JP3714255B2 - Coil parts manufacturing method - Google Patents
Coil parts manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP3714255B2 JP3714255B2 JP2002004109A JP2002004109A JP3714255B2 JP 3714255 B2 JP3714255 B2 JP 3714255B2 JP 2002004109 A JP2002004109 A JP 2002004109A JP 2002004109 A JP2002004109 A JP 2002004109A JP 3714255 B2 JP3714255 B2 JP 3714255B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductor
- layer
- conductor layer
- insulating
- insulating layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は各種電子機器等に用いるコイル部品の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
以下、従来のコイル部品について図面を参照しながら説明する。
【0003】
図6(a)〜(d)は従来のコイル部品の製造工程図である。
【0004】
図6(a)〜(d)において、従来のコイル部品は、セラミック素体21と、このセラミック素体21上に空隙部22を有する絶縁層23を形成し、この空隙部22に配置されるようにセラミック素体21上に導体層24を形成している。この絶縁層23は一般的に用いるフォトレジスト法によりセラミック素体21上に形成している。
【0005】
また、空隙部22は螺旋状としており、この空隙部22に導体層24を配置して導体層24を螺旋状導体からなるコイル部25としている。さらに、コイル部25は電極部26と電気的接続し、外装部27で被覆している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の構成では、フォトレジスト法によって、絶縁層23をセラミック素体21上に形成するので、一般的には、絶縁層23の厚さを厚くすることができない。すなわち、空隙部22に配置する導体層24もこの絶縁層23と同程度の厚さしか形成することができず、導体層24から形成される螺旋状導体からなるコイル部25の厚さも厚くできない。よって、螺旋状導体からなるコイル部25に大電流を通電すると、短絡や抵抗損失が生じる等信頼性が低下するという問題点を有していた。
【0007】
本発明は上記問題点を解決し、コイル部に大電流を通電しても短絡や抵抗損失等が生じず、信頼性を向上したコイル部品の製造方法を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の以下の方法を有する。
【0009】
本発明の請求項1に記載の発明は、特に、絶縁層形成工程は、絶縁材料からなる充填物を充填し絶縁層の形状に対する位置に配置した凹部を有する基板を素体に重ねて前記凹部に充填した充填物を素体に転写して螺旋状の空隙部を有する前記絶縁層を前記素体上に形成する工程とした方法である。
【0010】
上記方法により、絶縁層は凹版印刷法により凹部に充填した絶縁材料からなる充填物を素体に転写して設けているので、素体に対して絶縁層を厚く形成することができる。これにより、螺旋状の空隙部に配置する導体層も厚く形成できるので、この導体層により形成される螺旋状導体からなるコイル部の厚さも厚くできる。この結果、コイル部に大電流を通電しても短絡や抵抗損失等が生じず、信頼性を向上することができる。
【0011】
本発明の請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、特に、絶縁層形成工程は、絶縁材料からなる充填物を充填し絶縁層形状に対応する位置に配置した凹部を有する基板を素体に重ね、前記基板の凹部間が空隙部になるように基板の表面を素体に接触させつつ凹部に充填した充填物を素体に転写して螺旋状の空隙部を有する絶縁層を素体上に形成する工程とした方法である。上記方法により、コイル部に大電流を通電しても短絡や抵抗損失等が生じず、信頼性を向上できるだけでなく、基板の表面を素体に接触させつつ、凹部に充填した充填物を素体に転写するので素体と基板との位置調整が容易になる。
【0012】
本発明の請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、特に、導体層形成工程では、空隙部に導体層が配置されるように素体上に導体層を形成するとともに、絶縁層上にも前記導体層を形成する工程を設け、前記導体層形成工程後絶縁層の上面まで導体層を研磨する研磨工程を設けた方法である。上記方法により、外装部とコイル部との接合性を向上できる。
