JP3719491B2 - 吸収式冷凍装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、吸収式冷凍装置に関し、特に、吸収冷凍サイクル運転に伴って発生する不凝縮水素ガスを還元除去する機能を有する吸収式冷凍装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
吸収式冷凍サイクルで運転される吸収式冷凍機が冷房装置として知られていたが、さらに近年、運転時のエネルギ効率の良さ等の利点が着目され、冷房運転だけでなく、蒸発器で外気から汲み上げた熱を利用したヒートポンプ暖房運転も行えるようにした吸収式冷凍機に対する需要が高まりつつある。例えば、特公平6−97127号公報では、冷房運転、ヒートポンプ運転による暖房、および直火焚き(ボイラ)運転による暖房という3つのモードで運転できるようにした吸収式冷温水機が提案されている。
【0003】
上記吸収式冷凍機の吸収冷凍サイクルは、冷媒中の成分と冷媒流路を形成している金属材料および腐食抑制剤との接触反応等によって、ごく微量の水素ガス等の不凝縮ガスが発生する。この不凝縮ガスは例えば数mmHg〜数百mmHgの低圧環境を維持すべき構成部分である吸収器、蒸発器等の真空度を低下させ、冷暖房の運転効率を著しく低下させることが知られている。このために、真空ポンプ等の抽出手段を用いてこの不凝縮ガスを機外に放出するメンテナンスが一定期間毎に必要となっていた。
【0004】
特開平8−121911号公報や特開平5−9001号公報には吸収式冷凍機内で発生した不凝縮ガスを機外に排出する装置が開示されている。これらの装置では、加熱されたパラジウム管に冷媒液から分離した不凝縮ガスを誘導し、パラジウムの選択透過性を利用して、該不凝縮ガスを大気中に放出している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
吸収式冷凍サイクルのためフッ化アルコール等のアルコール系冷媒を使用する吸収式冷凍装置においては、冷媒中に水を混入させることで、冷媒流路を形成している金属材料の腐食を抑制できることが知られている。この場合、混入させた水が冷媒流路を形成しているアルミニウムと反応して微量の水素ガスを発生するためこれの除去が必要になる。
【0006】
水素ガスは次のアノード反応とカソード反応によって発生する。アノード反応:Al→Al3 +3e− ,Al3 +3OH→AlOOH・H2 O(アルミイオンの水和(ベーマイト被膜生成))、カソード反応:3H+3e→3/2H2 (水素発生)。
【0007】
なお、アルコール系冷媒に限らず、リチウムブロマイド(LiBr)を吸収剤とし水を冷媒とする組み合わせを使用したシステム、あるいはアンモニア(NH3 )を冷媒とし、水を吸収剤溶液とする組合わせを使用したシステムにおいても、吸収剤溶液としての水から水素ガスが発生するため、同様に、この水素ガスの除去が必要である。
【0008】
上記公報に開示された不凝縮ガスの排出装置によれば、発生した水素ガスは除去されるが、次の問題点があった。すなわち、この不凝縮ガスの排出装置では、発生した水素ガスを機外に放出させるようになっているので、機内の気密性を保持するための構造が複雑化することになる。また、アルコール系冷媒を使用するシステムでは、冷媒中に含まれている水分が徐々に減少していくことになるため、腐食の抑制に必要な適正量の水が確保されないという問題点がある。
【0009】
本発明は、上記問題点に鑑み、機内の真空度を低下させることなく、かつ、冷媒中の含有水分量を適正量に保持しつつ、発生した不凝縮ガスを除去することができる吸収式冷凍装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決し、目的を達成するための本発明は、冷媒を収容した蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を吸収剤溶液で吸収する吸収器と、前記溶液の吸収剤濃度を回復させるため、該吸収剤溶液を加熱して冷媒蒸気を抽出する再生器と、前記再生器で抽出された冷媒蒸気を凝縮させて前記蒸発器へ供給するための凝縮器とを有する吸収式冷凍装置において、吸収冷凍サイクル運転に伴って発生する水素ガスと接触して還元反応を生じさせる酸化金属を主成分とする還元部が前記吸収器の内部に収容されている点に第1の特徴があり、前記還元部が前記吸収器の外壁に密接して取り付けられている点に第2の特徴がある。
