JP3722629B2 - Developer discharge nozzle and developer supply apparatus - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、現像液を吐出する現像液吐出ノズルおよびそれを備えた現像液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板上に処理液を供給するために処理液供給装置が用いられる。処理液供給装置としては、現像装置、塗布装置等がある。
【０００３】
現像装置では、基板上に形成された感光性膜に処理液として現像液を供給することにより現像処理を行う。また、塗布装置では、基板の表面に処理液としてフォトレジスト液等の塗布液を供給することにより塗布処理を行う。
【０００４】
例えば、回転式現像装置は、基板を水平に保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備える。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けられたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の上方位置と待機位置との間を移動することができる。
【０００５】
現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転によって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触する。表面張力により基板上に現像液を保持した状態（液盛り）で一定時間基板を静止させることにより感光性膜の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から退いた待機位置に移動する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性膜が損傷するおそれもある。
【０００７】
そこで、スリット状吐出口を有する現像液吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板上の一端から他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動させることにより、基板上に現像液を供給する現像装置が提案されている。この現像装置によれば、基板上の感光性膜に衝撃が加わらず、基板上に現像液が均一に供給される。
【０００８】
図１４はスリット状吐出口を有する従来の現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に沿った縦断面図、図１５は図１４の現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に垂直な方向に沿った縦断面図である。
【０００９】
図１４および図１５に示すように、現像液吐出ノズル５０の上面には現像液供給口５１が設けられ、底面にはスリット状吐出口５４が設けられている。この現像液吐出ノズル５０の内部には、現像液供給口５１に連通する液溜り空間５２が設けられるとともに、液溜り空間５２からスリット状吐出口５４に至る現像液流路５３が形成されている。現像液流路５３は、スリット状吐出口５４と同一の断面形状を有する。
【００１０】
現像液供給系（図示せず）から圧送されてきた現像液は、現像液供給口５１から液溜り空間５２に一旦貯留された後に、現像液流路５３を通ってスリット状吐出口５４から吐出される。これにより、スリット状吐出口５４の全域から基板の表面に現像液を供給することができる。
【００１１】
しかし、圧送されてきた現像液をスリット状吐出口５４から吐出する場合、スリット状吐出口５４での現像液の流速分布は、液溜り空間５２からスリット状吐出口５４に至る現像液流路５３の寸法誤差により大きな影響を受ける。機械的な加工精度の限界からスリット長手方向ＳＬの全体にわたって現像液流路５３の幅のばらつきをなくすことは難しい。特に、スリット状吐出口５４のスリット幅ｔが狭い場合には、スリット幅ｔに対する現像液流路５３の幅のばらつきの割合が大きくなる。それにより、スリット状吐出口５４の全域にわたって現像液の流速分布を均一にすることが困難となる。
【００１２】
現像液の流速分布が十分に均一でない状態で基板上に現像液を吐出すると、基板の表面に均一に現像液を供給することができない。それにより、基板面内で現像均一性が悪くなり、現像後のパターン線幅の均一性が低下したり、現像不良が生じることがある。
【００１３】
スリット状吐出口を有する処理液吐出ノズルを他の処理液供給装置に用いた場合にも、同様に、スリット状吐出口の全域にわたって処理液の流速分布を均一にすることが困難となる。
【００１４】
また、現像液吐出ノズル５０を用いて基板上に現像液を供給する際には、基板の一部領域に液切れ現象により現像液の存在しない部分が発生することを防止する必要がある。
【００１５】
一方、スリット状吐出口５４から吐出される現像液が現像液吐出ノズル５０の外壁面に這い上がると、現像液の付着により現像液吐出ノズル５０の先端部が汚染される。このような現像液吐出ノズル５０の先端部の汚染を防止する必要もある。
【００１６】
スリット状吐出口を有する処理液吐出ノズルを他の処理液供給装置に用いた場合にも、基板の一部領域に液切れ現象により処理液の存在しない部分が発生することを防止する必要があり、処理液の付着による処理液吐出ノズルの汚染を防止する必要もある。
【００１７】
本発明の目的は、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することができる現像液吐出ノズルを提供することである。
【００１８】
本発明の他の目的は、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することができ、かつ液切れ現象および外壁面への現像液の付着が防止された現像液吐出ノズルを提供することである。
【００１９】
本発明のさらに他の目的は、スリット状吐出口から均一な流速分布で基板上に現像液を供給することができる現像液供給装置を提供することである。
【００２０】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
第１の発明に係る現像液供給装置は、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状吐出口から現像液が供給されるように現像液吐出ノズルを基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、現像液吐出ノズルは、現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、液吐出部には、スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が液溜り空間に連通する複数の管状流路と、一方向に沿って配列されかつそれぞれ複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びてスリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、複数の管状流路は、それぞれ複数のテーパ状流路に対して直角ま たは傾斜するように設けられ、複数のテーパ状流路は、複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、内壁に衝突した現像液が複数のテーパ状流路を流動してスリット状吐出口から吐出されるものである。
【００２１】
第１の発明に係る現像液供給装置においては、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状出口から現像液が供給されるように移動手段により現像液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動させられる。
【００２２】
第１の発明に係る現像液供給装置の現像液吐出ノズルにおいては、液溜り部の液溜り空間に供給された現像液が、複数の管状流路を通って複数のテーパ状流路に導入され、スリット状吐出口の長手方向に拡散されてスリット状吐出口から吐出される。
【００２３】
管状流路は高い加工精度で形成されるので、複数の管状流路の径を等しくすることが可能となる。そのため、液溜り空間の現像液の静圧が複数の管状流路で均一な動圧に変換される。それにより、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路の各開口で等しくなる。複数の管状流路から複数のテーパ状流路に等しい流速または流量で導入された現像液がスリット状吐出口の長手方向に拡散されて相互に合流するので、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することが可能となる。その結果、基板の表面に現像液を均一に供給することができる。
【００２４】
また、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入された現像液がテーパ状流路の平面状の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、テーパ状流路で拡散される。それにより、複数のテーパ状流路による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路を流れる現像液が重力によりテーパ状流路を通してスリット状吐出口から液滴として落下することが防止され、また液滴の落下に起因してスリット状吐出口からテーパ状流路および管状流路を通して液溜り空間に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。
【００２５】
第２の発明に係る現像液供給装置は、第１の発明に係る現像液供給装置の構成において、液吐出部は、スリット状吐出口が設けられた底面を有し、液吐出部の底面が親水性を有し、移動方向において液吐出部の底面の前方および後方の外壁面が撥水性を有するものである。
【００２６】
この場合、液吐出部の底面が親水性を有するので、液吐出部の底面で保液性が良好となり、液吐出部の底面と基板の表面との間に十分な液溜りが形成される。それにより、液吐出部の底面と基板の表面との間で液切れ現象が起こりにくくなる。
【００２７】
また、液吐出部の底面の前方および後方の外壁面が撥水性を有するので、液吐出部の前方および後方の外壁面に現像液が這い上がる現象が抑制される。それにより、前方および後方の外壁面への現像液の付着による液吐出部の汚染が防止される。
【００２８】
第３の発明に係る現像液供給装置は、第１または第２の発明に係る現像液供給装置の構成において、液吐出部は、第１の接合面を有する第１の部材と、第１の接合面に接合される第２の接合面を有する第２の部材とを備え、第１の部材の第１の接合面に複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、第２の部材の第２の接合面に複数の管状流路の上記他端が開口されたものである。
【００２９】
この場合、第１の部材の第１の接合面と第２の部材の第２の接合面とを接合することにより液吐出部が構成されるとともに、複数のテーパ状凹部により複数のテーパ状流路が形成され、複数の管状流路が複数のテーパ状流路内に開口する。
【００３０】
第４の発明に係る現像液供給装置は、第１または第２の発明に係る現像液供給装置の構成において、液吐出部は、第１の接合面を有する第１の部材と、第１の接合面に接合される第２の接合面を有する第２の部材とを備え、第２の部材の第２の接合面に複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、テーパ状凹部に複数の管状流路の上記他端が開口されたものである。
【００３１】
この場合、第１の部材の第１の接合面と第２の部材の第２の接合面とを接合することにより液吐出部が構成されるとともに、複数のテーパ状凹部により複数のテーパ状流路が形成され、複数の管状流路が複数のテーパ状流路内に開口する。
【００３２】
第５の発明に係る現像液供給装置は、第３または第４の発明に係る現像液供給装置の構成において、液吐出部は、第１の部材の第１の接合面と第２の部材の第２の接合面との間の複数のテーパ状凹部を除く領域に挟み込まれたシート状シール部材をさらに備えたものである。
【００３３】
この場合、第１の部材の第１の接合面と第２の部材の第２の接合面との間にシート状シール部材を挟み込んで第１の部材と第２の部材とを接合することにより、接着剤を用いることなく液吐出部を構成することが可能となる。したがって、現像液と接着剤の反応の問題が回避される。
【００３４】
第６の発明に係る現像液供給装置は、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状吐出口から現像液が供給されるように現像液吐出ノズルを基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、現像液吐出ノズルは、現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、液吐出部には、スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が液溜り空間に連通する複数の管状流路と、一方向に沿って配列されかつそれぞれ複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びてスリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、複数の管状流路は、それぞれ複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、液吐出部は、第１の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第１の部材と、第２の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第２の部材と、第１の接合面に接合される一面および第２の接合面に接合される他面を有しかつ親水性材料からなる第３の部材とを備え、第２の部材の第２の接合面に複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、テーパ状凹部に複数の管状流路の他端が開口され、第３の部材の一面に第１の部材が接合され、第３の部材の他面に第２の部材が接合されることにより、第１の部材および第２の部材が、移動方向において液吐出部の前方および後方の外壁面を形成し、第３の部材が液吐出部の底面を形成し、複数のテーパ状流路は、テーパ状凹部に形成され、複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、内壁に衝突した現像液が複数のテーパ状流路を流動してスリット状吐出口から吐出されるものである。
【００３５】
第６の発明に係る現像液供給装置においては、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状出口から現像液が供給されるように移動手段により現像液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動させられる。
【００３６】
第６の発明に係る現像液供給装置の現像液吐出ノズルにおいては、現像液吐出ノズルの液溜り空間に供給された現像液が、複数の管状流路を通って複数のテーパ状流路に導入され、スリット状吐出口の長手方向に拡散されてスリット状吐出口から吐出される。
【００３７】
管状流路は高い加工精度で形成されるので、複数の管状流路の径を等しくすることが可能となる。そのため、液溜り空間の現像液の静圧が複数の管状流路で均一な動圧に変換される。それにより、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路の各開口で等しくなる。複数の管状流路から複数のテーパ状流路に等しい流速または流量で導入された現像液がスリット状吐出口の長手方向に拡散されて相互に合流するので、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することが可能となる。その結果、基板の表面に現像液を均一に供給することができる。
【００３８】
また、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入された現像液がテーパ状流路の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、テーパ状流路で拡散される。それにより、複数のテーパ状流路による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路を流れる現像液が重力によりテーパ状流路を通してスリット状吐出口から液滴として落下することが防止され、また液滴の落下に起因してスリット状吐出口からテーパ状流路および管状流路を通して液溜り空間に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。
【００３９】
また、第１の部材の第１の接合面と第３の部材の一面とを接合しかつ第２の部材の第２の接合面と第３の部材の他面とを接合することにより液吐出部が構成されるとともに、複数のテーパ状凹部により複数のテーパ状流路が形成され、複数の管状流路が複数のテーパ状流路内に開口する。
【００４０】
さらに、第１の部材の第１の接合面と第３の部材の一面とが接合され、かつ第２の部材の第２の接合面と親水性材料からなる第３の部材の他面とが接合される場合に、撥水性材料からなる第１の部材および第２の部材により移動方向における液吐出部の前方および後方の外壁面が形成され、親水性の第３の部材により液吐出部の底面が形成される。
【００４１】
この場合、第１の部材および第２の部材が撥水性材料からなるので、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面が撥水性を有する。それにより、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面に現像液が這い上がる現象が抑制される。したって、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面への現像液の付着による液吐出部の汚染が防止される。
【００４２】
また、第３の部材が親水性材料からなるので、液吐出部の底面が親水性を有する。それにより、液吐出部の底面で保液性が良好となり、液吐出部の底面と基板の表面との間に十分な液溜りが形成される。したがって、液吐出部の底面と基板の表面との間で液切れ現象が起こりにくくなる。
【００４３】
第７の発明に係る現像液供給装置は、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状吐出口から現像液が供給されるように現像液吐出ノズルを基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、現像液吐出ノズルは、現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と、現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、液吐出部には、スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が液溜り空間に連通する複数の管状流路と、一方向に沿って配列されかつそれぞれ複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びてスリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、複数の管状流路は、それぞれ複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、液吐出部は、第１の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第１の部材と、第２の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第２の部材と、第１の接合面に接合される一面および第２の接合面に接合される他面を有しかつ親水性材料からなる第３の部材とを備え、第１の部材の第１の接合面に複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、第３の部材の一面に複数の管状流路の他端が開口され、第３の 部材の一面に第１の部材が接合され、第３の部材の他面に第２の部材が接合されることにより、第１の部材および第２の部材が、移動方向において液吐出部の前方および後方の外壁面を形成し、第３の部材が液吐出部の底面を形成し、複数のテーパ状流路は、第３の部材の一面に形成され、複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、内壁に衝突した現像液が複数のテーパ状流路を流動してスリット状吐出口から吐出されるものである。
【００４４】
第７の発明に係る現像液供給装置においては、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状出口から現像液が供給されるように移動手段により現像液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動させられる。
第７の発明に係る現像液供給装置の現像液吐出ノズルにおいては、現像液吐出ノズルの液溜り空間に供給された現像液が、複数の管状流路を通って複数のテーパ状流路に導入され、スリット状吐出口の長手方向に拡散されてスリット状吐出口から吐出される。
【００４５】
管状流路は高い加工精度で形成されるので、複数の管状流路の径を等しくすることが可能となる。そのため、液溜り空間の現像液の静圧が複数の管状流路で均一な動圧に変換される。それにより、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路の各開口で等しくなる。複数の管状流路から複数のテーパ状流路に等しい流速または流量で導入された現像液がスリット状吐出口の長手方向に拡散されて相互に合流するので、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することが可能となる。その結果、基板の表面に現像液を均一に供給することができる。
【００４６】
また、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入された現像液がテーパ状流路の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、テーパ状流路で拡散される。それにより、複数のテーパ状流路による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路を流れる現像液が重力によりテーパ状流路を通してスリット状吐出口から液滴として落下することが防止され、また液滴の落下に起因してスリット状吐出口からテーパ状流路および管状流路を通して液溜り空間に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。
【００４７】
また、第１の部材の第１の接合面と第３の部材の一面とを接合しかつ第２の部材の第２の接合面と第３の部材の他面とを接合することにより液吐出部が構成されるとともに、複数のテーパ状凹部により複数のテーパ状流路が形成され、複数の管状流路が複数のテーパ状流路内に開口する。
【００４８】
さらに、第１の部材の第１の接合面と第３の部材の一面とが接合され、かつ第２の部材の第２の接合面と親水性材料からなる第３の部材の他面とが接合される場合に、撥水性材料からなる第１の部材および第２の部材により移動方向における液吐出部の前方および後方の外壁面が形成され、親水性の第３の部材により液吐出部の底面が形成される。
【００４９】
この場合、第１の部材および第２の部材が撥水性材料からなるので、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面が撥水性を有する。それにより、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面に現像液が這い上がる現象が抑制される。したって、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面への現像液の付着による液吐出部の汚染が防止される。
【００５０】
また、第３の部材が親水性材料からなるので、液吐出部の底面が親水性を有する。それにより、液吐出部の底面で保液性が良好となり、液吐出部の底面と基板の表面との間に十分な液溜りが形成される。したがって、液吐出部の底面と基板の表面との間で液切れ現象が起こりにくくなる。
【００５１】
第８の発明に係る現像液供給装置は、第１〜第７のいずれかの発明に係る現像液供給装置の構成において、複数のテーパ状流路は、複数の管状流路からスリット状吐出口に至るまでの位置またはスリット状吐出口の位置で相互に結合して一体化するものである。
【００５２】
これにより、複数のテーパ状流路でそれぞれ拡散される現像液がスリット状吐出口に至るまでの位置またはスリット状吐出口の位置で合流し、スリット状吐出口の全域から均一に吐出される。
【００５３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る現像液吐出ノズルおよび現像液供給装置の一例として現像液吐出ノズルおよびそれを用いた現像装置について説明する。
【００５４】
図１は本発明の一実施例における現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図である。
【００５５】
図２および図３に示すように、現像装置は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成されている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側カップ５が設けられている。
【００５６】
図１に示すように、外側カップ５の両側にはそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイドレール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側には、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向に回転可能に設けられている。
【００５７】
ノズルアーム９には、現像液吐出ノズル１１がガイドレール８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液吐出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿って直線状に平行移動可能となっている。後述するように、現像液吐出ノズル１１は液溜り部２０および液吐出部３０からなり、液吐出部３０の底面にスリット状吐出口１５が形成されている。
【００５８】
図２に示すように、現像液吐出ノズル１１には、現像液供給系１４により現像液が供給される。制御部１３は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０による現像液吐出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズル１１からの現像液の吐出を制御する。
【００５９】
本実施例では、基板保持部１が基板保持手段に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、現像液吐出ノズル１１が現像液吐出ノズルに相当する。
【００６０】
図４は現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５に沿った縦断面図、図５は図４の現像液吐出ノズル１１のＺ−Ｚ線断面図である。
【００６１】
図５に示すように、現像液吐出ノズル１１は、液溜り部２０および液吐出部３０からなり、液吐出部３０は液溜り部２０の一方の側面に接合されている。
【００６２】
液溜り部２０の内部には液溜り空間２２と、この液溜り空間２２内の現像液の温度を調節するために温水を流す温水用配管２４とが設けられ、上端部に液溜り空間２２に連通する現像液供給口２１が設けられ、一方の側面の下端近傍に現像液出口２３が設けられている。また、現像液供給口２１に至る現像液用配管２６の周囲には、現像液用配管２６に流れる現像液の温度を調節するために温水を流す温水用配管２５が設けられている。
【００６３】
液吐出部３０は板状の第１の部材３１および板状の第２の部材３２を備え、第１の部材３１と第２の部材３２とがシート状パッキン３３を挟んで接合されている。液吐出部３０の底面には、スリット状吐出口１５が形成されている。
【００６４】
液吐出部３０には、液溜り部２０の現像液出口２３に連通して水平方向に延びる複数の管状流路３６が形成されている。図４に示すように、複数の管状流路３６は、スリット長手方向ＳＬに沿って等間隔に配列されている。管状流路３６は高い加工精度で形成することができるので、複数の管状流路３６の寸法誤差はほとんどない。そのため、複数の管状流路３６は等しい径を有する。
【００６５】
また、この液吐出部３０には、スリット長手方向ＳＬに漸次幅広となりつつ下方に延びてスリット状吐出口１５に至る複数のテーパ状流路３４が形成されている。複数のテーパ状流路３４も、スリット長手方向ＳＬに沿って等間隔に配列されている。複数の管状流路３６は、それぞれ複数のテーパ状流路３４の頂部近傍に連通している。
【００６６】
複数のテーパ状流路３４は、液吐出部３０の底面のスリット状吐出口１５から一定の高さＨの位置で相互に結合して一体化している。それにより、複数のテーパ状流路３４の下端に一定幅の結合領域３５が形成されている。なお、複数のテーパ状流路３４が液吐出部３０の底面のスリット状吐出口１５の位置で相互に結合してもよい。この場合、Ｈ＝０となる。
【００６７】
液溜り部２０、第１の部材３１および第２の部材３２は、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）、純石英、高純度アルミナ等により形成される。また、シート状パッキン３３としては、フッ素系樹脂からなるシート、ガラス繊維からなるシート、石英からなるシート等が用いられる。
【００６８】
図６（ａ）は現像液吐出ノズル１１の液吐出部３０の分解正面図、図６（ｂ）は現像液吐出ノズル１１の液吐出部３０の分解側面図である。
【００６９】
図６に示すように、第１の部材３１の第１の接合面ＰＡには、複数のテーパ状流路３４を構成する複数のテーパ状凹部３４ａが形成されている。複数のテーパ状凹部３４ａは、底面から一定の高さＨの位置で相互に結合して一定幅の結合領域３５ａを形成している。
【００７０】
一方、第２の部材３２の第２の接合面ＰＢには、複数の管状流路３６が開口している。シート状パッキン３３は、第１の部材３１の第１の接合面ＰＡの複数のテーパ状凹部３４ａを除く領域と同じ形状をなし、複数のテーパ状凹部３４ａに対応する複数のテーパ状切欠き部３７を有する。
【００７１】
第１の部材３１、第２の部材３２およびシート状パッキン３３の上辺および両側辺に沿って複数のねじ孔３８，３９，４０がそれぞれ設けられている。
【００７２】
第１の部材３１の第１の接合面ＰＡと第２の部材３２の第２の接合面ＰＢとの間にシート状パッキン３３を挟み込んでねじ孔３８，３９，４０にねじ（図示せず）を通して第１の部材３１と第２の部材３２とをねじで連結することにより、図４および図５に示した液吐出部３０が構成されるとともに、第１の部材３１の複数のテーパ状凹部３４ａ、シート状パッキン３３の複数のテーパ状切欠き部３７および第２の部材３２の第２の接合面ＰＢにより複数の管状流路３６に連通する複数のテーパ状流路３４が形成される。
【００７３】
本実施例の現像液吐出ノズル１１においては、現像液供給系１４（図２参照）から液溜り部２０の現像液供給口２１を通して液溜り空間２２に現像液が供給される。液溜り空間２２の現像液は、現像液出口２３から液吐出部３０の複数の管状流路３６を通って複数のテーパ状流路３４に導入される。このとき、複数の管状流路３６の径が等しく形成されているので、液溜り空間２２の現像液の静圧が複数の管状流路３６で均一な動圧に変換される。それにより、複数の管状流路３６から複数のテーパ状流路３４に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路３６の各出口で等しくなる。また、複数の管状流路３６から複数のテーパ状流路３４に等しい流速または流量で導入された現像液は、下降するに従ってスリット長手方向ＳＬに拡散されてスリット状吐出口１５の近傍で相互に合流する。それにより、スリット状吐出口１５から均一な流速分布で現像液が吐出される。
【００７４】
特に、複数の管状流路３６が複数のテーパ状流路３４に対して垂直に設けられているので、複数の管状流路３６から複数のテーパ状流路３４に導入された現像液がテーパ状流路３４の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、拡散される。それにより、複数のテーパ状流路３４による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路３６を流れる現像液が重力によりテーパ状流路３４を通してぼた落ちすることが防止され、また現像液のぼた落ちに起因してスリット状吐出口１５からテーパ状流路３４および管状流路３６を通して液溜り空間２２に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。
【００７５】
本実施例の現像液吐出ノズル１１においては、シート状パッキン３３を挟み込んで第１の部材３１と第２の部材３２とをねじで接合することにより接着剤を用いることなく液吐出部３０が構成されるので、現像液が接着剤と反応するという問題が生じない。
【００７６】
なお、現像液が接着剤と反応しない場合には、シート状パッキン３３を用いずに、第１の部材３１の第１の接合面ＰＡと第２の部材３２の第２の接合面ＰＢとを接着剤で接合してもよい。
【００７７】
また、本実施例では第１の部材３１の第１の接合面ＰＡに、複数のテーパ状流路３４を構成する複数のテーパ状凹部３４ａが形成されているが、複数の管状流路３６が開口されている第２の部材３２の第２の接合面ＰＢに、複数のテーパ状流路３４を構成する複数のテーパ状凹部３４ａを形成してもよい。
【００７８】
図７に示すように、スリット状吐出口１５は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吐出口１５のスリット幅ｔは０．０５〜１．０ｍｍであり、本実施例では０．１ｍｍである。また、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは、現像対象となる基板１００の直径と同じかまたはそれよりも大きく設定され、直径８インチの基板１００を現像する場合には、本実施例では２１０ｍｍに設定される。
【００７９】
現像液吐出ノズル１１は、底面が基板１００の表面に対して平行な状態を保つように走査方向Ａに走査される。スリット状吐出口１５と基板１００の表面との間隔は、０．２〜５ｍｍ、より好ましくは０．５〜２ｍｍであり、本実施例では１ｍｍである。
【００８０】
次に図８および図９を参照しながら図１の現像装置の動作を説明する。現像処理時には、基板１００は基板保持部１により静止状態で保持されている。
【００８１】
待機時には、現像液吐出ノズル１１は、待機ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現像処理時には、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走査方向Ａに移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降する。
【００８２】
その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出は行わない。本実施例では、走査速度は１０〜５００ｍｍ／秒とする。
【００８３】
現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。本実施例では、現像液の流量は１．５Ｌ／分とする。
【００８４】
現像液吐出ノズル１１は、現像液を吐出しながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａに直線状に移動する（図９参照）。これにより、基板１００の全面に現像液が連続的に供給される。供給された現像液は、表面張力により基板１００上に保持される。
【００８５】
現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させる。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１１の走査を停止させる。
【００８６】
その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ５まで移動し、待機ポット７内に下降する。
【００８７】
基板１００上に現像液が供給された状態を一定時間維持し、現像を進行させる。このとき、モータ２により基板保持部１を回転駆動し、基板１００を回転させてもよい。その後、純水吐出ノズル１２により純水を基板１００上に供給しながら基板１００を高速回転させることにより基板１００上の現像液を振り切り、基板１００を乾燥させて現像処理を終了する。
【００８８】
本実施例の現像装置では、現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５の全域から均一な流速分布で現像液が吐出されるので、基板上に均一に現像液が供給される。したがって、基板面内での現像均一性が良好となり、現像後のパターン線幅の均一性が向上するとともに、現像不良の発生が回避される。
【００８９】
また、本実施例の現像装置では、現像液吐出ノズル１１が静止した基板１００上に到達する前に現像液の吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基板１００に衝撃を与えることが回避される。それにより、現像液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生が防止される。
【００９０】
さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が均一に供給される。
【００９１】
また、現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるとともに、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上する。
【００９２】
また、現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防止される。
【００９３】
なお、上記実施例の現像液吐出ノズル１１では、液吐出部３０の複数の管状流路３６が複数のテーパ状流路３４に対して直角に設けられているが、複数の管状流路３６が複数のテーパ状流路３４に対して０度よりも大きく１８０度よりも小さい角度で傾斜するように設けられてもよい。
【００９４】
図１０は図１〜図３の現像装置に用いられる現像液吐出ノズルの他の例を示すスリット状吐出口に沿った縦断面図、図１１は図１０の現像液吐出ノズルのＢ−Ｂ線断面図である。
【００９５】
図１１に示すように、現像液吐出ノズル１１ａは、液溜り部２０および液吐出部６０からなり、液吐出部３０は液溜り部２０の一方の側面に接合されている。現像液吐出ノズル１１ａの液溜り部２０の構成は、図５に示した現像液吐出ノズル１１の液溜り部２０の構成と同様である。
【００９６】
液吐出部６０は、板状の第１の部材６１、板状の第２の部材６２および板状の第３の部材６３を備え、第３の部材６３の一面および他面にそれぞれ第１の部材６１および第２の部材６２が接合されている。液吐出部６０の底面には、スリット状吐出口１５ａが形成されている。
【００９７】
第１の部材６１および第２の部材６２は、例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等の撥水性材料により形成され、第３の部材６３は、例えば石英等の親水性材料により形成される。それにより、液吐出部６０の底面７１は親水性を有し、液吐出部６０の前方の外壁面７２および後方の外壁面７３は撥水性を有する。
【００９８】
液吐出部６０には、液溜り部２０の現像液出口２３に連通して水平方向に延びる複数の管状流路６６が形成されている。図１０に示すように、複数の管状流路６６はスリット長手方向をＳＬに沿って等間隔に配列されている。管状流路６６は高い加工精度で形成することができるので、複数の管状流路６６の寸法誤差はほとんどない。そのため、複数の管状流路６６は等しい径を有する。
【００９９】
また、この液吐出部６０には、スリット長手方向ＳＬに漸次幅広となりつつ下方に延びてスリット状吐出口１５ａに至る複数のテーパ状流路６４が形成されている。複数のテーパ状流路６４も、スリット長手方向ＳＬに沿って等間隔に配列されている。複数の管状流路６６は、それぞれ複数のテーパ状流路６４の頂部近傍に連通している。
【０１００】
複数のテーパ状流路６４は、液吐出部６０の底面のスリット状吐出口１５ａから一定の高さＨの位置で相互に結合して一体化している。それにより、複数のテーパ状流路６４の下端に一定幅の結合領域６５が形成されている。なお、複数のテーパ状流路６４が液吐出部６０の底面のスリット状吐出口１５ａの位置で相互に結合してもよい。この場合、Ｈ＝０となる。
【０１０１】
図１２（ａ）は図１０および図１１の現像液吐出ノズル１１ａの液吐出部６０の分解正面図、図１２（ｂ）は図１０および図１１の現像液吐出ノズル１１ａの液吐出部６０の分解側面図である。
【０１０２】
図１２に示すように、第１の部材６１の第１の接合面Ｐａは平坦な平面となっている。第２の部材６２の第２の接合面Ｐｂには、複数のテーパ状流路６４を構成する複数のテーパ状凹部６４ａが形成されている。複数のテーパ状凹部６４ａは、底面から一定の高さＨの位置で相互に結合して一定幅の結合領域６５ａを形成している。また、この第２の部材６２の各テーパ状凹部６４ａ内の頂部近傍にそれぞれ管状流路６６が開口している。第３の部材６３の一面および他面は平坦な平面となっている。
【０１０３】
第１の部材６１、第２の部材６２および第３の部材６３の上辺および両側辺に沿って複数のねじ孔６８，６９，７０がそれぞれ設けられている。
【０１０４】
第１の部材６１の第１の接合面Ｐａと第２の部材６２の第２の接合面Ｐｂとの間に第３の部材６３を挟み込んでねじ孔６８，６９，７０にねじ（図示せず）を通して第１の部材６１、第３の部材６３および第２の部材６２をねじで連結することにより、図１０および図１１に示した液吐出部６０が構成されるとともに、第２の部材６２の複数のテーパ状凹部６４ａおよび第３の部材６３の他面により複数の管状流路６６に連通する複数のテーパ状流路６４が形成される。
【０１０５】
図１３は図１０および図１１の現像液吐出ノズル１１ａの液吐出部６０の底面図である。
【０１０６】
図１３に示すように、スリット状吐出口１５ａは現像液吐出ノズル１１ａの走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吐出口１５ａの寸法は、図７に示したスリット状吐出口１５と同様である。
【０１０７】
現像液吐出ノズル１１ａは、底面７１が基板の表面に対して平行な状態を保つように走査方向Ａに走査される。
【０１０８】
この現像液吐出ノズル１１ａにおいては、現像液供給系１４（図２参照）から液溜り部２０の現像液供給口２１を通して液溜り空間２２に現像液が供給される。液溜り空間２２の現像液は、現像液出口２３から液吐出部６０の複数の管状流路６６を通って複数のテーパ状流路６４に導入される。このとき、複数の管状流路６６の径が等しく形成されているので、液溜り空間２２の現像液の静圧が複数の管状流路６６で均一な動圧に変換される。それにより、複数の管状流路６６から複数のテーパ状流路６４に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路６６の各出口で等しくなる。また、複数の管状流路６６から複数のテーパ状流路６４に等しい流速または流量で導入された現像液は、下降するに従ってスリット長手方向ＳＬに拡散されてスリット状吐出口１５ａの近傍で相互に合流する。それにより、スリット状吐出口１５ａから均一な流速分布で現像液が吐出される。
【０１０９】
特に、複数の管状流路６６が複数のテーパ状流路６４に対して垂直に設けられているので、複数の管状流路６６から複数のテーパ状流路６４に導入された現像液がテーパ状流路６４の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、拡散される。それにより、複数のテーパ状流路６４による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路６６を流れる現像液が重力によりテーパ状流路６４を通してぼた落ちすることが防止され、また現像液のぼた落ちに起因してスリット状吐出口１５ａからテーパ状流路６４および管状流路６６を通して液溜り空間２２に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。
【０１１０】
また、液吐出部６０の底面７１が親水性を有するので、液吐出部６０の底面７１における保液性が良好となり、液吐出部６０の底面７１と基板の表面との間に十分な液溜りが形成される。それにより、液吐出部６０の底面７１と基板の表面との間で液切れ現象が発生することがない。したがって、基板上の一部領域に液切れ現象により現像液のない部分が発生することが防止される。
【０１１１】
また、液吐出部６０の前方および後方の外壁面７２，７３が撥水性を有するので、液吐出部６０の外壁面７２，７３に現像液が這い上がる現象が抑制される。したがって、液吐出部６０の外壁面７２，７２に現像液が付着することによる液吐出部６０の汚染が防止される。
【０１１２】
なお、本例では、第２の部材６２の第２の接合面Ｐｂに複数のテーパ状流路６４を構成する複数のテーパ状凹部６４ａが形成され、各テーパ状凹部６４ａ内に管状流路６６が開口しているが、第１の部材６１の第１の接合面Ｐａに複数のテーパ状流路６４を構成する複数のテーパ状凹部６４ａが形成され、複数の管状流路６６が第２の部材６２および第３の部材６３に設けられ、管状流路６６の端部が第１の部材６１の第１の接合面Ｐａに接合される第３の部材６３の一面に開口してもよい。
【０１１３】
上記実施例では、本発明を現像液吐出ノズルおよび現像装置に適用した場合を説明したが、本発明は、例えばレジスト液等の塗布液を吐出する塗布液吐出ノズルおよびそれを用いた塗布装置など、他の現像液吐出ノズルおよびそれを用いた現像液供給装置にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図である。
【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図である。
【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図である。
【図４】図１の現像装置に用いられる現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に沿った縦断面図である。
【図５】図４の現像液吐出ノズルのＺ−Ｚ線断面図である。
【図６】図４の現像液吐出ノズルの分解正面図および分解側面図である。
【図７】図４の現像液吐出ノズルの液溜り部の底面図である。
【図８】図１の現像装置の動作を説明するための図である。
【図９】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す平面図である。
【図１０】図１の現像装置に用いられる現像液吐出ノズルの他の例を示すスリット状吐出口に沿った縦断面図である。
【図１１】図１０の現像液吐出ノズルのＢ−Ｂ線断面図である。
【図１２】図１０および図１１の現像液吐出ノズル分解正面図および分解側面図である。
【図１３】図１０および図１１の現像液吐出ノズルの液溜り部の底面図である。
【図１４】スリット状吐出口を有する従来の現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に沿った縦断面図である。
【図１５】図１４の現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に垂直な方向に沿った縦断面図である。
【符号の説明】
１ 基板保持部
８ ガイドレール
９ ノズルアーム
１０ ノズル駆動部
１１，１１ａ 現像液吐出ノズル
１３ 制御部
１４ 現像液供給系
１５，１５ａ スリット状吐出口
２０ 液溜り部
２２ 液溜り空間
２３ 現像液出口
３０，６０ 液吐出部
３１，６１ 第１の部材
３２，６２ 第２の部材
３３ シート状パッキン
３４，６４ テーパ状流路
３４ａ，６４ａ テーパ状凹部
３５，６５ 結合領域
３６，６６ 管状流路
３７ テーパ状切欠き部
６３ 第３の部材
ＰＡ，Ｐａ 第１の接合面
ＰＢ，Ｐｂ 第２の接合面[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention relates to a developer discharge nozzle for discharging a developer and a developer supply apparatus including the same.
[0002]
[Prior art]
  A processing liquid supply apparatus is used to supply a processing liquid onto a substrate such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, or a substrate for an optical disk. Examples of the processing liquid supply device include a developing device and a coating device.
[0003]
  In the developing device, the developing process is performed by supplying a developing solution as a processing solution to the photosensitive film formed on the substrate. In the coating apparatus, the coating process is performed by supplying a coating liquid such as a photoresist liquid as a processing liquid to the surface of the substrate.
[0004]
  For example, the rotary developing device includes a rotation holding unit that holds a substrate horizontally and rotates it around a vertical axis, and a developer discharge nozzle that supplies a developer to the surface of the substrate. The developer discharge nozzle is attached to the tip of a nozzle arm that is rotatably provided in a horizontal plane, and can move between an upper position of the substrate and a standby position.
[0005]
  During the development processing, the developer discharge nozzle moves from the standby position above the substrate, and then the developer is supplied to the photosensitive film on the substrate. The supplied developer is spread on the entire surface of the substrate by the rotation of the substrate and comes into contact with the photosensitive film. The photosensitive film is developed by allowing the substrate to stand still for a certain time in a state where the developer is held on the substrate by surface tension (liquid accumulation). When the supply of the developer is completed, the developer discharge nozzle moves to a standby position where it has retreated from above the substrate by the rotation of the nozzle arm.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
  However, in the conventional rotary developing device described above, the photosensitive film on the substrate is subjected to a large impact by the developer at the start of ejection hitting the rotating substrate. Due to the impact, bubbles may be generated in the developer, and minute bubbles remaining on the surface of the photosensitive film may cause a development defect. In addition, the photosensitive film may be damaged by the impact of the developer at the start of ejection.
[0007]
  Therefore, a developing device that supplies the developing solution onto the substrate by linearly moving the developing solution discharging nozzle from one end to the other end on the substrate while discharging the developing solution from the developing solution discharging nozzle having the slit-like discharge port. Has been proposed. According to this developing device, the developer is uniformly supplied onto the substrate without impact on the photosensitive film on the substrate.
[0008]
  14 is a longitudinal sectional view taken along a slit-like discharge port of a conventional developer discharge nozzle having a slit-like discharge port, and FIG. 15 is a longitudinal section taken along a direction perpendicular to the slit-like discharge port of the developer discharge nozzle of FIG. FIG.
[0009]
  As shown in FIGS. 14 and 15, a developer supply port 51 is provided on the upper surface of the developer discharge nozzle 50, and a slit-like discharge port 54 is provided on the bottom surface. A liquid reservoir space 52 communicating with the developer supply port 51 is provided inside the developer discharge nozzle 50, and a developer flow path 53 extending from the liquid reservoir space 52 to the slit-like discharge port 54 is formed. . The developer channel 53 has the same cross-sectional shape as the slit-shaped discharge port 54.
[0010]
  The developer fed by pressure from a developer supply system (not shown) is temporarily stored in the liquid storage space 52 from the developer supply port 51 and then discharged from the slit-like discharge port 54 through the developer channel 53. Is done. As a result, the developer can be supplied to the surface of the substrate from the entire area of the slit-like discharge port 54.
[0011]
  However, when the developer that has been pumped is discharged from the slit-like discharge port 54, the flow velocity distribution of the developer at the slit-like discharge port 54 is such that the developer flow path 53 extends from the liquid reservoir space 52 to the slit-like discharge port 54. It is greatly affected by dimensional errors It is difficult to eliminate variations in the width of the developer flow path 53 over the entire slit longitudinal direction SL due to the limit of mechanical processing accuracy. In particular, when the slit width t of the slit-shaped discharge port 54 is narrow, the ratio of the variation in the width of the developer flow path 53 to the slit width t increases. Accordingly, it becomes difficult to make the flow velocity distribution of the developer uniform over the entire area of the slit-like discharge port 54.
[0012]
  If the developer is discharged onto the substrate in a state where the flow velocity distribution of the developer is not sufficiently uniform, the developer cannot be uniformly supplied to the surface of the substrate. As a result, the uniformity of development in the substrate surface is deteriorated, the uniformity of the pattern line width after development may be reduced, and development defects may occur.
[0013]
  Similarly, when the processing liquid discharge nozzle having the slit-shaped discharge port is used in another processing liquid supply apparatus, it is difficult to make the flow velocity distribution of the processing liquid uniform over the entire area of the slit-shaped discharge port.
[0014]
  Further, when supplying the developing solution onto the substrate using the developing solution discharge nozzle 50, it is necessary to prevent a portion where the developing solution is not present from being generated due to a liquid running out phenomenon in a partial region of the substrate.
[0015]
  On the other hand, when the developer discharged from the slit-like discharge port 54 crawls up to the outer wall surface of the developer discharge nozzle 50, the tip of the developer discharge nozzle 50 is contaminated by the adhesion of the developer. It is also necessary to prevent such contamination of the tip of the developer discharge nozzle 50.
[0016]
  Even when a processing liquid discharge nozzle having a slit-like discharge port is used in another processing liquid supply apparatus, it is necessary to prevent a portion where the processing liquid does not exist due to a liquid running out phenomenon in a partial area of the substrate. Also, it is necessary to prevent contamination of the treatment liquid discharge nozzle due to the adhesion of the treatment liquid.
[0017]
  An object of the present invention is to provide a developer discharge nozzle capable of discharging a developer from a slit-shaped discharge port with a uniform flow velocity distribution.
[0018]
  Another object of the present invention is to provide a developer discharge nozzle that can discharge a developer with a uniform flow velocity distribution from a slit-like discharge port, and that prevents the liquid running out phenomenon and the developer from adhering to the outer wall surface. It is to be.
[0019]
  Still another object of the present invention is to provide a developing solution supply apparatus capable of supplying a developing solution onto a substrate with a uniform flow velocity distribution from a slit-like discharge port.
[0020]
[Means for Solving the Problems and Effects of the Invention]
According to a first aspect of the present invention, there is provided a developer supply apparatus, comprising: a substrate holding unit that holds a substrate in a horizontal position; a developer discharge nozzle that is movable on the substrate; and a developer discharge onto a surface of the substrate held by the substrate holding unit. Moving means for moving the developer discharge nozzle relative to the substrate so that the developer is supplied from the slit-like discharge port of the nozzle, and the developer discharge nozzle is a liquid storage space to which the developer is supplied And a liquid discharge part having a slit-like discharge port for discharging developer, the liquid discharge part being arranged along one direction parallel to the longitudinal direction of the slit-like discharge port and having one end A plurality of tubular flow channels communicating with the liquid storage space, and a plurality of tapered flow channels arranged along one direction and extending downward from the other ends of the plurality of tubular flow channels to the slit-like discharge ports. Road and formed, multiple Joryuro are right angles to a plurality of tapered channel or The plurality of tapered flow paths are provided with a flat inner wall in the vicinity of the top where the developer introduced from the plurality of tubular flow paths collides, and the developer that has collided with the inner wall. However, the fluid flows through the plurality of tapered channels and is discharged from the slit-shaped discharge port.
[0021]
In the developer supply apparatus according to the first aspect of the present invention, the developer discharge nozzle is moved by the moving means so that the developer is supplied from the slit-shaped outlet of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means. It is moved relative to.
[0022]
In the developer discharge nozzle of the developer supply apparatus according to the first invention, the developer supplied to the liquid storage space of the liquid storage portion is introduced into the plurality of tapered flow paths through the plurality of tubular flow paths. Then, it is diffused in the longitudinal direction of the slit-like discharge port and discharged from the slit-like discharge port.
[0023]
Since the tubular channels are formed with high processing accuracy, the diameters of the plurality of tubular channels can be made equal. Therefore, the static pressure of the developer in the liquid pool space is converted into a uniform dynamic pressure in the plurality of tubular flow paths. Thereby, the flow velocity or flow rate of the developer introduced from the plurality of tubular channels into the plurality of tapered channels is equalized at each opening of the plurality of tubular channels. The developer introduced at the same flow rate or flow rate from the plurality of tubular channels to the plurality of tapered channels is diffused in the longitudinal direction of the slit discharge port and merges with each other. Thus, the developer can be discharged. As a result, the developer can be uniformly supplied to the surface of the substrate.
[0024]
Further, after the developer introduced into the plurality of tapered channels from the plurality of tubular channels collides with the planar inner wall of the tapered channel, the direction of the developer flow is changed, and then the tapered flow is changed. Spread on the road. Thereby, the effect of the diffusion of the developer by the plurality of tapered channels is enhanced, and the developer flowing through the plurality of tubular channels can be dropped as droplets from the slit-like discharge port through the tapered channels by gravity. It is also possible to prevent air from flowing back from the slit-like discharge port through the tapered flow passage and the tubular flow passage to the liquid storage space due to the drop of the liquid droplets, thereby generating bubbles in the developer.
[0025]
  First2Developer according to the inventionSupply deviceIs the developer according to the first inventionSupply deviceIn this configuration, the liquid discharge portion has a bottom surface provided with a slit-like discharge port, the bottom surface of the liquid discharge portion has hydrophilicity, and the outer wall surfaces in front of and behind the bottom surface of the liquid discharge portion in the moving direction. It has water repellency.
[0026]
  In this case, since the bottom surface of the liquid discharge portion has hydrophilicity, the liquid retaining property is good at the bottom surface of the liquid discharge portion, and a sufficient liquid pool is formed between the bottom surface of the liquid discharge portion and the surface of the substrate. This makes it difficult for a liquid breakage phenomenon to occur between the bottom surface of the liquid discharge portion and the surface of the substrate.
[0027]
  In addition, since the front and rear outer wall surfaces of the bottom surface of the liquid discharge portion have water repellency, the phenomenon that the developer rises on the front and rear outer wall surfaces of the liquid discharge portion is suppressed. Thus, contamination of the liquid discharge portion due to the adhesion of the developer to the front and rear outer wall surfaces is prevented.
[0028]
  First3Developer according to the inventionSupply deviceIsFirst or secondDeveloper according to the inventionSupply deviceIn the configuration, the liquid discharge section includes a first member having a first joint surface and a second member having a second joint surface joined to the first joint surface, and the first member A plurality of tapered recesses forming a plurality of tapered flow paths are formed on the first joint surface, and the other ends of the plurality of tubular channels are opened on the second joint surface of the second member. It is.
[0029]
  In this case, the liquid discharge portion is configured by joining the first joint surface of the first member and the second joint surface of the second member, and a plurality of tapered flow is formed by the plurality of tapered recesses. A path is formed and a plurality of tubular channels open into the plurality of tapered channels.
[0030]
  First4Developer according to the inventionSupply deviceIsFirst or secondDeveloper according to the inventionSupply deviceIn this configuration, the liquid discharge section includes a first member having a first joint surface and a second member having a second joint surface joined to the first joint surface, and the second member A plurality of tapered recesses constituting a plurality of tapered channels are formed on the second joint surface, and the other ends of the plurality of tubular channels are opened in the tapered recesses.
[0031]
  In this case, the liquid discharge portion is configured by joining the first joint surface of the first member and the second joint surface of the second member, and a plurality of tapered flow is formed by the plurality of tapered recesses. A path is formed and a plurality of tubular channels open into the plurality of tapered channels.
[0032]
  First5Developer according to the inventionSupply deviceIs3rd or 4thDeveloper according to the inventionSupply deviceIn this configuration, the liquid discharge portion is a sheet-like sealing member sandwiched between regions excluding a plurality of tapered recesses between the first joint surface of the first member and the second joint surface of the second member. Is further provided.
[0033]
  In this case, by sandwiching the sheet-like sealing member between the first joint surface of the first member and the second joint surface of the second member, the first member and the second member are joined. It is possible to configure the liquid discharge part without using an adhesive. Therefore, the problem of the reaction between the developer and the adhesive is avoided.
[0034]
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a developer supply apparatus, comprising: a substrate holding unit that holds the substrate in a horizontal position; a developer discharge nozzle that is movable on the substrate; and a developer discharge onto the surface of the substrate held by the substrate holding unit. Moving means for moving the developer discharge nozzle relative to the substrate so that the developer is supplied from the slit-like discharge port of the nozzle, and the developer discharge nozzle is a liquid storage space to which the developer is supplied And a liquid discharge part having a slit-like discharge port for discharging developer, the liquid discharge part being arranged along one direction parallel to the longitudinal direction of the slit-like discharge port and having one end A plurality of tubular flow channels communicating with the liquid storage space, and a plurality of tapered flow channels arranged along one direction and extending downward from the other ends of the plurality of tubular flow channels to the slit-like discharge ports. Road and formed, multiple And the liquid discharge portion has a first member having a first joint surface and made of a water-repellent material, and A second member having two bonding surfaces and made of a water-repellent material, one surface bonded to the first bonding surface, and another surface bonded to the second bonding surface, and made of a hydrophilic material A plurality of tapered recesses forming a plurality of tapered channels on the second joint surface of the second member, and the other ends of the plurality of tubular channels are formed in the tapered recesses. Opened, the first member is joined to one surface of the third member, and the second member is joined to the other surface of the third member, so that the first member and the second member move in the moving direction. Forming the front and rear outer wall surfaces of the liquid discharge portion, and the third member forms the bottom surface of the liquid discharge portion, The channel-like channel is formed in a tapered recess, has a planar inner wall near the top of which the developer introduced from a plurality of tubular channels collides, and the developer that collides with the inner wall has a plurality of tapered shapes. The liquid flows through the flow path and is discharged from the slit-shaped discharge port.
[0035]
In the developer supply apparatus according to the sixth aspect of the present invention, the developer discharge nozzle is moved by the moving means so that the developer is supplied from the slit-shaped outlet of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means. It is moved relative to.
[0036]
In the developer discharge nozzle of the developer supply apparatus according to the sixth aspect of the invention, the developer supplied to the liquid storage space of the developer discharge nozzle is introduced into the plurality of tapered channels through the plurality of tubular channels. Then, it is diffused in the longitudinal direction of the slit-like discharge port and discharged from the slit-like discharge port.
[0037]
Since the tubular channels are formed with high processing accuracy, the diameters of the plurality of tubular channels can be made equal. Therefore, the static pressure of the developer in the liquid pool space is converted into a uniform dynamic pressure in the plurality of tubular flow paths. Thereby, the flow velocity or flow rate of the developer introduced from the plurality of tubular channels into the plurality of tapered channels is equalized at each opening of the plurality of tubular channels. The developer introduced at the same flow rate or flow rate from the plurality of tubular channels to the plurality of tapered channels is diffused in the longitudinal direction of the slit discharge port and merges with each other. Thus, the developer can be discharged. As a result, the developer can be uniformly supplied to the surface of the substrate.
[0038]
In addition, after the developer introduced from the plurality of tubular channels into the plurality of tapered channels collides with the inner wall of the tapered channel, the flow direction of the developer is changed and then diffused in the tapered channels. Is done. Thereby, the effect of the diffusion of the developer by the plurality of tapered channels is enhanced, and the developer flowing through the plurality of tubular channels can be dropped as droplets from the slit-like discharge port through the tapered channels by gravity. It is also possible to prevent air from flowing back from the slit-like discharge port through the tapered flow passage and the tubular flow passage to the liquid storage space due to the drop of the liquid droplets, thereby generating bubbles in the developer.
[0039]
  Further, the liquid discharge is performed by bonding the first bonding surface of the first member and one surface of the third member and bonding the second bonding surface of the second member and the other surface of the third member. A plurality of tapered channels are formed by the plurality of tapered recesses, and the plurality of tubular channels open into the plurality of tapered channels.
[0040]
  Furthermore, the first joining surface of the first member and one surface of the third member are joined, and the second joining surface of the second member and the other surface of the third member made of a hydrophilic material are When joined, the first member and the second member made of a water repellent material form the front and rear outer wall surfaces of the liquid discharge part in the moving direction, and the hydrophilic third member of the liquid discharge part A bottom surface is formed.
[0041]
  In this case, since the first member and the second member are made of a water repellent material, the front outer wall surface and the rear outer wall surface of the liquid discharge part have water repellency. Thereby, the phenomenon that the developer crawls up to the front outer wall surface and the rear outer wall surface of the liquid discharge portion is suppressed. Therefore, contamination of the liquid discharge portion due to the adhesion of the developer to the outer wall surface in front of the liquid discharge portion and the outer wall surface behind is prevented.
[0042]
  Further, since the third member is made of a hydrophilic material, the bottom surface of the liquid discharge portion has hydrophilicity. As a result, the liquid retaining property is improved at the bottom surface of the liquid discharge portion, and a sufficient liquid pool is formed between the bottom surface of the liquid discharge portion and the surface of the substrate. Therefore, the liquid breakage phenomenon is less likely to occur between the bottom surface of the liquid discharge portion and the surface of the substrate.
[0043]
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a developer supply apparatus comprising: a substrate holding unit that holds a substrate in a horizontal position; a developer discharge nozzle that is movable on the substrate; and a developer discharge onto the surface of the substrate held by the substrate holding unit Moving means for moving the developer discharge nozzle relative to the substrate so that the developer is supplied from the slit-like discharge port of the nozzle, and the developer discharge nozzle is a liquid storage space to which the developer is supplied And a liquid discharge portion having a slit-like discharge port for discharging the developer, the liquid discharge portion being arranged along one direction parallel to the longitudinal direction of the slit-like discharge port and one end A plurality of tubular flow channels communicating with the liquid storage space, and a plurality of tapered shapes arranged in one direction and extending downward from the other ends of the plurality of tubular flow channels to the slit-like discharge ports. A plurality of flow paths are formed Each of the tubular flow paths is provided so as to be perpendicular to or inclined with respect to the plurality of tapered flow paths, and the liquid discharge portion includes a first member having a first joint surface and made of a water repellent material, A second member having two bonding surfaces and made of a water-repellent material, one surface bonded to the first bonding surface, and another surface bonded to the second bonding surface, and made of a hydrophilic material A plurality of tapered recesses forming a plurality of tapered channels on the first joint surface of the first member, and a plurality of tubular channels on one surface of the third member. The other end is opened and the third The first member is joined to one surface of the member, and the second member is joined to the other surface of the third member, so that the first member and the second member are in front of the liquid discharge portion in the moving direction. And the rear outer wall surface, the third member forms the bottom surface of the liquid discharge portion, and the plurality of tapered flow paths are formed on one surface of the third member and introduced from the plurality of tubular flow paths. A flat inner wall against which the developer collides is provided in the vicinity of each top, and the developer colliding with the inner wall flows through a plurality of tapered flow channels and is discharged from the slit-shaped discharge port.
[0044]
In the developer supply apparatus according to the seventh aspect of the invention, the developer discharge nozzle is moved by the moving means so that the developer is supplied from the slit-shaped outlet of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means. It is moved relative to.
In the developer discharge nozzle of the developer supply apparatus according to the seventh aspect of the invention, the developer supplied to the liquid storage space of the developer discharge nozzle is introduced into the plurality of tapered channels through the plurality of tubular channels. Then, it is diffused in the longitudinal direction of the slit-like discharge port and discharged from the slit-like discharge port.
[0045]
Since the tubular channels are formed with high processing accuracy, the diameters of the plurality of tubular channels can be made equal. Therefore, the static pressure of the developer in the liquid pool space is converted into a uniform dynamic pressure in the plurality of tubular flow paths. Thereby, the flow velocity or flow rate of the developer introduced from the plurality of tubular channels into the plurality of tapered channels is equalized at each opening of the plurality of tubular channels. The developer introduced at the same flow rate or flow rate from the plurality of tubular channels to the plurality of tapered channels is diffused in the longitudinal direction of the slit discharge port and merges with each other. Thus, the developer can be discharged. As a result, the developer can be uniformly supplied to the surface of the substrate.
[0046]
In addition, after the developer introduced from the plurality of tubular channels into the plurality of tapered channels collides with the inner wall of the tapered channel, the flow direction of the developer is changed and then diffused in the tapered channels. Is done. Thereby, the effect of the diffusion of the developer by the plurality of tapered channels is enhanced, and the developer flowing through the plurality of tubular channels can be dropped as droplets from the slit-like discharge port through the tapered channels by gravity. It is also possible to prevent air from flowing back from the slit-like discharge port through the tapered flow passage and the tubular flow passage to the liquid storage space due to the drop of the liquid droplets, thereby generating bubbles in the developer.
[0047]
  Further, the liquid discharge is performed by bonding the first bonding surface of the first member and one surface of the third member and bonding the second bonding surface of the second member and the other surface of the third member. A plurality of tapered channels are formed by the plurality of tapered recesses, and the plurality of tubular channels open into the plurality of tapered channels.
[0048]
  Furthermore, the first joining surface of the first member and one surface of the third member are joined, and the second joining surface of the second member and the other surface of the third member made of a hydrophilic material are When joined, the first member and the second member made of a water repellent material form the front and rear outer wall surfaces of the liquid discharge part in the moving direction, and the hydrophilic third member of the liquid discharge part A bottom surface is formed.
[0049]
  In this case, since the first member and the second member are made of a water repellent material, the front outer wall surface and the rear outer wall surface of the liquid discharge part have water repellency. Thereby, the phenomenon that the developer crawls up to the front outer wall surface and the rear outer wall surface of the liquid discharge portion is suppressed. Therefore, contamination of the liquid discharge portion due to the adhesion of the developer to the outer wall surface in front of the liquid discharge portion and the outer wall surface behind is prevented.
[0050]
  Further, since the third member is made of a hydrophilic material, the bottom surface of the liquid discharge portion has hydrophilicity. As a result, the liquid retaining property is improved at the bottom surface of the liquid discharge portion, and a sufficient liquid pool is formed between the bottom surface of the liquid discharge portion and the surface of the substrate. Therefore, the liquid breakage phenomenon is less likely to occur between the bottom surface of the liquid discharge portion and the surface of the substrate.
[0051]
  First8Developer according to the inventionSupply deviceAre the 1st to 1st7Developer according to any of the inventionsSupply deviceIn this configuration, the plurality of tapered flow paths are combined and integrated with each other at a position from the plurality of tubular flow paths to the slit-shaped discharge port or at the position of the slit-shaped discharge port.
[0052]
  As a result, the developer diffused in each of the plurality of tapered flow paths merges at the position up to the slit-shaped discharge port or at the position of the slit-shaped discharge port, and is uniformly discharged from the entire area of the slit-shaped discharge port.
[0053]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
  Hereinafter, a developer discharge nozzle and a developing device using the same will be described as an example of a developer discharge nozzle and a developer supply apparatus according to the present invention.
[0054]
  FIG. 1 is a plan view of a developing device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line XX of the main part of the developing device of FIG. 1, and FIG. It is line sectional drawing.
[0055]
  As shown in FIGS. 2 and 3, the developing device includes a substrate holding unit 1 that sucks and holds the substrate 100 in a horizontal posture. The substrate holder 1 is fixed to the tip of the rotating shaft 3 of the motor 2 and is configured to be rotatable around a vertical axis. A circular inner cup 4 is provided around the substrate holding portion 1 so as to be movable up and down so as to surround the substrate 100. A square outer cup 5 is provided around the inner cup 4.
[0056]
  As shown in FIG. 1, standby pots 6 and 7 are disposed on both sides of the outer cup 5, and a guide rail 8 is disposed on one side of the outer cup 5. Further, the nozzle arm 9 is provided so as to be movable in the scanning direction A and the opposite direction along the guide rail 8 by the arm driving unit 10. A pure water discharge nozzle 12 that discharges pure water is provided on the other side of the outer cup 5 so as to be rotatable in the direction of arrow R.
[0057]
  A developer discharge nozzle 11 is attached to the nozzle arm 9 perpendicularly to the guide rail 8. Thereby, the developer discharge nozzle 11 can be linearly moved along the scanning direction A from the position of the standby pot 6 over the substrate 100 to the position of the standby pot 7. As will be described later, the developer discharge nozzle 11 includes a liquid reservoir 20 and a liquid discharge unit 30, and a slit-shaped discharge port 15 is formed on the bottom surface of the liquid discharge unit 30.
[0058]
  As shown in FIG. 2, a developer is supplied to the developer discharge nozzle 11 by a developer supply system 14. The control unit 13 controls the rotation operation of the motor 2, the scanning of the developer discharge nozzle 11 by the arm driving unit 10, and the discharge of the developer from the developer discharge nozzle 11.
[0059]
  In this embodiment, the substrate holding unit 1 corresponds to a substrate holding unit, the arm driving unit 10 corresponds to a moving unit, and the developer discharge nozzle 11 corresponds to a developer discharge nozzle.
[0060]
  4 is a longitudinal sectional view taken along the slit-like discharge port 15 of the developer discharge nozzle 11, and FIG. 5 is a sectional view taken along the line ZZ of the developer discharge nozzle 11 of FIG.
[0061]
  As shown in FIG. 5, the developer discharge nozzle 11 includes a liquid reservoir 20 and a liquid discharger 30, and the liquid discharger 30 is joined to one side surface of the liquid reservoir 20.
[0062]
  Inside the liquid reservoir 20, there are provided a liquid reservoir space 22 and a hot water pipe 24 through which hot water flows to adjust the temperature of the developer in the liquid reservoir space 22. A communicating developer supply port 21 is provided, and a developer outlet 23 is provided near the lower end of one side surface. Further, around the developer pipe 26 reaching the developer supply port 21, there is provided a hot water pipe 25 through which hot water flows to adjust the temperature of the developer flowing through the developer pipe 26.
[0063]
  The liquid discharge unit 30 includes a plate-like first member 31 and a plate-like second member 32, and the first member 31 and the second member 32 are joined with a sheet-like packing 33 interposed therebetween. A slit-shaped discharge port 15 is formed on the bottom surface of the liquid discharge unit 30.
[0064]
  The liquid discharge part 30 is formed with a plurality of tubular channels 36 that communicate with the developer outlet 23 of the liquid reservoir 20 and extend in the horizontal direction. As shown in FIG. 4, the plurality of tubular flow paths 36 are arranged at equal intervals along the slit longitudinal direction SL. Since the tubular flow path 36 can be formed with high processing accuracy, there is almost no dimensional error of the plurality of tubular flow paths 36. Therefore, the plurality of tubular flow paths 36 have the same diameter.
[0065]
  The liquid discharge portion 30 is formed with a plurality of tapered flow paths 34 that extend downward in the slit longitudinal direction SL and extend downward to reach the slit-shaped discharge ports 15. The plurality of tapered channels 34 are also arranged at equal intervals along the slit longitudinal direction SL. The plurality of tubular channels 36 communicate with the vicinity of the tops of the plurality of tapered channels 34, respectively.
[0066]
  The plurality of tapered flow paths 34 are combined and integrated with each other at a certain height H from the slit-shaped discharge port 15 on the bottom surface of the liquid discharge unit 30. Thus, a coupling region 35 having a constant width is formed at the lower ends of the plurality of tapered flow paths 34. Note that the plurality of tapered flow paths 34 may be coupled to each other at the position of the slit-shaped discharge port 15 on the bottom surface of the liquid discharge unit 30. In this case, H = 0.
[0067]
  The liquid reservoir 20, the first member 31, and the second member 32 are formed of PVC (polyvinyl chloride), PTFE (polytetrafluoroethylene), PPS (polyphenylene sulfide), pure quartz, high-purity alumina, or the like. . Further, as the sheet packing 33, a sheet made of a fluorine-based resin, a sheet made of glass fiber, a sheet made of quartz, or the like is used.
[0068]
  6A is an exploded front view of the liquid discharge portion 30 of the developer discharge nozzle 11, and FIG. 6B is an exploded side view of the liquid discharge portion 30 of the developer discharge nozzle 11.
[0069]
  As shown in FIG. 6, a plurality of tapered recesses 34 a constituting a plurality of tapered flow paths 34 are formed on the first joint surface PA of the first member 31. The plurality of tapered recesses 34a are coupled to each other at a certain height H from the bottom surface to form a coupling region 35a having a certain width.
[0070]
  On the other hand, a plurality of tubular flow paths 36 are open on the second joint surface PB of the second member 32. The sheet-like packing 33 has the same shape as the region excluding the plurality of tapered recesses 34a on the first joint surface PA of the first member 31, and has a plurality of tapered notches corresponding to the plurality of tapered recesses 34a. 37.
[0071]
  A plurality of screw holes 38, 39, and 40 are provided along the upper side and both sides of the first member 31, the second member 32, and the sheet packing 33, respectively.
[0072]
  The sheet packing 33 is sandwiched between the first joint surface PA of the first member 31 and the second joint surface PB of the second member 32, and screws (not shown) are screwed into the screw holes 38, 39, and 40. By connecting the first member 31 and the second member 32 with screws, the liquid discharge unit 30 shown in FIGS. 4 and 5 is configured, and a plurality of tapered concave portions of the first member 31 are formed. A plurality of tapered flow paths 34 communicating with the plurality of tubular flow paths 36 are formed by the plurality of tapered notches 37 of the sheet-like packing 33 and the second joint surface PB of the second member 32.
[0073]
  In the developer discharge nozzle 11 of this embodiment, the developer is supplied from the developer supply system 14 (see FIG. 2) to the liquid reservoir space 22 through the developer supply port 21 of the liquid reservoir 20. The developer in the liquid storage space 22 is introduced from the developer outlet 23 into the plurality of tapered channels 34 through the plurality of tubular channels 36 of the liquid discharge unit 30. At this time, since the diameters of the plurality of tubular flow paths 36 are formed to be equal, the static pressure of the developer in the liquid pool space 22 is converted into a uniform dynamic pressure by the plurality of tubular flow paths 36. As a result, the flow rate or flow rate of the developer introduced from the plurality of tubular channels 36 to the plurality of tapered channels 34 becomes equal at each outlet of the plurality of tubular channels 36. Further, the developer introduced at the same flow rate or flow rate from the plurality of tubular channels 36 to the plurality of tapered channels 34 is diffused in the slit longitudinal direction SL as it descends, and is mutually in the vicinity of the slit-shaped discharge port 15. Join. As a result, the developer is discharged from the slit-shaped discharge port 15 with a uniform flow velocity distribution.
[0074]
  In particular, since the plurality of tubular channels 36 are provided perpendicular to the plurality of tapered channels 34, the developer introduced from the plurality of tubular channels 36 into the plurality of tapered channels 34 is tapered. After colliding with the inner wall of the flow path 34, the flow direction of the developer is changed, and then diffused. Thereby, the effect of the diffusion of the developer by the plurality of tapered channels 34 is enhanced, and the developer flowing through the plurality of tubular channels 36 is prevented from dropping through the tapered channels 34 due to gravity. Further, it is possible to prevent air from flowing back from the slit-like discharge port 15 to the liquid reservoir space 22 through the tapered flow path 34 and the tubular flow path 36 due to the drop of the developer, and bubbles are generated in the developer. .
[0075]
  In the developer discharge nozzle 11 of the present embodiment, the liquid discharge unit 30 is configured without using an adhesive by sandwiching the sheet packing 33 and joining the first member 31 and the second member 32 with screws. Therefore, the problem that the developer reacts with the adhesive does not occur.
[0076]
  When the developer does not react with the adhesive, the first bonding surface PA of the first member 31 and the second bonding surface PB of the second member 32 are not used without using the sheet packing 33. You may join with an adhesive agent.
[0077]
  In the present embodiment, a plurality of tapered recesses 34a constituting a plurality of tapered flow paths 34 are formed on the first joint surface PA of the first member 31. A plurality of tapered recesses 34 a constituting the plurality of tapered flow paths 34 may be formed on the second joint surface PB of the opened second member 32.
[0078]
  As shown in FIG. 7, the slit-like discharge port 15 is arranged perpendicular to the scanning direction A of the developer discharge nozzle 11. The slit width t of the slit-like discharge port 15 is 0.05 to 1.0 mm, and is 0.1 mm in this embodiment. Further, the discharge width L of the slit-like discharge port 15 is set to be equal to or larger than the diameter of the substrate 100 to be developed, and in the case of developing the substrate 100 having a diameter of 8 inches, in this embodiment, 210 mm. Set to
[0079]
  The developer discharge nozzle 11 is scanned in the scanning direction A so that the bottom surface is kept parallel to the surface of the substrate 100. The distance between the slit-like discharge port 15 and the surface of the substrate 100 is 0.2 to 5 mm, more preferably 0.5 to 2 mm, and 1 mm in this embodiment.
[0080]
  Next, the operation of the developing device of FIG. 1 will be described with reference to FIGS. During the development process, the substrate 100 is held in a stationary state by the substrate holder 1.
[0081]
  During standby, the developer discharge nozzle 11 is waiting at a position P0 in the standby pot 6. During the developing process, the developer discharge nozzle 11 moves up, moves in the scanning direction A, and moves down at the scanning start position P <b> 1 in the outer cup 5.
[0082]
  Thereafter, the developer discharge nozzle 11 starts scanning at a predetermined scanning speed from the scanning start position P1. At this time, the developer is not yet discharged from the developer discharge nozzle 11. In this embodiment, the scanning speed is 10 to 500 mm / second.
[0083]
  After the scanning of the developer discharge nozzle 11 is started and before the slit-like discharge port 15 of the developer discharge nozzle 11 reaches the substrate 100, the developer discharged from the developer discharge nozzle 11 at a predetermined flow rate at the discharge start position P2. Start dispensing. In this embodiment, the flow rate of the developer is 1.5 L / min.
[0084]
  The developer discharge nozzle 11 moves linearly in the scanning direction A on the substrate 100 from the discharge start position P2 while discharging the developer (see FIG. 9). As a result, the developer is continuously supplied to the entire surface of the substrate 100. The supplied developer is held on the substrate 100 by surface tension.
[0085]
  After the developer discharge nozzle 11 has passed over the substrate 100, the discharge of the developer by the developer discharge nozzle 11 is stopped at the discharge stop position P <b> 3 removed from the substrate 100. Then, the scanning of the developer discharge nozzle 11 is stopped when the developer discharge nozzle 11 reaches the scanning stop position P4 in the outer cup 5.
[0086]
  Thereafter, the developer discharge nozzle 11 moves up to the position P5 of the other standby pot 7 after moving up at the scanning stop position P4 and then moves down into the standby pot 7.
[0087]
  The state in which the developer is supplied onto the substrate 100 is maintained for a certain period of time, and the development proceeds. At this time, the substrate holding unit 1 may be rotationally driven by the motor 2 to rotate the substrate 100. Thereafter, the substrate 100 is rotated at a high speed while supplying pure water onto the substrate 100 by the pure water discharge nozzle 12, so that the developer on the substrate 100 is shaken off, the substrate 100 is dried, and the development process is completed.
[0088]
  In the developing device of this embodiment, since the developing solution is discharged from the entire area of the slit-like discharge port 15 of the developing solution discharge nozzle 11 with a uniform flow velocity distribution, the developing solution is uniformly supplied onto the substrate. Therefore, the development uniformity within the substrate surface is improved, the uniformity of the pattern line width after development is improved, and the occurrence of development failure is avoided.
[0089]
  Further, in the developing device of the present embodiment, since the discharge of the developer starts before the developer discharge nozzle 11 reaches the stationary substrate 100, the developer at the start of discharge gives an impact to the substrate 100. Is avoided. Thereby, the generation of bubbles in the developer is suppressed, and the occurrence of development defects is prevented.
[0090]
  Further, a belt-like shape formed in the slit-like discharge port 15 is moved in a straight line in the horizontal direction on the substrate 100 where the developer discharge nozzle 11 is stationary with the slit-like discharge port 15 and the upper surface of the substrate 100 being close to each other. Since the developer continuously contacts the surface of the substrate 100, the developer is uniformly supplied to the entire surface of the substrate 100 without applying an impact to the surface of the substrate 100.
[0091]
  Further, since the supply of the developer is continued until the developer discharge nozzle 11 passes over the substrate 100, the adverse effect on the developer in the liquid pile due to the impact at the time of stopping the discharge is prevented. As a result, the occurrence of development defects is suppressed and the line width uniformity of the photosensitive film pattern after development is improved.
[0092]
  Further, since the discharge of the developer is stopped after the developer discharge nozzle 11 passes over the substrate 100, it is possible to prevent an impact on the photosensitive film on the substrate 100 due to the dripping of the developer when the discharge is stopped. The Therefore, development defects and deterioration of the line width uniformity of the photosensitive film pattern are prevented.
[0093]
  In the developer discharge nozzle 11 of the above embodiment, the plurality of tubular flow paths 36 of the liquid discharge section 30 are provided at right angles to the plurality of tapered flow paths 34, but the plurality of tubular flow paths 36 are provided. You may provide so that it may incline at an angle larger than 0 degree | times and smaller than 180 degree | times with respect to several taper-shaped flow path 34. FIG.
[0094]
  10 is a longitudinal sectional view along a slit-like discharge port showing another example of the developer discharge nozzle used in the developing device of FIGS. 1 to 3, and FIG. 11 is a BB line of the developer discharge nozzle of FIG. It is sectional drawing.
[0095]
  As shown in FIG. 11, the developer discharge nozzle 11 a includes a liquid reservoir portion 20 and a liquid discharge portion 60, and the liquid discharge portion 30 is joined to one side surface of the liquid reservoir portion 20. The configuration of the liquid reservoir 20 of the developer discharge nozzle 11a is the same as the configuration of the liquid reservoir 20 of the developer discharge nozzle 11 shown in FIG.
[0096]
  The liquid discharge unit 60 includes a plate-like first member 61, a plate-like second member 62, and a plate-like third member 63, and each of the first and the other surfaces of the third member 63 has a first The member 61 and the second member 62 are joined. A slit-like discharge port 15 a is formed on the bottom surface of the liquid discharge unit 60.
[0097]
  The first member 61 and the second member 62 are made of a water repellent material such as PTFE (polytetrafluoroethylene), and the third member 63 is made of a hydrophilic material such as quartz. Thereby, the bottom surface 71 of the liquid discharge part 60 has hydrophilicity, and the front outer wall surface 72 and the rear outer wall surface 73 of the liquid discharge part 60 have water repellency.
[0098]
  The liquid discharge portion 60 is formed with a plurality of tubular channels 66 that communicate with the developer outlet 23 of the liquid reservoir 20 and extend in the horizontal direction. As shown in FIG. 10, the plurality of tubular flow channels 66 are arranged at equal intervals along the slit longitudinal direction along SL. Since the tubular flow channel 66 can be formed with high processing accuracy, there is almost no dimensional error of the plurality of tubular flow channels 66. Therefore, the plurality of tubular flow channels 66 have the same diameter.
[0099]
  Further, the liquid discharge section 60 is formed with a plurality of tapered flow paths 64 that are gradually widened in the slit longitudinal direction SL and extend downward to reach the slit-shaped discharge ports 15a. The plurality of tapered flow paths 64 are also arranged at equal intervals along the slit longitudinal direction SL. The plurality of tubular channels 66 communicate with the vicinity of the tops of the plurality of tapered channels 64, respectively.
[0100]
  The plurality of tapered flow paths 64 are combined and integrated with each other at a certain height H from the slit-shaped discharge port 15 a on the bottom surface of the liquid discharge unit 60. Thereby, a coupling region 65 having a constant width is formed at the lower ends of the plurality of tapered flow paths 64. Note that the plurality of tapered flow paths 64 may be coupled to each other at the position of the slit-shaped discharge port 15 a on the bottom surface of the liquid discharge unit 60. In this case, H = 0.
[0101]
  12A is an exploded front view of the liquid discharge portion 60 of the developer discharge nozzle 11a of FIGS. 10 and 11, and FIG. 12B is a view of the liquid discharge portion 60 of the developer discharge nozzle 11a of FIGS. It is an exploded side view.
[0102]
  As shown in FIG. 12, the first joining surface Pa of the first member 61 is a flat plane. A plurality of tapered recesses 64 a constituting a plurality of tapered flow paths 64 are formed on the second joint surface Pb of the second member 62. The plurality of tapered recesses 64a are coupled to each other at a certain height H from the bottom surface to form a coupling region 65a having a certain width. In addition, tubular channels 66 are opened in the vicinity of the tops in the respective tapered recesses 64 a of the second member 62. One surface and the other surface of the third member 63 are flat surfaces.
[0103]
  A plurality of screw holes 68, 69, and 70 are provided along the upper side and both side sides of the first member 61, the second member 62, and the third member 63, respectively.
[0104]
  The third member 63 is sandwiched between the first joint surface Pa of the first member 61 and the second joint surface Pb of the second member 62, and screws (not shown) are inserted into the screw holes 68, 69, 70. 10), the first member 61, the third member 63, and the second member 62 are connected with screws to form the liquid discharge section 60 shown in FIGS. The plurality of tapered recesses 64 a and the other surface of the third member 63 form a plurality of tapered channels 64 communicating with the plurality of tubular channels 66.
[0105]
  FIG. 13 is a bottom view of the liquid discharge portion 60 of the developer discharge nozzle 11a of FIGS.
[0106]
  As shown in FIG. 13, the slit-like discharge port 15a is arranged perpendicular to the scanning direction A of the developer discharge nozzle 11a. The dimension of the slit-shaped discharge port 15a is the same as that of the slit-shaped discharge port 15 shown in FIG.
[0107]
  The developer discharge nozzle 11a is scanned in the scanning direction A so that the bottom surface 71 is kept parallel to the surface of the substrate.
[0108]
  In the developer discharge nozzle 11a, the developer is supplied from the developer supply system 14 (see FIG. 2) to the liquid reservoir space 22 through the developer supply port 21 of the liquid reservoir 20. The developer in the liquid storage space 22 is introduced from the developer outlet 23 into the plurality of tapered channels 64 through the plurality of tubular channels 66 of the liquid discharge unit 60. At this time, since the diameters of the plurality of tubular channels 66 are formed to be equal, the static pressure of the developer in the liquid storage space 22 is converted into a uniform dynamic pressure by the plurality of tubular channels 66. As a result, the flow rate or flow rate of the developer introduced from the plurality of tubular channels 66 into the plurality of tapered channels 64 becomes equal at each outlet of the plurality of tubular channels 66. Further, the developer introduced from the plurality of tubular channels 66 at the same flow rate or flow rate into the plurality of tapered channels 64 is diffused in the slit longitudinal direction SL as it descends, and is mutually in the vicinity of the slit-like discharge port 15a. Join. Thereby, the developer is discharged from the slit-like discharge port 15a with a uniform flow velocity distribution.
[0109]
  In particular, since the plurality of tubular channels 66 are provided perpendicular to the plurality of tapered channels 64, the developer introduced from the plurality of tubular channels 66 to the plurality of tapered channels 64 is tapered. After colliding with the inner wall of the flow path 64, the flow direction of the developer is changed, and then diffused. Thereby, the effect of the diffusion of the developer by the plurality of tapered channels 64 is enhanced, and the developer flowing through the plurality of tubular channels 66 is prevented from dropping through the tapered channels 64 due to gravity. Further, it is possible to prevent air from flowing back from the slit-like discharge port 15a through the tapered flow path 64 and the tubular flow path 66 to the liquid storage space 22 due to the dropping of the developer, and bubbles are generated in the developer. .
[0110]
  In addition, since the bottom surface 71 of the liquid discharge unit 60 has hydrophilicity, the liquid retaining property at the bottom surface 71 of the liquid discharge unit 60 is improved, and a sufficient liquid pool is provided between the bottom surface 71 of the liquid discharge unit 60 and the surface of the substrate. Is formed. Thereby, the liquid breakage phenomenon does not occur between the bottom surface 71 of the liquid discharge part 60 and the surface of the substrate. Accordingly, it is possible to prevent a portion having no developer from being generated due to a liquid running out phenomenon in a partial region on the substrate.
[0111]
  Further, since the outer wall surfaces 72 and 73 on the front and rear sides of the liquid discharge part 60 have water repellency, the phenomenon that the developer rises on the outer wall surfaces 72 and 73 of the liquid discharge part 60 is suppressed. Therefore, contamination of the liquid discharge unit 60 due to the developer adhering to the outer wall surfaces 72, 72 of the liquid discharge unit 60 is prevented.
[0112]
  In this example, a plurality of tapered recesses 64a constituting a plurality of tapered channels 64 are formed on the second joint surface Pb of the second member 62, and the tubular channel 66 is formed in each tapered recess 64a. Are formed, a plurality of tapered recesses 64a constituting a plurality of tapered flow paths 64 are formed on the first joint surface Pa of the first member 61, and the plurality of tubular flow paths 66 are formed in the second The end of the tubular flow channel 66 may be provided on the member 62 and the third member 63, and may open to one surface of the third member 63 joined to the first joining surface Pa of the first member 61.
[0113]
  In the above embodiment, the case where the present invention is applied to the developer discharge nozzle and the developing device has been described. However, the present invention is, for example, a coating liquid discharge nozzle that discharges a coating liquid such as a resist solution and a coating apparatus using the same. The present invention can also be applied to other developer discharge nozzles and a developer supply apparatus using the same.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view of a developing device according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of the main part of the developing device in FIG. 1 taken along the line XX.
3 is a cross-sectional view of the main part of the developing device in FIG. 1 taken along the line YY.
4 is a longitudinal sectional view taken along a slit-like discharge port of a developer discharge nozzle used in the developing device of FIG. 1. FIG.
5 is a cross-sectional view of the developer discharge nozzle of FIG. 4 taken along the line ZZ.
6 is an exploded front view and an exploded side view of the developer discharge nozzle of FIG. 4;
7 is a bottom view of a liquid reservoir of the developer discharge nozzle of FIG.
FIG. 8 is a diagram for explaining the operation of the developing device of FIG. 1;
FIG. 9 is a plan view showing scanning of the developer discharge nozzle on the substrate.
10 is a longitudinal sectional view along a slit-like discharge port showing another example of a developer discharge nozzle used in the developing device of FIG. 1. FIG.
11 is a cross-sectional view of the developer discharge nozzle of FIG. 10 taken along line BB.
12 is an exploded front view and an exploded side view of the developer discharge nozzle of FIGS. 10 and 11. FIG.
13 is a bottom view of a liquid reservoir of the developer discharge nozzle of FIGS. 10 and 11. FIG.
FIG. 14 is a longitudinal sectional view along a slit-like discharge port of a conventional developer discharge nozzle having a slit-like discharge port.
15 is a longitudinal sectional view along a direction perpendicular to a slit-like discharge port of the developer discharge nozzle of FIG.
[Explanation of symbols]
1 Substrate holder
8 Guide rail
9 Nozzle arm
10 Nozzle drive
11, 11a Developer discharge nozzle
13 Control unit
14 Developer supply system
15, 15a Slit discharge port
20 Liquid reservoir
22 Liquid pool space
23 Developer outlet
30, 60 Liquid discharge part
31, 61 first member
32, 62 second member
33 Sheet packing
34, 64 Tapered flow path
34a, 64a Tapered recess
35,65 bonding area
36,66 Tubular channel
37 Tapered notch
63 Third member
PA, Pa First joint surface
PB, Pb Second joint surface

Claims (8)

基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、
前記基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、
前記基板保持手段に保持された基板の表面に前記現像液吐出ノズルの前記スリット状吐出口から現像液が供給されるように前記現像液吐出ノズルを前記基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、
前記現像液吐出ノズルは、
現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、
前記液吐出部には、
前記スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が前記液溜り空間に連通する複数の管状流路と、
前記一方向に沿って配列されかつそれぞれ前記複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びて前記スリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、
前記複数の管状流路は、それぞれ前記複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、
前記複数のテーパ状流路は、前記複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、前記内壁に衝突した現像液が前記複数のテーパ状流路を流動して前記スリット状吐出口から吐出されることを特徴とする現像液供給装置。 A substrate holding means for holding the substrate in a horizontal position;
A developer discharge nozzle movable on the substrate;
Moving means for moving the developer discharge nozzle relative to the substrate so that the developer is supplied from the slit-like discharge port of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means. And
The developer discharge nozzle is
A liquid storage part having a liquid storage space to which the developer is supplied and a liquid discharge part having a slit-like discharge port for discharging the developer;
In the liquid discharge part,
A plurality of tubular flow paths arranged along one direction parallel to the longitudinal direction of the slit-like discharge port and having one end communicating with the liquid reservoir space;
A plurality of tapered passage the arrayed along one direction and extending from the other end of each of the plurality of tubular flow channel to progressively wider as such Ritsutsu downwardly reaching the slit-shaped discharge port is formed,
The plurality of tubular channels are provided so as to be perpendicular to or inclined with respect to the plurality of tapered channels, respectively.
Said plurality of tapered flow path, said plurality of developing liquid introduced from the tubular passage a planar inner wall impinging possess the respective near the top, the developer that has collided with the inner wall of the plurality of tapered developer supply device according to claim Rukoto discharged from the slit-like discharge port to flow the flow path. 前記液吐出部は、前記スリット状吐出口が設けられた底面を有し、前記液吐出部の前記底面が親水性を有し、移動方向において前記液吐出部の前記底面の前方および後方の外壁面が撥水性を有することを特徴とする請求項１記載の現像液供給装置。 The liquid discharge portion has a bottom surface provided with the slit-shaped discharge port, the bottom surface of the liquid discharge portion has hydrophilicity, and is located outside the front and rear of the bottom surface of the liquid discharge portion in the moving direction. walls developer supply device according to claim 1, wherein the water-repellent. 前記液吐出部は、第１の接合面を有する第１の部材と、前記第１の接合面に接合される第２の接合面を有する第２の部材とを備え、
前記第１の部材の前記第１の接合面に前記複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、前記第２の部材の前記第２の接合面に前記複数の管状流路の前記他端が開口されたことを特徴とする請求項１または２記載の現像液供給装置。 The liquid discharge section includes a first member having a first bonding surface, and a second member having a second bonding surface bonded to the first bonding surface,
A plurality of tapered recesses forming the plurality of tapered flow paths are formed on the first joint surface of the first member, and the plurality of tubular flows are formed on the second joint surface of the second member. 3. The developer supply device according to claim 1, wherein the other end of the path is opened . 前記液吐出部は、第１の接合面を有する第１の部材と、前記第１の接合面に接合される第２の接合面を有する第２の部材とを備え、
前記第２の部材の前記第２の接合面に前記複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、前記テーパ状凹部に前記複数の管状流路の前記他端が開口されたことを特徴とする請求項１または２記載の現像液供給装置。 The liquid discharge section includes a first member having a first bonding surface, and a second member having a second bonding surface bonded to the first bonding surface,
A plurality of tapered recesses constituting the plurality of tapered flow paths are formed on the second joint surface of the second member, and the other ends of the plurality of tubular channels are opened in the tapered recesses. The developer supply apparatus according to claim 1 or 2, wherein 前記液吐出部は、前記第１の部材の前記第１の接合面と前記第２の部材の前記第２の接合面との間の前記複数のテーパ状凹部を除く領域に挟み込まれたシート状シール部材をさらに備えたことを特徴とする請求項３または４記載の現像液供給装置。 The liquid discharge portion is a sheet-like shape sandwiched between regions excluding the plurality of tapered recesses between the first joint surface of the first member and the second joint surface of the second member. 5. The developer supply apparatus according to claim 3 , further comprising a seal member . 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、
前記基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、
前記基板保持手段に保持された基板の表面に前記現像液吐出ノズルの前記スリット状吐出口から現像液が供給されるように前記現像液吐出ノズルを前記基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、
前記現像液吐出ノズルは、
現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、
前記液吐出部には、
前記スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が前記液溜り空間に連通する複数の管状流路と、
前記一方向に沿って配列されかつそれぞれ前記複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びて前記スリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、
前記複数の管状流路は、それぞれ前記複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、
前記液吐出部は、第１の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第１の部材と、第２の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第２の部材と、前記第１の接合面に接合される一面および前記第２の接合面に接合される他面を有しかつ親水性材料からなる第３の部材とを備え、
前記第２の部材の前記第２の接合面に前記複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、前記テーパ状凹部に前記複数の管状流路の前記他端が開口され、
前記第３の部材の前記一面に前記第１の部材が接合され、前記第３の部材の前記他面に前記第２の部材が接合されることにより、
前記第１の部材および前記第２の部材が、移動方向において前記液吐出部の前方および後方の外壁面を形成し、前記第３の部材が前記液吐出部の底面を形成し、
前記複数のテーパ状流路は、前記テーパ状凹部に形成され、前記複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、前記内壁に衝突した現像液が前記複数のテーパ状流路を流動して前記スリット状吐出口から吐出されることを特徴とする現像液供給装置。 A substrate holding means for holding the substrate in a horizontal position;
A developer discharge nozzle movable on the substrate;
Moving means for moving the developer discharge nozzle relative to the substrate so that the developer is supplied from the slit-like discharge port of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means. And
The developer discharge nozzle is
A liquid storage part having a liquid storage space to which the developer is supplied and a liquid discharge part having a slit-like discharge port for discharging the developer;
In the liquid discharge part,
A plurality of tubular flow paths arranged along one direction parallel to the longitudinal direction of the slit-like discharge port and having one end communicating with the liquid reservoir space;
A plurality of tapered passage the arrayed along one direction and extending from the other end of each of the plurality of tubular flow channel to progressively wider as such Ritsutsu downwardly reaching the slit-shaped discharge port is formed,
The plurality of tubular channels are provided so as to be perpendicular to or inclined with respect to the plurality of tapered channels, respectively.
The liquid discharge section includes a first member having a first joint surface and made of a water-repellent material, a second member having a second joint surface and made of a water-repellent material, and the first member A third member having one surface joined to the joining surface and the other surface joined to the second joining surface and made of a hydrophilic material,
A plurality of tapered recesses constituting the plurality of tapered flow paths are formed on the second joint surface of the second member, and the other ends of the plurality of tubular channels are opened in the tapered recesses. ,
By joining the first member to the one surface of the third member and joining the second member to the other surface of the third member,
The first member and the second member form an outer wall surface in front of and behind the liquid discharge part in the moving direction, and the third member forms a bottom surface of the liquid discharge part ,
The plurality of tapered flow paths are formed in the tapered recesses, have flat inner walls in the vicinity of the respective tops where the developer introduced from the plurality of tubular flow paths collides, and collided with the inner walls. The developer supply apparatus , wherein the developer flows through the plurality of tapered flow paths and is discharged from the slit-shaped discharge port . 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、
前記基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、
前記基板保持手段に保持された基板の表面に前記現像液吐出ノズルの前記スリット状吐出口から現像液が供給されるように前記現像液吐出ノズルを前記基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、
前記現像液吐出ノズルは、
現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と、現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、
前記液吐出部には、
前記スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が前記液溜り空間に連通する複数の管状流路と、
前記一方向に沿って配列されかつそれぞれ前記複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びて前記スリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、
前記複数の管状流路は、それぞれ前記複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、
前記液吐出部は、第１の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第１の部材と、第２の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第２の部材と、前記第１の接合面に接合される一面および前記第２の接合面に接合される他面を有しかつ親水性材料からなる第３の部材とを備え、
前記第１の部材の前記第１の接合面に前記複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、前記第３の部材の前記一面に前記複数の管状流路の前記他端が開口され、
前記第３の部材の前記一面に前記第１の部材が接合され、前記第３の部材の前記他面に前記第２の部材が接合されることにより、
前記第１の部材および前記第２の部材が、移動方向において前記液吐出部の前方および後方の外壁面を形成し、前記第３の部材が前記液吐出部の底面を形成し、
前記複数のテーパ状流路は、前記第３の部材の前記一面に形成され、前記複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、前記内壁に衝突した現像液が前記複数のテーパ状流路を流動して前記スリット状吐出口から吐出されることを特徴とする現像液供給装置。 A substrate holding means for holding the substrate in a horizontal position;
A developer discharge nozzle movable on the substrate;
Moving means for moving the developer discharge nozzle relative to the substrate so that the developer is supplied from the slit-like discharge port of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means. And
The developer discharge nozzle is
A liquid reservoir portion having a liquid reservoir space to which the developer is supplied, and a liquid discharge portion having a slit-like discharge port for discharging the developer,
In the liquid discharge part,
A plurality of tubular flow paths arranged along one direction parallel to the longitudinal direction of the slit-like discharge port and having one end communicating with the liquid reservoir space;
A plurality of tapered passage the arrayed along one direction and extending from the other end of each of the plurality of tubular flow channel to progressively wider as such Ritsutsu downwardly reaching the slit-shaped discharge port is formed,
The plurality of tubular channels are provided so as to be perpendicular to or inclined with respect to the plurality of tapered channels, respectively.
The liquid discharge section includes a first member having a first joint surface and made of a water-repellent material, a second member having a second joint surface and made of a water-repellent material, and the first member A third member having one surface joined to the joining surface and the other surface joined to the second joining surface and made of a hydrophilic material,
A plurality of tapered recesses constituting the plurality of tapered flow paths are formed on the first joint surface of the first member, and the other of the plurality of tubular flow paths is formed on the one surface of the third member. The end is open,
By joining the first member to the one surface of the third member and joining the second member to the other surface of the third member,
The first member and the second member form an outer wall surface in front of and behind the liquid discharge part in the moving direction, and the third member forms a bottom surface of the liquid discharge part ,
The plurality of tapered flow paths are formed on the one surface of the third member, and have a flat inner wall in the vicinity of the top where the developer introduced from the plurality of tubular flow paths collides, The developer supply apparatus, wherein the developer colliding with the inner wall flows through the plurality of tapered flow paths and is discharged from the slit-like discharge port . 前記複数のテーパ状流路は、前記複数の管状流路から前記スリット状吐出口に至るまでの位置またはスリット状吐出口の位置で相互に結合して一体化することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の現像液供給装置。 2. The plurality of tapered flow paths are combined and integrated with each other at a position from the plurality of tubular flow paths to the slit-shaped discharge port or at a position of the slit-shaped discharge port. The developer supply apparatus according to any one of to 7 .
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