【0013】
本発明の請求項4に記載の発明は、請求項3に記載に発明において、特に、導体層形成工程は、無電解メッキ工程により空隙部に導体層が配置されるように素体上に導体層を形成するとともに、絶縁層上にも前記導体層を形成する工程とした方法である。上記方法により、導体層により形成される螺旋状導体からなるコイル部の厚さを厚くでき、コイル部に大電流を通電しても短絡や抵抗損失等が生じず、信頼性を向上することができる。
【0014】
本発明の請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、特に、絶縁層形成工程前に導体からなる導体下地層を素体上に形成する工程を設け、絶縁層形成工程は、絶縁材料からなる充填物を充填し絶縁層の形状に対応する位置に配置した凹部を有する基板を導体下地層に重ねて凹部に充填した充填物を導体下地層に転写して螺旋状の空隙部を有する絶縁層を導体下地層に形成する工程とし、導体層形成工程は、前記空隙部に導体層が配置されるように導体下地層上に導体層を形成する工程とし、前記導体下地層を加熱処理して絶縁化する絶縁化工程を設けた方法である。上記方法により、導体層により形成される螺旋状導体からなるコイル部の厚さを厚くでき、コイル部に大電流を通電しても短絡や抵抗損失等が生じず、信頼性を向上することができる。
【0015】
特に、空隙部に設ける導体層は電解メッキを施して設けることができる。これにより、導体層から形成される螺旋状導体からなるコイル部は、均一で精度を向上でき、短絡や抵抗損失を低減することができる。
【0016】
本発明の請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の発明において、特に、導体層形成工程は、電解メッキ工程により空隙部に導体層が配置されるように導体下地層上に導体層を形成する工程とした方法である。上記方法により、空隙部に設ける導体層は、電解メッキを施して設けているので、導体層から形成される螺旋状導体からなるコイル部は均一で精度を向上でき、短絡や抵抗損失を低減し、信頼性を向上することができる。
【0017】
本発明の請求項7に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、特に、絶縁層形成工程は、絶縁材料からなる充填物を充填し絶縁層の形状に対応する位置に配置した凹部を有する基板を導体下地層に重ねて基板の凹部が空隙部になるように基板の表面を素体に接触させつつ凹部に充填した充填物を導体下地層に転写して螺旋状の空隙部を有する絶縁層を前記導体下地層に形成する工程とし、導体層形成工程とは、前記空隙部に導体層が配置されるように導体下地層上に導体層を形成する工程とし、前記導体下地層を加熱処理して絶縁化する絶縁化工程を設けた方法である。上記方法により、導体層により形成される螺旋状導体からなるコイル部の厚さを厚くでき、コイル部に大電流を通電しても短絡や抵抗損失等が生じず、信頼性を向上することができる。
【0018】
特に、空隙部に設ける導体層は、電解メッキを施して設けることができる。これにより、導体層から形成される螺旋状導体からなるコイル部は均一で精度を向上でき、短絡や抵抗損失を低減することができる。また、基板の表面を素体に接触させつつ凹部に充填した充填物を素体に転写するので、素体と基板との位置調整も容易である。
【0019】
本発明の請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の発明において、特に、導体層形成工程では、空隙部に導体層が配置されるように導体下地層上に導体層を形成するとともに、絶縁層上にも前記導体層を形成する工程を設け、前記導体層形成工程後絶縁層の上面まで前記導体層を研磨する研磨工程を設けた方法である。上記方法により、外装部とコイル部との接合性を向上できる。
【0020】
本発明の請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の発明において、特に、導体層形成工程は、無電解メッキ工程により空隙部に導体層が配置されるように素体上に導体層を形成するとともに、絶縁層上にも前記導体層を形成する工程とした方法である。上記方法により、絶縁層の空隙部には導体層の非形成部分が生じにくく、導体層を的確に配置して短絡や抵抗損失を低減できる。特に、絶縁層上の導体層上の導体層も研磨によって、容易に削除してコイル部として機能させることができる。
【0021】
本発明の請求項10に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、特に、絶縁材料として有機物材料を用いる方法である。上記方法により、素体の表面に螺旋状導体を有する優れたコイル部品を得ることができる。
【0022】