【0011】
この特徴によれば、発生する水素ガスが酸化金属に作用して還元反応が起こり、水が生成されて水素ガスは除去される。こうして水素ガスを除去することにより、凝縮器、蒸発器、吸収器等、冷媒通路各部の真空度の低下による運転効率の低下を防止できるし、生成した水が還元部から冷媒通路に戻ることにより、冷媒中の水分は適正量に維持される。特に、運転中もっとも低圧になって水素ガスが集まりやすい吸収器部分に還元部を設けたので、還元反応に適した熱を吸収器内の雰囲気等から得ることができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下に、図面を参照して本発明を詳細に説明する。なお、以下の説明において参照する図面の同符号は互いに同一または同等部分を示す。図13は本発明の一実施形態に係る吸収式冷凍機の要部構成を示す系統ブロック図である。なお、ここでは、吸収式冷凍機の一実施態様として吸収式冷暖房装置を想定している。蒸発器1には冷媒としてトリフルオロエタノール(TFE)等のフッ化アルコールが、吸収器2には吸収剤を含む溶液としてDMI誘導体(ジメチルイミダゾリジノン)が収容されている。前記冷媒はフッ化アルコールに限らず非凍結範囲が広くとれるものであればよく、吸収剤溶液についてはDMI誘導体に限らず非結晶範囲が広く取れるものであり、TFEつまり冷媒よりも高い常圧沸点を有し、冷媒を吸収しうる吸収剤であればよい。また、上記冷媒と吸収剤溶液との組合わせのほか、例えばリチウムブロマイド(LiBr)を吸収剤とし、水を冷媒とする組み合わせ、あるいはやアンモニア(NH3 )を冷媒とし、水を吸収剤溶液とする組合わせを使用することができる。
【0013】
蒸発器1と吸収器2とは、蒸発(冷媒)通路を介して互いに流体的に連結されており、これら蒸発器1および吸収器2を、例えば30mmHg程度の低圧環境下に保持すると蒸発器1内の冷媒が蒸発し、この冷媒蒸気は前記蒸発通路を介して吸収器2内に入る。吸収器2内では吸収剤溶液が冷媒蒸気を吸収して吸収冷凍動作が行われる。蒸発通路には、冷媒蒸気中に残存するミスト(霧状の冷媒)を加熱して蒸気化させるとともに、凝縮器9から送給されるTFEの温度を下げる働きをする予冷器18が設けられている。
【0014】
バーナ7が点火されると、再生器3によって吸収器2内の溶液濃度が高められる(バーナおよび再生器ならびに溶液濃縮については後述する)。吸収器2内の高濃度溶液が冷媒蒸気を吸収すると蒸発器1内の冷媒が蒸発し、その蒸発時の潜熱によって蒸発器1内が冷却される。蒸発器1には冷水が通過する管路1aが通っている。管路1aを流れる冷水としてはエチレングレコール又はプロピレングレコ−ル水溶液を使用するのが好ましい。管路1aの一端(図では出口端)は第1の四方弁V1の#1開口に、その他端(図では入口端)は第2の四方弁V2の#1開口にそれぞれ連結される。
【0015】
冷媒はポンプP1によって蒸発器1内に設けられた散布手段1bに導かれ、冷水が通過している管路1a上に散布される。冷媒は管路1a内の冷水から蒸発熱を奪って冷媒蒸気となり、冷媒で熱を奪われた管路1a内の冷水はその温度が低下する。冷媒蒸気は前記蒸発通路を通って吸収器2に流入する。蒸発器1内の冷媒は散布手段1bに導かれるほか、その一部はフィルタ4を通って精留器6にも給送される。蒸発器1とフィルタ4との間には流量調節弁V5が設けられている。
【0016】
前記フッ化アルコールの蒸気つまり冷媒蒸気が吸収器2の溶液に吸収されると、吸収熱によって該溶液の温度は上昇する。溶液の吸収能力は該溶液の温度が低いほど、また、溶液濃度が高いほど大きい。そこで、該溶液の温度上昇を抑制するため、吸収器2の内部には冷却水が通る管路2aが設けられる。管路2aの一端(図では出口端)は凝縮器9内を通した後、ポンプP3を介して第1の四方弁V1の#2開口に、管路2aの他端(図では入口端)は第2の四方弁V2の#2開口にそれぞれ連結される。管路2aを通過する冷却水として、前記冷水と同じ水溶液を使用する。
【0017】
溶液はポンプP2によって吸収器2内に設けられた散布手段2bに導かれ、管路2a上に散布される。その結果、溶液は管路2aを通っている冷却水で冷却される。一方、冷却水は熱を吸収するのでその温度が上昇する。吸収器2内の溶液が冷媒蒸気を吸収し、その吸収剤濃度が低下すると吸収能力が低下する。そこで、再生器3および精留器6によって吸収剤溶液から冷媒蒸気を分離発生させることにより、溶液の濃度を高めて吸収能力を回復させる。
【0018】
吸収器2で冷媒蒸気を吸収して希釈された溶液つまり希液は前記散布手段2bに導かれるほか、ポンプP2により管路7bを通じて精留器6に給送され再生器3へと流下する。ポンプP2と再生器3とをつなぐ管路7bには開閉弁V3が設けられている。再生器3には吸収器2から供給される希液を加熱するバーナ7が設けられている。バーナ7はガスバーナが好ましいが、他の型式のどのような加熱手段であってもよい。
【0019】
再生器3で加熱され、冷媒蒸気が抽出されて濃度が高められた溶液(濃液)は、管路7aを通って吸収器2に戻される。管路7a上には開閉弁V4が設けられている。温度が比較的高い濃液は散布手段2cによって管路2a上に散布される。
【0020】
再生器3に給送された希液がバーナ7で加熱されると、冷媒蒸気が発生する。この冷媒蒸気に混入された吸収剤溶液は精留器6で分離され、より一層純度を高められた冷媒蒸気が凝縮器9へ給送される。冷媒蒸気は凝縮器9で冷却されて凝縮液化され、前記予冷器18、減圧弁11を経由して蒸発器1に戻される。この冷媒は管路1a上に散布される。
【0021】
凝縮器9から蒸発器1に供給される蒸気の純度は極めて高くなってはいるが、還流冷媒中にごくわずかに混在する吸収剤成分が長時間の運転サイクルによって蓄積し、蒸発器1内の冷媒の純度が徐々に低下することは避けられない。蒸発器1から冷媒のごく一部をフィルタ4を介して精留器6に給送し、再生器3から生じる冷媒蒸気と共に再び純度を上げるためのサイクルを経るようにすることによって冷媒純度の低下が抑制される。
【0022】
再生器3から出た管路7a中の高温濃液は、吸収器2と精留器6を連結する管路の中間に設けられた熱交換器12により、吸収器2から出た希液と熱交換して冷却された後、吸収器2内に散布される。一方、熱交換器12で予備的に加熱された希液は精留器6へ給送される。こうして熱効率の向上が図られているが、さらに、還流される前記濃液の熱を吸収器2または凝縮器9から出た管路2a内の冷却水に伝達するための熱交換器(図示せず)を設けることにより、吸収器2に還流される濃液の温度をより一層低下させ、冷却水温度はさらに上げることができるような構成をとってもよい。
【0023】
前記冷水または冷却水を外気と熱交換するための顕熱交換器14には管路4a、室内機15には管路3aが設けられている。管路3a、4aの各一端(図では入口端)は第1の四方弁V1の#3および#4開口に、その他端(図では出口端)は第2の四方弁V2の#3および#4開口にそれぞれ連結される。室内機15は冷暖房を行う室内に備えられるもので、冷風または温風の吹出し用ファン(両者は共通)10と吹出し出口(図示せず)とが設けられる。前記顕熱交換器14は室外に置かれ、ファン19で強制的に外気との熱交換が行われる。
【0024】
蒸発器1には冷媒の量を感知するレベルセンサL1、冷媒の温度を感知する温度センサT1、および蒸発器1内の圧力を感知する圧力センサPS1が設けられている。吸収器2には溶液の量を感知するレベルセンサL2が設けられている。凝縮器9には、凝縮した冷媒の量を感知するレベルセンサL9、冷媒の温度を感知する温度センサT9、および凝縮器9内の圧力を感知する圧力センサPS9が設けられている。顕熱交換機14、再生器3、および室内機15にはそれぞれ温度センサT14、T3およびT15が設けられている。顕熱交換機14の温度センサT14は外気温度を感知し、室内機15の温度センサT15は冷暖房をする室内の温度を感知する。また、再生器3の温度センサT3は溶液の温度を感知する。
【0025】
上記構成において、冷房運転時には、第1の四方弁V1および第2の四方弁V2を、それぞれの#1および#3開口を連通させる一方で、#2および#4開口を連通させるように切替える。この切替えにより、冷媒が散布されて温度が下げられた冷水が室内機15の管路3aへ導かれて室内の冷房が行われる。
【0026】
一方、暖房運転時には、前記第1の四方弁V1および第2の四方弁V1を、それぞれの#1および#4開口を連通させ、#2および#3開口を連通させるように切替える。この切替えにより、暖められた冷却水が室内機15の管路3aへ導かれて室内の暖房が行われる。
【0027】
なお、暖房運転時に、外気温度が極端に低くなると、顕熱交換器14を介して外気から熱を汲み上げ難くなり、暖房能力が低下する。このようなときのために、凝縮器9と再生器3(または精留器6)との間をバイパスする環流通路9aおよび開閉弁17を設けている。すなわち、外気からの熱の汲み上げが困難なときには、吸収冷凍サイクル運転は停止して、再生器3で発生した蒸気を凝縮器9との間で環流させ、バーナ7による加熱熱量を凝縮器9内で効率よく管路2a内の冷却水に伝導させられる直火焚き運転により前記冷却水を昇温させて暖房能力を向上させるようにする。
【0028】
続いて、上記冷暖房装置に設けられている水素ガス除去装置について説明する。図1は、水素ガス除去装置を備えた吸収器2の要部断面図である。同図において、吸収器2と蒸発器1とは、冷媒通路を介して互いに流体的に連結された一体のチャンバを構成している。吸収器2の内部には該吸収器2内で発生した熱を冷却水と熱交換するためのコア95が設けられる。コア95は複数枚の板材(フィン)および該フィンを貫通するパイプ100からなり,このパイプ100は冷却水の通路である管路2aの一部をなしている。吸収器2には水素ガス処理ユニット(以下、単に「処理ユニット」という)91が付設されていて、処理ユニット91と吸収器2とは抽出パイプ(通路手段)92によって連通されている。抽出パイプ92は吸収器2内に蓄積されている吸収剤溶液の液面93の近傍に開口するように取付位置が決められている。
【0029】
処理ユニット91内には、ヒータ(加熱手段)102で加熱できるようにした酸化金属を含む還元部としての水素除去アセンブリ(図2に関して後述)が設けられる。酸化金属としては、例えば遷移金属の酸化物単体または遷移金属の酸化物同士の混合物を使用できる。一例として、NiO単体、またはNiOを主成分とし、さらにCuO,MnO2 ,Al2 O3 を混合した混合物を使用することができる。また、他の例として、CuO,MnO2 ,Al2 O3 のうちの少なくとも一つを主成分とした混合物を使用することができる。
【0030】
システム内で発生した水素ガスは、運転中もっとも低圧になる吸収器2に蓄積しやすいため、この吸収器2に結合した処理ユニット91で水素ガス除去作用を行わせることにより、効果的に水素ガスを除去することができる。吸収器2内の水素ガスが濃度勾配つまり拡散によって処理ユニット91内に流入し、この処理ユニット91内に流入した水素ガスはヒータ102で加熱されている酸化金属と接触し、その結果、酸化金属の還元反応が起こり、水が生成されて水素ガスが除去される。すなわち、次式(f1)による化学反応が生じる。MOX+XH2 =M+XH2 O…(f1)。ここで、符号Mは遷移金属、Xは定数である。生成された水は抽出パイプ92を通じて吸収器2内に流入する。
【0031】
こうして、吸収器2内に溜まった水素ガスが酸化金属と接触して除去されるときに水が生成されるので、システム内の管路を流れる冷媒内の水含有量が水素ガス除去作用に伴って減少することはない。したがって、管路を形成している金属材料の腐食を抑制させるため冷媒に混入させている水が適正な量に維持される。また、吸収剤としてリチウムブロマイドを使用した場合は、これと組み合わされる冷媒が水、冷媒としてアンモニアを使用した場合は、これらと組合わされる吸収剤溶液が水であるため、H2 ガスが除去されて水が生成されたとしても吸収冷凍サイクルになんら悪影響を及ぼすことがないのはもちろんである。
【0032】
次に前記処理ユニット91の構造について説明する。図2は、処理ユニット91の断面図である。同図において、処理ユニット91の本体は円筒状のハウジング96であり、ハウジング96と一体に形成された抽出パイプ92が吸収器2の壁面に固着されることによって処理ユニット91は吸収器2に固定されている。なお、固定の強度を増すためにハウジング96と吸収器2との間にブラケット等を設けてもよい。ハウジング96内にはメッシュ又はフィルタ(網)97で端部がカバーされたチューブ98が設けられ、このチューブ98の中心にはヒータ102を収容できるヒータホルダ(内部筒体)99が設けられている。チューブ98の端部にはおねじが形成されており、このおねじ部を、ハウジング96の端部に形成されためねじに螺入することによってチューブ98はハウジング96内に固定される。チューブ98およびヒータホルダ99の間の空間には酸化金属Mが適当量充填されている。酸化金属Mは粉末または粒状であるのが好ましい。
【0033】
ヒータ102はチューブ98の上部開口からヒータホルダ99内に挿入され、必要に応じて抜き差し可能である。例えば、1週間に1回程度のメンテナンス時に水素ガスを除去するためにヒータホルダ99内に差し込み、それ以外のときは引き抜いておくことができる。ヒータ102は抵抗体に電流を流して発熱させる周知のものを使用できる。
【0034】
吸収器2から抽出パイプ92を通って処理ユニット91内に導入された水素ガスはフィルタ97の前面に至り、フィルタ97を通過してチューブ98内の酸化金属Mと接触する。その結果、上述の反応によって水が生じ、その水は抽出パイプ92を介して吸収器2に滴下する。
【0035】
本実施形態では、酸化金属Mは粉末または粒状のものを用いたが、本発明はこれに限らない。例えば、ヒータホルダ99の外周に酸化金属の層を形成し、水素ガスと接触させるようにしてもよい。その場合、フィルタ97は不要である。また、酸化金属Mは先に列挙したもの単体でもよいし、水素ガスとの反応を促進させるための触媒作用をもつ物質、例えば、パラジウムもしくはその化合物(PdCl2 )、白金もしくはその化合物等の添加剤を微量混入するようにしてもよい。また、水素ガスの除去を促進するため加熱手段としてヒータ102を使用しているが、ヒータ102に代えて吸収器2内で吸収剤溶液が冷媒蒸気を吸収したときに発生する熱を加熱手段として利用することができる。
【0036】
続いて、ヒータ102を用いない水素ガス除去装置の例を説明する。以下の説明で参照する図において、図1,図2、図13と同符号は同一または同等部分を示す。図3は第2実施形態に係る吸収器2の要部断面図である。同図において、水素ガス除去装置としての処理タンク101のハウジング106の一部分が吸収器2の壁面と兼用されている。そして、吸収器2の前記壁面に形成された開口107を介してハウジング106の底部近傍は吸収器2に直接連通している。処理タンク101内には酸化金属Mを収容するチューブ108が突出して設けられている。チューブ108は前記チューブ98(図2参照)と同様、底部にフィルタ109を有するとともに、上部外周にはおねじが形成されていて、ハウジング106上面のめねじに螺着されている。
【0037】
図3において、吸収器2内に滞留している水素ガスは開口107を通じて処理タンク101内に浸入し、フィルタ109を通過して酸化金属Mと接触する。この実施形態では、ハウジンク106の壁面が吸収器2の壁面と兼用されているため、吸収器2で発生した熱がこの壁面を介して処理タンク101に直接伝達され、酸化金属Mがその還元反応に適した温度に加熱される。
【0038】
図4は、第3実施形態に係る吸収器2の要部断面図である。同図において、吸収器2の側壁に設けられたねじ孔に水素ガス除去装置を構成するチューブ108が螺着され、長手方向を水平にして吸収器2内に突出している。このチューブ108は図3のものと同等であり、端部に設けられたフィルタ109とチューブ108とで囲繞された空間には酸化金属Mが充填されている。
【0039】
図4の構成では、酸化金属Mを収容したチューブ108が吸収器2内に突出するように設けられているので、この酸化金属Mは吸収器2内の雰囲気温度の影響を直接受け、吸収器2内の水素ガスを、効率的に還元反応により除去することができる。また、水素ガス除去装置は吸収器2の壁面に螺着するだけでよいので、吸収器2に外付けするのと比較して構造を簡素化できる。
【0040】
図5は第4実施形態に係る水素ガス除去装置を有する吸収器2の断面図、図6は図5のA−A矢視図である。図5,図6において、水素ガス除去装置110はコア95に設けられている。この水素ガス除去装置110は、コア95を構成する複数枚のフィンのうち最も外側のフィンに固着されているシェル部111、および該シェル部111下部の開放部に設けられたフィルタ112、ならびにシェル部111およびフィルタ112で囲繞された空間に充填された酸化金属Mからなる。この実施形態では、導入された冷媒蒸気によって温度が高められたコア95から水素ガス除去装置110のシェル部111およびシェル部111に保持された酸化金属Mに直接的に熱伝播する。その結果、酸化金属Mは、還元に適した温度をコア95から安定的に受けることができる。
【0041】
図7は、第5実施形態に係る水素ガス除去装置を有する吸収器2の断面図、図8は図7の水素ガス除去装置の縦断面図、図9は図8のB−B矢視図である。図7〜図9において、水素ガス除去装置113は2か所に設けられている。すなわち、水素ガス除去装置113はシェル部114が冷却水の管路2aの一部を構成するパイプ100を取り囲むように、換言すれば、パイプ100がシェル部114を貫通するように配置されている。この実施形態では、吸収器2内の雰囲気温度のほか、この雰囲気によって温度が高められたコア95からパイプ100に伝播した熱によって水素ガス除去装置113のシェル部114およびシェル部114に保持された酸化金属Mが適温に保持される。
【0042】
上記シェル部111,114内に充填される酸化金属MF粉末状ないし粒状のものに限られないのは第1実施形態と同様である。例えば、シェル部111,114の外周に酸化金属の層を焼結等で形成し、この層に水素ガスを接触させるようにしてもよい。この場合、フィルタ112は不要であるし、シェル部111,114は、中実のプレートに代えても良いし、酸化金属の層を形成する表面の形状は、表面積を大きくするため波形や凹凸のある面にすることができる。酸化金属は先に列挙したもの単体でもよいし、酸化金属と水素ガスとの反応を促進させるための触媒作用をもつ物質てよいのは第1実施形態と同様である、
【0043】
次に、水素ガス除去装置の設置位置の変形例を説明する。図10は,第6実施形態に係る水素ガス除去装置を有する吸収器2の要部断面図である。溶液をコア95に散布するための管路116が吸収器2の底面から一旦外部に延出され、該管路116はさらに吸収器2内に戻されて、その端部がコア95の上部に位置されている。管路116の途中には溶液を送給するためのポンプP2が設けられている。管路116は途中で管路7bに分岐し、この分岐された管路7bは再生器3に延長される。この実施形態では、吸収器2内において管路116の一部を取り囲むようにして水素ガス除去装置117が設けられている。水素ガス除去装置117の詳細は図12に関して後述する。
【0044】
図11は第7実施形態に係る水素ガス除去装置を有する吸収器2の要部断面図である。同図において、管路7aは再生器3で濃度が回復された高温の吸収剤溶液を吸収器2に戻すためのものであり、この管路7aのうち、吸収器2内に引き込まれた部分を取り囲むように水素ガス除去装置118が設けられている。
【0045】
図12は水素ガス除去装置117,118の縦断面図である。図12において、水素ガス除去装置117,118は筒状のシェル部119を有していて、このシェル部119を、管路116や管路7bが貫通している。シェル部119の下部開放端にはフィルタ112が設けられていて、このフィルタ112とシェル部119とに囲繞された空間に酸化金属Mが充填されている。
【0046】
第6および第7実施形態において、シェル部119内に収容された酸化金属Mは比較的温度の高い溶液が給送されている管路に接触して配置されているので、これらの管路から還元のための適度な熱量を得ることができる。
【0047】
なお、図5〜図12に示した各実施形態おいて、酸化金属Mを収容するシェル部に設けられたフィルタ112はシェル部111,114,119の下端からわずかに上方に偏倚して配置されている。これは、シェル部の下端が「ひさし」の機能を果たし、上方からの溶液の散布によって酸化金属Mの表面が濡れて水素ガスと接触しにくくなるのを防止するためである。
【0048】
上述のように、本実施形態の吸収式冷凍機では、運転中、吸収器2内に溜まった水素ガスは水素ガス除去装置内の酸化金属Mに接触し、還元反応により水が生成される。この結果、水素ガスは除去される。特に、この還元反応は吸収器2内の雰囲気や溶液給送用管路から得られる高温によって効率的に実現される。
【0049】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項1〜請求項5の発明によれば、酸化金属の還元反応により水素が除去され、水が生成される。したがって、冷媒通路の真空度が低下することがないので高い運転効率を維持できるとともに、生成された水は機外に排出されないので、例えば、水を混入した冷媒の含有水分量を適正に維持することができる。特に、請求項1,3〜5の発明によれば吸収器内に還元部を設けたので還元部を吸収器外部と管路で接続するのと比較して特別なシール構造が不要である。
【0050】
また、還元部を吸収器内または吸収器の外壁に密着して設けたので、吸収器の雰囲気から直接または外壁を通じて間接的に還元反応に適した熱を得ることができる。請求項3の発明によれば、吸収器内の雰囲気のみならず、この雰囲気にさらされて温度が安定しているコア板からも適度の熱を得ることができる。さらに、請求項4,5の発明によれば、吸収器内の雰囲気のみならず、この雰囲気にさらされた冷却水管の温度、または温度が高められた吸収剤溶液からも有効に適度な熱を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1実施形態に係る吸収器の要部断面図である。
【図2】 第1実施形態に係る水素ガス除去装置の拡大断面図である。
【図3】 第2実施形態に係る吸収器の要部断面図である。
【図4】 第3実施形態に係る吸収器の要部断面図である。
【図5】 第4実施形態に係る吸収器の要部断面図である。
【図6】 図5のA−A矢視図である。
【図7】 第5実施形態に係る吸収器の要部構成図である。
【図8】 第5実施形態における水素ガス除去装置の拡大断面図である。
【図9】 図8のB−B矢視図である。
【図10】 第6実施形態に係る吸収器の要部構成図である。
【図11】 第7実施形態に係る吸収器の要部構成図である。
【図12】 第6,第7実施形態における水素ガス除去装置の断面図である。
【図13】 本発明の実施形態に係る吸収式冷暖房装置の構成を示す系統図である。
【符号の説明】
1…蒸発器、 2…吸収器、 3…再生器、 9…凝縮器、 14…顕熱交換器、 15…室内機、 19…ファン、 91,101,113,117,118…水素ガス除去装置、 95…コア、 96…ハウジング、 97,102,109,112…フィルタ、 98…チューブ、 100…冷却水管、 102…ヒータ、 M…酸化金属
Claims (5)
- 冷媒を収容した蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を吸収剤溶液で吸収する吸収器と、前記溶液の吸収剤濃度を回復させるため、該吸収剤溶液を加熱して冷媒蒸気を抽出する再生器と、前記再生器で抽出された冷媒蒸気を凝縮させて前記蒸発器へ供給するための凝縮器とを有する吸収式冷凍装置において、
吸収冷凍サイクル運転に伴って発生する水素ガスと接触して還元反応を生じさせる酸化金属を主成分とする還元部が前記吸収器の内部に収容されていることを特徴とする吸収式冷凍装置。 - 冷媒を収容した蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を吸収剤溶液で吸収する吸収器と、前記溶液の吸収剤濃度を回復させるため、該吸収剤溶液を加熱して冷媒蒸気を抽出する再生器と、前記再生器で抽出された冷媒蒸気を凝縮させて前記蒸発器へ供給するための凝縮器とを有する吸収式冷凍装置において、
吸収冷凍サイクル運転に伴って発生する水素ガスと接触して還元反応を生じさせる酸化金属を主成分とする還元部が前記吸収器の外壁に密接して取り付けられていることを特徴とする吸収式冷凍装置。 - 前記吸収器には、吸収剤溶液冷却のための熱交換コア板が設けられ、
前記還元部が、前記コア板に密着して設けられていることを特徴とする請求項1記載の吸収式冷凍装置。 - 前記コア板には、冷却水の管路が設けられ、
前記還元部が、前記冷却水の管路に密着して設けられていることを特徴とする請求項3記載の吸収式冷凍装置。 - 吸収剤溶液を還流させる吸収剤溶液管路を設け、
前記吸収剤溶液管路のうち、前記吸収器内に設けられた部分に前記還元部が密着して設けられていることを特徴とする請求項1記載の吸収式冷凍装置。
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