment, by applying a high-frequency signal with sufficient amplitude to the superimposed signal RV input to the
[0081]
By the way, according to the laser light source unit of the first embodiment shown in FIG. 4, the high frequency signal R from the high
[0082]
(Embodiment 2)
Next, with respect to the second embodiment in which the laser
FIG. 5 is a diagram illustrating a circuit configuration of the laser
[0083]
The
[0084]
The superimposed signal RC can be made equal to or less than the threshold current value Ith for each period of the high-frequency signal, and repeated vertical multimode light emission can be performed as described above. Further, since the superimposed signal RG has a constant amplitude, the
[0085]
On the other hand, the
[0086]
The laser beam L is partially reflected by the
[0087]
In the
[0088]
According to the present embodiment, since the
[0089]
Furthermore, according to the present embodiment, the intensity of the laser light L that has passed through the
[0090]
In the present embodiment also, since the ratio of the longitudinal multimode light emission time in the total irradiation time of the laser light incident on the film F is 80% or more, most of the laser light L incident on the film F is thereby obtained. Since the vertical multi-mode emission is caused, interference fringes based on the laser light L can be effectively reduced.
[0091]
(Embodiment 3)
Next, with respect to the third embodiment in which the laser
FIG. 6 is a diagram illustrating a circuit configuration of the laser light source unit 325 according to the third embodiment. In FIG. 6, the laser light source unit 325 includes a
[0092]
The
[0093]
The laser beam L emitted from the
[0094]
In the
[0095]
The detection signal P output from the
[0096]
In the above-described embodiment, a part of the laser light L is separated using the
[0097]
FIG. 9 is a cross-sectional view of the film F shown in the examples, and is a diagram schematically showing a chemical reaction in the film F at the time of exposure. FIG. 10 is a cross-sectional view similar to FIG. 9, schematically showing a chemical reaction in the film F during heating. In the film F, a photosensitive layer mainly composed of polyvinyl butyral is formed on a support (base layer) composed of PET, and a protective layer composed of cellulose butyrate is further formed thereon. The photosensitive layer contains photosensitive halogen particles, organic acid silver behenate (Beh. Ag), and a silver ion reducing agent as shown in FIG. 9, improving developability and maximum density. In order to improve the color tone of the silver image, a toning agent is blended.
[0098]
When the laser light L is irradiated onto the film F from the
[0099]
In the present embodiment, the film F has a photosensitive layer containing silver halide grains and organic acid silver provided on a support, and the content of silver halide grains in the photosensitive layer is 1 g / m.2In the following, the silver halide photothermographic material in which the average grain size of silver halide grains in the photosensitive layer is 0.1 μm or less, the light transmittance at an average wavelength of laser light is 20% or more, and γ is 2 or more Formed from.
[0100]
Details of the photothermographic material are described in, for example, U.S. Pat. Nos. 3,152,904, 3,457,075, and D.I. “Dry Silver Photographic Material” by Morgan, D.M. Morgan and B.M. “Thermally Processed SilverSystems” by Shelly (Imaging Processes and Materials) Nevelet 8th Edition, Sturge, Walls, Walls Walworth), edited by A. Shepp,
[0101]
Among them, the present invention is useful for those in which an image is formed by heat development of a photosensitive material at 80 to 140 ° C. and fixing is not performed. In this case, normally, the silver halide and organic silver salt remaining in the non-laser exposure apparatus are not removed and remain in the photosensitive material as they are.
[0102]
The silver halide grains in the present invention function as an optical sensor. In the present invention, in order to keep the cloudiness after image formation low and to obtain good image quality, it is preferable that the average particle size is small, the average particle size is 0.1 μm or less, more preferably 0.01 μm to 0.1 μm, particularly 0.02 μm to 0.08 μm is preferable. The grain size here refers to the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a so-called normal crystal of a cube or octahedron. In the case of non-normal crystals, for example, in the case of spherical, rod-like or tabular grains, it means the diameter when a sphere equivalent to the volume of silver halide grains is considered. The silver halide is preferably monodispersed. The monodispersion here means that the monodispersity obtained by the following formula is 40% or less. The particles are more preferably 30% or less, particularly preferably 0.1% or more and 20% or less.
Monodispersity (%) = (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100
[0103]
In the present invention, the silver halide grains are more preferably monodisperse grains having an average grain diameter of 0.1 μm or less, and the graininess of the image is also improved by using this range.
[0104]
The shape of the silver halide grains is not particularly limited, but the ratio occupied by the Miller index {100} plane is preferably high, and this ratio is 50% or more, further 70% or more, particularly 80% or more. Is preferred. The ratio of the Miller index {100} plane is a T.K. based on the adsorption dependency of {111} plane and {100} plane in the adsorption of a sensitizing dye. Tani, J .; Imaging Sci. 29, 165 (1985).
[0105]
Another preferred silver halide shape is tabular grains. The term “tabular grains” as used herein refers to those having an aspect ratio = r / h of 3 or more when the square root of the projected area is the grain size r μm and the vertical thickness is h μm. Among them, the aspect ratio is preferably 3 or more and 50 or less. The particle size is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.01 μm to 0.08 μm. These are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798, 5,320,958, etc., and the desired tabular grains can be easily obtained. When these tabular grains are used in the present invention, the sharpness of the image is further improved.
[0106]
The halogen composition is not particularly limited and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, specific silver, silver iodobromide, and silver iodide. The photographic emulsion used in the present invention is P.I. G1afkides, Chimie et Physique Photographic (published by Paul Montel, 1967), G. F. Duffin's Photographic Emission Chemistry (published by The Focal Press, 1966), V.C. L. It can be prepared using a method described in Making and Coating Photographic Emulsion (published by The Focal Press, 1964) by Zelikman et al. That is, any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method, etc. may be used, and the formation of reacting a soluble silver salt and a soluble halogen salt may be any one of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, and a combination thereof. Good. The silver halide may be added to the image forming layer by any method, and at this time, the silver halide is disposed in the vicinity of the reducible silver source. Further, the silver halide may be prepared by converting a part or all of silver in the organic acid silver to silver halide by the reaction between the organic acid silver and the halogen ion, or the silver halide is prepared in advance. This may be added to the solution for preparing the organic silver salt, or a combination of these methods is possible, but the latter is preferred. In general, the silver halide is preferably contained in an amount of 0.75 to 30% by weight based on the organic silver salt.
[0107]
The silver halide used in the present invention preferably contains a metal ion or complex ion belonging to
[0108]
These metals can be introduced into the silver halide in the form of a complex. In the present invention, the transfer metal complex is preferably a hexacoordinate complex represented by the following general formula.
General formula [ML6] m
[0109]
In the formula, M represents a transition metal selected from
Specific preferred examples of M are rhodium (Rh), ruthenium (Ru), rhenium (Re), iridium (Ir) and osmium (Os).
[0110]
Specific examples of transition metal coordination complexes are shown below.
1: [RhC16] 3-
2: [RuC16] 3-
3: [ReC16] 3-
4: [RuBr6] 3-
5: [OsC16] 3-
6; [IrC16] 2-
7; [Ru (NO) C15] 2-
8: [RuBr4 (H2O)] 2-
9: [Ru (NO) (H2O) C14]-
10: [RhCl5 (H2O)] 2-
11: [Re (NO) C15] 2-
12: [Re (NO) CN5] 2-
13: [Re (NO) ClCN4] 2-
14: [Rh (NO) 2Cl4]-
15: [Rh (NO) (H2O) Cl4]-
16: [Ru (NO) CN5] 2-
17: [Fe (CN) 6] 3-
18: [Rh (NS) Cl5] 2-
19: [Os (NO) Cl5] 2-
20: [Cr (NO) Cl5] 2-
21: [Re (NO) Cl5]-
22: [Os (NS) Cl4 (TeCN)] 2-
23: [Ru (NS) Cl5] 2-
24: [Re (NS) Cl4 (SeCN)] 2-
25: [Os (NS) Cl (SCN) 4] 2-
26: [Ir (NO) Cl5] 2-
27: [Ir (NS) Cl5] 2-
[0111]
One kind of these metal ions or complex ions may be used, or two or more kinds of the same and different metals may be used in combination. The content of these metal ions or complex ions is generally 1 × 10 −9 to 1 × 10 −2 mol per mol of silver halide, preferably 1 × 10 −8. ~ 1x10-4 mol. The compounds providing these metal ions or complex ions are preferably added at the time of silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening , May be added at any stage before or after chemical sensitization, but is preferably added at the stage of nucleation, growth and physical ripening, more preferably at the stage of nucleation and growth, most preferably Preferably, it is added at the stage of nucleation. In addition, it may be added in several divided portions, or it can be uniformly contained in the silver halide grains. JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, 3 As described in JP-A Nos. 167545, 4-76534, 6-110146, 5-273683, etc., it can also be contained in the particles with a distribution. Preferably, a distribution can be provided inside the particles. These metal compounds can be added by dissolving in water or an appropriate organic solvent (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). A method in which an aqueous solution or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to the water-soluble silver salt solution or water-soluble halide solution during particle formation, or the silver salt solution and the halide solution are mixed simultaneously When adding a third aqueous solution, a method of preparing silver halide grains by a method of simultaneous mixing of three liquids, a method of introducing an aqueous solution of a required amount of a metal compound into a reaction vessel during grain formation, or a silver halide preparation There is a method of adding and dissolving another silver halide grain which has been previously doped with metal ions or complex ions. In particular, a method of adding an aqueous solution of a metal compound powder or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to the water-soluble halide solution. When added to the particle surface, a necessary amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particle, during or after the physical ripening, or at the chemical ripening.
[0112]
The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with water using a method known in the art such as a noodle method or a flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted.
[0113]
The photosensitive silver halide grains in the present invention are preferably chemically sensitized. Preferred chemical sensitization methods are sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, noble metal sensitization methods such as gold compounds, platinum, palladium, and iridium compounds, as well known in the art, and reduction sensitization. Sensitive methods can be used. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, selenium sensitization method, and tellurium sensitization method, known compounds can be used, but compounds described in JP-A-7-242768 can be used. Compounds preferably used in the noble metal sensitization method are described in, for example, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide, or U.S. Pat. No. 2,448,060 and British Patent 618,061. The compound which has been used can be preferably used. As specific compounds of the reduction sensitization method, for example, stannous chloride, aminoiminomethylsulfuric acid, hydrazine derivative, borane compound, silane compound, polyamine compound and the like can be used in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower. Further, reduction sensitization can be performed by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation.
[0114]
The photosensitive silver halide used in the heat developing material can be used in the range of 0.75 to 25 mol%, preferably 2 to 20 mol%, relative to the organic silver salt. it can.
[0115]
The organic silver salt includes all organic materials that are silver ion sources. Silver salts of organic acids (particularly long chain fatty acids (10 to 30 carbon atoms: preferably 15 to 28 carbon atoms)) are preferred. It is preferable that the ligand is an organic or inorganic silver salt complex having a certain stability between 4.0 and 10.0 as a whole. It is preferably about 5 to 30% of the weight of the image forming layer.
[0116]
This organic silver salt is capable of producing silver ions when heated to a temperature of 80 ° C. or higher, preferably 115 ° C. or higher, particularly 120 ° C. or higher in the presence of an exposed photocatalyst (for example, photographic silver halide) and a reducing agent. The silver salt to be supplied is desirable.
[0117]
Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. They include silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the aliphatic carboxylic acid silver salt include silver behenate and silver stearate. Silver salts with halogen atoms or hydroxyls in aliphatic carboxylic acids can also be used effectively. Silver salts of compounds having a mercapto or thione group and derivatives thereof may also be used. Furthermore, a silver salt of a compound having an imino group can be used.
[0118]
In the present invention, the organic silver salt is a reducible silver source, and a silver salt of an organic acid and a hetero organic acid containing a reducible silver ion source, particularly a long chain (10-30, preferably 15- 25 aliphatic carbonic acid and a nitrogen-containing heterocyclic ring. Also useful are organic or inorganic silver salt complexes in which the ligand has a total stability constant for silver ions of 4.0-10.0. Examples of suitable silver salts are described in Research Disclosure (RD) 17029 and 29963, and include the following: salts of organic acids (eg, gallic acid, oxalic acid, behenic acid) , Salts of arachidic acid, stearic acid, palmitic acid, lauric acid, etc.); silver carboxyalkylthiourea salts (for example, 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl) -3,3- Dimethylthiourea, etc.); silver complexes of polymer reaction products of aldehydes and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids (eg, aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde, etc.), hydroxy-substituted acids (eg, salicylic acid, benzoic acid, 3, 5-dihydroxybenzoic acid, 5,5-thiodisalicylic acid), thioenes Salts or complexes (eg, 3- (2-carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4- (thiazoline-2-thioene and 3-carboxymethyl-4-thiazoline-2-thioene), imidazole, pyrazole, urazole, Nitric acid and silver complexes or salts selected from 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-triazole and benzotriazole; saccharin, 5 -Silver salts such as chlorosalicylaldoxime; and silver salts of mercaptides, among which the preferred silver sources are silver behenate, arachidic acid and / or stearic acid.
[0119]
The organic silver salt compound can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound that forms a complex with silver. As described in JP-A-9-227643, a normal mixing method, a reverse mixing method, a simultaneous mixing method, and the like. A controlled double jet method or the like is preferably used. For example, an alkali metal salt (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) is added to an organic acid to produce an organic acid alkali metal salt soap (for example, sodium behenate, sodium arachidate), then controlled double The soap and silver nitrate are added by jet to produce organic silver salt crystals. At that time, silver halide grains may be mixed.
[0120]
In the present invention, the organic silver salt preferably has an average particle size of 2 μm or less and is monodispersed. The average particle diameter of the organic silver salt refers to the diameter when a sphere equivalent to the volume of the organic silver salt particle is considered when the organic silver salt particle is, for example, a spherical, rod-like, or tabular particle. The average particle diameter is preferably 0.05 μm to 1.5 μm, particularly preferably 0.05 μm to 1.0 μm. Monodispersion is synonymous with silver halide, and the monodispersity is preferably 1-30. In the organic silver salt of the present invention, it is preferable that 60% or more of the total organic silver salt is tabular grains. In the present invention, the tabular grains mean those having an average grain diameter / thickness ratio, that is, an aspect ratio (abbreviated as AR) represented by the following formula of 3 or more.
AR = average particle diameter (μm) / thickness (μm)
[0121]
In order to make the organic silver salt into these shapes, the organic silver crystal can be obtained by dispersing and grinding the binder or surfactant in a ball mill or the like. By setting it within this range, a photosensitive material having a high density and excellent image storage stability can be obtained.
[0122]
In the present invention, in order to prevent devitrification of the photosensitive material, the total amount of silver halide and organic silver salt is preferably 0.5 g or more and 2.2 g or less per 1
Between 1% and 15%.
[0123]
The reducing agent may be any material that can reduce silver ions to metallic silver, and is preferably an organic material. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful. However, phenol reducing agents are preferred. The reducing agent should be present from 1 to 10% by weight of the imaging layer. In multi-layer configurations, a slightly higher proportion of about 2 to 15% by weight is more desirable when the reducing agent is added to a phase other than the emulsion layer.
[0124]
Examples of suitable reducing agents are described in U.S. Pat. Nos. 3,770,448, 3,773,512, 3,593,863, and RD17029 and 29963. is there.
[0125]
Aminohydroxycycloalkenone compounds (eg 2-hydroxypiperidino-2-cyclohexenone); aminoreductones esters (eg piperidinohexose reductone monoacetate) as precursors of reducing agents; N— Hydroxyurea derivatives (eg, Np-methylphenyl-N-hydroxyurea); aldehyde or ketone hydrazones (eg, anthracene aldehyde phenylhydrazone); phosphoramidophenols; phosphoramidoanilines; polyhydroxybenzenes (Eg hydroquinone, t-butyl-hydroquinone, isopropylhydroquinone and (2,5-dihydroxy-phenyl) methylsulfone); sulfhydroxamic acids (eg benzenesulfhydroxamic acid Sulfonamide anilines (eg, 4- (N-methanesulfonamido) aniline); 2-tetrazolylthiohydroquinones (eg, 2-methyl-5- (1-phenyl-5-tetrazolylthio) hydroquinone): tetrahydroquinoxaline (Eg, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline); amidooximes; azines (eg, combinations of aliphatic carboxylic acid arylhydrazides and ascorbic acid); combinations of polyhydroxybenzene and hydroxylamine, reductones And / or hydrazine; hydroxanoic acids: combinations of azines and sulfonamidophenols; α-cyanophenylacetic acid derivatives; combinations of bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives; 5-pyrazolones; Phenol reducing agent; 2-phenylindane-1,3-dione, etc .; Chroman; 1,4-dihydropyridines (for example, 2,6-dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-1,4-dihydropyridine); Bisphenols ( For example, bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane, bis (6-hydroxy-m-tri) mesitol, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) Propane, 4,5-ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methyl) phenol), UV-sensitive ascorbic acid derivatives and 3-pyrazolidones. Of these, particularly preferred.
[0126]
The reducing agent is a hindered phenol. Examples of the hindered phenols include compounds represented by the following general formula (A).
[Chemical 1]
In the formula, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, —C 4
Specific examples of the compound represented by formula (A) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
[Chemical 2]
The amount of the reducing agent including the compound represented by the general formula (A) is preferably 1 × 10 −2 to 10 mol, particularly 1 × 10 −2 to 1.5 mol, per 1 mol of silver.
[0129]
Binders suitable for the photothermographic material of the present invention are transparent or translucent and are generally colorless, and natural polymers, synthetic resin polymers and copolymers are preferred. In order to increase the speed of thermal development, the binder amount of the photosensitive layer is preferably 10 g /
[0130]
Examples of such binders include: gelatin, gum arabic, poly (vinyl alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl) Methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (e.g., poly (vinyl Vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethanes), phenoxy resins, poly (vinylidene chloride), poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate), Cellulose Ethers, and polyamides. The binder may be hydrophilic or hydrophobic, but in the present invention, a hydrophobic transparent binder is preferably used in order to reduce fogging after heat development. Preferable binders include poly (vinyl butyral), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polycarbonate, polyacrylic acid, polyurethane and the like. Among these, polyvinyl butyral, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and polyester are particularly preferably used.
[0131]
In the case of a hydrophobic binder, it is preferable that a residual solvent is contained. Residual solvents include, but are not limited to, methyl-ethyl-ketone and acetone. The residual solvent amount is preferably 20 mg /
[0132]
The photothermographic material of the present invention forms a photographic image by heat development processing. The reducible silver source (organic silver salt), the photosensitive silver halide, the reducing agent and, if necessary, the color tone of silver. It is preferably a photothermographic material containing a toning agent to be suppressed, usually dispersed in an (organic) binder matrix. The photothermographic material of the present invention is stable at room temperature, but is developed by heating to a high temperature (for example, 80 ° C. to 140 ° C.) after exposure. By heating, silver is generated through an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This redox reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated in the silver halide upon exposure. The silver produced by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image that contrasts with the unexposed areas and forms an image. This reaction process proceeds without supplying a treatment liquid such as water from the outside.
[0133]
Examples of suitable toning agents for use in the present invention are disclosed in RD 17029 and include: Imides (eg, phthalimide); cyclic imides, pyrazolin-5-ones, and quinazolinones (eg, succinimide, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline, and 2,4- Thiazolidinediones); naphthalimides (eg, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, hexamine trifluoroacetate of cobalt), mercaptans (eg, 3-mercapto-1,2,4- Triazoles); N- (aminomethyl) aryl dicarboximides (eg N- (dimethylaminomethyl) phthalimide); combinations of blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents (eg N, N'-F A combination of samethylene (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-dioxaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate), and 2- (tribromomethylsulfonyl) benzzothiazole ); Merocyanine dyes (e.g. 3-ethyl-5-((3-ethyl-2-benzothiazolinylidene (benzothiazolinylidene))-1-methylethylidene) -2-thio-2,4-oxazolidine Dione): phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (eg, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1 , 4-phthalazinedione); a combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (for example, 6- Lorophthalazinone + sodium benzenesulfinate or 8-methylphthalazinone + sodium p-trisulfonate); phthalazine + phthalic acid combination; phthalazine (including phthalazine adduct) and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3 A combination with at least one compound selected from naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof (eg phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride); quinazoline Diones, benzoxazines, naltoxazine derivatives; benzoxazine-2,4-diones (eg, 1,3-benzoxazine-2,4-dione); pyrimidines and asymmetric-triazines (eg, 2,4- Dihydroxypyrimidine) and tetraaza Ntaren derivatives (e.g., 3,6-dimercapto-1,4-diphenyl -1H, 4H-2,3a, 5,6a- tetraazapentalene). Of these, preferable colorants are phthalazone or phthalazine.
[0134]
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound can be contained in order to suppress or promote development and control development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. .
[0135]
When a mercapto compound is used in the present invention, any structure may be used, but those represented by Ar-SM and Ar-SS-Ar are preferred.
[0136]
In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine , Pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring can be, for example, halogen (eg, Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy, alkyl (eg, having one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms) and alkoxy ( For example, it may have one selected from a substituent group consisting of one or more carbon atoms, preferably one having 1 to 4 carbon atoms. Examples of mercapto-substituted heteroaromatic compounds include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-methylbenzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, Examples include 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-hydroxy-2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-4-phenyloxazole, etc. The invention is not limited to these.
[0137]
The photothermographic material of the present invention may contain an antifogging agent. Mercury compounds known as, for example, US Pat. No. 3,589,903 as an effective antifogging agent are environmentally undesirable. Therefore, examination of non-mercury fog prevention agents has been conducted for a long time. As the non-mercury antifogging agent, for example, antifogging agents as disclosed in US Pat. Nos. 4,546,075 and 4,452,885 and JP-A-59-57234 are preferable.
[0138]
Particularly preferred non-mercury antifogging agents are compounds such as those disclosed in US Pat. Nos. 3,874,946 and 4,756,999, —C (X1) (X2) (X3) (where X1 and X2 are halogens, and X3 is a heterocyclic compound having one or more substituents represented by hydrogen or halogen. As examples of suitable antifogging agents, compounds described in paragraphs [0030] to [0036] of JP-A-9-288328 are preferably used. Another preferred antifogging agent is a compound described in paragraph Nos. [0062] to [0063] of JP-A-9-90550. Still other suitable antifogging agents are disclosed in US Pat. No. 5,028,523 and British Patent Applications Nos. 92212383.4, 9300147.7, and 93111790.1.
[0139]
Examples of the photothermographic material of the present invention include JP-A-63-159841, JP-A-60-140335, JP-A-63-231437, JP-A-63-259651, JP-A-63-304242, JP-A-63-15245, US Sensitization described in Patent Nos. 4,639,414, 4,740,455, 4,741,966, 4,751,175, and 4,835,096 A dye can be used. Useful sensitizing dyes used in the present invention are described in, for example, the literature described or cited in Section RD17643IV-A (December 1978, p.23), Item 1831X (August 1978, p.437). Yes. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, compounds described in JP-A Nos. 9-34078, 9-54409, and 9-80679 are preferably used.
[0140]
The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. The binder used for the non-photosensitive layer may be the same as or different from the binder used for the photosensitive layer. In order to control the amount of light passing through the photosensitive layer or the wavelength distribution, a filter dye layer on the same side as the photosensitive layer and / or an antihalation dye layer on the opposite side, a so-called backing layer, may be formed. Dyes or pigments may be included. Any dye may be used as long as it has the desired absorption in a desired wavelength range. For example, JP-A-59-6481, JP-A-59-182436, US Pat. No. 4,271,263. U.S. Pat. No. 4,594,312, European Patent Publication 533008, European Patent Publication 562473, JP-A-2-216140, JP-A-4-348339, JP-A-7-191432, JP-A-7-301890, etc. Are preferably used.
[0141]
These non-photosensitive layers preferably contain the binder and matting agent, and may further contain a polysiloxane compound, a sliding agent such as wax or liquid paraffin.
[0142]
The photosensitive layer may be a plurality of layers, and the photosensitive layer may be a high sensitivity layer / low sensitivity layer or a low sensitivity layer / high sensitivity layer for adjusting the gradation.
[0143]
Further, in order to protect the surface of the photosensitive material or prevent scratches, a protective layer can be provided as a non-photosensitive layer outside the photosensitive layer.
[0144]
Further, it is preferable to contain a matting agent on the photosensitive layer side (particularly the protective layer), and in order to prevent damage to the image after heat development, it is preferable to dispose the matting agent on the surface of the photosensitive material. Is preferably contained in an amount of 0.5 to 30% by weight based on the total binder on the photosensitive layer side. Further, when a non-photosensitive layer is provided on the surface opposite to the photosensitive layer with the support interposed therebetween, it is preferable that at least one layer on the non-photosensitive layer side contains a matting agent, and the slipperiness of the photosensitive material and fingerprint adhesion In order to prevent this, it is preferable to dispose a matting agent on the surface of the photosensitive material, and the matting agent is contained in an amount of 0.5 to 40% by weight with respect to the total binder in the layer on the opposite side of the photosensitive layer. preferable.
[0145]
The material of the matting agent may be either organic or inorganic. Examples of inorganic substances include silica described in Swiss Patent No. 330,158 and the like, glass powder described in French Patent No. 1,296,995 and the like, and alkali described in British Patent No. 1,173,181 and the like. Earth metals or carbonates such as cadmium and zinc can be used as the matting agent. Examples of organic substances include starch described in U.S. Pat. No. 2,322,037, starch derivatives described in Belgian Patent 625,451 and British Patent 981,198, and Japanese Patent Publication No. 44-3643. Polyvinyl alcohol described, polystyrene or polymethacrylate described in Swiss Patent No. 330,158, polyacrylonitrile described in US Pat. No. 3,079,257, US Pat. No. 3,022,169 etc. An organic matting agent such as a polycarbonate can be used.
[0146]
The shape of the matting agent may be either a regular shape or an irregular shape, but is preferably a regular shape, and a spherical shape is preferably used. The size of the matting agent is represented by a diameter when the volume of the matting agent is converted into a sphere. In the present invention, the particle size of the matting agent means the diameter converted into a spherical shape.
[0147]
The matting agent preferably has an average particle size of 0.5 μm to 10 μm, more preferably 1.0 μm to 8.0 μm. The coefficient of variation of the particle size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less.
[0148]
Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.
(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size) × 100
[0149]
The matting agent can be contained in any constituent layer, but is preferably a constituent layer other than the photosensitive layer, and more preferably the outermost layer as viewed from the support.
[0150]
The method for adding the matting agent may be a method in which the matting agent is dispersed and applied in advance, or a method in which the matting agent is sprayed after the coating solution is applied and before the drying is completed may be used. When a plurality of types of matting agents are added, both methods may be used in combination.
[0151]
Various additives may be added to any of the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, and other forming layers. In the photothermographic material of the present invention, for example, a surfactant, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a coating aid and the like may be used. As these additives and the other additives described above, compounds described in RD17029 (June 1978, p.9-15) can be preferably used.
[0152]
The support used in the present invention is preferably a plastic film (for example, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate, polyimide, nylon, cellulose triacetate, polyethylene naphthalate) in order to prevent deformation of the image after development processing. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm. A heat-treated plastic support can also be used. Examples of the plastic to be used include the plastics described above. The heat treatment of the support is a temperature higher than the glass transition point of the support by 30 ° C. or more, preferably 35 ° C. or more, after these supports are formed and before the photosensitive layer is applied. It is preferable to heat to a temperature that is 40 ° C. or higher. However, the effect of the present invention cannot be obtained by heating to a temperature exceeding the melting point of the support.
[0153]
A known method can be used for the film-forming method and the subbing production method of the support according to the present invention. Preferably, the method described in paragraphs [0030] to [0070] of JP-A-9-50094 is used. Is to use.
[0154]
In order to improve the charging property, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be included in the constituent layer. These may be contained in any layer, but are preferably contained in the undercoat layer, the backing layer, the layer between the photosensitive layer and the undercoat, and the like. In the present invention, the conductive compounds described in US Pat. No. 5,244,773,
[0155]
【Example】
The image recording apparatuses of
[0156]
As a result of such inspection, in any combination, there was no occurrence of density unevenness or pseudo image that would be a practical problem. From the experimental results by the present inventors, it has been confirmed that the density unevenness can be effectively suppressed by the exposure control according to the above-described embodiment.
[0157]
<
[Production of support]
A corona discharge treatment of 8 w /
[0158]
[Preparation of photosensitive silver halide emulsion A]
After dissolving 7.5 g of ossein gelatin having an average molecular weight of 100,000 and 10 mg of potassium bromide in 900 ml of water, adjusting the temperature to 35 ° C. and pH to 3.0, 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate (98/2) An aqueous solution containing potassium bromide and potassium iodide at a molar ratio of 1 mol and iridium chloride were added in an amount of 1 × 10 −4 mol per mol of silver over 10 minutes by the controlled double jet method while maintaining pAg of 7.7. Thereafter, 0.3 g of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added and the pH was adjusted to 5 with NaOH to obtain an average particle size of 0.06 μm, a particle size variation coefficient of 12%, Cubic silver iodobromide grains having a [100] face ratio of 87% were obtained. This emulsion was coagulated and precipitated using a gelatin flocculant, desalted, and 0.1 g phenoxyethanol was added to adjust the pH to 5.9 and pAg 7.5 to obtain photosensitive silver halide emulsion A.
[0159]
[Preparation of sodium behenate solution]
34 g of behenic acid was dissolved in 340 ml of isopropanol at 65 ° C. Next, a 0.25N aqueous sodium hydroxide solution was added with stirring to pH 8.7. At this time, about 400 ml of sodium hydroxide aqueous solution was required. Next, this aqueous solution of sodium behenate was concentrated under reduced pressure, so that the concentration of sodium behenate was 8.9% by weight.
[0160]
[Preparation of silver behenate]
A 2.94 M silver nitrate solution was added to a solution of 30 g ossein gelatin dissolved in 750 ml distilled water to adjust the silver potential to 400 mV. Into this, 374 ml of the sodium behenate solution was added at a speed of 44.6 ml / min at a temperature of 78 ° C. using a controlled double jet method, and at the same time, a 2.94 M silver nitrate aqueous solution was added so that the silver potential became 400 mV. Added. The amounts of sodium behenate and silver nitrate used at the time of addition were 0.092 mol and 0.101 mol, respectively.
[0161]
After completion of the addition, the mixture was further stirred for 30 minutes, and water-soluble salts were removed by ultrafiltration.
[0162]
[Preparation of photosensitive emulsion B]
To this silver behenate dispersion, 0.01 mol of the above-mentioned silver halide emulsion A was added, and 100 g of an n-butyl acetate solution of polyvinyl acetate (1.2 wt%) was gradually added and dispersed while stirring. After forming the floc of the product, water was removed, and after further washing with water and removal of water, the remaining dispersion (200 g) was polyvinyl butyral (average molecular weight 3000) 2.5 wt% butyl acetate as a binder. 60 g of a 1: 2 mixed solution of isopropyl alcohol and isopropyl alcohol were added with stirring, and then 1.5 g of polyvinyl butyral (average molecular weight 4000) as a binder was added to the gel-like behenic acid and silver halide mixture thus obtained. Photosensitive emulsion B was prepared by adding 240 ml of isopropyl alcohol and dispersing to 500 g.
[0163]
[Preparation of photosensitive layer coating solution B]
The photosensitive emulsion B (500 g) and MEK 100 g were kept at 21 ° C. with stirring. Pyrinidium hydrobromide perbromide (PHP, 0.45 g) was added and stirred for 1 hour. Further, calcium bromide (10% methanol solution 3.25 ml) was added and stirred for 30 minutes.
[0164]
Next, a mixed solution of sensitizing dye-1,4-chloro-2-benzoylbenzoic acid and supersensitizer (5-methyl-2-mercaptobensimidazole) (mixing ratio 1: 250: 20, sensitization) Add 0.1% methanol solution (7 ml) with a color sensor and stir for 1 hour, then lower the temperature to 13 ° C. and stir for another 30 minutes.
[0165]
While keeping the temperature at 13 ° C., 48 g of polyvinyl butyral is added and dissolved sufficiently, and then the following additives are added to prepare photosensitive layer coating solution B.
Reducing agent-1: 15 g (0.0484 mol)
Desmodu N3300 (Movey, aliphatic isocyanate) 1.10 g
Phthalazine (coloring agent) 1.5g
Tetrachlorophthalic acid 0.5g
4-methylphthalic acid 0.5g
IR dye: 8mg
[0166]
[Photosensitive layer side coating]
After the photosensitive layer coating solution B was prepared, it was kept at 13 ° C. and held for a predetermined time, and then the following layers were sequentially formed on the support to prepare a sample. In addition, each drying was performed at 75 degreeC and 5 minutes, and the
Photosensitive layer 1: Photosensitive layer coating solution B is applied so that the applied silver amount is 2 g / m2.
[0167]
<Silver halide photographic photosensitive heat developing
[Preparation of photosensitive emulsion C]
A silver halide-silver behenate dry emulsion was prepared by the method described in US Pat. No. 3,839,049. The silver halide had 9 mol% of total silver, while silver behenate had 91 mol% of total silver. The silver halide was a 0.055 μm silver bromoiodide emulsion with 2% iodide.
[0168]
[Preparation of photosensitive layer coating solution C]
The thermally developed emulsion was homogenized with 455 g of the above silver halide-silver behenate dry emulsion, 27 g of toluene, 1918 g of 2-butanone, and polyvinyl butyral (B-79 manufactured by Monsanto). The homogenized heat developed emulsion (698 g) and 2-butanone 60 g were cooled to 12.8 ° C. with stirring. Pyridinium hydrobromide perbromide (0.92 g) was added and stirred for 2 hours.
[0169]
3.25 ml of calcium bromide solution (CaBr (1 g) and 10 ml of methanol) was added and stirred continuously for 30 minutes. Further, polyvinyl butyral (158 g; B-79 manufactured by Monsanto) was added and stirred for 20 minutes. The temperature was raised to 21.1 ° C., and the following were added over 15 minutes with stirring to prepare photosensitive layer coating solution C.
The dye S-1 has the following structure.
[Formula 4]
[Preparation of protective layer solution C]
A protective layer solution C was prepared using the following components.
The photosensitive layer coating solution C and the protective layer solution C are simultaneously coated on a 0.18 mm blue polyester film base using a knife coater. At this time, the protective layer solution C is applied on the photosensitive layer coating solution C. The photosensitive layer coating solution is applied so that the dry film weight per 1
[0173]
【The invention's effect】
According to the present invention, interference fringes formed on the photosensitive heat-developable material are reduced, and a higher quality image can be formed. Therefore, when used in an image forming apparatus in the medical field, diagnosis by a doctor or the like Greatly contribute to
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view of an image recording apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a left side view of the image recording apparatus according to the embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic view showing a configuration of a laser exposure apparatus 120. FIG.
FIG. 4 is a diagram illustrating a circuit configuration of a laser light source unit according to the first embodiment.
5 is a diagram showing a circuit configuration of a high
6A shows a comparison between the modulation signal V output from the
FIG. 7 is a diagram illustrating a circuit configuration of a laser light source unit according to a second embodiment.
FIG. 8 is a diagram illustrating a circuit configuration of a laser light source unit according to a third embodiment.
FIG. 9 is a cross-sectional view of the film F, schematically showing a chemical reaction in the film F during exposure.
FIG. 10 is a cross-sectional view similar to FIG. 8, schematically showing a chemical reaction in the film F during heating.
[Explanation of symbols]
100 Image recording apparatus
110 Storage
120 Laser exposure apparatus
125,225,325 Laser irradiation part
230 High frequency superimposing section
222, 223, 224 High frequency cut filter
130 Development section
142 Conveying roller
F film
Claims (6)
前記レーザダイオードから発振された前記レーザ光により走査露光するレーザ露光方法において、
前記レーザ光の強度の検出により出力され、前記変調信号の画素周波数の周波数成分を通過させ、前記高周波信号の周波数以上の周波数の高周波数成分をカットする高周波カットフィルタを通した検出信号により前記変調信号を制御し、
前記変調部と前記高周波重畳部との間に、前記高周波カットフィルタとは別の高周波カットフィルタを有することを特徴とするレーザ露光方法。 A modulation unit outputs a modulation signal in accordance with image data , a high-frequency signal is superimposed on the output modulation signal by a high-frequency superimposing unit, and the superimposed signal on which the high-frequency signal is superimposed is input to a laser diode, and laser light is emitted. Oscillates, detects the intensity of the laser beam oscillated from the laser diode, and contains silver halide grains and organic acid silver while feedback controlling the modulation signal based on the detected intensity of the laser beam The photosensitive layer has a photosensitive layer provided on a support, the silver halide grain content of the photosensitive layer is 1 g / m 2 or less, the average grain size of the silver halide grains of the photosensitive layer is 0.1 μm or less, A silver halide photothermographic material having a light transmittance at an average wavelength of laser light of 20% or more and γ of 2 or more,
In a laser exposure method of performing scanning exposure with the laser light oscillated from the laser diode,
Output by detecting the intensity of the laser beam, passing through the frequency component of the pixel frequency of the modulation signal, and modulating the detection signal through a high-frequency cut filter that cuts a high-frequency component having a frequency equal to or higher than the frequency of the high-frequency signal Control the signal ,
A laser exposure method comprising a high frequency cut filter different from the high frequency cut filter between the modulation unit and the high frequency superimposing unit .
前記変調信号に高周波信号を重畳する高周波重畳部と、A high-frequency superimposing unit that superimposes a high-frequency signal on the modulation signal;
前記高周波信号が重畳された重畳信号が入力され、レーザ光を発振するレーザダイオードと、A laser diode that receives the superimposed signal on which the high-frequency signal is superimposed and oscillates the laser beam;
前記レーザーダイオードから発振されたレーザ光の強度を検出する光強度センサとを有し、A light intensity sensor for detecting the intensity of laser light oscillated from the laser diode;
前記光強度センサの出力を検出した検出信号を前記変調部に入力して前記検出信号によりフィードバック制御しながら、前記レーザダイオードにより発振されたレーザ光によりハロゲン化銀熱現像感光材料を露光するレーザ露光装置において、Laser exposure for exposing a silver halide photothermographic material with laser light oscillated by the laser diode while inputting a detection signal detected from the output of the light intensity sensor into the modulation unit and performing feedback control based on the detection signal In the device
前記光強度センサと前記変調部との間に、前記高周波信号の周波数以上の周波数成分をカットし、画素周波数成分を通す高周波カットフィルタを有し、Between the light intensity sensor and the modulation unit, a high frequency cut filter that cuts a frequency component equal to or higher than the frequency of the high frequency signal and passes a pixel frequency component,
前記変調部と前記高周波重畳部との間に、前記高周波カットフィルタとは別の高周波カットフィルタを有することを特徴とするレーザ露光装置。A laser exposure apparatus comprising a high frequency cut filter different from the high frequency cut filter between the modulation unit and the high frequency superimposing unit.
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