本発明の請求項11に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、特に、絶縁材料として無機物材料を用いる方法である。上記方法により、素体の表面に螺旋状導体を有する優れたコイル部品を得ることができる。
【0023】
本発明の請求項12に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、特に、無機物材料として磁性材料を用いる方法である。上記方法により、素体の表面に螺旋状導体を有する優れたコイル部品を得ることができる。特に、螺旋状導体の周りに磁性材料が配置されることになるので、インダクタンスを大きくすることができる。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、実施の形態を用いて本発明の全請求項に記載の発明において図面を参照しながら説明する。
【0025】
図1は本発明の一実施の形態におけるコイル部品の断面図、図2は同コイル部品の斜視図、図3(a)〜(e)は同コイル部品の製造工程図である。
【0026】
図1,図2において、本発明の一実施の形態におけるコイル部品は、素体1と、この素体1上に形成した下地層2と、この下地層2上に形成し、螺旋状の空隙部3を有する絶縁層4と、この空隙部3に配置されるように素体1上に形成した導体層5とを備えている。
【0027】
特に、導体層5はAg系金属からなるAg系金属層とし、絶縁層4と素体1との間および導体層5と素体1との間に介在する下地層2は、素体1側を第1層9とするとともに導体層5側を第2層10とした2層からなり、導体を絶縁化した導体絶縁化層であって、第1層9はNi系金属を絶縁化した絶縁化Ni系金属層とするとともに、第2層10はCu系金属を絶縁化した絶縁化Cu系金属層としている。
【0028】
また、絶縁層4は凹版印刷法により絶縁材料からなる充填物を凹部に充填した基板を下地層2を介して素体1に重ねて基板の凹部間が螺旋状の空隙部3になるように凹部に充填した充填物を素体1に転写して設けており、導体層5は螺旋状導体からなるコイル部6として空隙部3に電解メッキを施して設けている。
【0029】
さらに、コイル部6は電極部7と接続するとともに、外装材からなる外装部8で被覆している。
【0030】
そして、素体1および外装材はフェライト磁性材料からなる磁性体としている。
【0031】
このコイル部品の製造方法は、図3(a)〜(e)において、次の通りである。
【0032】
第1に、導体からなる下地層2を素体1上に形成する(下地層形成工程)(図3(a))。
【0033】
また、下地層形成工程では、素体1側を第1層9とするとともに導体層5側を第2層10とした2層からなり、第1層9はNi系金属とする(第1層9はCu系金属としてもよい)とともに、第2層10はCu系金属層としている。第1層9、第2層10ともに電解メッキにより形成している。
【0034】
第2に、螺旋状の空隙部3を有する絶縁層4を下地層2上に形成する(絶縁層形成工程)(図3(b))。この絶縁層形成工程では、絶縁材料からなる充填物を充填し、絶縁層4の形状に対応する位置に配置した凹部を有する基板を素体1に重ね、基板の凹部間が空隙部3になるように、基板の表面を素体1に接触させつつ、凹部に充填した充填物を素体1に転写して螺旋状の空隙部3を有する絶縁層4を素体1上に形成する工程としている。このとき、絶縁材料はフェライト磁性材料からなる磁性体としている。
【0035】
第3に、空隙部3に導体層5が配置されるように下地層2上に導体層5を形成する(導体層形成工程)(図3(c))。導体層5はAg系金属からなるAg系金属層とし、下地層2上に電解メッキにより形成している。
【0036】
第4に、この導体層5に螺旋状導体からなるコイル部6を形成する(コイル部形成工程)(図3(c))。導体層5は螺旋状の空隙部3に配置するので、必然的に螺旋状導体からなるコイル部6として形成される。
【0037】
第5に、コイル部6と電気的に接続するように電極部7を形成する(電極部形成工程)(図3(d))。
【0038】
第6に、下地層2を加熱処理して絶縁化する(絶縁化工程)。これにより、下地層2は導体を絶縁化した導体絶縁化層となり、第1層9はNi系金属を絶縁化した絶縁化Ni系金属層になる(第1層9をCu系金属とした場合は、絶縁化Cu系金属層になる)とともに、第2層10はCu系金属を絶縁化した絶縁化Cu系金属層となる。
【0039】
第7に、コイル部6を外装材からなる外装部8で被覆する(被覆工程)(図3(e))。この外装材はフェライト磁性材料からなる磁性体としている。
【0040】
上記構成のコイル部品について、以下その動作を説明する。
【0041】
上記構成により、絶縁層4は凹版印刷法により凹部に充填した絶縁材料からなる充填物を素体1に転写して設けているので、素体1に対して絶縁層4を厚く形成することができる。これにより、螺旋状の空隙部3に配置する導体層5も厚く形成できるので、この導体層5により形成される螺旋状導体からなるコイル部6の厚さも厚くできる。この結果、コイル部6に大電流を通電しても短絡や抵抗損失等が生じず、信頼性を向上することができる。
【0042】
また、空隙部3に設ける導体層5は、電解メッキを施して設けているので、導体層5から形成される螺旋状導体からなるコイル部6は均一で精度を向上でき、短絡や抵抗損失を低減することができる。
【0043】
特に、導体層5はAg系金属からなるAg系金属層とし、下地層2は素体1側を第1層9とするとともに導体層5側を第2層10として、第1層9はNi系金属を絶縁化した絶縁化Ni系金属層とするとともに、第2層10はCu系金属を絶縁化した絶縁化Cu系金属層としているので、下地層2を介して素体1と導体層5との付着性を向上できるとともに、下地層2および導体層5の整合性を向上できる。
【0044】
さらに、素体1、絶縁材料、外装材はフェライト磁性材料からなる磁性体としているので、素体1の表面に螺旋状導体を有する優れたコイル部品を得ることができる。螺旋状導体の周りには磁性材料が配置されることになるので、インダクタンスを大きくすることもできる。
【0045】
このように本発明の一実施の形態によれば、均一で精度を向上したコイル部6を形成でき、コイル部6に大電流を通電しても短絡や抵抗損失等が生じず、信頼性を向上することができる。また、下地層2を介して素体1と導体層5との付着性を向上できるとともに、下地層2および導体層5の整合性を向上できる。さらに、螺旋状導体の周りには磁性材料が配置されることになるので、インダクタンスを大きくすることもできる。
【0046】
なお、本発明の実施の形態では、素体1は平板状のものを用いて、外周面の1つの面に対してコイル部6を形成したが、図4,図5に示すように柱状の素体1を用い、柱状の素体1の側面および外周面に下地層2を設けるとともに、この下地層2上に導体層5を設け、外周面に対応する導体層5に螺旋状導体からなるコイル部6を形成してもよい。図4に示す素体1は、中央部が細くなった形状であり、図5に示す素体1は、直方体形状のものである。
【0047】
また、本発明の実施の形態では、絶縁層4および導体層5には、外装部8と接触する接触面に研磨面を設けていないが、研磨面を設ければ外装部8とコイル部6との接合性を向上できる。
【0048】
この場合、導体層形成工程では、空隙部3に導体層5が配置されるように下地層2上に導体層5を形成するとともに、絶縁層4上にも導体層5を形成する工程を設け、導体層形成工程後絶縁層4の上面まで導体層5を研磨する研磨工程を設ける必要がある。そして、導体層形成工程は、無電解メッキ工程により空隙部3に導体層5が配置されるように素体1上に導体層5を形成するとともに、絶縁層4上にも導体層5を形成する工程とすればよい。特に、研磨面に対して再度同様な工程を施すことにより多層のコイル部品を得ることもできる。
【0049】
さらに、素体1および外装材は、コイル部品としての特性を考慮して様々な材質を選んでもよい。特に、外装材としてガラスとセラミックの混合体を用いれば、強度の優れたコイル部品を得ることができる。さらに、素体1としてTiO2を含有した誘電体材料からなる誘電体を用いれば、コンデンサ機能を有するコイル部品を得ることができ、ガラスとセラミックの混合体を用いれば、高周波特性の優れたコイル部品を得ることができ、Al2O3を含有した絶縁材料からなる絶縁体を用いれば、高周波特性を向上でき、単なる樹脂材料や磁性粉末を含有した樹脂材料等でもよい。
【0050】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、絶縁層は凹版印刷法により凹部に充填した絶縁材料からなる充填物を素体に転写して設けているので、素体に対して絶縁層を厚く形成することができる。これにより、螺旋状の空隙部に配置する導体層も厚く形成できるので、この導体層により形成される螺旋状導体からなるコイル部の厚さも厚くできる。この結果、コイル部に大電流を通電しても短絡や抵抗損失等が生じず、信頼性を向上したコイル部品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態におけるコイル部品の断面図
【図2】同コイル部品の一部透視斜視図
【図3】(a)〜(e)同コイル部品の製造工程図
【図4】他のコイル部品の断面図
【図5】他のコイル部品の断面図
【図6】(a)〜(d)従来のコイル部品の製造工程図
【符号の説明】
1 素体
2 下地層
3 空隙部
4 絶縁層
5 導体層
6 コイル部
7 電極部
8 外装部
9 第1層
10 第2層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of manufacturing a coil component used in various electronic devices and the like.
[0002]
[Prior art]
Hereinafter, conventional coil components will be described with reference to the drawings.
[0003]
6A to 6D are manufacturing process diagrams of a conventional coil component.
[0004]
6A to 6D, the conventional coil component includes a
[0005]
Further, the
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In the above conventional configuration, since the
[0007]
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a method of manufacturing a coil component with improved reliability without causing a short circuit or resistance loss even when a large current is applied to the coil portion.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention has the following method.
[0009]
In the invention according to
[0010]
By the above method, the insulating layer is provided by transferring the filling made of an insulating material filled in the recesses to the element body by intaglio printing, so that the insulating layer can be formed thick on the element body. Thereby, since the conductor layer arrange | positioned in a helical space | gap part can also be formed thickly, the thickness of the coil part which consists of a helical conductor formed with this conductor layer can also be made thick. As a result, even if a large current is applied to the coil portion, no short circuit or resistance loss occurs, and the reliability can be improved.
[0011]
The invention according to
[0012]
In the invention according to claim 3 of the present invention, in the invention according to
[0013]
According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, in particular, the conductor layer forming step includes a conductor on the element body so that the conductor layer is disposed in the gap portion by an electroless plating step. In this method, the conductive layer is formed on the insulating layer as well as forming the layer. By the above method, the thickness of the coil portion made of a spiral conductor formed by the conductor layer can be increased, and even if a large current is passed through the coil portion, no short circuit or resistance loss occurs, and reliability can be improved. it can.
[0014]
The invention according to
[0015]
In particular, the conductor layer provided in the gap can be provided by electrolytic plating. Thereby, the coil part which consists of a helical conductor formed from a conductor layer can be uniform and can improve a precision, and can reduce a short circuit and resistance loss.
[0016]
According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, in particular, in the conductor layer forming step, the conductor is formed on the conductor underlayer so that the conductor layer is disposed in the gap portion by the electrolytic plating step. This is a method of forming a layer. By the above method, the conductor layer provided in the gap portion is provided by electrolytic plating, so that the coil portion made of a spiral conductor formed from the conductor layer can be uniform and improve accuracy, and short circuit and resistance loss can be reduced. , Reliability can be improved.
[0017]
According to a seventh aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, in particular, in the insulating layer forming step, the concave portion is filled with a filler made of an insulating material and disposed at a position corresponding to the shape of the insulating layer. The substrate filled with the conductor is overlaid on the conductor underlayer, and the filler filled in the recess is transferred to the conductor underlayer while the substrate surface is in contact with the element body so that the concave portion of the substrate becomes a void. And forming a conductor layer on the conductor underlayer so that the conductor layer is disposed in the gap, and the conductor underlayer is formed by forming the insulating layer on the conductor underlayer. This is a method in which an insulating process is performed in which heat treatment is performed to insulate. By the above method, the thickness of the coil portion made of a spiral conductor formed by the conductor layer can be increased, and even if a large current is passed through the coil portion, no short circuit or resistance loss occurs, and reliability can be improved. it can.
[0018]
In particular, the conductor layer provided in the gap can be provided by electrolytic plating. Thereby, the coil part which consists of a helical conductor formed from a conductor layer is uniform, can improve a precision, and can reduce a short circuit and resistance loss. Further, since the filling material filled in the recesses is transferred to the element body while the surface of the substrate is in contact with the element body, the position adjustment between the element body and the substrate is easy.
[0019]
According to an eighth aspect of the present invention, in the invention according to the seventh aspect, in the conductor layer forming step, the conductor layer is formed on the conductor underlayer so that the conductor layer is disposed in the gap. In addition, there is a method in which a step of forming the conductor layer is also provided on the insulating layer, and a polishing step of polishing the conductor layer up to the upper surface of the insulating layer after the conductor layer forming step is provided. By the above method, the bondability between the exterior portion and the coil portion can be improved.
[0020]
The invention according to
[0021]
The invention described in
[0022]
The invention described in claim 11 of the present invention is a method of using an inorganic material as the insulating material in the invention described in
[0023]
The invention described in claim 12 of the present invention is a method of using a magnetic material as the inorganic material in the invention described in
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings in all the claims of the present invention.
[0025]
FIG. 1 is a sectional view of a coil component according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of the coil component, and FIGS. 3A to 3E are manufacturing process diagrams of the coil component.
[0026]
1 and 2, a coil component according to an embodiment of the present invention includes an
[0027]
In particular, the
[0028]
The insulating
[0029]
Further, the
[0030]
The
[0031]
The manufacturing method of this coil component is as follows in Fig.3 (a)-(e).
[0032]
First, a
[0033]
Further, in the base layer forming step, the
[0034]
Second, an insulating
[0035]
Third, the
[0036]
Fourth, a
[0037]
Fifth, the
[0038]
Sixth, the
[0039]
7thly, the
[0040]
The operation of the coil component having the above configuration will be described below.
[0041]
With the above configuration, the insulating
[0042]
In addition, since the
[0043]
In particular, the
[0044]
Furthermore, since the
[0045]
As described above, according to the embodiment of the present invention, it is possible to form the
[0046]
In the embodiment of the present invention, the
[0047]
In the embodiment of the present invention, the insulating
[0048]
In this case, the conductor layer forming step includes a step of forming the
[0049]
Further, various materials may be selected for the
[0050]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, since the insulating layer is provided by transferring the filling made of the insulating material filled in the concave portion to the element body by the intaglio printing method, the insulating layer is formed thick on the element body. be able to. Thereby, since the conductor layer arrange | positioned in a helical space | gap part can also be formed thickly, the thickness of the coil part which consists of a helical conductor formed with this conductor layer can also be made thick. As a result, even if a large current is applied to the coil portion, no short circuit or resistance loss occurs, and a coil component with improved reliability can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a coil component according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a partially transparent perspective view of the coil component. FIG. 3 (a) to (e) Manufacturing process diagrams of the coil component. 4] Cross-sectional view of other coil components [Fig. 5] Cross-sectional view of other coil components [Fig. 6] (a) to (d) Production process diagrams of conventional coil components [Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (12)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002004109A JP3714255B2 (en) | 2002-01-11 | 2002-01-11 | Coil parts manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002004109A JP3714255B2 (en) | 2002-01-11 | 2002-01-11 | Coil parts manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003209022A JP2003209022A (en) | 2003-07-25 |
JP3714255B2 true JP3714255B2 (en) | 2005-11-09 |
Family
ID=27643526
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002004109A Expired - Fee Related JP3714255B2 (en) | 2002-01-11 | 2002-01-11 | Coil parts manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3714255B2 (en) |
-
2002
- 2002-01-11 JP JP2002004109A patent/JP3714255B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003209022A (en) | 2003-07-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI482183B (en) | Embedded multilayer ceramic electronic component and method of manufacturing the same, and printed circuit board having embedded multilayer ceramic electronic component therein | |
CN108231336B (en) | Inductor | |
CN111210988A (en) | Coil component and method for manufacturing same | |
JP2004127976A (en) | Inductive element and its manufacturing method | |
JP2004349468A (en) | Coil substrate and surface mounting type coil element | |
US11643368B2 (en) | Ceramic device | |
TW200915937A (en) | Capacitor-embedded substrate and method of manufacturing the same | |
TW201230087A (en) | Laminated coil | |
EP1048060B1 (en) | Method of forming a semiconductor body having a surface provided with a coil having a magnetic core | |
JP2007201022A (en) | Electronic component | |
JP2008159738A (en) | Common-mode noise filter | |
JP3714255B2 (en) | Coil parts manufacturing method | |
JP2005044952A (en) | Common mode choke coil and manufacturing method thereof, and common mode choke coil array | |
JP5964658B2 (en) | Thin film wiring board | |
JP2009182188A (en) | Chip coil and method for manufacturing same | |
JP2002064016A (en) | Laminated inductor | |
WO2021039618A1 (en) | Thin-film lc filter and method for manufacturing same | |
US10629364B2 (en) | Inductor and method for manufacturing the same | |
JP7533368B2 (en) | Inductor Components | |
JP4211553B2 (en) | Method for manufacturing multilayer electronic component and multilayer electronic component | |
JP2004193469A (en) | Coil component and manufacturing method therefor | |
US20240153696A1 (en) | Coil component and method of manufacturing coil component | |
JPH0442804B2 (en) | ||
WO2019167456A1 (en) | Thin-film capacitor and method of manufacturing same | |
JP2024134992A (en) | Coil component, circuit board, and method for manufacturing coil component |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050628 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050704 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050802 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050815 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080902 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090902 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |