JP3699330B2 - 可変光減衰器を含む物品 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、可変光減衰器を含む物品およびシステム(集合的に「物品」)に関する。
【0002】
【従来の技術】
可変光減衰器は、光通信システムにおける多様な重要な用途を潜在的に有する。例えば、波長分割多重(WDM)システムにおいて、関係する全ての波長が実質的に同じ利得を有するように、ファイバ増幅器の波長依存利得を調節するために使用され得る。可変光減衰器は、例えば、一定出力を達成するために可変入力強度を補償するため、または等しい強度信号を作るために可変パス長減衰を補償するために使用され得る。望ましくは、光通信システムのための可変減衰器は、約20−25dBまでの減衰および約1.5dB以下の挿入損失を有する。
【0003】
従来技術として、機械的なものを含むいくつかのタイプの可変光減衰器が知られている。例えば、S. Masuda によるApplied Optics, Vol.19, p. 2435 (1980)およびW.L. EmkeyによるOptics Letters, Vol. 8, p. 94 (1983)を参照のこと。機械的な装置は、高ビットレートシステムに必要とされるスピードをおそらく達成しない。R. Wolfe 等によるApplied Physics Letters, Vol. 58, p. 1733 (1991)は、磁気光学的導波路中のシングルドメインウォールに基づくデバイスを示唆している。しかし、そのようなデバイスは、製造コストがかかり、ファイバとの結合のための高い挿入損失を有する。
【0004】
Fukushima 等による(Optical Society of America TOPS on Optical Amplifiers and Their Applications, 1996, Vol. 5, 1996 OAA Program Committee (eds), pp. 249-252)は、インプレイン(in-plane)磁化を伴う厚い磁性体膜を開示しており、平面における磁化の方向は、比較的小さいバイアス磁界に依存する。光伝播方向におけるファラデー回転は、磁化および伝播の方向との間の角度のコサインに依存する。このアプローチは、フィルムの立方体磁化異方性のために、光のインプレイン(in-plane)結合およびバイアス磁界との磁化の不均一性に欠点を有する。
【0005】
可変光減衰器の多くの潜在的な用途に鑑み、かなり大きな調節範囲を有するコンパクトで、小電力のデバイスを利用可能にすることが望ましい。この出願はそのようなデバイスを開示する。
【0006】
希土類イオンガーネット(RIG)が、3個の不等金属イオンサイト(8面体、4面体、および12面体)でフェロ磁性であることが知られている。ここで関係するRIGの正味の飽和磁化MSは、次式で与えられる。
(1) Ms(T)=|±Mc(T)−Ma(T)+Md(T)|
ここで、Mc,MaおよびMd は、それぞれ、12面体、8面体および4面体の副格子の副格子磁化であり、Tは絶対温度である。図1は、例示的なRIGの3個の副格子の温度の関数として、副格子磁化を概略的に示し、図2は、得られる正味磁化を、温度の関数として示す。
【0007】
図1から分かるように、重希土類(GdないしYb)に対する希土類コントリビューションは、低温において大きいが、高温において実質的に無視可能である。したがって、そのようなRIGは、キュリー温度より低いある温度において、磁気的補償(即ち、ゼロ飽和磁化)を示し得る。これは、図2に示されており、補償温度は、約250Kであり、キュリー温度は、約500Kである。希土類モーメントの温度依存性は、Gdに対して最高であり、重希土類を通して一様に減少する。Tb,HoおよびYbについてのデータは、図3に示されている。
【0008】
飽和磁化と同様に、イオンガーネットのファラデー回転θF も、副格子磁化の線形のコントリビューションであるが、異なる比例定数を有する。具体的には、ファラデー回転は、次式で表される。
(2) θF(T,λ)=C(λ)Mc(T)+A(λ)Ma(T)+D(λ)Md(T)
ここで、λは、ファラデー回転を受ける光の波長であり、C(λ)、A(λ)およびD(λ)は、それぞれ12面体、8面体および4面体の副格子の波長依存磁気光学的係数である。
【0009】
異なる比例定数の結果として、ここで関係するRIGのファラデー回転は、典型的には、補償温度においてゼロにはならない。しかし、材料が磁気的補償温度を通過するとき、飽和磁化の符号は、副格子磁化に関して変化し、したがって、ファラデー回転に対して変化する。
【0010】
材料が、飽和印可磁界中にある場合、多くのデバイスアプリケーションにおいて起きるように、補償温度を通過することは、正味の磁化が印可磁界と整列して残るように、副格子磁化における符号変化となる。これが起きるとき、ファラデー回転も、上記の式(2)に従って副格子磁化の変化と共に、ステップ関数で、符号を変化させるが、大きさは変化させない。これは、図4および5に概略的に示されており、図6にグラフ的に示されている。そのような変化が、アイソレータのような磁気光的デバイスにおいて起きる場合、デバイスはその機能を逆転させ、順方向に吸収し逆方向に光を伝播させ、典型的には、通常の動作に対してデバイスを無用のものとする。
【0011】
しかし、材料が、磁界の存在なしに飽和したままにするよう十分に保磁性である場合(例えば、米国特許第5,608,570号を参照のこと)、補償温度を通過することは、印可磁界のない場合反対の効果を有する。即ち、飽和磁化は、それがゼロを通過するとき向きを変え、副格子磁化が同じ方向のままであるので、ファラデー回転の符号は変化しない。
【0012】
特定のRIG材料の補償温度は、一般に、12面体イオン(特に重希土類の濃度)とイオンサイトにおける反磁性置換の組合せ効果により決定される。温度が、印可磁界中で補償温度を通って上げられまたは下げられるとき、副格子磁化は図4および5に概略的に示されているように、符号を変化させることになる。これは、典型的には、凝集(nucleation)のプロセスおよび現存するドメインへの逆方向副格子磁化の領域の成長により起きる。
【0013】
このプロセスの間に、異なるオーダーとされた副格子を有するこれらの磁気的ドメインは、特別な種類の磁気的ドメインウォール、一般に、「コンペンセーションウォール(compensation wall)」と呼ばれるものにより分離される。コンペンセーションウォールの一方の側における副格子は、コンペンセーションウォールの他方の側における対応する副格子に対して逆平行に配向される。コンペンセーションウォールは、ランダムに配向したドメインウォールよりもいくらか小さいエネルギを有するが、その凝集は、依然としていくらかのエネルギを必要とする。従って、LatchingTMファラデーローテータにおける凝集誘導保磁力に似た、均一な組成の材料をスイッチングすることにおけるヒステリシスがある。
【0014】
コンペンセーションウォールのさらなる詳細については、例えば、“Magnetic Garnets”, Gerhard Winkler, Vieweg Tracts in Pure and Applied Physics, Vol. 5, Braunnschweig 1981, especially pages 358 to 364, and p.672および米国特許第4,981,341号を参照のこと。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
したがって本発明の目的は、かなり大きな調節範囲を有するコンパクトで、小電力の可変光減衰器を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明は、例えば1.55μmまたは1.3μmの波長λの光に対する可変減衰器において具現化され、そのような可変減衰器を含む物品(例えば、光ファイバ通信システム)において具現化される。
【0017】
従来技術は、入力ポートから出力ポートへデバイスを通してダウンストリーム方向に波長λの光の伝播をサポートするように適合された光デバイスを含む。この物品は、第1および第2の偏光子をさらに含み、各偏光子は、ある偏向方向を有し、第2の偏光子の偏向方向は、第1の偏光子の偏向方向から実質的に45°にあり、第2の偏光子は、第1の偏光子からダウンストリーム方向に離れている。
【0018】
この物品は、第1および第2の偏光子の間に配置されたファラデー回転手段をさらに含み、波長λの光の偏向方向を、第1の偏光子の偏向方向に平行な方向から、第2の偏光子の偏向方向に実質的に平行な方向に変えるように選択されている。この物品は、ファラデー回転手段を、所定方向に実質的に磁気的に飽和させるように選択された磁石をさらに含み、また、ファラデー回転手段の温度を変化させるために選択された加熱および/または冷却手段を含む。
【0019】
重要なことに、光デバイスは、波長λの前記光に対して可変光減衰器である。ファラデー回転手段は、ダウンストリーム方向に変化する化学的組成を有する磁気光的ボディを含み、化学的組成は、磁気光的ボディの温度の変化に応答して可動であるコンペンセーションウォールを磁気光的ボディが含み、波長λの光の減衰が変化するように選択される。
【0020】
好ましい実施形態において、磁気光的ボディ(典型的にはRIG)の組成は、ダウンストリーム(軸的)方向に沿って実質的に連続的に変化する。望ましくは、組成は、可変減衰器が中心温度の±ΔT(例えば、±5℃)の補償温度の勾配を有する。中心温度は、例えば、期待される動作温度T0、例えば室温(〜22℃)である。動作温度において、減衰器は、所定の減衰Z0(例えば、0.1dB)を有し、例えば熱電的クーラーおよびヒーターの手段により磁気光的ボディの温度を変化させることは、減衰の所定の変化となる。
【0021】
ヒステリシスを実質的に減少させるために、コンペンセーションウォールが常に存在することが望ましい。例えば、これは、磁気光的エレメントの主表面のうちの1つの上に高いまたは低い(組成の傾きの方向に依存して)補償温度材料のいずれかの薄膜の成長によりなされる。
【0022】
典型的には、永久磁石は、温度変化に応じて、コンペンセーションウォールを動かすために必要とされる磁界を提供する。印可磁界が高いと、一般に、望ましくないヒステリシス効果が低くなる。一方、永久磁石のコストは、磁界強度の増大と共に増大する。したがって、典型的には、妥協が必要である。いくつかの単純な実験が、一般に、許容可能な磁石強さを決定するために十分である。電磁石は、勿論、所望の磁界を提供するために使用され得る。
【0023】
例えば、本発明による可変減衰器は、ファイバ増幅器を備えたWDM光ファイバ通信システムにおける自動利得制御のため、またはファイバ増幅器の出力レベルを安定化するために好都合に使用可能である。
【0024】
【発明の実施の形態】
図7は、本発明による例示的な可変減衰器70を示す。符号71は、磁気光的ボディ(典型的には、適切な組成変化を有する45°ファラデーローテーター)であり、符号72および73は、それぞれ、0°の偏向方向を定義する第1の偏光子および0°の方向から45°の偏向方向を有する第2の偏光子であり、符号74は、熱電的(TE)冷却および加熱デバイスである。磁気光的ボディは、TEデバイスに熱伝導的に取り付けられる。符号75は、磁石であり、例えば、ファラデーローターを磁気的に飽和させるために十分な強さの管状永久磁石である。光76は、第1の偏光子に入射し、可変減衰器を通って軸方向(ダウンストリーム方向)に伝播する。
【0025】
一般に、本発明による可変減衰器は、光アイソレータにおいて見いだされる特徴に似た通常の特徴を含む、例えば、光ビームの調節をするための1つまたは2つ以上の光学レンズ、およびデバイスにファイバ「ビックテイル(pig tail)」を取り付けるための手段である。
【0026】
これらの特徴は、図7に示されていない。図6は、補償点材料について、温度の関数としてファラデー回転を示す。曲線61は、保磁性材料に磁界を印可しない場合であり、曲線62は磁界を印可した場合である。図6は、補償温度におけるファラデー回転の符号の変化を示す。可変減衰器に対して適切な補償温度を有する磁気光学的材料の有用性の基礎となるものはこの符号の変化である。
【0027】
本発明の好ましい実施形態において、磁気光学的ボディは、中心組成についての組成勾配を有する。例えば、中心組成は、ほぼBi1.2Eu0.9Ho0.9Fe4.0Ga1.0O12 である。この組成は、約22℃の補償温度を有すると期待される。しかし、Ga/Fe比の調節により、中心温度は、他の所望の動作温度に設定され得る。補償温度の勾配が、とりわけボディ中のBi/(Eu+Ho)比における勾配により導入され得る。Biは磁性ではなく、EuおよびHoは磁性であるので、Bi/(Eu+Ho)比を変化させることは、磁化に対するC光子のコントリビューションを変化させ、したがって補償温度に影響を与える。
【0028】
例えば、10℃の全勾配が補償温度において望まれる場合(即ち、中心動作温度から±5℃の場合)、これは、Biの単位式当たり±0.016原子に対応するBiの単位式当たり約0.032原子の全勾配を必要とすることになる。例えば、同様の材料が、Bi−TbおよびBi−Ho系から作られ得る。
【0029】
実施例として、本発明による可変光減衰器において有用性を有することが期待されるいくつかの組成を以下に示す。
【表1】
【0030】
上記の組成は、例示に過ぎず、異なる中心温度および/または勾配を有する他の材料も、可変減衰器のとりわけ所望の動作温度および感度に依存して、考えられ得る。
【0031】
本発明による可変光減衰器において使用するためのRIGは、実質的に米国特許第5,608,570号に示された技法により成長され得る。しかし、所望の組成勾配を得るためには、典型的には、従来技術による手順の変形が必要とされる。
【0032】
例えば、液相エピタキシ成長が行われる間に、成長温度をランプダウン(ramp down)またはランプアップ(ramp up)することにより溶解物の過冷却がスムーズに変化し得る。Bi濃度は、所定の溶解物に対し過冷却のほぼ線形関数であるので(例えば、C.-P Klages 等によるJ. Crystal Growth, Vol. 64, p. 275 (1983) を参照のこと)、所望の組成勾配が得ることができる。
【0033】
Bi濃度は、回転レートを変化させることによっても変化し得る。理論によれば、Bi濃度は、回転レートの平方根として変化する。しかし、我々は、ほぼ40−160rpmの範囲の回転レートに対して、Biの分布係数がほとんど変化しないことを発見した。約40より低い回転レートが、Bi濃度の減少に有効であることが分かり、溶解物の不十分な撹拌のためにゼロ回転は一般に望ましくない。単位式当たり0.02−0.05Bi原子の変化が、膜回転レートの変化により容易に達成可能であることが示された。
【0034】
本発明によるRIGは、格子パラメータ12.498Aのカルシウム・マグネシウム・ジルコニウム・置換・カドリニウム・ガリウム・ガーネット(CMZ:GGG)のような基板上に、単結晶膜として典型的に成長させられる。そのような基板は、商業的に入手可能である。
【0035】
図8は、例示的な光ファイバ通信システム80を示す。このシステムは、通常の送信機81、通常の受信機85、および送信機および受信機を信号伝達可能に接続する伝送ファイバ83を含む光ファイバ伝送パスを含み、かつ通常の光ファイバ増幅器84および本発明による可変減衰器70を含む。ポンプ源86は、増幅器にポンプ光を提供する。伝送パス中のファイバレーザの存在は任意的であり、例えばルータのような他の光構成部品が存在し得ることが理解されるであろう。通信システムは、典型的には、マルチチャネル(WDM)システムである。
【0036】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、かなり大きな調節範囲を有するコンパクトで、小電力の可変光減衰器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】RIGの副格子磁化を温度の関数として示す図。
【図2】RIGの全体的磁化を温度の関数として示す図。
【図3】3個の異なるRIGに対して、温度の関数として飽和磁化についての例示的データを示す図。
【図4】補償温度の上および下での例示的なRIGの副格子磁化、全体的磁化およびファラデー回転を示す図。
【図5】補償温度の上および下での例示的なRIGの副格子磁化、全体的磁化およびファラデー回転を示す図。
【図6】補償、RIGについての温度の関数としてファラデー回転を示す図。
【図7】本発明による可変減衰器を示す図。
【図8】本発明による例示的な光通信システムを示す図。
【符号の説明】
70 可変減衰器
71 45°勾配ファラデーローテーター
72,73 偏光子
74 冷却器および加熱器
75 磁石
76 光
80 光ファイバ通信システム
81 送信機
83 伝送ファイバ
84 増幅器
85 受信機
86 ポンプ源
Claims (13)
- 光デバイスを通して入力ポートから出力ポートへのダウンストリーム方向における波長λの光の伝播のために適合された光デバイスを含む物品であって、
a) 各々がある偏向方向を有する第1および第2の偏光子と、
b) 前記第1および第2の偏光子の間に配置されたファラデー回転手段と、
c) ファラデー回転手段を所定方向に磁気的に実質的に飽和させるように選択された磁石とをさらに含み、
前記第2の偏光子の偏向方向は、第1の偏光子の偏向方向から実質的に45°であり、前記第2の偏光子は、前記第1の偏光子からダウンストリーム方向に離して置かれており、前記ファラデー回転手段は、順伝播方向に完全に磁化されるとき、波長λの光の偏向方向を、第1の偏光子の偏向方向に平行な方向から第2の偏光子の偏向方向に実質的に平行な方向に変化させるように選択されるものにおいて、
d) 前記光デバイスは、可変光減衰器であり、ファラデー回転手段の温度を変化させるために選択された加熱および/または冷却手段を含み、
e) 前記ファラデー回転手段は、ダウンストリーム方向に変化する化学的組成を有する磁気光学的ボディを含み、前記ファラデー回転手段は、磁気光学的ボディの温度変化に応じて可動なコンペンセーションウォールを含み、これにより、光デバイスにおける波長λの光の減衰が変化される
ことを特徴とする物品。 - 磁気光学的ボディの化学的組成が、実質的に連続的にダウンストリーム方向に変化する請求項1に記載の物品。
- 前記化学的組成が、前記可変光減衰器が中心温度あたりで±ΔT度の補償温度の勾配を有するように選択される請求項1に記載の物品。
- 前記中心温度が、可変光減衰器の期待される動作温度T0である請求項3に記載の物品。
- ΔTが約5°以下である請求項3に記載の物品。
- 前記ファラデー回転手段が、希土類イオンガーネットを含む
ことを特徴とする請求項1に記載の物品。 - 前記希土類イオンガーネットが、実質的に、Bi,Eu,Ho,Fe,Gaおよび酸素からなり、その組成は、約22℃の補償温度を有する組成を提供するように選択される請求項6に記載の物品。
- 前記希土類イオンガーネットが、実質的に、Bi,Tb,Fe,Gaおよび酸素からなる請求項6に記載の物品。
- 前記希土類イオンガーネットが、実質的に、Bi,Ho,Fe,Gaおよび酸素からなる請求項6に記載の物品。
- 前記希土類イオンガーネットが、基板上に形成される請求項6に記載の物品。
- 前記基板が、CMZ:GGGと呼ばれる、カルシウム・マグネシウム・ジルコニウム・置換・ガドリニウム・ガリウム・ガーネットを含む請求項10に記載の物品。
- 前記CMZ:GGGが、約1.2498nmの格子パラメータを有するように選択される請求項11に記載の物品。
- 前記部品が光ファイバ通信システムであり、送信機、受信機、前記送信機および受信機を信号伝達可能に接続する光ファイバ伝送パスを含み、および前記可変光減衰器を含む請求項1に記載の物品。
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