JP3722629B2 - Developer discharge nozzle and the developer supply unit - Google Patents

Developer discharge nozzle and the developer supply unit Download PDF

Info

Publication number
JP3722629B2
JP3722629B2 JP30423998A JP30423998A JP3722629B2 JP 3722629 B2 JP3722629 B2 JP 3722629B2 JP 30423998 A JP30423998 A JP 30423998A JP 30423998 A JP30423998 A JP 30423998A JP 3722629 B2 JP3722629 B2 JP 3722629B2
Authority
JP
Grant status
Grant
Patent type
Prior art keywords
member
plurality
surface
liquid
developer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP30423998A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH11221511A (en )
Inventor
寛 小林
茂宏 後藤
実信 松永
Original Assignee
大日本スクリーン製造株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Grant date

Links

Images

Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は、現像液を吐出する現像液吐出ノズルおよびそれを備えた現像液供給装置に関する。 The present invention relates to a developer supply device including the developer discharge nozzle and it discharges the developing solution.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板上に処理液を供給するために処理液供給装置が用いられる。 Semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, the process liquid supply apparatus for supplying a process liquid onto a substrate such as a substrate for an optical disc is used. 処理液供給装置としては、現像装置、塗布装置等がある。 The processing liquid supply device, a developing device, a coating device.
【0003】 [0003]
現像装置では、基板上に形成された感光性膜に処理液として現像液を供給することにより現像処理を行う。 In the developing device performs a developing process by supplying a developing solution as a processing solution to the photosensitive film formed on a substrate. また、塗布装置では、基板の表面に処理液としてフォトレジスト液等の塗布液を供給することにより塗布処理を行う。 Further, the coating apparatus performs the coating process by supplying a coating solution of the photoresist solution or the like as the processing liquid to the surface of the substrate.
【0004】 [0004]
例えば、回転式現像装置は、基板を水平に保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備える。 For example, the rotary developing device includes a rotation holding portion to rotate about a vertical axis while holding the substrate horizontally, and a developing solution discharge nozzle for supplying a developing solution to the surface of the substrate. 現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けられたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の上方位置と待機位置との間を移動することができる。 Developer discharge nozzle is attached to the tip of the nozzle arm provided rotatably in a horizontal plane, it can be moved between an upper position and a standby position of the substrate.
【0005】 [0005]
現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に現像液を供給する。 During development, after the developer discharge nozzle was moved from the standby position above the substrate, supplying a developing solution to the photosensitive film on the substrate. 供給された現像液は、基板の回転によって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触する。 Supplied developer is spread on the entire surface of the substrate by rotating the substrate, in contact with the photosensitive film. 表面張力により基板上に現像液を保持した状態(液盛り)で一定時間基板を静止させることにより感光性膜の現像が行われる。 Development of the photosensitive layer is conducted by stationary for a predetermined period of time the substrate while holding the developer on the substrate (puddle) by surface tension. 現像液の供給が終了すると、現像液吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から退いた待機位置に移動する。 When the supply of the developer is completed, the developing solution discharge nozzle is moved to the standby position retreated from above the substrate by the rotation of the nozzle arm.
【0006】 [0006]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
しかしながら、上記の従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな衝撃を受ける。 However, the above conventional rotary type developing apparatus, the photosensitive film is large shock on the substrate by developer discharge start a rotating substrate strikes. その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合がある。 The impact bubbles are generated in the developing solution, small bubbles remaining on the surface of the photosensitive film may become a development defect. また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性膜が損傷するおそれもある。 The photosensitive layer is also likely to be damaged by impact by discharging at the start of the developing solution.
【0007】 [0007]
そこで、スリット状吐出口を有する現像液吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板上の一端から他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動させることにより、基板上に現像液を供給する現像装置が提案されている。 Therefore, by moving from the developer discharge nozzle having a slit-shaped discharge port of the developer discharge nozzle in a straight line from one end of the substrate while discharging the developer to the other, the developing device for supplying a developing solution onto the substrate There has been proposed. この現像装置によれば、基板上の感光性膜に衝撃が加わらず、基板上に現像液が均一に供給される。 According to this developing device, not shock applied to the photosensitive film on the substrate, the developer on the substrate is uniformly supplied.
【0008】 [0008]
図14はスリット状吐出口を有する従来の現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に沿った縦断面図、図15は図14の現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に垂直な方向に沿った縦断面図である。 Figure 14 is a longitudinal sectional view taken along the conventional slit-like outlet of the developer discharge nozzle having a slit-like discharge port, 15 is a longitudinal along a direction perpendicular to the slit-shaped outlet of the developer discharge nozzle of FIG. 14 it is a surface view.
【0009】 [0009]
図14および図15に示すように、現像液吐出ノズル50の上面には現像液供給口51が設けられ、底面にはスリット状吐出口54が設けられている。 As shown in FIGS. 14 and 15, the developer supply opening 51 provided on the upper surface of the developing solution discharge nozzle 50, the slit-shaped discharge port 54 is provided on the bottom surface. この現像液吐出ノズル50の内部には、現像液供給口51に連通する液溜り空間52が設けられるとともに、液溜り空間52からスリット状吐出口54に至る現像液流路53が形成されている。 Inside the developing solution discharge nozzle 50, the liquid reservoir space 52 which communicates is provided in the developer supply opening 51, the developer passage 53 extending from the liquid reservoir space 52 to the slit-shaped discharge port 54 is formed . 現像液流路53は、スリット状吐出口54と同一の断面形状を有する。 Developer passage 53 has the same cross-sectional shape and a slit-shaped discharge port 54.
【0010】 [0010]
現像液供給系(図示せず)から圧送されてきた現像液は、現像液供給口51から液溜り空間52に一旦貯留された後に、現像液流路53を通ってスリット状吐出口54から吐出される。 Developer that has been pumped from the developer supply system (not shown), after being temporarily stored in the liquid reservoir space 52 from the developer supply port 51, discharged from the developing liquid flow path 53 a slit-shaped discharge port 54 through the It is. これにより、スリット状吐出口54の全域から基板の表面に現像液を供給することができる。 Thus, it is possible to supply the developer from the entire region of the slit-shaped discharge port 54 on the surface of the substrate.
【0011】 [0011]
しかし、圧送されてきた現像液をスリット状吐出口54から吐出する場合、スリット状吐出口54での現像液の流速分布は、液溜り空間52からスリット状吐出口54に至る現像液流路53の寸法誤差により大きな影響を受ける。 However, when ejecting the developing solution has been pumped from the slit-like discharge port 54, the flow velocity distribution of the developer in the slit-shaped discharge port 54, the developing liquid channel extending from the liquid reservoir space 52 to the slit-shaped outlets 54 53 greatly affected by the size error. 機械的な加工精度の限界からスリット長手方向SLの全体にわたって現像液流路53の幅のばらつきをなくすことは難しい。 It is difficult to eliminate the variation in the width of the developer passage 53 throughout the mechanical working accuracy limit of the slit longitudinal direction SL. 特に、スリット状吐出口54のスリット幅tが狭い場合には、スリット幅tに対する現像液流路53の幅のばらつきの割合が大きくなる。 In particular, when the slit width t of the slit-shaped discharge port 54 is narrow, the ratio of the variation of the width of the developer passage 53 for the slit width t is increased. それにより、スリット状吐出口54の全域にわたって現像液の流速分布を均一にすることが困難となる。 Thereby, it becomes difficult to make uniform the flow velocity distribution of the developing solution over the entire region of the slit-shaped discharge port 54.
【0012】 [0012]
現像液の流速分布が十分に均一でない状態で基板上に現像液を吐出すると、基板の表面に均一に現像液を供給することができない。 When ejecting a developing solution onto the substrate while the flow velocity distribution of the developing solution is not sufficiently uniform, it is impossible to uniformly supply the developer to the surface of the substrate. それにより、基板面内で現像均一性が悪くなり、現像後のパターン線幅の均一性が低下したり、現像不良が生じることがある。 Thus, development uniformity in the substrate surface is poor, uniformity may decrease the pattern line width after the development, it may development failure occurs.
【0013】 [0013]
スリット状吐出口を有する処理液吐出ノズルを他の処理液供給装置に用いた場合にも、同様に、スリット状吐出口の全域にわたって処理液の流速分布を均一にすることが困難となる。 When using the treatment liquid ejection nozzle having a slit-like discharge port to another processing liquid supply unit also, similarly, it is difficult to make uniform the flow velocity distribution of the treatment liquid over the entire region of the slit-shaped outlets.
【0014】 [0014]
また、現像液吐出ノズル50を用いて基板上に現像液を供給する際には、基板の一部領域に液切れ現象により現像液の存在しない部分が発生することを防止する必要がある。 Further, when supplying the developing solution onto a substrate using a developing solution discharge nozzle 50, it is necessary to prevent the nonexistent portion of the developer by the liquid out phenomenon in a partial region of the substrate occurs.
【0015】 [0015]
一方、スリット状吐出口54から吐出される現像液が現像液吐出ノズル50の外壁面に這い上がると、現像液の付着により現像液吐出ノズル50の先端部が汚染される。 On the other hand, the developer ejected from the slit-like discharge port 54 when climbing the outer wall surface of the developer discharge nozzle 50, the distal end portion of the developer discharge nozzle 50 is contaminated by the adhesion of developer. このような現像液吐出ノズル50の先端部の汚染を防止する必要もある。 It is also necessary to prevent contamination of the tip of such a developing solution discharge nozzle 50.
【0016】 [0016]
スリット状吐出口を有する処理液吐出ノズルを他の処理液供給装置に用いた場合にも、基板の一部領域に液切れ現象により処理液の存在しない部分が発生することを防止する必要があり、処理液の付着による処理液吐出ノズルの汚染を防止する必要もある。 When using the treatment liquid ejection nozzle having a slit-like discharge port to another processing liquid supply unit also, it is necessary to prevent the existent parts of the processing liquid by a liquid shortage phenomenon in a partial region of the substrate is generated , it is also necessary to prevent the processing liquid contamination of the discharge nozzle due to the deposition of the treatment liquid.
【0017】 [0017]
本発明の目的は、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することができる現像液吐出ノズルを提供することである。 An object of the present invention is to provide a developer discharge nozzle capable of discharging the developer at a uniform flow velocity distribution from the slit-shaped outlets.
【0018】 [0018]
本発明の他の目的は、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することができ、かつ液切れ現象および外壁面への現像液の付着が防止された現像液吐出ノズルを提供することである。 Another object of the present invention, it is possible to discharge the developer at a uniform flow velocity distribution from the slit-shaped outlets, and provides a developer discharge nozzle attached is prevented of the developing solution into the liquid out phenomenon and the outer wall surface It is to be.
【0019】 [0019]
本発明のさらに他の目的は、スリット状吐出口から均一な流速分布で基板上に現像液を供給することができる現像液供給装置を提供することである。 Still another object of the present invention is to provide a developer supply device capable of supplying a developing solution onto the substrate at a uniform flow velocity distribution from the slit-shaped outlets.
【0020】 [0020]
【課題を解決するための手段および発明の効果】 [Effect of the unit and the invention for solving the problems]
第1の発明に係る現像液供給装置は、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状吐出口から現像液が供給されるように現像液吐出ノズルを基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、現像液吐出ノズルは、現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、液吐出部には、スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が液溜り空間に連通する複数の管状流路と、一方向に沿って配列されかつそれぞれ複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びてスリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、複数の First according to the invention the developer supply apparatus includes a substrate holding means for holding the substrate in a horizontal attitude, a developing solution discharge nozzle movable on the substrate, the developer discharge on the surface of the substrate held by the substrate holding means and a moving means for moving the developing solution discharge nozzle relative to the substrate such that the developer is supplied from the slit-shaped discharge port of the nozzle, the developing solution discharge nozzle, the liquid reservoir space the developing solution is supplied and a liquid discharge portion having a slit-like discharge port for discharging the developing solution and a liquid reservoir portion having, in the liquid discharge portion, in the longitudinal direction and arranged along one direction parallel to and one end of the slit-shaped outlets a plurality of tubular flow channel and a plurality of tapered flow reaching the slit-shaped discharge opening extending downwardly arranged along one direction and being respectively gradually become wider from the other end of the plurality of tubular flow channel communicating with the liquid reservoir space and road is formed, a plurality of 状流路は、それぞれ複数のテーパ状流路に対して直角ま たは傾斜するように設けられ、複数のテーパ状流路は、複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、内壁に衝突した現像液が複数のテーパ状流路を流動してスリット状吐出口から吐出されるものである。 Joryuro each had a right angle or for a plurality of tapered flow path is provided so as to be inclined, a plurality of tapered flow path is planar developing solution to be introduced from a plurality of tubular flow channel collide It has the inner wall of the respective near the top, in which a developing solution having collided with the inner wall is discharged by flowing a plurality of tapered flow path from the slit-shaped outlets.
【0021】 [0021]
第1の発明に係る現像液供給装置においては、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状出口から現像液が供給されるように移動手段により現像液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動させられる。 In the developing solution supply device according to the first invention, the substrate is a developing solution discharge nozzle by the moving means so that the developer is supplied from the slit-like outlet of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means It is moved relative to.
【0022】 [0022]
第1の発明に係る現像液供給装置の現像液吐出ノズルにおいては、液溜り部の液溜り空間に供給された現像液が、複数の管状流路を通って複数のテーパ状流路に導入され、スリット状吐出口の長手方向に拡散されてスリット状吐出口から吐出される。 In the developing solution discharge nozzle in a developing solution supply device according to the first invention, a developing liquid supplied to the liquid reservoir space of the liquid reservoir portion is introduced into a plurality of tapered flow path through a plurality of tubular flow channel , is diffused in the longitudinal direction of the slit-like discharge port is discharged from the slit-shaped outlets.
【0023】 [0023]
管状流路は高い加工精度で形成されるので、複数の管状流路の径を等しくすることが可能となる。 Since the tubular flow passage is formed with high processing accuracy, it is possible to equalize the diameters of a plurality of tubular passages. そのため、液溜り空間の現像液の静圧が複数の管状流路で均一な動圧に変換される。 Therefore, the static pressure of the developer in the liquid reservoir space is converted into a uniform dynamic pressure at a plurality of tubular passages. それにより、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路の各開口で等しくなる。 Thereby, the flow velocity or flow rate of the developing solution to be introduced from a plurality of tubular flow channel in a plurality of tapered flow path is equal in each opening of the plurality of tubular passages. 複数の管状流路から複数のテーパ状流路に等しい流速または流量で導入された現像液がスリット状吐出口の長手方向に拡散されて相互に合流するので、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することが可能となる。 Since the developing solution introduced in a plurality of equal velocity or flow from the tubular passage into a plurality of tapered passages are joined to each other are diffused in the longitudinal direction of the slit-shaped outlets, uniform flow velocity distribution from the slit-shaped outlets in it is possible to discharge the developer. その結果、基板の表面に現像液を均一に供給することができる。 As a result, it is possible to uniformly supply the developer to the surface of the substrate.
【0024】 [0024]
また、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入された現像液がテーパ状流路の平面状の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、テーパ状流路で拡散される。 Further, after being changed the direction of flow of the developer by a plurality of tapered passage developer introduced into a plurality of tubular passages impinges on the planar inner wall of the tapered flow path, tapered flow It is spread with road. それにより、複数のテーパ状流路による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路を流れる現像液が重力によりテーパ状流路を通してスリット状吐出口から液滴として落下することが防止され、また液滴の落下に起因してスリット状吐出口からテーパ状流路および管状流路を通して液溜り空間に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。 Thus, along with the effect of diffusion of the developer by a plurality of tapered flow path is increased, that the developer flowing a plurality of tubular flow channel falls as droplets from the slit-like discharge port through tapered passage by gravity It is prevented, and also prevents air bubbles air flows back into the developer sump space through tapered channel and the tubular flow channel from the slit-shaped outlets due to the dropping of the droplet occurs.
【0025】 [0025]
の発明に係る現像液供給装置は、第1の発明に係る現像液供給装置の構成において、液吐出部は、スリット状吐出口が設けられた底面を有し、液吐出部の底面が親水性を有し、移動方向において液吐出部の底面の前方および後方の外壁面が撥水性を有するものである。 Developer supply device according to a second aspect is the structure of the developer supply device according to the first invention, the liquid discharge portion has a bottom surface in which the slit-shaped outlets is provided, the bottom surface of the liquid discharge portion has hydrophilicity, the front and rear of the outer wall surface of the bottom surface of the liquid ejecting portion in the direction of movement is one that has water repellency.
【0026】 [0026]
この場合、液吐出部の底面が親水性を有するので、液吐出部の底面で保液性が良好となり、液吐出部の底面と基板の表面との間に十分な液溜りが形成される。 In this case, since the bottom surface of the liquid discharge portion has a hydrophilic, liquid retention is improved by the bottom surface of the liquid discharge portion, sufficient liquid reservoir is formed between the bottom surface and the surface of the substrate of the liquid discharge portion. それにより、液吐出部の底面と基板の表面との間で液切れ現象が起こりにくくなる。 Thereby, it solution break phenomenon less likely to occur between the bottom and the surface of the substrate of the liquid discharge portion.
【0027】 [0027]
また、液吐出部の底面の前方および後方の外壁面が撥水性を有するので、液吐出部の前方および後方の外壁面に現像液が這い上がる現象が抑制される。 Further, the front and rear of the outer wall surface of the bottom surface of the liquid discharge portion so water-repellent, developer is creeping up phenomenon is suppressed to the front and rear of the outer wall surface of the liquid ejecting portion. それにより、前方および後方の外壁面への現像液の付着による液吐出部の汚染が防止される。 Thereby, contamination of the liquid discharge portion due to the adhesion of the developer to the front and rear outer wall surface is prevented.
【0028】 [0028]
の発明に係る現像液供給装置は、 第1または第2の発明に係る現像液供給装置の構成において、液吐出部は、第1の接合面を有する第1の部材と、第1の接合面に接合される第2の接合面を有する第2の部材とを備え、第1の部材の第1の接合面に複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、第2の部材の第2の接合面に複数の管状流路の上記他端が開口されたものである。 Developer supply device according to a third aspect is the structure of the developer supply device according to the first or second aspect, the liquid ejection portion includes a first member having a first joint surface, a first and a second member having a second joint surface joined to the joint surface, a plurality of tapered recess constituting a plurality of tapered flow path to the first bonding surface of the first member is formed, the other ends of the tubular flow channel in the second mating surface of the second member is one that is open.
【0029】 [0029]
この場合、第1の部材の第1の接合面と第2の部材の第2の接合面とを接合することにより液吐出部が構成されるとともに、複数のテーパ状凹部により複数のテーパ状流路が形成され、複数の管状流路が複数のテーパ状流路内に開口する。 In this case, the liquid discharge portion by bonding the first bonding surface of the first member and the second joint surface of the second member is constructed, a plurality of tapered flow by a plurality of tapered recess road is formed, a plurality of tubular flow channel is opened to a plurality of tapered passage.
【0030】 [0030]
の発明に係る現像液供給装置は、 第1または第2の発明に係る現像液供給装置の構成において、液吐出部は、第1の接合面を有する第1の部材と、第1の接合面に接合される第2の接合面を有する第2の部材とを備え、第2の部材の第2の接合面に複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、テーパ状凹部に複数の管状流路の上記他端が開口されたものである。 The fourth developer supply device according to the invention, in the configuration of the developer supply device according to the first or second aspect, the liquid ejection portion includes a first member having a first joint surface, a first and a second member having a second joint surface joined to the joint surface, a plurality of tapered recess constituting a plurality of tapered flow path to the second joint surface of the second member is formed, the other ends of the tubular flow channel in a tapered recess is one that was opened.
【0031】 [0031]
この場合、第1の部材の第1の接合面と第2の部材の第2の接合面とを接合することにより液吐出部が構成されるとともに、複数のテーパ状凹部により複数のテーパ状流路が形成され、複数の管状流路が複数のテーパ状流路内に開口する。 In this case, the liquid discharge portion by bonding the first bonding surface of the first member and the second joint surface of the second member is constructed, a plurality of tapered flow by a plurality of tapered recess road is formed, a plurality of tubular flow channel is opened to a plurality of tapered passage.
【0032】 [0032]
の発明に係る現像液供給装置は、 第3または第4の発明に係る現像液供給装置の構成において、液吐出部は、第1の部材の第1の接合面と第2の部材の第2の接合面との間の複数のテーパ状凹部を除く領域に挟み込まれたシート状シール部材をさらに備えたものである。 Fifth developer supply device according to the invention, in the configuration of the developer supply device according to the third or fourth invention, the liquid discharge portion, the first joining surface and the second member of the first member in which further comprising a plurality of sheet-like seal member sandwiched region excluding the tapered recess between the second bonding surface.
【0033】 [0033]
この場合、第1の部材の第1の接合面と第2の部材の第2の接合面との間にシート状シール部材を挟み込んで第1の部材と第2の部材とを接合することにより、接着剤を用いることなく液吐出部を構成することが可能となる。 In this case, by joining the first member and the second member sandwiches the sheet-like seal member between the first joining surface and the second joining surface of the second member of the first member , it is possible to configure the liquid discharge portion without the use of adhesives. したがって、現像液と接着剤の反応の問題が回避される。 Thus, reaction in question developer and adhesive is avoided.
【0034】 [0034]
第6の発明に係る現像液供給装置は、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状吐出口から現像液が供給されるように現像液吐出ノズルを基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、現像液吐出ノズルは、現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、液吐出部には、スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が液溜り空間に連通する複数の管状流路と、一方向に沿って配列されかつそれぞれ複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びてスリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、複数の Sixth developer supply device according to the present invention includes a substrate holding means for holding the substrate in a horizontal attitude, a developing solution discharge nozzle movable on the substrate, the developer discharge on the surface of the substrate held by the substrate holding means and a moving means for moving the developing solution discharge nozzle relative to the substrate such that the developer is supplied from the slit-shaped discharge port of the nozzle, the developing solution discharge nozzle, the liquid reservoir space the developing solution is supplied and a liquid discharge portion having a slit-like discharge port for discharging the developing solution and a liquid reservoir portion having, in the liquid discharge portion, in the longitudinal direction and arranged along one direction parallel to and one end of the slit-shaped outlets a plurality of tubular flow channel and a plurality of tapered flow reaching the slit-shaped discharge opening extending downwardly arranged along one direction and being respectively gradually become wider from the other end of the plurality of tubular flow channel communicating with the liquid reservoir space and road is formed, a plurality of 状流路は、それぞれ複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、液吐出部は、第1の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第1の部材と、第2の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第2の部材と、第1の接合面に接合される一面および第2の接合面に接合される他面を有しかつ親水性材料からなる第3の部材とを備え、第2の部材の第2の接合面に複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、テーパ状凹部に複数の管状流路の他端が開口され、第3の部材の一面に第1の部材が接合され、第3の部材の他面に第2の部材が接合されることにより、第1の部材および第2の部材が、移動方向において液吐出部の前方および後方の外壁面を形成し、第3の部材が液吐出部の底面を形成し、複数のテー Joryuro are each provided so as to perpendicularly or inclined with respect to a plurality of tapered passage, the liquid discharge portion includes a first member consisting of a and water-repellent material of the first bonding surface, the a second member consisting of and water-repellent material having a second joining surface, composed of a and a hydrophilic material having a second surface that is bonded to one surface and the second joining surface to be joined to the first joint surface and a third member, a plurality of tapered recess constituting a plurality of tapered flow path to the second joint surface of the second member is formed, the other ends of the tubular flow channel in a tapered recess is opened, the first member is bonded to one surface of the third member, by which the second member is bonded to the other surface of the third member, the first member and the second member, the moving direction the front and rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion formed in, the third member forming a bottom surface of the liquid discharge portion, a plurality of tape 状流路は、テーパ状凹部に形成され、複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、内壁に衝突した現像液が複数のテーパ状流路を流動してスリット状吐出口から吐出されるものである。 Joryuro is formed in a tapered recess, a plurality of developing liquid introduced from the tubular passage a planar inner wall impinging on each near the top, the developer is more tapered having collided with the inner wall it is intended to be ejected from the slit-shaped outlets to flow the flow path.
【0035】 [0035]
第6の発明に係る現像液供給装置においては、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状出口から現像液が供給されるように移動手段により現像液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動させられる。 In the developing solution supply device according to the sixth invention, the substrate is a developing solution discharge nozzle by the moving means so that the developer is supplied from the slit-like outlet of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means It is moved relative to.
【0036】 [0036]
第6の発明に係る現像液供給装置の現像液吐出ノズルにおいては、現像液吐出ノズルの液溜り空間に供給された現像液が、複数の管状流路を通って複数のテーパ状流路に導入され、スリット状吐出口の長手方向に拡散されてスリット状吐出口から吐出される。 In the developing solution discharge nozzle in a developing solution supply device according to the sixth invention, a developing liquid supplied to the liquid reservoir space of the developing solution discharge nozzle, into a plurality of tapered flow path through a plurality of tubular flow channel is, is diffused in the longitudinal direction of the slit-like discharge port is discharged from the slit-shaped outlets.
【0037】 [0037]
管状流路は高い加工精度で形成されるので、複数の管状流路の径を等しくすることが可能となる。 Since the tubular flow passage is formed with high processing accuracy, it is possible to equalize the diameters of a plurality of tubular passages. そのため、液溜り空間の現像液の静圧が複数の管状流路で均一な動圧に変換される。 Therefore, the static pressure of the developer in the liquid reservoir space is converted into a uniform dynamic pressure at a plurality of tubular passages. それにより、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路の各開口で等しくなる。 Thereby, the flow velocity or flow rate of the developing solution to be introduced from a plurality of tubular flow channel in a plurality of tapered flow path is equal in each opening of the plurality of tubular passages. 複数の管状流路から複数のテーパ状流路に等しい流速または流量で導入された現像液がスリット状吐出口の長手方向に拡散されて相互に合流するので、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することが可能となる。 Since the developing solution introduced in a plurality of equal velocity or flow from the tubular passage into a plurality of tapered passages are joined to each other are diffused in the longitudinal direction of the slit-shaped outlets, uniform flow velocity distribution from the slit-shaped outlets in it is possible to discharge the developer. その結果、基板の表面に現像液を均一に供給することができる。 As a result, it is possible to uniformly supply the developer to the surface of the substrate.
【0038】 [0038]
また、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入された現像液がテーパ状流路の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、テーパ状流路で拡散される。 Further, after being changed the direction of flow of the developer by a plurality of tapered passage developer introduced into a plurality of tubular flow channel collide with the inner wall of the tapered channel, spread with tapered channel It is. それにより、複数のテーパ状流路による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路を流れる現像液が重力によりテーパ状流路を通してスリット状吐出口から液滴として落下することが防止され、また液滴の落下に起因してスリット状吐出口からテーパ状流路および管状流路を通して液溜り空間に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。 Thus, along with the effect of diffusion of the developer by a plurality of tapered flow path is increased, that the developer flowing a plurality of tubular flow channel falls as droplets from the slit-like discharge port through tapered passage by gravity It is prevented, and also prevents air bubbles air flows back into the developer sump space through tapered channel and the tubular flow channel from the slit-shaped outlets due to the dropping of the droplet occurs.
【0039】 [0039]
また、第1の部材の第1の接合面と第3の部材の一面とを接合しかつ第2の部材の第2の接合面と第3の部材の他面とを接合することにより液吐出部が構成されるとともに、複数のテーパ状凹部により複数のテーパ状流路が形成され、複数の管状流路が複数のテーパ状流路内に開口する。 The liquid discharge by bonding the other surface of the first bonding the first bonding surface and one surface of the third member of the member and the second second bonding surface and the third member of the member with part is constituted, a plurality of tapered flow path is formed by a plurality of tapered recesses, a plurality of tubular flow channel is opened to a plurality of tapered passage.
【0040】 [0040]
さらに、第1の部材の第1の接合面と第3の部材の一面とが接合され、かつ第2の部材の第2の接合面と親水性材料からなる第3の部材の他面とが接合される場合に、撥水性材料からなる第1の部材および第2の部材により移動方向における液吐出部の前方および後方の外壁面が形成され、親水性の第3の部材により液吐出部の底面が形成される。 Further, the first bonding surface of the first member and the one surface of the third member is joined, and the other surface of the third member comprising a second mating surface and a hydrophilic material of the second member when it is bonded, is formed first member and the liquid discharge portion front and back of the outer wall surface of the moving direction by the second member made of water-repellent material, the liquid delivery portion by a third member of the hydrophilic the bottom is formed.
【0041】 [0041]
この場合、第1の部材および第2の部材が撥水性材料からなるので、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面が撥水性を有する。 In this case, since the first member and the second member made of water-repellent material, the front of the outer wall surface and the rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion having water repellency. それにより、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面に現像液が這い上がる現象が抑制される。 Thereby, the developer in front of the outer wall surface and the rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion is creeping up phenomenon is suppressed. したって、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面への現像液の付着による液吐出部の汚染が防止される。 What was contamination of the liquid discharge portion due to the adhesion of the developer to the front of the outer wall surface and the rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion can be prevented.
【0042】 [0042]
また、第3の部材が親水性材料からなるので、液吐出部の底面が親水性を有する。 Further, since the third member is made of hydrophilic material, the bottom surface of the liquid discharging portion having hydrophilic. それにより、液吐出部の底面で保液性が良好となり、液吐出部の底面と基板の表面との間に十分な液溜りが形成される。 Thereby, the liquid retention is improved by the bottom surface of the liquid discharge portion, sufficient liquid reservoir is formed between the bottom surface and the surface of the substrate of the liquid discharge portion. したがって、液吐出部の底面と基板の表面との間で液切れ現象が起こりにくくなる。 Therefore, liquid shortage phenomenon is less likely to occur between the bottom and the surface of the substrate of the liquid discharge portion.
【0043】 [0043]
第7の発明に係る現像液供給装置は、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状吐出口から現像液が供給されるように現像液吐出ノズルを基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、現像液吐出ノズルは、現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と、現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、液吐出部には、スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が液溜り空間に連通する複数の管状流路と、一方向に沿って配列されかつそれぞれ複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びてスリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、複数 Seventh developer supply device according to the present invention includes a substrate holding means for holding the substrate in a horizontal attitude, a developing solution discharge nozzle movable on the substrate, the developer discharge on the surface of the substrate held by the substrate holding means and a moving means for moving the developing solution discharge nozzle relative to the substrate such that the developer is supplied from the slit-shaped discharge port of the nozzle, the developing solution discharge nozzle, the liquid reservoir space the developing solution is supplied comprising a liquid reservoir having, a liquid discharge portion having a slit-like discharge port for discharging the developing solution, the liquid discharge portion, are arranged along one direction parallel to the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port and one end a plurality of tapered but reaching the slit-shaped outlets extend downwardly and a plurality of tubular channels communicating the liquid reservoir space, are arranged along one direction and becoming progressively wider from the other end of the plurality of tubular flow channel, respectively and the flow path is formed, a plurality 管状流路は、それぞれ複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、液吐出部は、第1の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第1の部材と、第2の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第2の部材と、第1の接合面に接合される一面および第2の接合面に接合される他面を有しかつ親水性材料からなる第3の部材とを備え、第1の部材の第1の接合面に複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、第3の部材の一面に複数の管状流路の他端が開口され、第3の 部材の一面に第1の部材が接合され、第3の部材の他面に第2の部材が接合されることにより、第1の部材および第2の部材が、移動方向において液吐出部の前方および後方の外壁面を形成し、第3の部材が液吐出部の底面を形成し、複数 Tubular flow channel are each provided to be perpendicular or inclined with respect to a plurality of tapered passage, the liquid discharge portion includes a first member consisting of a and water-repellent material of the first bonding surface, the a second member consisting of and water-repellent material having a second joining surface, composed of a and a hydrophilic material having a second surface that is bonded to one surface and the second joining surface to be joined to the first joint surface and a third member, the first plurality of tapered recess constituting a plurality of tapered flow path to the first joint surface of the member is formed, a plurality of tubular flow channel on one surface of the third member the other end is opened, the first member is bonded to one surface of the third member, by which the second member is bonded to the other surface of the third member, the first and second members the front and rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion formed in the moving direction, the third member forming a bottom surface of the liquid discharge portion, a plurality テーパ状流路は、第3の部材の一面に形成され、複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、内壁に衝突した現像液が複数のテーパ状流路を流動してスリット状吐出口から吐出されるものである。 Tapered channel is formed on one surface of the third member, a plurality of developing liquid introduced from the tubular passage a planar inner wall impinging on each near the top, a developing solution having collided with the inner wall it is intended to be ejected from the slit-shaped outlets to flow a plurality of tapered channel.
【0044】 [0044]
第7の発明に係る現像液供給装置においては、基板保持手段に保持された基板の表面に現像液吐出ノズルのスリット状出口から現像液が供給されるように移動手段により現像液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動させられる。 In the developing solution supply device according to the seventh invention, the substrate is a developing solution discharge nozzle by the moving means so that the developer is supplied from the slit-like outlet of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means It is moved relative to.
第7の発明に係る現像液供給装置の現像液吐出ノズルにおいては、現像液吐出ノズルの液溜り空間に供給された現像液が、複数の管状流路を通って複数のテーパ状流路に導入され、スリット状吐出口の長手方向に拡散されてスリット状吐出口から吐出される。 In the developing solution discharge nozzle in a developing solution supply device according to the seventh invention, the developer liquid supplied to the liquid reservoir space of the developing solution discharge nozzle, into a plurality of tapered flow path through a plurality of tubular flow channel is, is diffused in the longitudinal direction of the slit-like discharge port is discharged from the slit-shaped outlets.
【0045】 [0045]
管状流路は高い加工精度で形成されるので、複数の管状流路の径を等しくすることが可能となる。 Since the tubular flow passage is formed with high processing accuracy, it is possible to equalize the diameters of a plurality of tubular passages. そのため、液溜り空間の現像液の静圧が複数の管状流路で均一な動圧に変換される。 Therefore, the static pressure of the developer in the liquid reservoir space is converted into a uniform dynamic pressure at a plurality of tubular passages. それにより、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路の各開口で等しくなる。 Thereby, the flow velocity or flow rate of the developing solution to be introduced from a plurality of tubular flow channel in a plurality of tapered flow path is equal in each opening of the plurality of tubular passages. 複数の管状流路から複数のテーパ状流路に等しい流速または流量で導入された現像液がスリット状吐出口の長手方向に拡散されて相互に合流するので、スリット状吐出口から均一な流速分布で現像液を吐出することが可能となる。 Since the developing solution introduced in a plurality of equal velocity or flow from the tubular passage into a plurality of tapered passages are joined to each other are diffused in the longitudinal direction of the slit-shaped outlets, uniform flow velocity distribution from the slit-shaped outlets in it is possible to discharge the developer. その結果、基板の表面に現像液を均一に供給することができる。 As a result, it is possible to uniformly supply the developer to the surface of the substrate.
【0046】 [0046]
また、複数の管状流路から複数のテーパ状流路に導入された現像液がテーパ状流路の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、テーパ状流路で拡散される。 Further, after being changed the direction of flow of the developer by a plurality of tapered passage developer introduced into a plurality of tubular flow channel collide with the inner wall of the tapered channel, spread with tapered channel It is. それにより、複数のテーパ状流路による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路を流れる現像液が重力によりテーパ状流路を通してスリット状吐出口から液滴として落下することが防止され、また液滴の落下に起因してスリット状吐出口からテーパ状流路および管状流路を通して液溜り空間に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。 Thus, along with the effect of diffusion of the developer by a plurality of tapered flow path is increased, that the developer flowing a plurality of tubular flow channel falls as droplets from the slit-like discharge port through tapered passage by gravity It is prevented, and also prevents air bubbles air flows back into the developer sump space through tapered channel and the tubular flow channel from the slit-shaped outlets due to the dropping of the droplet occurs.
【0047】 [0047]
また、第1の部材の第1の接合面と第3の部材の一面とを接合しかつ第2の部材の第2の接合面と第3の部材の他面とを接合することにより液吐出部が構成されるとともに、複数のテーパ状凹部により複数のテーパ状流路が形成され、複数の管状流路が複数のテーパ状流路内に開口する。 The liquid discharge by bonding the other surface of the first bonding the first bonding surface and one surface of the third member of the member and the second second bonding surface and the third member of the member with part is constituted, a plurality of tapered flow path is formed by a plurality of tapered recesses, a plurality of tubular flow channel is opened to a plurality of tapered passage.
【0048】 [0048]
さらに、第1の部材の第1の接合面と第3の部材の一面とが接合され、かつ第2の部材の第2の接合面と親水性材料からなる第3の部材の他面とが接合される場合に、撥水性材料からなる第1の部材および第2の部材により移動方向における液吐出部の前方および後方の外壁面が形成され、親水性の第3の部材により液吐出部の底面が形成される。 Further, the first bonding surface of the first member and the one surface of the third member is joined, and the other surface of the third member comprising a second mating surface and a hydrophilic material of the second member when it is bonded, is formed first member and the liquid discharge portion front and back of the outer wall surface of the moving direction by the second member made of water-repellent material, the liquid delivery portion by a third member of the hydrophilic the bottom is formed.
【0049】 [0049]
この場合、第1の部材および第2の部材が撥水性材料からなるので、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面が撥水性を有する。 In this case, since the first member and the second member made of water-repellent material, the front of the outer wall surface and the rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion having water repellency. それにより、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面に現像液が這い上がる現象が抑制される。 Thereby, the developer in front of the outer wall surface and the rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion is creeping up phenomenon is suppressed. したって、液吐出部の前方の外壁面および後方の外壁面への現像液の付着による液吐出部の汚染が防止される。 What was contamination of the liquid discharge portion due to the adhesion of the developer to the front of the outer wall surface and the rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion can be prevented.
【0050】 [0050]
また、第3の部材が親水性材料からなるので、液吐出部の底面が親水性を有する。 Further, since the third member is made of hydrophilic material, the bottom surface of the liquid discharging portion having hydrophilic. それにより、液吐出部の底面で保液性が良好となり、液吐出部の底面と基板の表面との間に十分な液溜りが形成される。 Thereby, the liquid retention is improved by the bottom surface of the liquid discharge portion, sufficient liquid reservoir is formed between the bottom surface and the surface of the substrate of the liquid discharge portion. したがって、液吐出部の底面と基板の表面との間で液切れ現象が起こりにくくなる。 Therefore, liquid shortage phenomenon is less likely to occur between the bottom and the surface of the substrate of the liquid discharge portion.
【0051】 [0051]
の発明に係る現像液供給装置は、第1〜第のいずれかの発明に係る現像液供給装置の構成において、複数のテーパ状流路は、複数の管状流路からスリット状吐出口に至るまでの位置またはスリット状吐出口の位置で相互に結合して一体化するものである。 Developer supply device according to the eighth invention, in the structure of the developer supply device according to any one of the first to seventh, a plurality of tapered channel, a slit-shaped discharge port of a plurality of tubular flow channel it is intended to integrally bonded to each other at a position or positions of the slit-shaped discharge port up to.
【0052】 [0052]
これにより、複数のテーパ状流路でそれぞれ拡散される現像液がスリット状吐出口に至るまでの位置またはスリット状吐出口の位置で合流し、スリット状吐出口の全域から均一に吐出される。 Thus, a developing solution to be diffused by a plurality of tapered flow path merge at the position of the position or the slit-shaped discharge port up to the slit-like outlet is uniformly discharged from the whole area of ​​the slit-shaped outlets.
【0053】 [0053]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
以下、本発明に係る現像液吐出ノズルおよび現像液供給装置の一例として現像液吐出ノズルおよびそれを用いた現像装置について説明する。 The following describes the developing solution discharge nozzle and the developing device using it as an example of a developing solution discharge nozzle and the developing solution supply device according to the present invention.
【0054】 [0054]
図1は本発明の一実施例における現像装置の平面図、図2は図1の現像装置の主要部のX−X線断面図、図3は図1の現像装置の主要部のY−Y線断面図である。 Figure 1 is a plan view of the developing apparatus in an embodiment of the present invention, FIG. 2 is sectional view taken along line X-X of the main part of the developing apparatus of FIG. 1, the main portion of the Y-Y of the developing device of Figure 3 Figure 1 it is a line cross-sectional view.
【0055】 [0055]
図2および図3に示すように、現像装置は、基板100を水平姿勢で吸引保持する基板保持部1を備える。 As shown in FIGS. 2 and 3, the developing apparatus comprises a substrate holder 1 for sucking and holding the substrate 100 in a horizontal attitude. 基板保持部1は、モータ2の回転軸3の先端部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成されている。 Substrate holder 1 is fixed to the distal end portion of the rotary shaft 3 of the motor 2, it is rotatably configured around a vertical axis. 基板保持部1の周囲には、基板100を取り囲むように円形の内側カップ4が上下動自在に設けられている。 Around the substrate holder 1, a circular inner cup 4 is provided vertically movably so as to surround the substrate 100. また、内側カップ4の周囲には、正方形の外側カップ5が設けられている。 Around the inner cup 4, it is provided outside the cup 5 square.
【0056】 [0056]
図1に示すように、外側カップ5の両側にはそれぞれ待機ポット6,7が配置され、外側カップ5の一方の側部側にはガイドレール8が配設されている。 As shown in FIG. 1, respectively standby pot 6 and 7 are disposed on both sides of the outer cup 5, the guide rail 8 is disposed on one side portion of the outer cup 5. また、ノズルアーム9がアーム駆動部10によりガイドレール8に沿って走査方向Aおよびその逆方向に移動可能に設けられている。 The nozzle arm 9 is movable in the scanning direction A and the opposite direction along the guide rail 8 by the arm drive unit 10. 外側カップ5の他方の側部側には、純水を吐出する純水吐出ノズル12が矢印Rの方向に回転可能に設けられている。 On the other side portion of the outer cup 5, the pure water discharge nozzle 12 for ejecting pure water is provided to be rotatable in the direction of the arrow R.
【0057】 [0057]
ノズルアーム9には、現像液吐出ノズル11がガイドレール8と垂直に取り付けられている。 The nozzle arm 9, the developing solution discharge nozzle 11 is mounted perpendicular to the guide rail 8. これにより、現像液吐出ノズル11は、待機ポット6の位置から基板100上を通過して待機ポット7の位置まで走査方向Aに沿って直線状に平行移動可能となっている。 Accordingly, the developing solution discharge nozzle 11 is movable parallel to the straight line along the position to the scanning direction A of the standby pot 7 position through the substrate 100 on the standby pot 6. 後述するように、現像液吐出ノズル11は液溜り部20および液吐出部30からなり、液吐出部30の底面にスリット状吐出口15が形成されている。 As described later, the developer discharge nozzle 11 made from the liquid reservoir 20 and the liquid discharge portion 30, slit-like outlet 15 on the bottom surface of the liquid discharge portion 30 is formed.
【0058】 [0058]
図2に示すように、現像液吐出ノズル11には、現像液供給系14により現像液が供給される。 As shown in FIG. 2, the developer discharge nozzle 11, the developing solution is supplied by a developer supply system 14. 制御部13は、モータ2の回転動作、アーム駆動部10による現像液吐出ノズル11の走査および現像液吐出ノズル11からの現像液の吐出を制御する。 Control unit 13, rotation of the motor 2, controls the discharge of the developer from the scan and the developing solution discharge nozzle 11 of the developing solution discharge nozzle 11 by the arm driving portion 10.
【0059】 [0059]
本実施例では、基板保持部1が基板保持手段に相当し、アーム駆動部10が移動手段に相当し、現像液吐出ノズル11が現像液吐出ノズルに相当する。 In this embodiment, the substrate holding portion 1 corresponds to a substrate holding means, the arm drive section 10 corresponds to the moving means, the developing solution discharge nozzle 11 corresponds to the developing solution discharge nozzle.
【0060】 [0060]
図4は現像液吐出ノズル11のスリット状吐出口15に沿った縦断面図、図5は図4の現像液吐出ノズル11のZ−Z線断面図である。 Figure 4 is a longitudinal sectional view taken along the slit-shaped discharge port 15 of the developing solution discharge nozzle 11, FIG. 5 is a line Z-Z cross-sectional view of the developing solution discharge nozzle 11 of FIG.
【0061】 [0061]
図5に示すように、現像液吐出ノズル11は、液溜り部20および液吐出部30からなり、液吐出部30は液溜り部20の一方の側面に接合されている。 As shown in FIG. 5, the developing solution discharge nozzle 11 is made from the liquid reservoir 20 and the liquid discharge portion 30, the liquid discharge portion 30 is joined to one side of the liquid reservoir portion 20.
【0062】 [0062]
液溜り部20の内部には液溜り空間22と、この液溜り空間22内の現像液の温度を調節するために温水を流す温水用配管24とが設けられ、上端部に液溜り空間22に連通する現像液供給口21が設けられ、一方の側面の下端近傍に現像液出口23が設けられている。 A liquid reservoir space 22 in the interior of the liquid reservoir portion 20, and the hot water pipe 24 for flowing hot water is provided for adjusting the temperature of the developing solution of the liquid reservoir space 22, the liquid reservoir space 22 in the upper portion It provided a developer supply opening 21 which communicates with, the developer outlet 23 is provided near the lower end of one side. また、現像液供給口21に至る現像液用配管26の周囲には、現像液用配管26に流れる現像液の温度を調節するために温水を流す温水用配管25が設けられている。 Around the developer pipe 26 leading to the developer supply opening 21, the hot water pipe 25 for flowing the hot water is provided to adjust the temperature of the developer flowing in the developer pipe 26.
【0063】 [0063]
液吐出部30は板状の第1の部材31および板状の第2の部材32を備え、第1の部材31と第2の部材32とがシート状パッキン33を挟んで接合されている。 Liquid delivery unit 30 comprises a first member 31 and the plate-shaped second member 32 plate-like, the first member 31 and second member 32 are joined across the sheet-like packing 33. 液吐出部30の底面には、スリット状吐出口15が形成されている。 The bottom surface of the liquid discharge portion 30, slit-like discharge port 15 is formed.
【0064】 [0064]
液吐出部30には、液溜り部20の現像液出口23に連通して水平方向に延びる複数の管状流路36が形成されている。 The liquid discharge section 30, a plurality of tubular flow channel 36 which communicates with the developer outlet 23 of the liquid reservoir portion 20 extending in the horizontal direction is formed. 図4に示すように、複数の管状流路36は、スリット長手方向SLに沿って等間隔に配列されている。 As shown in FIG. 4, a plurality of tubular passages 36 are arranged at equal intervals along the slit's longitudinal direction SL. 管状流路36は高い加工精度で形成することができるので、複数の管状流路36の寸法誤差はほとんどない。 Since the tubular flow channel 36 can be formed with high processing accuracy, dimensional errors of a plurality of tubular passages 36 is little. そのため、複数の管状流路36は等しい径を有する。 Therefore, a plurality of tubular passages 36 have equal diameters.
【0065】 [0065]
また、この液吐出部30には、スリット長手方向SLに漸次幅広となりつつ下方に延びてスリット状吐出口15に至る複数のテーパ状流路34が形成されている。 Also, this is a liquid discharge portion 30, a plurality of tapered passage 34 leading to the slit-like discharge port 15 extends downwardly becoming gradually wider in the slit longitudinal direction SL are formed. 複数のテーパ状流路34も、スリット長手方向SLに沿って等間隔に配列されている。 A plurality of tapered channel 34 are also arranged at equal intervals along the slit's longitudinal direction SL. 複数の管状流路36は、それぞれ複数のテーパ状流路34の頂部近傍に連通している。 A plurality of tubular flow channel 36 are respectively communicated with the near the top of the plurality of tapered channel 34.
【0066】 [0066]
複数のテーパ状流路34は、液吐出部30の底面のスリット状吐出口15から一定の高さHの位置で相互に結合して一体化している。 A plurality of tapered passage 34 is integral bonded to each other from the slit-like discharge port 15 of the bottom surface of the liquid discharge portion 30 at a position of a predetermined height H. それにより、複数のテーパ状流路34の下端に一定幅の結合領域35が形成されている。 Thereby, coupling region 35 of constant width at the lower end of a plurality of tapered channel 34 is formed. なお、複数のテーパ状流路34が液吐出部30の底面のスリット状吐出口15の位置で相互に結合してもよい。 The plurality of tapered channel 34 may be bonded to each other at a position of the slit-shaped discharge port 15 of the bottom surface of the liquid discharge portion 30. この場合、H=0となる。 In this case, the H = 0.
【0067】 [0067]
液溜り部20、第1の部材31および第2の部材32は、PVC(ポリ塩化ビニル)、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、PPS(ポリフェニレンサルファイド)、純石英、高純度アルミナ等により形成される。 Liquid reservoir portion 20, the first member 31 and the second member 32 is formed by PVC (polyvinyl chloride), PTFE (polytetrafluoroethylene), PPS (polyphenylene sulfide), pure silica, pure alumina, . また、シート状パッキン33としては、フッ素系樹脂からなるシート、ガラス繊維からなるシート、石英からなるシート等が用いられる。 As the sheet-like packing 33, a sheet made of fluororesin, the sheet of glass fiber, sheet or the like made of quartz is used.
【0068】 [0068]
図6(a)は現像液吐出ノズル11の液吐出部30の分解正面図、図6(b)は現像液吐出ノズル11の液吐出部30の分解側面図である。 6 (a) is an exploded front view of a liquid discharge portion 30 of the developer discharge nozzle 11, FIG. 6 (b) is an exploded side view of a liquid discharge portion 30 of the developer discharge nozzle 11.
【0069】 [0069]
図6に示すように、第1の部材31の第1の接合面PAには、複数のテーパ状流路34を構成する複数のテーパ状凹部34aが形成されている。 As shown in FIG. 6, the first joint surface PA of the first member 31, a plurality of tapered recesses 34a constituting a plurality of tapered channel 34 is formed. 複数のテーパ状凹部34aは、底面から一定の高さHの位置で相互に結合して一定幅の結合領域35aを形成している。 A plurality of tapered recesses 34a are bonded to each other from the bottom at a position of a predetermined height H to form a coupling region 35a having a constant width.
【0070】 [0070]
一方、第2の部材32の第2の接合面PBには、複数の管状流路36が開口している。 On the other hand, the second bonding surface PB of the second member 32, a plurality of tubular flow channel 36 is opened. シート状パッキン33は、第1の部材31の第1の接合面PAの複数のテーパ状凹部34aを除く領域と同じ形状をなし、複数のテーパ状凹部34aに対応する複数のテーパ状切欠き部37を有する。 Sheet packing 33, first without the same shape as the region except for the plurality of tapered recesses 34a of the joint surface PA, a plurality of tapered notch corresponding to a plurality of tapered recesses 34a of the first member 31 with a 37.
【0071】 [0071]
第1の部材31、第2の部材32およびシート状パッキン33の上辺および両側辺に沿って複数のねじ孔38,39,40がそれぞれ設けられている。 The first member 31, a plurality of screw holes 38, 39, 40 along the upper side and both sides of the second member 32 and the sheet packing 33, respectively.
【0072】 [0072]
第1の部材31の第1の接合面PAと第2の部材32の第2の接合面PBとの間にシート状パッキン33を挟み込んでねじ孔38,39,40にねじ(図示せず)を通して第1の部材31と第2の部材32とをねじで連結することにより、図4および図5に示した液吐出部30が構成されるとともに、第1の部材31の複数のテーパ状凹部34a、シート状パッキン33の複数のテーパ状切欠き部37および第2の部材32の第2の接合面PBにより複数の管状流路36に連通する複数のテーパ状流路34が形成される。 First joint surface PA and threaded into the screw holes 38, 39, 40 sandwich the sheet-shaped gasket 33 between the second bonding surface PB of the second member 32 of the first member 31 (not shown) the first member 31 and second member 32 by coupling with screw through, together with the liquid discharge portion 30 shown in FIGS. 4 and 5 are constructed, a plurality of tapered recess of the first member 31 34a, a plurality of tapered passage 34 which communicates with a plurality of tubular flow channel 36 by a second bonding surface PB of the plurality of tapered notch 37 and the second member 32 of the sheet-like packing 33 is formed.
【0073】 [0073]
本実施例の現像液吐出ノズル11においては、現像液供給系14(図2参照)から液溜り部20の現像液供給口21を通して液溜り空間22に現像液が供給される。 In the developing solution discharge nozzle 11 of this embodiment, the developing solution is supplied from a developer supply system 14 (see FIG. 2) to the liquid reservoir space 22 through the developer supply opening 21 of the liquid reservoir portion 20. 液溜り空間22の現像液は、現像液出口23から液吐出部30の複数の管状流路36を通って複数のテーパ状流路34に導入される。 Developer sump space 22 is introduced into a plurality of tapered passage 34 through a plurality of tubular flow channel 36 of the liquid discharge portion 30 from the developer outlet 23. このとき、複数の管状流路36の径が等しく形成されているので、液溜り空間22の現像液の静圧が複数の管状流路36で均一な動圧に変換される。 At this time, since the diameter of a plurality of tubular passages 36 are formed equally, the static pressure of the developer liquid reservoir space 22 is converted into a uniform dynamic pressure at a plurality of tubular flow channel 36. それにより、複数の管状流路36から複数のテーパ状流路34に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路36の各出口で等しくなる。 Thereby, the flow velocity or flow rate of the developing solution to be introduced from a plurality of tubular flow channel 36 to a plurality of tapered channels 34 is equal at each outlet of the plurality of tubular flow channel 36. また、複数の管状流路36から複数のテーパ状流路34に等しい流速または流量で導入された現像液は、下降するに従ってスリット長手方向SLに拡散されてスリット状吐出口15の近傍で相互に合流する。 The developing liquid introduced at equal flow rates or flow rates into a plurality of tapered channel 34 from a plurality of tubular passages 36 are mutually in the vicinity of the spread in the slit longitudinal direction SL in the slit-shaped discharge port 15 according lowered It joined to. それにより、スリット状吐出口15から均一な流速分布で現像液が吐出される。 Thereby, the developer is discharged at a uniform flow velocity distribution from the slit-shaped outlets 15.
【0074】 [0074]
特に、複数の管状流路36が複数のテーパ状流路34に対して垂直に設けられているので、複数の管状流路36から複数のテーパ状流路34に導入された現像液がテーパ状流路34の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、拡散される。 In particular, since a plurality of tubular flow channel 36 is provided perpendicularly to a plurality of tapered passage 34, the developer is tapered introduced from a plurality of tubular flow channel 36 to a plurality of tapered channel 34 after it changed the direction of flow of the developer by colliding with the inner wall of the channel 34 is diffused. それにより、複数のテーパ状流路34による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路36を流れる現像液が重力によりテーパ状流路34を通してぼた落ちすることが防止され、また現像液のぼた落ちに起因してスリット状吐出口15からテーパ状流路34および管状流路36を通して液溜り空間22に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。 Thus, along with the effect of diffusion of the developer by a plurality of tapered passage 34 becomes higher, the developer flowing in the plurality of tubular flow channel 36 is prevented from falling button through tapered passage 34 by gravity, also it is prevented that the air bubbles generated in the developing solution by air due to the dripping of the developing solution from the slit-like discharge port 15 to the liquid reservoir space 22 through the tapered passage 34 and the tubular flow channel 36 will flow back .
【0075】 [0075]
本実施例の現像液吐出ノズル11においては、シート状パッキン33を挟み込んで第1の部材31と第2の部材32とをねじで接合することにより接着剤を用いることなく液吐出部30が構成されるので、現像液が接着剤と反応するという問題が生じない。 In the developing solution discharge nozzle 11 of the present embodiment, a liquid discharge portion 30 without using any adhesive by bonding the first member 31 sandwich the sheet-like packing 33 and the second member 32 in the screw configuration since the developing solution does not arise a problem that react with the adhesive.
【0076】 [0076]
なお、現像液が接着剤と反応しない場合には、シート状パッキン33を用いずに、第1の部材31の第1の接合面PAと第2の部材32の第2の接合面PBとを接着剤で接合してもよい。 In the case where the developing solution does not react with the adhesive, without using the sheet-like packing 33, a second bonding surface PB of the first joint surface PA and the second member 32 of the first member 31 it may be bonded with an adhesive.
【0077】 [0077]
また、本実施例では第1の部材31の第1の接合面PAに、複数のテーパ状流路34を構成する複数のテーパ状凹部34aが形成されているが、複数の管状流路36が開口されている第2の部材32の第2の接合面PBに、複数のテーパ状流路34を構成する複数のテーパ状凹部34aを形成してもよい。 Further, the in this embodiment the first joint surface PA of the first member 31, a plurality of tapered recesses 34a constituting a plurality of tapered channel 34 is formed, a plurality of tubular flow channel 36 the second bonding surface PB of the second member 32 has an opening may be formed a plurality of tapered recesses 34a constituting a plurality of tapered channel 34.
【0078】 [0078]
図7に示すように、スリット状吐出口15は現像液吐出ノズル11の走査方向Aと垂直に配置される。 As shown in FIG. 7, the slit-shaped discharge port 15 is disposed perpendicular to the scanning direction A of the developing solution discharge nozzle 11. スリット状吐出口15のスリット幅tは0.05〜1.0mmであり、本実施例では0.1mmである。 The slit width t of the slit-shaped discharge port 15 is 0.05 to 1.0 mm, in the present embodiment is 0.1 mm. また、スリット状吐出口15の吐出幅Lは、現像対象となる基板100の直径と同じかまたはそれよりも大きく設定され、直径8インチの基板100を現像する場合には、本実施例では210mmに設定される。 The discharge width L of the slit-shaped discharge port 15 is equal to or greater than the diameter of the substrate 100 to be developing subject, in the case of developing the substrate 100 having a diameter of 8 inches, 210 mm in this embodiment It is set to.
【0079】 [0079]
現像液吐出ノズル11は、底面が基板100の表面に対して平行な状態を保つように走査方向Aに走査される。 Developer discharge nozzle 11, the bottom surface is scanned in the scanning direction A so as to keep the parallel to the surface of the substrate 100. スリット状吐出口15と基板100の表面との間隔は、0.2〜5mm、より好ましくは0.5〜2mmであり、本実施例では1mmである。 Distance between the slit-like discharge port 15 and the surface of the substrate 100, 0.2 to 5 mm, more preferably 0.5 to 2 mm, in the present embodiment is 1 mm.
【0080】 [0080]
次に図8および図9を参照しながら図1の現像装置の動作を説明する。 Next, operation of the developing apparatus of FIG. 1 will be described with reference to FIGS. 現像処理時には、基板100は基板保持部1により静止状態で保持されている。 During development, the substrate 100 is held stationary by the substrate holder 1.
【0081】 [0081]
待機時には、現像液吐出ノズル11は、待機ポット6内の位置P0に待機している。 During standby, the developing solution discharge nozzle 11 stands by at the position P0 in the standby pot 6. 現像処理時には、現像液吐出ノズル11が上昇した後、走査方向Aに移動し、外側カップ5内の走査開始位置P1で下降する。 During development, after the developer discharge nozzle 11 rises, moves in the scanning direction A, decreasing along the scanning start position outside cup 5 P1.
【0082】 [0082]
その後、現像液吐出ノズル11は、走査開始位置P1から所定の走査速度で走査を開始する。 Thereafter, the developing solution discharge nozzle 11 starts scanning at a predetermined scanning speed from the scanning start position P1. この時点では、現像液吐出ノズル11からまだ現像液の吐出は行わない。 At this point, not yet performed the discharge of the developer from the developer discharge nozzle 11. 本実施例では、走査速度は10〜500mm/秒とする。 In this embodiment, the scanning speed is set to 10 to 500 mm / sec.
【0083】 [0083]
現像液吐出ノズル11の走査開始後、現像液吐出ノズル11のスリット状吐出口15が基板100上に到達する前に、吐出開始位置P2にて所定の流量で現像液吐出ノズル11による現像液の吐出を開始する。 After the scanning start of the developing solution discharge nozzle 11, before the slit-like discharge port 15 of the developing solution discharge nozzle 11 reaches over the substrate 100, at a predetermined flow rate at the ejection start position P2 of the developer by the developing solution discharge nozzle 11 to start the discharge. 本実施例では、現像液の流量は1.5L/分とする。 In this embodiment, the flow rate of the developing solution is a 1.5 L / min.
【0084】 [0084]
現像液吐出ノズル11は、現像液を吐出しながら吐出開始位置P2から基板100上を走査方向Aに直線状に移動する(図9参照)。 Developer discharge nozzle 11 moves while discharging the developer from the discharge start position P2 substrate 100 linearly in the scanning direction A (see FIG. 9). これにより、基板100の全面に現像液が連続的に供給される。 Thus, the developer is continuously supplied to the entire surface of the substrate 100. 供給された現像液は、表面張力により基板100上に保持される。 Supplied developer is held on the substrate 100 by surface tension.
【0085】 [0085]
現像液吐出ノズル11が基板100上を通過した後、基板100上から外れた吐出停止位置P3で現像液吐出ノズル11による現像液の吐出を停止させる。 After the developing solution discharge nozzle 11 passes over the substrate 100 to stop the discharge of the developer by the developing solution discharge nozzle 11 at the discharge stop position P3 deviated from the substrate 100. そして、現像液吐出ノズル11が外側カップ5内の走査停止位置P4に到達した時点で現像液吐出ノズル11の走査を停止させる。 Then, the scanning of the developer discharge nozzle 11 is stopped when the developer discharge nozzle 11 reaches the scan stop position P4 of the outer cup 5.
【0086】 [0086]
その後、現像液吐出ノズル11は、走査停止位置P4で上昇した後、他方の待機ポット7の位置P5まで移動し、待機ポット7内に下降する。 Thereafter, the developing solution discharge nozzle 11, after rising at a scanning stop position P4, moves to a position P5 of the other standby pot 7 is lowered into the standby pot 7.
【0087】 [0087]
基板100上に現像液が供給された状態を一定時間維持し、現像を進行させる。 The state in which the developer is supplied onto the substrate 100 to maintain a certain time, to advance the development. このとき、モータ2により基板保持部1を回転駆動し、基板100を回転させてもよい。 At this time, the substrate holder 1 is rotated by the motor 2, it may be rotated substrate 100. その後、純水吐出ノズル12により純水を基板100上に供給しながら基板100を高速回転させることにより基板100上の現像液を振り切り、基板100を乾燥させて現像処理を終了する。 Thereafter, pure by water discharge nozzle 12 while supplying pure water onto the substrate 100 finishing off developing solution on the substrate 100 by causing the substrate 100 at a high speed, the substrate 100 is dried to terminate the development.
【0088】 [0088]
本実施例の現像装置では、現像液吐出ノズル11のスリット状吐出口15の全域から均一な流速分布で現像液が吐出されるので、基板上に均一に現像液が供給される。 In the developing apparatus of this embodiment, the developer is discharged at a uniform flow velocity distribution from the entire region of the slit-like outlet 15 of the developer discharge nozzle 11, uniformly developer is supplied onto the substrate. したがって、基板面内での現像均一性が良好となり、現像後のパターン線幅の均一性が向上するとともに、現像不良の発生が回避される。 Therefore, development uniformity in the substrate surface is improved, thereby improving the uniformity of pattern line width after the development, the occurrence of development failure is avoided.
【0089】 [0089]
また、本実施例の現像装置では、現像液吐出ノズル11が静止した基板100上に到達する前に現像液の吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基板100に衝撃を与えることが回避される。 Further, in the developing apparatus of this embodiment, the developer discharged before the developing solution discharge nozzle 11 reaches over the substrate 100 is stationary is initiated, the developer practically discharge start shock the substrate 100 There is avoided. それにより、現像液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生が防止される。 Thereby, generation of bubbles in the developer is suppressed, the occurrence of development defects can be prevented.
【0090】 [0090]
さらに、現像液吐出ノズル11が静止した基板100上をスリット状吐出口15と基板100の上面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、スリット状吐出口15に形成された帯状の現像液が基板100の表面に連続的に接触するので、基板100の表面に衝撃が加わることなく基板100の全面に現像液が均一に供給される。 Further, the developing solution discharge nozzle 11 is a substrate 100 on stationary translated linearly in a horizontal direction in a state in which the upper surface and are close the slit-shaped outlets 15 and the substrate 100, which is formed in a slit-shaped outlets 15 strip since developer is continuously in contact with the surface of the substrate 100, the entire surface of the developing solution of the substrate 100 without impact is applied to the surface of the substrate 100 are uniformly supplied.
【0091】 [0091]
また、現像液吐出ノズル11が基板100上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止される。 Further, the developing solution discharge nozzle 11 because the supply of the developer continues until passing over the substrate 100, adverse effect on the developer in the puddle caused by impact during discharge halt can be prevented. その結果、現像欠陥の発生が抑制されるとともに、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上する。 As a result, the occurrence of development defects can be suppressed, thereby improving the line width uniformity of the photosensitive film pattern after development.
【0092】 [0092]
また、現像液吐出ノズル11が基板100上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐出停止時の現像液の液だれにより基板100上の感光性膜に衝撃が加わることが防止される。 Further, since the developer discharge of after the developer discharge nozzle 11 has passed over the substrate 100 is stopped, the shock that is applied is prevented in the photosensitive film on the substrate 100 by dripping of the discharge stop time of the developer that. したがって、現像欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防止される。 Accordingly, the line width uniformity of degradation of occurrence or a photosensitive film pattern development defects can be prevented.
【0093】 [0093]
なお、上記実施例の現像液吐出ノズル11では、液吐出部30の複数の管状流路36が複数のテーパ状流路34に対して直角に設けられているが、複数の管状流路36が複数のテーパ状流路34に対して0度よりも大きく180度よりも小さい角度で傾斜するように設けられてもよい。 In the developing solution discharge nozzle 11 of the above embodiment, a plurality of tubular flow channel 36 of the liquid discharge portion 30 is provided at right angles to a plurality of tapered channel 34, a plurality of tubular flow channel 36 it may be provided so as to be inclined with respect to a plurality of tapered channel 34 at an angle less than 180 degrees greater than 0 degrees.
【0094】 [0094]
図10は図1〜図3の現像装置に用いられる現像液吐出ノズルの他の例を示すスリット状吐出口に沿った縦断面図、図11は図10の現像液吐出ノズルのB−B線断面図である。 Figure 10 is a longitudinal sectional view taken along the slit-shaped outlets showing another example of the developing solution discharge nozzle for use in the developing apparatus of Figures 1-3, Figure 11 is a line B-B of the developer discharge nozzle of FIG. 10 it is a cross-sectional view.
【0095】 [0095]
図11に示すように、現像液吐出ノズル11aは、液溜り部20および液吐出部60からなり、液吐出部30は液溜り部20の一方の側面に接合されている。 As shown in FIG. 11, the developing solution discharge nozzle 11a is made from the liquid reservoir 20 and the liquid discharge portion 60, the liquid discharge portion 30 is joined to one side of the liquid reservoir portion 20. 現像液吐出ノズル11aの液溜り部20の構成は、図5に示した現像液吐出ノズル11の液溜り部20の構成と同様である。 The structure of the developing solution discharge nozzle 11a of the liquid reservoir portion 20 is similar to the configuration of the developer liquid reservoir portion 20 of the discharge nozzle 11 shown in FIG.
【0096】 [0096]
液吐出部60は、板状の第1の部材61、板状の第2の部材62および板状の第3の部材63を備え、第3の部材63の一面および他面にそれぞれ第1の部材61および第2の部材62が接合されている。 Liquid discharge portion 60 includes a first member 61 a plate-shaped, comprises a second member 62 and the plate-like third member 63 plate-shaped, first each one surface of the third member 63 and on the other side member 61 and second member 62 are joined. 液吐出部60の底面には、スリット状吐出口15aが形成されている。 The bottom surface of the liquid discharge portion 60, a slit-shaped discharge port 15a is formed.
【0097】 [0097]
第1の部材61および第2の部材62は、例えばPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等の撥水性材料により形成され、第3の部材63は、例えば石英等の親水性材料により形成される。 The first member 61 and second member 62 is formed by, for example, water-repellent material such as PTFE (polytetrafluoroethylene), the third member 63 is formed of a hydrophilic material such as quartz or the like. それにより、液吐出部60の底面71は親水性を有し、液吐出部60の前方の外壁面72および後方の外壁面73は撥水性を有する。 Thereby, the bottom surface 71 of the liquid discharge portion 60 has a hydrophilic, front outer wall surface 72 and the rear outer wall surface 73 of the liquid discharge portion 60 has water repellency.
【0098】 [0098]
液吐出部60には、液溜り部20の現像液出口23に連通して水平方向に延びる複数の管状流路66が形成されている。 The liquid discharge portion 60, a plurality of tubular flow channel 66 which communicates with the developer outlet 23 of the liquid reservoir portion 20 extending in the horizontal direction is formed. 図10に示すように、複数の管状流路66はスリット長手方向をSLに沿って等間隔に配列されている。 As shown in FIG. 10, a plurality of tubular passages 66 are arranged at equal intervals along the slit longitudinally SL. 管状流路66は高い加工精度で形成することができるので、複数の管状流路66の寸法誤差はほとんどない。 Since the tubular flow channel 66 can be formed with high processing accuracy, dimensional errors of a plurality of tubular passages 66 is little. そのため、複数の管状流路66は等しい径を有する。 Therefore, a plurality of tubular passages 66 have equal diameters.
【0099】 [0099]
また、この液吐出部60には、スリット長手方向SLに漸次幅広となりつつ下方に延びてスリット状吐出口15aに至る複数のテーパ状流路64が形成されている。 Also, this is a liquid discharge portion 60, a plurality of tapered passage 64 leading to the slit-shaped discharge port 15a extending downward becoming gradually wider in the slit longitudinal direction SL are formed. 複数のテーパ状流路64も、スリット長手方向SLに沿って等間隔に配列されている。 A plurality of tapered channels 64 are also arranged at equal intervals along the slit's longitudinal direction SL. 複数の管状流路66は、それぞれ複数のテーパ状流路64の頂部近傍に連通している。 A plurality of tubular flow channel 66 are respectively communicated with the near the top of the plurality of tapered channel 64.
【0100】 [0100]
複数のテーパ状流路64は、液吐出部60の底面のスリット状吐出口15aから一定の高さHの位置で相互に結合して一体化している。 A plurality of tapered passage 64 is integral bonded to each other from the slit-like discharge port 15a of the bottom surface of the liquid discharge portion 60 at a position of a predetermined height H. それにより、複数のテーパ状流路64の下端に一定幅の結合領域65が形成されている。 Thereby, coupling region 65 of constant width at the lower end of a plurality of tapered channel 64 is formed. なお、複数のテーパ状流路64が液吐出部60の底面のスリット状吐出口15aの位置で相互に結合してもよい。 The plurality of tapered channel 64 may be bonded to each other at a position of the slit-shaped discharge port 15a of the bottom surface of the liquid discharge portion 60. この場合、H=0となる。 In this case, the H = 0.
【0101】 [0101]
図12(a)は図10および図11の現像液吐出ノズル11aの液吐出部60の分解正面図、図12(b)は図10および図11の現像液吐出ノズル11aの液吐出部60の分解側面図である。 12 (a) is an exploded front view of a liquid discharge portion 60 of the developer discharge nozzle 11a of FIG. 10 and FIG. 11, FIG. 12 (b) of the developer discharge nozzle 11a of the liquid delivery unit 60 in FIGS. 10 and 11 it is an exploded side view.
【0102】 [0102]
図12に示すように、第1の部材61の第1の接合面Paは平坦な平面となっている。 As shown in FIG. 12, the first joint surface Pa of the first member 61 has a flat surface. 第2の部材62の第2の接合面Pbには、複数のテーパ状流路64を構成する複数のテーパ状凹部64aが形成されている。 The second mating surface Pb of the second member 62, a plurality of tapered recesses 64a constituting a plurality of tapered channel 64 is formed. 複数のテーパ状凹部64aは、底面から一定の高さHの位置で相互に結合して一定幅の結合領域65aを形成している。 A plurality of tapered recesses 64a are bonded to each other from the bottom at a position of a predetermined height H to form a coupling region 65a having a constant width. また、この第2の部材62の各テーパ状凹部64a内の頂部近傍にそれぞれ管状流路66が開口している。 Further, tubular flow channel 66 are respectively open to near the top in each of the tapered recess 64a of the second member 62. 第3の部材63の一面および他面は平坦な平面となっている。 One surface and the other surface of the third member 63 has a flat surface.
【0103】 [0103]
第1の部材61、第2の部材62および第3の部材63の上辺および両側辺に沿って複数のねじ孔68,69,70がそれぞれ設けられている。 The first member 61, along the upper side and both sides of the second member 62 and third member 63 are a plurality of screw holes 68, 69 and 70 are respectively provided.
【0104】 [0104]
第1の部材61の第1の接合面Paと第2の部材62の第2の接合面Pbとの間に第3の部材63を挟み込んでねじ孔68,69,70にねじ(図示せず)を通して第1の部材61、第3の部材63および第2の部材62をねじで連結することにより、図10および図11に示した液吐出部60が構成されるとともに、第2の部材62の複数のテーパ状凹部64aおよび第3の部材63の他面により複数の管状流路66に連通する複数のテーパ状流路64が形成される。 Not screw (shown in threaded holes 68, 69 and 70 sandwich the third member 63 between the second joint surface Pb of the first joint surface Pa and the second member 62 of the first member 61 the first member 61 through), by the third member 63 and second member 62 are connected by screws, together with the liquid discharge portion 60 shown in FIGS. 10 and 11 are configured, the second member 62 a plurality of tapered passage 64 which communicates with a plurality of tubular flow channel 66 by the other surfaces of a plurality of tapered recesses 64a and the third member 63 is formed of.
【0105】 [0105]
図13は図10および図11の現像液吐出ノズル11aの液吐出部60の底面図である。 Figure 13 is a bottom view of a liquid discharge portion 60 of the developer discharge nozzle 11a of FIG. 10 and FIG. 11.
【0106】 [0106]
図13に示すように、スリット状吐出口15aは現像液吐出ノズル11aの走査方向Aと垂直に配置される。 As shown in FIG. 13, a slit-shaped discharge port 15a is disposed perpendicularly to the scanning direction A of the developing solution discharge nozzle 11a. スリット状吐出口15aの寸法は、図7に示したスリット状吐出口15と同様である。 The dimensions of the slit-shaped discharge port 15a is similar to the slit-like outlet 15 shown in FIG.
【0107】 [0107]
現像液吐出ノズル11aは、底面71が基板の表面に対して平行な状態を保つように走査方向Aに走査される。 Developer discharge nozzle 11a is a bottom 71 is scanned in the scanning direction A so as to keep the parallel to the surface of the substrate.
【0108】 [0108]
この現像液吐出ノズル11aにおいては、現像液供給系14(図2参照)から液溜り部20の現像液供給口21を通して液溜り空間22に現像液が供給される。 In the developing solution discharge nozzle 11a, the developer is supplied from a developer supply system 14 (see FIG. 2) to the liquid reservoir space 22 through the developer supply opening 21 of the liquid reservoir portion 20. 液溜り空間22の現像液は、現像液出口23から液吐出部60の複数の管状流路66を通って複数のテーパ状流路64に導入される。 Developer sump space 22 is introduced into a plurality of tapered passage 64 through a plurality of tubular flow channel 66 of the liquid discharge portion 60 from the developer outlet 23. このとき、複数の管状流路66の径が等しく形成されているので、液溜り空間22の現像液の静圧が複数の管状流路66で均一な動圧に変換される。 At this time, since the diameter of a plurality of tubular passages 66 are formed equally, the static pressure of the developer liquid reservoir space 22 is converted into a uniform dynamic pressure at a plurality of tubular flow channel 66. それにより、複数の管状流路66から複数のテーパ状流路64に導入される現像液の流速または流量は複数の管状流路66の各出口で等しくなる。 Thereby, the flow velocity or flow rate of the developing solution to be introduced from a plurality of tubular flow channel 66 to a plurality of tapered channels 64 is equal at each outlet of the plurality of tubular channel 66. また、複数の管状流路66から複数のテーパ状流路64に等しい流速または流量で導入された現像液は、下降するに従ってスリット長手方向SLに拡散されてスリット状吐出口15aの近傍で相互に合流する。 Further, a plurality of tubular passages 66 from a plurality of tapered passage developer liquid introduced at equal flow rates or flow 64 are mutually in the vicinity of the spread in the slit longitudinal direction SL in the slit-shaped discharge port 15a in accordance lowered It joined to. それにより、スリット状吐出口15aから均一な流速分布で現像液が吐出される。 Thereby, the developer is discharged at a uniform flow velocity distribution from the slit-like discharge port 15a.
【0109】 [0109]
特に、複数の管状流路66が複数のテーパ状流路64に対して垂直に設けられているので、複数の管状流路66から複数のテーパ状流路64に導入された現像液がテーパ状流路64の内壁に衝突することにより現像液の流れの方向が変えられた後、拡散される。 In particular, since a plurality of tubular flow channel 66 is provided perpendicularly to a plurality of tapered passage 64, the developer is tapered introduced from a plurality of tubular flow channel 66 to a plurality of tapered channel 64 after it changed the direction of flow of the developer by colliding with the inner wall of the channel 64 is diffused. それにより、複数のテーパ状流路64による現像液の拡散の効果が高くなるとともに、複数の管状流路66を流れる現像液が重力によりテーパ状流路64を通してぼた落ちすることが防止され、また現像液のぼた落ちに起因してスリット状吐出口15aからテーパ状流路64および管状流路66を通して液溜り空間22に空気が逆流して現像液中に気泡が生じることも防止される。 Thus, along with the effect of diffusion of the developer by a plurality of tapered passage 64 becomes higher, the developer flowing in the plurality of tubular flow channel 66 is prevented from falling button through tapered passage 64 by gravity, also it is prevented that the air bubbles generated in the developing solution by air due to the dripping of the developing solution from the slit-like discharge port 15a to the liquid reservoir space 22 through the tapered passage 64 and the tubular flow channel 66 will flow back .
【0110】 [0110]
また、液吐出部60の底面71が親水性を有するので、液吐出部60の底面71における保液性が良好となり、液吐出部60の底面71と基板の表面との間に十分な液溜りが形成される。 Further, since the bottom surface 71 of the liquid discharge portion 60 has a hydrophilic, liquid retention is improved in the bottom surface 71 of the liquid discharge portion 60, sufficient liquid reservoir between the bottom 71 and the surface of the substrate of the liquid discharge portion 60 There is formed. それにより、液吐出部60の底面71と基板の表面との間で液切れ現象が発生することがない。 Thereby, the liquid shortage phenomenon does not occur between the bottom surface 71 and the surface of the substrate of the liquid discharge portion 60. したがって、基板上の一部領域に液切れ現象により現像液のない部分が発生することが防止される。 Thus, no part of the developer is prevented from being generated by the ink ejection cutoff phenomenon in a partial region on the substrate.
【0111】 [0111]
また、液吐出部60の前方および後方の外壁面72,73が撥水性を有するので、液吐出部60の外壁面72,73に現像液が這い上がる現象が抑制される。 Moreover, front and rear outer wall surface 72 and 73 of the liquid discharge portion 60 since the water-repellent phenomenon developer creeps on the outer wall surface 72 and 73 of the liquid discharge portion 60 is suppressed. したがって、液吐出部60の外壁面72,72に現像液が付着することによる液吐出部60の汚染が防止される。 Thus, contamination of the liquid discharge portion 60 is prevented by the developer on the outer wall surface 72, 72 of the liquid discharge portion 60 is attached.
【0112】 [0112]
なお、本例では、第2の部材62の第2の接合面Pbに複数のテーパ状流路64を構成する複数のテーパ状凹部64aが形成され、各テーパ状凹部64a内に管状流路66が開口しているが、第1の部材61の第1の接合面Paに複数のテーパ状流路64を構成する複数のテーパ状凹部64aが形成され、複数の管状流路66が第2の部材62および第3の部材63に設けられ、管状流路66の端部が第1の部材61の第1の接合面Paに接合される第3の部材63の一面に開口してもよい。 In the present embodiment, a plurality of tapered recesses 64a constituting a plurality of tapered passage 64 in the second joint surface Pb is formed of the second member 62, tubular flow channel to each tapered recess 64a 66 Although There has been opened, a plurality of tapered recesses 64a are formed to constitute a plurality of tapered passage 64 in the first joint surface Pa of the first member 61, a plurality of tubular flow channel 66 of the second provided member 62 and third member 63, may be open to one surface of the third member 63 end of the tubular channel 66 is joined to the first joint surface Pa of the first member 61.
【0113】 [0113]
上記実施例では、本発明を現像液吐出ノズルおよび現像装置に適用した場合を説明したが、本発明は、例えばレジスト液等の塗布液を吐出する塗布液吐出ノズルおよびそれを用いた塗布装置など、他の現像液吐出ノズルおよびそれを用いた現像液供給装置にも適用することができる。 In the above embodiment, the present invention has been described is applied to a developing solution discharge nozzle and the developing device, the present invention is, for example, a coating liquid for discharging the coating liquid of the resist solution such discharge nozzle and such a coating apparatus using the same , it can be applied to the developer supply device using another developer discharge nozzle and the same.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】本発明の一実施例における現像装置の平面図である。 1 is a plan view of the developing apparatus in an embodiment of the present invention.
【図2】図1の現像装置の主要部のX−X線断面図である。 2 is a sectional view taken along line X-X of the main part of the developing apparatus of FIG.
【図3】図1の現像装置の主要部のY−Y線断面図である。 3 is a line Y-Y cross-sectional view of a main portion of the developing apparatus of FIG.
【図4】図1の現像装置に用いられる現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に沿った縦断面図である。 4 is a longitudinal sectional view taken along the slit-shaped outlet of the developer discharge nozzle for use in the developing apparatus of FIG.
【図5】図4の現像液吐出ノズルのZ−Z線断面図である。 5 is a line Z-Z cross-sectional view of the developing solution discharge nozzle of FIG.
【図6】図4の現像液吐出ノズルの分解正面図および分解側面図である。 6 is an exploded front view and an exploded side view of the developing solution discharge nozzle of FIG.
【図7】図4の現像液吐出ノズルの液溜り部の底面図である。 7 is a bottom view of the liquid reservoir of the developer discharge nozzle of FIG.
【図8】図1の現像装置の動作を説明するための図である。 8 is a diagram for explaining the operation of the developing apparatus of FIG.
【図9】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す平面図である。 9 is a plan view illustrating a developer scan of the discharge nozzle on the substrate.
【図10】図1の現像装置に用いられる現像液吐出ノズルの他の例を示すスリット状吐出口に沿った縦断面図である。 10 is a longitudinal sectional view taken along the slit-shaped outlets showing another example of the developing solution discharge nozzle for use in the developing apparatus of FIG.
【図11】図10の現像液吐出ノズルのB−B線断面図である。 11 is a sectional view taken along line B-B of the developer discharge nozzle of FIG. 10.
【図12】図10および図11の現像液吐出ノズル分解正面図および分解側面図である。 12 is a developer discharge nozzle exploded front view and an exploded side view of FIG. 10 and FIG. 11.
【図13】図10および図11の現像液吐出ノズルの液溜り部の底面図である。 13 is a bottom view of the liquid reservoir of the developer discharge nozzle of FIG. 10 and FIG. 11.
【図14】スリット状吐出口を有する従来の現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に沿った縦断面図である。 14 is a longitudinal sectional view taken along the slit-shaped discharge port of a conventional developing solution discharge nozzle having a slit-like discharge port.
【図15】図14の現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に垂直な方向に沿った縦断面図である。 15 is a longitudinal sectional view taken along a direction perpendicular to the slit-shaped outlet of the developer discharge nozzle of FIG. 14.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
1 基板保持部8 ガイドレール9 ノズルアーム10 ノズル駆動部11,11a 現像液吐出ノズル13 制御部14 現像液供給系15,15a スリット状吐出口20 液溜り部22 液溜り空間23 現像液出口30,60 液吐出部31,61 第1の部材32,62 第2の部材33 シート状パッキン34,64 テーパ状流路34a,64a テーパ状凹部35,65 結合領域36,66 管状流路37 テーパ状切欠き部63 第3の部材PA,Pa 第1の接合面PB,Pb 第2の接合面 1 substrate holding portion 8 guide rail 9 nozzle arm 10 nozzle driving unit 11,11a developer discharge nozzle 13 control unit 14 the developer supply system 15,15a slit-shaped discharge port 20 fluid reservoir 22 liquid reservoir space 23 developer outlet 30, 60 solution discharge unit 31 and 61 the first member 32, 62 the second member 33 sheet packing 34, 64 tapered channels 34a, 64a tapered recess 35,65 binding regions 36,66 tubular flow channel 37 tapering off away portion 63 third member PA, Pa first joint surface PB, Pb second mating surface

Claims (8)

  1. 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、 A substrate holding means for holding the substrate in a horizontal attitude,
    前記基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、 A developer discharge nozzle movable the upper substrate,
    前記基板保持手段に保持された基板の表面に前記現像液吐出ノズルの前記スリット状吐出口から現像液が供給されるように前記現像液吐出ノズルを前記基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、 Moving means for relatively moving the developing solution discharge nozzle so that the developer is supplied from the slit-like discharge port of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means to the substrate It equipped with a door,
    前記現像液吐出ノズルは、 The developer discharge nozzle,
    現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、 And a liquid discharge portion having a slit-like discharge port for discharging liquid reservoir portion having a liquid reservoir space in which the developing solution is supplied with a developing solution,
    前記液吐出部には、 The said liquid discharge portion,
    前記スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が前記液溜り空間に連通する複数の管状流路と、 A plurality of tubular passages in the longitudinal direction are arranged along one direction parallel to and one end of the slit-shaped discharge port communicating with the liquid reservoir space,
    前記一方向に沿って配列されかつそれぞれ前記複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びて前記スリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、 A plurality of tapered passage the arrayed along one direction and extending from the other end of each of the plurality of tubular flow channel to progressively wider as such Ritsutsu downwardly reaching the slit-shaped discharge port is formed,
    前記複数の管状流路は、それぞれ前記複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、 It said plurality of tubular passages are respectively provided so as to perpendicularly or inclined with respect to the plurality of tapered channel,
    前記複数のテーパ状流路は、前記複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍にし、前記内壁に衝突した現像液が前記複数のテーパ状流路を流動して前記スリット状吐出口から吐出されることを特徴とする現像液供給装置。 It said plurality of tapered flow path, said plurality of developing liquid introduced from the tubular passage a planar inner wall impinging possess the respective near the top, the developer that has collided with the inner wall of the plurality of tapered developer supply device according to claim Rukoto discharged from the slit-like discharge port to flow the flow path.
  2. 前記液吐出部は、前記スリット状吐出口が設けられた底面を有し、前記液吐出部の前記底面が親水性を有し、移動方向において前記液吐出部の前記底面の前方および後方の外壁面が撥水性を有することを特徴とする請求項記載の現像液供給装置。 The liquid discharge portion includes a bottom surface, wherein the slit-shaped discharge opening is provided, having the bottom surface hydrophilicity of the liquid discharge portion, outer front and rear of the bottom surface of the liquid ejecting portion in the direction of movement walls developer supply device according to claim 1, wherein the water-repellent.
  3. 前記液吐出部は、第1の接合面を有する第1の部材と、前記第1の接合面に接合される第2の接合面を有する第2の部材とを備え、 The liquid discharge portion includes a first member having a first joint surface, and a second member having a second joint surface joined to the first joint surface,
    前記第1の部材の前記第1の接合面に前記複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、前記第2の部材の前記第2の接合面に前記複数の管状流路の前記他端が開口されたことを特徴とする請求項1 または2記載の現像液供給装置。 A plurality of tapered recess is formed, said plurality of tubular flow to said second joint surface of the second member constituting the plurality of tapered flow path to said first joint surface of said first member developer supply device according to claim 1 or 2, wherein the other end of the road is characterized in that it is open.
  4. 前記液吐出部は、第1の接合面を有する第1の部材と、前記第1の接合面に接合される第2の接合面を有する第2の部材とを備え、 The liquid discharge portion includes a first member having a first joint surface, and a second member having a second joint surface joined to the first joint surface,
    前記第2の部材の前記第2の接合面に前記複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、前記テーパ状凹部に前記複数の管状流路の前記他端が開口されたことを特徴とする請求項1 または2記載の現像液供給装置。 Said plurality of tapered recess constituting the plurality of tapered flow path to said second joint surface of the second member is formed, the other end of said plurality of tubular passages are opened to the tapered recess developer supply device according to claim 1 or 2, characterized in that the.
  5. 前記液吐出部は、前記第1の部材の前記第1の接合面と前記第2の部材の前記第2の接合面との間の前記複数のテーパ状凹部を除く領域に挟み込まれたシート状シール部材をさらに備えたことを特徴とする請求項3または4記載の現像液供給装置。 The liquid discharge portion, said first of said first joining surface and the second member and the second bonding surface and said plurality of sheet sandwiched region excluding the tapered recess between the members developer supply device according to claim 3, wherein further comprising a sealing member.
  6. 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、 A substrate holding means for holding the substrate in a horizontal attitude,
    前記基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、 A developer discharge nozzle movable the upper substrate,
    前記基板保持手段に保持された基板の表面に前記現像液吐出ノズルの前記スリット状吐出口から現像液が供給されるように前記現像液吐出ノズルを前記基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、 Moving means for relatively moving the developing solution discharge nozzle so that the developer is supplied from the slit-like discharge port of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means to the substrate It equipped with a door,
    前記現像液吐出ノズルは、 The developer discharge nozzle,
    現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、 And a liquid discharge portion having a slit-like discharge port for discharging liquid reservoir portion having a liquid reservoir space in which the developing solution is supplied with a developing solution,
    前記液吐出部には、 The said liquid discharge portion,
    前記スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が前記液溜り空間に連通する複数の管状流路と、 A plurality of tubular passages in the longitudinal direction are arranged along one direction parallel to and one end of the slit-shaped discharge port communicating with the liquid reservoir space,
    前記一方向に沿って配列されかつそれぞれ前記複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びて前記スリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、 A plurality of tapered passage the arrayed along one direction and extending from the other end of each of the plurality of tubular flow channel to progressively wider as such Ritsutsu downwardly reaching the slit-shaped discharge port is formed,
    前記複数の管状流路は、それぞれ前記複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、 It said plurality of tubular passages are respectively provided so as to perpendicularly or inclined with respect to the plurality of tapered channel,
    前記液吐出部は、第1の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第1の部材と、第2の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第2の部材と、前記第1の接合面に接合される一面および前記第2の接合面に接合される他面を有しかつ親水性材料からなる第3の部材とを備え、 The liquid discharge portion includes a first member consisting of a and water-repellent material of the first bonding surface, and a second member made and water-repellent material having a second joint surface, said first and a third member made of and hydrophilic material has a second surface that is bonded to one surface and the second bonding surface is bonded to the bonding surface,
    前記第2の部材の前記第2の接合面に前記複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、前記テーパ状凹部に前記複数の管状流路の前記他端が開口され、 Said plurality of tapered recess constituting the plurality of tapered flow path to said second joint surface of the second member is formed, the other end of said plurality of tubular passages are opened to the tapered recess ,
    前記第3の部材の前記一面に前記第1の部材が接合され、前記第3の部材の前記他面に前記第2の部材が接合されることにより、 It said first member to said one surface of said third member is joined, by the second member to the other surface of the third member is joined,
    前記第1の部材および前記第2の部材が、移動方向において前記液吐出部の前方および後方の外壁面を形成し、前記第3の部材が前記液吐出部の底面を形成し、 The first member and the second member, the front and rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion formed in the moving direction, the third member forms a bottom surface of the liquid discharge portion,
    前記複数のテーパ状流路は、前記テーパ状凹部に形成され、前記複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、前記内壁に衝突した現像液が前記複数のテーパ状流路を流動して前記スリット状吐出口から吐出されることを特徴とする現像液供給装置。 Said plurality of tapered flow path is formed in the tapered recess, said a plurality of developing liquid introduced from the tubular passage a planar inner wall impinging on each near the top, collides with the inner wall developer to flow a plurality of tapered passage developer supply device, characterized in that it is discharged from the slit-like discharge port.
  7. 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、 A substrate holding means for holding the substrate in a horizontal attitude,
    前記基板上を移動可能な現像液吐出ノズルと、 A developer discharge nozzle movable the upper substrate,
    前記基板保持手段に保持された基板の表面に前記現像液吐出ノズルの前記スリット状吐出口から現像液が供給されるように前記現像液吐出ノズルを前記基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備え、 Moving means for relatively moving the developing solution discharge nozzle so that the developer is supplied from the slit-like discharge port of the developer discharge nozzle to the surface of the substrate held by the substrate holding means to the substrate It equipped with a door,
    前記現像液吐出ノズルは、 The developer discharge nozzle,
    現像液が供給される液溜り空間を有する液溜り部と、現像液を吐出するスリット状吐出口を有する液吐出部とを備え、 Comprising a liquid reservoir having a liquid reservoir space in which the developing solution is supplied, a liquid discharge portion having a slit-like discharge port for discharging the developer,
    前記液吐出部には、 The said liquid discharge portion,
    前記スリット状吐出口の長手方向に平行な一方向に沿って配列されかつ一端が前記液溜り空間に連通する複数の管状流路と、 A plurality of tubular passages in the longitudinal direction are arranged along one direction parallel to and one end of the slit-shaped discharge port communicating with the liquid reservoir space,
    前記一方向に沿って配列されかつそれぞれ前記複数の管状流路の他端から漸次幅広となりつつ下方へ延びて前記スリット状吐出口に至る複数のテーパ状流路とが形成され、 A plurality of tapered passage the arrayed along one direction and extending from the other end of each of the plurality of tubular flow channel to progressively wider as such Ritsutsu downwardly reaching the slit-shaped discharge port is formed,
    前記複数の管状流路は、それぞれ前記複数のテーパ状流路に対して直角または傾斜するように設けられ、 It said plurality of tubular passages are respectively provided so as to perpendicularly or inclined with respect to the plurality of tapered channel,
    前記液吐出部は、第1の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第1の部材と、第2の接合面を有しかつ撥水性材料からなる第2の部材と、前記第1の接合面に接合される一面および前記第2の接合面に接合される他面を有しかつ親水性材料からなる第3の部材とを備え、 The liquid discharge portion includes a first member consisting of a and water-repellent material of the first bonding surface, and a second member made and water-repellent material having a second joint surface, said first and a third member made of and hydrophilic material has a second surface that is bonded to one surface and the second bonding surface is bonded to the bonding surface,
    前記第1の部材の前記第1の接合面に前記複数のテーパ状流路を構成する複数のテーパ状凹部が形成され、前記第3の部材の前記一面に前記複数の管状流路の前記他端が開口され、 Said plurality of tapered recess constituting the plurality of tapered flow path to said first joint surface of the first member is formed, the other of said plurality of tubular flow channel to the one surface of the third member end is opened,
    前記第3の部材の前記一面に前記第1の部材が接合され、前記第3の部材の前記他面に前記第2の部材が接合されることにより、 It said first member to said one surface of said third member is joined, by the second member to the other surface of the third member is joined,
    前記第1の部材および前記第2の部材が、移動方向において前記液吐出部の前方および後方の外壁面を形成し、前記第3の部材が前記液吐出部の底面を形成し、 The first member and the second member, the front and rear of the outer wall surface of the liquid discharge portion formed in the moving direction, the third member forms a bottom surface of the liquid discharge portion,
    前記複数のテーパ状流路は、前記第3の部材の前記一面に形成され、前記複数の管状流路から導入される現像液が衝突する平面状の内壁をそれぞれの頂部近傍に有し、前記内壁に衝突した現像液が前記複数のテーパ状流路を流動して前記スリット状吐出口から吐出されることを特徴とする現像液供給装置。 Said plurality of tapered flow path is formed on the one surface of the third member has the plurality of developing liquid introduced from the tubular passage a planar inner wall impinging on each near the top, the developer supply device, characterized in that the developing solution having collided with the inner wall is discharged from the slit-like discharge port to flow the plurality of tapered channel.
  8. 前記複数のテーパ状流路は、前記複数の管状流路から前記スリット状吐出口に至るまでの位置またはスリット状吐出口の位置で相互に結合して一体化することを特徴とする請求項1〜 のいずれかに記載の現像液供給装置。 Said plurality of tapered flow path claim 1, characterized in that integrated bonded to each other at a position or positions of the slit-shaped discharge port of the plurality of tubular flow channel up to the slit-shaped outlets developer supply device according to any one of 1 to 7.
JP30423998A 1997-12-05 1998-10-26 Developer discharge nozzle and the developer supply unit Expired - Fee Related JP3722629B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9-335586 1997-12-05
JP33558697 1997-12-05
JP30423998A JP3722629B2 (en) 1997-12-05 1998-10-26 Developer discharge nozzle and the developer supply unit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30423998A JP3722629B2 (en) 1997-12-05 1998-10-26 Developer discharge nozzle and the developer supply unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11221511A true JPH11221511A (en) 1999-08-17
JP3722629B2 true JP3722629B2 (en) 2005-11-30

Family

ID=26563835

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30423998A Expired - Fee Related JP3722629B2 (en) 1997-12-05 1998-10-26 Developer discharge nozzle and the developer supply unit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3722629B2 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4827294B2 (en) * 1999-11-29 2011-11-30 株式会社半導体エネルギー研究所 The method for manufacturing a film forming apparatus and light emitting device
US6692165B2 (en) 2001-03-01 2004-02-17 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate processing apparatus
KR100488753B1 (en) 2001-07-23 2005-05-11 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 Substrate treating method and apparatus
JP2003257849A (en) 2001-12-26 2003-09-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate developing and processing device
JP3852758B2 (en) * 2002-03-01 2006-12-06 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Maschines Corporation The slurry recovery device and method
KR101041872B1 (en) * 2008-11-26 2011-06-16 세메스 주식회사 Nozzle, Apparatus and method for Processing A Substrate The Same
JP5970864B2 (en) * 2012-03-02 2016-08-17 大日本印刷株式会社 Slit nozzle
JP6218666B2 (en) * 2014-04-25 2017-10-25 Towa株式会社 METHOD resin molding apparatus and a resin molding
JP6316144B2 (en) * 2014-09-02 2018-04-25 株式会社Screenホールディングス Developer discharge nozzle and the developing processing unit

Also Published As

Publication number Publication date Type
JPH11221511A (en) 1999-08-17 application

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6013315A (en) Dispense nozzle design and dispense method
US20020121341A1 (en) Substrate processing apparatus
US6602382B1 (en) Solution processing apparatus
US6635113B2 (en) Coating apparatus and coating method
US20050078144A1 (en) Image recording apparatus with maintenance unit
US20020067942A1 (en) Ink jet recording apparatus
US5782978A (en) Coating device with movable fluid supply nozzle and rotatable substrate holder
US20020176928A1 (en) Coating film forming method and system
US6869234B2 (en) Developing apparatus and developing method
US5688324A (en) Apparatus for coating substrate
US6079633A (en) Liquid jetting apparatus and operation method of the liquid jetting apparatus
US5574530A (en) Device for applying solvent for forming an image
JP2004352494A (en) Adhesive application nozzle to filament yarn body
US5381168A (en) Suction-purging unit and suction purging method for an ink jet printer
EP0376207A2 (en) Application device
US6248171B1 (en) Yield and line width performance for liquid polymers and other materials
JP2004072061A (en) Treatment solution applying method
JP2005144376A (en) Substrate treatment apparatus, slit nozzle, liquid filling degree determining structure for object to be filled, and gas inclusion degree determining structure
JP2003071363A (en) Coating liquid supply apparatus and coating equipment using the same
US6752544B2 (en) Developing apparatus and developing method
JP2001227868A (en) Substrate drier and drying method
JPH078879A (en) Fluid-coating device
JP2003088778A (en) Coater
US6749351B2 (en) Apparatus for developing substrate
US20060086460A1 (en) Developing treatment apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040302

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040422

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20041228

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050125

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20050204

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050913

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050913

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080922

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100922

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100922

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110922

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110922

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120922

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120922

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130922

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees