JP3694072B2 - Semiconductor device - Google Patents

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、オーバドライブ形式で駆動されるセンスアンプを備えた半導体記憶装置、更には半導体装置に関し、例えば高集積化のために動作電圧が低電圧化されたDRAM(ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ)に適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
DRAMの記憶容量を増大させるためにメモリセルトランジスタ等のMOSトランジスタは小型化され、それによってMOSトランジスタのゲート長の縮小化に伴ってゲート酸化膜が薄膜化されるので、動作電圧の低電圧化が進められている。特にDRAMは、ハイレベルの読み出し動作効率を落とさない(若しくはハイレベルの読み出し動作マージンを比較的大きくする)ようにしてハイレベルの書込み(メモリセルの蓄積容量に対する充電動作)を行おうとする場合には、ワード線の選択レベルを上げるか、メモリセルのデータ入出力端子が結合されたデータ線の電圧(センスアンプの増幅動作によるデータ線の到達レベル)を下げることが効果的である。但し、上述のようにトランジスタの高集積化に伴ってMOSトランジスタのゲート酸化膜が薄膜化されている場合にはワード線の電圧レベルをむやみに上げるとゲート酸化膜が破壊し易くなってDRAMの信頼性の点において好ましくない。このような事情により、データ線の電圧を下げることが余儀なくされる。このようにデータ線の電圧を低電圧化すると、センスアンプの高速動作の妨げになる。即ち、センスアンプの動作電源の電圧が低くされると、センスアンプに流れる電流が少なくなり、メモリセルの電荷情報がデータ線に読出されたとき相補関係にあるデータ線に形成される微少電位差を増幅する速度が低下される。
【0003】
そこで、センスアンプを低電圧下で高速動作させる技術として、センスアンプのオーバドライブ技術がある。例えばセンスアンプがCMOSスタティックラッチ形態で構成されるとき、Pチャンネル型MOSトランジスタのソースには、センスアンプ活性化タイミングの最初に外部電源電圧VDDを与え、次いで外部電源電圧VDDを降圧した電圧VDLを与えて、センスアンプを動作させる。センスアンプのオーバドライブ技術の一つとしては、ISSCC95 A 29ns 64MbDRAM with Hierachical Arry Architecture / FA14.2で報告されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は上記センスアンプのオーバドライブ技術について検討した結果、以下の問題点を見出した。即ち、センスアンプを構成するPチャンネル型MOSトランジスタのソースはスイッチ素子を介して外部電源電圧VDDが供給され、また別のスイッチ素子を介して、降圧回路の出力端子に結合される。外部電源電圧VDD及び降圧電圧VDLの供給ラインは多数のセンスアンプが共有する。センスアンプに外部電源電圧VDDが供給されると、それは降圧電圧VDLよりも高い動作電圧としてセンスアンプを高速動作させる。即ちセンスアンプの増幅動作における初期的な過渡応答動作が高速化される。次いでセンスアンプの動作電源は降圧電圧VDLに切り換えられる。多数のセンスアンプに共有される前記動作電源の供給ラインやデータ線には不所望な容量成分が存在するので、外部電源電圧VDDが許容範囲の上限のレベルであったり、また、動作マージンをテストするために通常よりも高いレベルの外部電源電圧が供給されているような状態では、センスアンプの動作電源が降圧電圧VDLに切り換えられたときに、センスアンプから降圧回路の出力端子に向けて電流が逆流することが予想される。
【0005】
このとき、降圧回路として外部電源電圧に結合された電流源に高抵抗を直列接続した回路を採用して、降圧回路における貫通電流を最小限に抑えようとする場合、前記センスアンプ側から降圧回路の出力端子に向かって逆流した電流は前記高抵抗によって接地電位への速やかなリークが阻まれ、結果として降圧電圧VDLが上昇する虞のあることが本発明者によって見出された。
【0006】
前記降圧電圧VDLの不所望なレベル上昇は以下の点で不都合である。降圧電圧VDLの上昇は、センスアンプの増幅動作によるデータ線の到達電圧を上昇させ、これによって、ワード線の選択レベルとデータ線のハイレベルとの電位差が小さくなって、メモリセルへのハイレベル書込みにおいて蓄積容量にはデータ線の当該ハイレベルの電圧を印加することができなくなる。また、前記降圧電圧VDLの不所望なレベル上昇によってセンスアンプによるデータ線の到達電圧が上昇されれば、それに応じて、チップ非選択期間にイコライズされるデータ線の初期的なレベル(プリチャージレベル)も上昇し、そのような状態で書き込まれたデータが読み出された場合、プリチャージレベルに対するハイレベルの読み出し電圧マージンも小さくされる。さらに、ワード線選択レベルを形成する昇圧回路が前記降圧電圧VDLを利用する場合には、降圧電圧VDLの不所望なレベル上昇はワード線選択レベルを上昇させて、メモリセル選択トランジスタのゲート酸化膜を破損させる虞を生ずる。
【0007】
本発明の目的は、オーバドライブ形式で駆動されるセンスアンプのような差動増幅回路に対して一つの動作電源として降圧電圧を供給する降圧回路の前記降圧電圧が不所望にレベル上昇する虞を未然に防止できるようにした半導体装置を提供することにある。
【0008】
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
【0010】
すなわち、メモリアレイの高集積化に伴う動作電圧の低電圧化に際して、センスアンプのような差動増幅回路(3)の高速動作を保証するため、前記差動増幅回路の活性化タイミングにおいて最初前記外部電源電圧(VDD)を動作電源として前記差動増幅回路に接続させ、次いで降圧回路(1)で形成された降圧電圧(VDL)を動作電源として前記差動増幅回路に接続させる、オーバドライブ技術を採用するとき、前記降圧回路を、電流源(Q50)と高抵抗(R1)との直列接続点(Nout)に前記降圧電圧を形成する降圧ユニット(10)に加えて、前記直列接続点の電圧が前記降圧電圧以上とされる所定電圧において当該直列結合点を接地電位(VSS)に導通させるディスチャージユニット(11)を設けて構成する。
【0011】
降圧回路の更に詳しい態様において、前記降圧ユニット及びディスチャージユニットの電流源回路を高性能化する場合には、オペアンプ(AMP1,AMP2)にて電流源MOSトランジスタ(Q50,Q51)を負帰還制御するように構成することができる。このとき、ディスチャージ回路によるディスチャージ動作が過剰にならないようにするには、前記差動増幅回路の動作電源が前記外部電源電圧から前記降圧電圧に切り換えられた後、降圧回路の出力電圧が差動増幅回路に動作電源として供給されている期間内の一定期間を除いて、前記電流源MOSトランジスタをオフ状態に強制する手段(TG,Q52)を採用するとよい。
【0012】
【作用】
センスアンプのような差動増幅回路の駆動方式としてオーバドライブ技術が採用されているとき、差動増幅回路の動作電源が外部電源電圧(VDD)から降圧電圧(VDL)に切り換えられたときに、差動増幅回路から降圧回路の出力端子に向けて電流が逆流することが予想される。降圧回路として、外部電源電圧に結合された電流源に高抵抗を直列接続した回路を採用して、降圧回路における貫通電流を最小限に抑えようとする場合、前記センスアンプ側から降圧回路の出力端子に向かって逆流した電流は前記高抵抗によって接地電位への速やかなリークが阻まれる。このとき、降圧回路に設けられたディスチャージユニットが前記逆流電流を接地電位に逃がし、これによって、降圧電圧が不所望にレベル上昇される事態が防止される。
【0013】
また、ディスチャージユニット(11)の動作可能なタイミングを、前記差動増幅回路の動作電源が前記外部電源電圧から前記降圧電圧に切り換えられた後、降圧回路の出力電圧が差動増幅回路に動作電源として供給されている期間内の一定期間に限定することにより、降圧ユニット側とディスチャージユニット側で常時負帰還制御が行われる場合に双方の電流源MOSトランジスタ(Q50,Q51)を介する電流供給動作と電流引き抜き動作が頻繁に繰り返されることによって消費電力が無視し得ない程に増大することを防止でき、また、降圧ユニット側とディスチャージユニット側で常時負帰還制御が行われることによって降圧電圧が周期的に変動し、差動増幅回路から電流の逆流が生じていない場合にも降圧電圧が周期的に変化する事態を阻止することができる。
【0014】
【実施例】
図4には本発明の一実施例に係るDRAMのブロック図が示される。同図に示されるDRAMは、特に制限されないが、公知半導体集積回路の製造技術によって、単結晶シリコンのような1個の半導体基板に形成される。図4には代表的に2個のメモリアレイMARY0,MARY1が示される。
【0015】
本実施例のDRAMは3.3Vのような外部電源電圧VDD、0Vのような接地電位VSSを外部電源端子より受ける。本実施例のDRAMは記憶容量増大のためにメモリアレイMARY0,MARY1におけるMOSトランジスタは小型化され、それによってそれらMOSトランジスタのゲート長の縮小化に伴ってゲート酸化膜が薄膜化されている。このため、メモリアレイMARY0,MARY1における動作電圧は低電圧化され、例えば2.2Vのような降圧電圧VDLを基本的な動作電源として利用する。降圧電圧VDLは外部電源電圧VDDを降圧する降圧回路1にて生成される。
【0016】
各メモリアレイMARY0,MARY1は夫々8個のメモリマットMMAT0〜MMAT7に分割される。個々のメモリマットMMAT0〜MMAT7は、選択端子がワード線に、データ入出力端子が相補データ線に結合された1トランジスタ型のダイナミックメモリセルを多数含んでいる。各メモリマット毎にワードドライバWD0〜WD7と、ロウアドレスデコーダXD0〜XD7が設けられる。ロウアドレスデコーダXD0〜XD7は、その動作が選択されると、内部相補ロウアドレス信号AXをデコードしてワード線選択信号を形成し、内部相補ロウアドレス信号AXに応ずる1本のワード線を選択する。ワードドライバWD0〜WD7はワード線選択信号を受け、制御信号φXにて指示されるワード線駆動タイミングに同期して、ワード線選択信号にて選択されるべきワード線を選択レベルに駆動する。ワードドライバWD0〜WD7が形成するワード線選択レベルは、前記降圧電圧VDLよりもレベルの高い昇圧電圧VPPとされる。昇圧電圧VPPは降圧電圧VDLを昇圧する昇圧回路2にて生成される。
【0017】
SA01,SA23,SA45,SA67はセンスアンプブロック、CSW01,CSW23,CSW45,CSW67はカラムスイッチ回路ブロックであり、左右1対のメモリマットの間に配置され、隣接する左右1対のメモリマットが共有する。センスアンプブロックSA01,SA23,SA45,SA67とカラムスイッチ回路ブロックCSW01,CSW23,CSW45,CSW67を挟んで配置された左右一対のメモリマットにはシェアードデータ線構造が採用され、何れか一方のメモリマットの動作が選択されるようになっている。夫々のセンスアンプブロックの動作制御及びセンスアンプブロックを共有するメモリマット間におけるデータ線シェアリングスイッチ回路(図5参照)の制御などの、メモリマットの動作選択及び動作制御は、対を成すメモリマット毎に設けられたマットコントローラMCNT01,MCNT23,MCNT45,MCNT67が行う。
【0018】
マットコントローラMCNT01,MCNT23,MCNT45,MCNT67にはマット選択信号MS、センスアンプ制御信号φSAN,φSAP2,φSAP1Bが供給される。マット選択信号MSは8個のメモリマットMMAT0〜MMAT7から何れの1個を選択するかを指示する3ビットの信号とされる。実際にはロウアドレスバッファRABに保持されたロウアドレス信号の上位3ビットの情報に対応される。マットコントローラMCNT01,MCNT23,MCNT45,MCNT67はマット選択信号MSをデコードし、それが指定するメモリマットを動作させるように、センスアンプブロックの動作制御やロウアドレスデコーダの活性化制御を行う。例えば、マット選択信号MSがメモリマットMMAT0を指定すると、ロウアドレスデコーダXD0が活性化されると共に、センスアンプブロックSA01がデータ線シェアリングスイッチ回路を介してメモリマットMMAT0に接続され、メモリマットMMAT0においてメモリセルの選択動作が可能にされる。センスアンプ制御信号φSAN,φSAP2,φSAP1Bについてはその詳細を後述する。
【0019】
夫々のカラムスイッチ回路ブロックCSWnは、カラムアドレスデコーダYDからのカラム選択信号を受け、それによってメモリマットの中から夫々4組の相補データ線を選択して相補共通データ線CD0〜CD3に導通させる。カラムアドレスデコーダYDは、読み出し動作においてはワード線選択動作が確定した後にイネーブルレベルにされるタイミング信号φYによって動作可能にされ、それによって内部相補カラムアドレス信号AYをデコードしてカラム選択信号を生成する。
【0020】
前記ワード線選択動作とカラム選択動作により、マット選択信号MS、内部相補ロウアドレス信号AX、及び内部相補カラムアドレス信号AYにて指定される4個のメモリセルが相補共通データ線CD0〜CD3に導通される。メモリアレイMARY1側も特に図示はしないが上記同様に構成され、メモリアレイMARY1側には相補共通データ線CD4〜CD7が配置される。
【0021】
前記相補共通データ線CD0〜CD7は、特に制限されないが、データ入出力回路DIOに結合される。データ入出力回路DIOには、メインアンプ、書込みアンプ、及びデータ入出力バッファを含み、タイミング信号φWがイネーブルレベルにされることにより書込みのためのデータ入力動作を行い、タイミング信号φRがイネーブルレベルにされることにより読み出しのためのデータ出力動作を行う。本実施例のダイナミックRAMは、8ビット単位でデータの書込み及び読み出しが行われ、メモリアレイMARY0が下位4ビットを担い、メモリアレイMARY1が上位4ビットを担っている。
【0022】
前記ロウアドレスバッファRABは、外部アドレス入力端子A0〜Aiから入力されるロウアドレス信号をアドレスマルチプレクサAMXを介して取り込んで保持する。この取り込動作は、タイミング発生回路TGから供給されるタイミング信号φXLのハイレベルによって指示される。
【0023】
アドレスマルチプレクサAMXは、特に制限されないが、ダイナミックRAMが通常の動作モードとされるときにタイミング発生回路TGからディスエーブルレベルのタイミング信号φREFが供給されることによって、外部端子A0〜Aiを介して供給されるロウアドレス信号をロウアドレスバッファRABに伝達する。また、ダイナミックRAMがCBR(CAS brfore RAS)リフレッシュサイクルとされるときに上記タイミング信号φREFがイネーブルレベルにされると、リフレッシュアドレスカウンタRFCから供給されるリフレッシュアドレス信号を選択し、これをロウアドレスバッファRABに伝達する。
【0024】
リフレッシュアドレスカウンタRFCは、特に制限されないが、ダイナミックRAMがCBRリフレッシュモードとされるとき、タイミング発生回路TGから所定サイクル毎に供給されるタイミング信号φRCに同期して計数動作を行ってリフレッシュアドレスを生成する。
【0025】
前記カラムアドレスバッファCABは、前記外部アドレス入力端子A0〜Aiを介して供給されるカラムアドレス信号を、タイミング発生回路TGから供給される制御信号φYLがイネーブルにされるタイミングに同期して取り込んで保持する。
【0026】
前記タイミング発生回路TGは、外部からのアクセス制御信号として、ロウアドレスストローブ信号RAS*(記号*はこれが付された信号がローイネーブルの信号であることを意味する)、カラムアドレスストローブCAS*、ライトイネーブル信号WE*、及び出力イネーブル信号OE*が供給され、これらのレベル並びに変化タイミングに基づいて、ダイナミックRAMの動作モードを判定すると共に、上記各種のタイミング信号を形成し、ダイナミックRAMの内部動作を制御する。ロウアドレスストローブ信号RAS*はそのローレベルによってチップ選択を指示し、且つロウアドレス信号が有効であることを通知する。これに従ってタイミングコントローラTGは、ロウアドレス信号の取り込み、そしてワード線選択動作やメモリマット選択のための前記制御信号を順次生成する。カラムアドレスストローブCAS*はカラムアドレス信号が有効であることを通知する信号とされる。それがイネーブルレベルにされると、タイミングコントローラTGはカラムアドレス信号の取り込みそしてカラム選択動作のための前記制御信号を順次生成する。ライトイネーブル信号WE*はそのイネーブルレベルによってDRAMに書込み動作を指示し、出力イネーブル信号OE*はそのイネーブルレベルによってDRAMに読み出し動作を指示する。CBRリフレッシュモードはロウアドレスストローブ信号RAS*がイネーブルにされる前にカラムアドレスストローブCAS*がイネーブルレベルにされることによって指定される。
【0027】
図5には前記メモリマットMMAT0,MMAT1、センスアンプブロックSA01、及びカラムスイッチ回路ブロックCSW01の部分的な回路図が示される。特に同図には、一つのカラム選択信号YS00を受ける回路部分が代表的に示されている。図においてチャンネル(バックゲート)部に矢印が付されているMOSトランジスタはPチャンネル型であって、矢印の付されていないNチャンネル型のMOSトランジスタと区別されている。
【0028】
図5において代表的に示されたWL0〜WLiはワード線であり、DL0,DL0B、DL1,DL1Bは相補データ線であり、MCはダイナミックメモリセルである。ダイナミックメモリセルMCは、データ線に接続された選択MOSトランジスタQ1と蓄積容量SCとの直列回路がプレート電位PL(VDL/2)に接続されて成る。Q27〜Q34はデータ線シェアリングスイッチ回路を構成する一部のシェアリングスイッチMOSトランジスタである。メモリマットMMAT0との間に配置された代表的に示されたシェアリングスイッチMOSトランジスタQ27〜Q30は制御信号φSHRLにてスイッチ制御され、メモリマットMMAT1との間に配置された代表的に示されたシェアリングスイッチMOSトランジスタQ31〜Q34は制御信号φSHRRにてスイッチ制御される。例えばマット選択信号MSがメモリマットMMAT0を選択するとき、前記マットコントローラMCNT01が制御信号φSHRLをハイレベルに制御する。マット選択信号MSがメモリマットMMAT1を選択するときは、前記マットコントローラMCNT01が制御信号φSHRRをハイレベルに制御する。マット選択信号MSにて選択されないメモリマットに関するシェアリングスイッチMOSトランジスタは当該メモリマットに対応されるマットコントローラにてオフ状態に制御される。
【0029】
Nチャンネル型MOSトランジスタQ9,Q10とPチャンネル型MOSトランジスタQ13,Q14とによって構成されるスタティックラッチ形態の差動増幅回路は一つのセンスアンプ3であり、センスアンプ3は相補データ線毎に設けられている。センスアンプ3の動作電源はドライブラインSDN,SDPを介して供給される。ドライブラインSDN,SDPは各センスアンプ3に共通とされる。ドライブラインSDN,SDPへの動作電源の供給制御については後述する。また、夫々の相補データ線には上記センスアンプ3の他に、ダイナミックRAMが待機時に、相補データ線をイコライズするMOSトランジスタQ21を備える。MOSトランジスタQ21は、制御信号φPCSBによってスイッチ制御される。さらに、相補データ線のイコライズと共に相補データ線にプリチャージ電位を供給するためのMOSトランジスタQ17,Q18が設けられている。プリチャージ電位は降圧電圧VDLの半分のレベルとされ、配線HVCを介して供給される。MOSトランジスタQ17,Q18は制御信号φPCBによってスイッチ制御される。前記制御信号φPCB,φPCSBはタイミングコントローラTGから出力される。プリチャージ電圧VDL/2はプリチャージ電圧形成回路4にて形成され、例えば降圧電圧VDLを受ける抵抗分圧回路等によって構成される。
【0030】
図5においてQ23,Q24は相補データ線DL0,DL0Bと相補共通データ線CD0(cd0,cd0B)との間に設けられたカラムスイッチであり、Q25,Q26は相補データ線DL1,DL1Bと相補共通データ線CD1(cd1,cd1B)との間に設けられたカラムスイッチである。同様のカラムスイッチは各相補データ線に設けられ、4対の相補データ線を一組として4対の相補共通データ線CD0(cd0,cd0B),CD1(cd1,cd1B),CD2(cd2,cd2B),CD3(cd3,cd3B)に共通接続される。
【0031】
次にセンスアンプ3のドライブラインSDN,SDPに動作電源を供給する回路構成について説明する。
【0032】
図1にはセンスアンプ3のドライブラインSDN,SDPへ動作電源を供給する回路が示される。同図においては代表的に1列分のセンスアンプ3が示されているが、図に代表的に示されているドライブラインSDN,SDPは本実施例のDRAMに含まれる全てのセンスアンプ3のためのドライブラインSDN,SDPを総称している。ドライブラインSDNには、制御信号φSANにてスイッチ制御されるNチャンネル型MOSトランジスタQ40を介して接地電位VSSが供給される。ドライブラインSDPには、制御信号φSAP1Bにてスイッチ制御されるPチャンネル型MOSトランジスタQ41を介して外部電源電圧VDDが供給され、また、制御信号φSAP2にてスイッチ制御されるNチャンネル型MOSトランジスタQ42を介して降圧電圧VDLが供給される。制御信号φSAN,φSAP1B,φSAP2は前記タイミングコントローラTGから出力される。
【0033】
本実施例のDRAMは、前述のように、3.3Vのような外部電源電圧VDDを外部電源端子より受けるが、記憶容量増大のためにメモリアレイMARY0,MARY1におけるMOSトランジスタは小型化され、それによってそれらMOSトランジスタのゲート長の縮小化に伴ってゲート酸化膜が薄膜化されているので、メモリアレイMARY0,MARY1における動作電圧は低電圧化され、例えば2.2Vのような降圧電圧VDLを基本的な動作電源とする。このとき、ドライブラインSDPに降圧電圧VDLだけを供給したのでは、センスアンプ3の動作速度が遅くなってしまうので、ドライブラインSDPにはセンスアンプ活性化タイミングの最初に外部電源電圧VDDを与え、次いで降圧電圧VDLを与えてセンスアンプを動作させるという、センスアンプのオーバドライブ技術が適用されている。
【0034】
即ち、図2に示されるように、センスアンプ3の活性化期間を規定する制御信号φSAEB(タイミングコントローラTGの内部制御信号であって図1には図示されていない)がローレベルのアクティブレベルに変化されると、先ず、制御信号φSAP1Bがローレベルに変化されてMOSトランジスタQ41を介してドライブラインSDPに電源電圧VDDが供給される。これによって、センスアンプ3のPチャンネル型MOSトランジスタQ13,Q14から供給される電流が比較的大きいため、メモリセルの選択動作によって相補データ線DL0,DL0Bに現れる微少電位差は速やかに増幅される。次いで、制御信号φSAP1Bがハイレベルに反転されると共に制御信号φSAP2がハイレベルにされることにより、MOSトランジスタQ42を介してドライブラインSDPに降圧電圧VDLが供給される。制御信号φSANは制御信号φSAEBのローレベル期間に同期してハイレベルにされる。これにより、センスアンプ3によって駆動される相補データ線の到達レベルは、一方が接地電位VSS、他方が降圧電圧VDLに規定される。このようにして、メモリセルアレイの低電圧駆動下におけるセンスアンプ3の増幅動作を高速化している。
【0035】
本実施例の降圧回路1は、降圧ユニット10とディスチャージユニット11を備える。前記降圧ユニット10は、外部電源電圧VDDに結合されるPチャンネル型のMOSトランジスタQ50と接地電位VSSに結合される高抵抗R1との直列接続点を出力端子Noutとして備え、当該出力端子Noutが反転入力端子()に帰還され、反転入力端子()に基準電圧VLRが供給されて、前記MOSトランジスタQ50をスイッチ制御するオペアンプAMP1を備えて構成される。前記オペアンプAMP1は、出力端子Noutの電位が基準電位VLRよりも低くされるとMOSトランジスタQ50のコンダクタンスを大きく(オン抵抗を小さく)し、出力端子Noutの電位が基準電位VLRよりも高くされるとMOSトランジスタQ50のコンダクタンスを小さく(オン抵抗を大きく)して、出力端子Noutの電圧を基準電圧VLRに保つように負帰還制御を行う。このようにして出力端子Noutに形成された電圧が降圧電圧VDLとされる。特にMOSトランジスタQ50と抵抗R1と直列回路に流れる貫通電流を最小限に抑えるために抵抗R1の値は非常に大きな値にされている。前記負帰還制御において、高抵抗R1を介して出力端子Noutに流れる電流は実質的に無視し得る程少なくされている。尚、基準電圧VLRは例えば図示しない公知の基準電圧発生回路によって形成される制御電圧であり、例えば2.2Vとされる。
【0036】
ここで、外部電源電圧VDDは例えば3.3Vとされるが、利用可能な電源電圧には通例±10%程度の許容範囲を容認している。したがって、外部電源電圧VDDとしてその許容範囲における下限のレベルが供給される場合においてもセンスアンプ3の過渡応答動作の高速化を図れるように、前記制御信号φSAP1Bのアクティブ期間が設定されている。したがって、システム上で供給される外部電源電圧VDDが許容範囲の上限のレベルであったり、電源電圧VDD側の動作マージンテストなどのために特に高い外部電源電圧VDDが供給された場合などには、センスアンプ3に対するオーバドライブが過剰になって、センスアンプ3の動作電源が外部電源電圧VDDから降圧電圧VDLに切換えられたときに、ドライブラインSDPから降圧回路1の出力端子Noutに向けて電流が逆流する虞がある。逆流した電流は、前述のように高抵抗R1を介して接地電位VSSに即座にディスチャージさせることは期待できない。本実施例においてそのようなドライブラインSDPから逆流した電流をディスチャージする経路は前記ディスチャージユニット11が形成するようになっている。
【0037】
前記ディスチャージユニット11は、外部電源電圧VDDに結合される高抵抗R2と接地電位VSSに結合されるNチャンネル型の電流源MOSトランジスタQ51との直列接続点が前記出力端子Noutに結合され、前記出力端子Noutが反転入力端子()に帰還され、反転入力端子()に前記基準電圧VLRが供給されて前記電流源MOSトランジスタQ51をスイッチ制御するオペアンプAMP2を備え、更に、オペアンプAMP2の出力を選択的に接地電位VSSに導通させるNチャンネル型のMOSトランジスタQ52を備えて成る。
【0038】
前記オペアンプAMP2は、出力端子Noutの電位が基準電位よりも低くされるとMOSトランジスタQ50のコンダクタンスを小さく(オン抵抗を大きく)し、出力端子Noutの電位が基準電位よりも高くされるとMOSトランジスタQ50のコンダクタンスを大きく(オン抵抗を小さく)して、出力端子Noutの電圧が基準電圧VLRを越えた場合に、MOSトランジスタQ51を介して接地電位VSSへのディスチャージ経路を形成するための負帰還制御を行う。降圧ユニット10と同様に、MOSトランジスタQ51と抵抗R2との直列回路に流れる貫通電流を最小限に抑えるために抵抗R2の値は非常に大きな値にされているので、前記負帰還制御において、高抵抗R2を介して出力端子Noutに供給される電流は実質的に無視し得る程少なくされている。このようにディスチャージユニット10は、ドライブラインSDPから逆流した電流をディスチャージする経路を形成するので、降圧電圧VDLが不所望にレベル上昇する虞を未然に防止することができる。
【0039】
仮に、ディスチャージユニット11が設けられていない場合には、図3に示されるように、ドライブラインSDPからの逆流電流によって降圧電圧VDLのレベルが徐々に上昇され、それに伴って相補データ線のプリチャージレベル(VDL/2)が上昇されてしまう。
【0040】
前記降圧電圧VDLの不所望なレベル上昇は以下の点で不都合である。降圧電圧VDLの上昇は、センスアンプの増幅動作によるデータ線の到達電圧を上昇させ、これによって、ワード線の選択レベルとデータ線のハイレベルとの電位差が小さくなって、メモリセルへのハイレベル書込みにおいて蓄積容量SCにはデータ線の当該ハイレベルの電圧を印加することができなくなる。また、前記降圧電圧VDLの不所望なレベル上昇によってセンスアンプによるデータ線の到達電圧が上昇されれば、それに応じて、チップ非選択期間にイコライズされるデータ線の初期的なレベルであるプリチャージレベルも上昇し、そのような状態で書き込まれたデータが読み出された場合、プリチャージレベルに対するハイレベルの読み出し電圧マージンも小さくされる。さらに、ワード線選択レベルを形成する昇圧回路2が前記降圧電圧VDLを利用する場合には、降圧電圧VDLの不所望なレベル上昇はワード線選択レベルVPPを上昇させて、メモリセル選択MOSトランジスタQ1のゲート酸化膜を破損させる虞を生ずる。本実施例のDRAMにおいてそのような不都合は生じない。
【0041】
前記MOSトランジスタQ52をスイッチ制御する制御信号φnode1は前記タイミングコントローラTGにて形成される。制御信号φnode1は、センスアンプ3の動作電源が前記外部電源電圧VDDから前記降圧電圧VDLに切り換えられた後、降圧電圧VDLがセンスアンプ3に動作電源として供給されている期間内の一定期間だけローレベルにされる。ディスチャージユニット11は制御信号φnode1がローレベルにされているときだけ前記負帰還制御によるディスチャージ経路の形成が可能にされる。そして、制御信号φnode1がローレベルにされる期間は前記ドライブラインSDPからの電流逆流を生ずる虞のあるタイミングに呼応されている。それ以外の期間ではディスチャージユニット11の実質的なディスチャージ動作は抑止されることになる。これにより、MOSトランジスタQ50,Q51を介する直流貫通経路が常時形成可能にされることによる不都合を解消することができる。即ち、降圧ユニット側とディスチャージユニット側で常時負帰還制御が行われる場合にMOSトランジスタQ50,Q51を介する電流供給動作と電流引き抜き動作が頻繁に繰り返されることによって消費電力が無視し得ない程に増大したり、また、降圧ユニット側とディスチャージ側で常時負帰還制御が行われることによって降圧電圧が周期的に変動し、ドライブラインSDPからの電流逆流が生じていない場合にも降圧電圧が周期的に変化したりする事態を阻止することができる。
【0042】
また、本実施例では降圧ユニット側とディスチャージユニット側で別個のオペアンプAMP1,AMP2を利用しているので、夫々の回路特性を相違させる(例えばオフセット電圧を相互に相違させる)ことによって、過剰なディスチャージ動作が行われないようにするなどの回路設計の融通性を増すことができる。
【0043】
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。例えば、降圧ユニット10とディスチャージユニット11においてオペアンプを共通化してもよい。また、降圧ユニット10とディスチャージユニット11における電流源はオペアンプを利用して負帰還制御する構成に限定されない。また、DRAMのメモリマット構成、マット選択の論理構成、データの並列入出力ビット数等は上記実施例に限定されず適宜変更可能である。
【0044】
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野であるDRAMに適用した場合について説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、クロック信号に同期動作されるシンクロナスDRAM、擬似スタティックRAM、さらにはマイクロコンピュータ等のデータ処理LSIにオンチップされたそれらメモリ等にも適用することができる。
【0045】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
【0046】
すなわち、メモリアレイの高集積化に伴う動作電圧の低電圧化の流れにおいて、オーバドライブ技術によってセンスアンプのような差動増幅回路の高速動作を保証しようとするとき、差動増幅回路のドライブラインから降圧回路への電流逆流が生じても、それによって降圧電圧が不所望にレベル上昇される事態を防止することができる。
【0047】
したがって、動作電圧の低電圧化に向けられた回路の信頼性が降圧電圧の負所望なレベル上昇によって低下させられる事態を未然に防止することができる。例えば、センスアンプの様な差動増幅回路の増幅動作によるデータ線の到達電圧が、降圧電圧の上昇によって高くされることにより、ワード線の選択レベルとデータ線のハイレベルとの電位差が小さくなってメモリセルへのハイレベル書込みにおいて蓄積容量にはデータ線の当該ハイレベルの電圧を印加することができなくなる事態を防止できる。また、降圧電圧の不所望なレベル上昇によってセンスアンプのような差動増幅回路によるデータ線の到達電圧が上昇されれば、それに応じて、イコライズされるデータ線のプリチャージレベルも上昇し、そのような状態で書き込まれたデータが読み出された場合、プリチャージレベルに対するハイレベルの読み出し電圧マージンも小さくされてしまうことも防止できる。また、ワード線選択レベルを形成する昇圧回路が前記降圧電圧を利用する場合には、降圧電圧の不所望なレベル上昇がワード線選択レベルを上昇させて、メモリセル選択トランジスタのゲート酸化膜を破損させる虞も生じさせない。
【図面の簡単な説明】
【図1】センスアンプのドライブラインへ動作電源を供給するための一実施例回路図である。
【図2】降圧回路にディスチャージユニットを採用した場合の動作波形図である。
【図3】降圧回路にディスチャージユニットを採用しない場合の比較例を示す動作波形図である。
【図4】本発明の一実施例に係るDRAMの全体的なブロック図である。
【図5】本実施例DRAMのメモリマット、センスアンプブロック、及びカラムスイッチ回路ブロックの部分的な回路図である。
【符号の説明】
MARY0,MARY1 メモリアレイ
MMAT0〜MMAT7 メモリマット
SA01,SA23,SA45,SA67 センスアンプブロック
WD0〜WD7 ワードドライバ
XD0〜XD7 ロウアドレスデコーダ
YD カラムアドレスデコーダ
TG タイミングコントローラ
DL0,DL0B、DL1,DL1B 相補データ線
WLi、WL(i−1) ワード線
MC ダイナミックメモリセル
Q17,Q18 プリチャージ用MOSトランジスタ
Q21 イコライズ用MOSトランジスタ
VDL 降圧電圧
VDD 外部電源電圧
VSS 接地電圧
VPP ワード線駆動電圧
1 降圧回路
10 降圧ユニット
AMP1 オペアンプ
Q50 電流源MOSトランジスタ
R1 高抵抗
Nout 出力端子
11 ディスチャージユニット
AMP2 オペアンプ
Q51 電流源MOSトランジスタ
R2 高抵抗
Q52 ディスチャージ用MOSトランジスタ
φnode1 制御信号
2 昇圧回路
3 センスアンプ
Q9,Q10 センスアンプ構成用Nチャンネル型MOSトランジスタ
Q13,Q14 センスアンプ構成用Pチャンネル型MOSトランジスタ
SDP,SDN センスアンプのドライブライン
Q41,Q42 SDPへの動作電源供給用MOSトランジスタ
Q40 SDNへの動作電源供給用MOSトランジスタ
φSAP2,φSAP1B,φSAN センスアンプ制御信号
4 プリチャージ電圧形成回路
[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a semiconductor memory device having a sense amplifier driven in an overdrive format And even semiconductor devices For example, the present invention relates to a technology that is effective when applied to a DRAM (dynamic random access memory) whose operating voltage is lowered for high integration.
[0002]
[Prior art]
MOS transistors such as memory cell transistors are downsized in order to increase the storage capacity of the DRAM, and as a result, the gate oxide film is made thinner as the gate length of the MOS transistor is reduced, thereby reducing the operating voltage. Is underway. In particular, the DRAM is used when high-level writing (charging operation for the storage capacity of the memory cell) is performed without reducing the high-level read operation efficiency (or relatively increasing the high-level read operation margin). It is effective to raise the selection level of the word line or lower the voltage of the data line to which the data input / output terminal of the memory cell is coupled (the arrival level of the data line by the amplification operation of the sense amplifier). However, when the gate oxide film of the MOS transistor is thinned as the transistor is highly integrated as described above, if the voltage level of the word line is increased unnecessarily, the gate oxide film is easily destroyed and the DRAM is It is not preferable in terms of reliability. Under such circumstances, the voltage of the data line must be lowered. If the voltage of the data line is lowered in this way, it hinders high-speed operation of the sense amplifier. That is, when the voltage of the operating power supply of the sense amplifier is lowered, the current flowing through the sense amplifier is reduced, and the minute potential difference formed on the complementary data line is amplified when the charge information of the memory cell is read to the data line. Speed is reduced.
[0003]
Thus, there is a sense amplifier overdrive technique as a technique for operating the sense amplifier at high speed under a low voltage. For example, when the sense amplifier is configured in a CMOS static latch configuration, the external power supply voltage VDD is applied to the source of the P-channel MOS transistor at the beginning of the sense amplifier activation timing, and then the voltage VDL obtained by stepping down the external power supply voltage VDD is applied. To operate the sense amplifier. One of the sense amplifier overdrive technologies is reported in ISSCC 95 A 29 ns 64 Mb DRAM with Hierachical Arry Architecture / FA 14.2.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
As a result of studying the overdrive technology of the sense amplifier, the present inventor has found the following problems. That is, the source of the P-channel MOS transistor constituting the sense amplifier is supplied with the external power supply voltage VDD via the switch element, and is coupled to the output terminal of the step-down circuit via another switch element. The supply lines for the external power supply voltage VDD and the step-down voltage VDL are shared by many sense amplifiers. When the external power supply voltage VDD is supplied to the sense amplifier, it operates the sense amplifier at a high speed as an operating voltage higher than the step-down voltage VDL. That is, the initial transient response operation in the amplification operation of the sense amplifier is speeded up. Next, the operating power supply of the sense amplifier is switched to the step-down voltage VDL. Since the operation power supply line and data line shared by many sense amplifiers have undesired capacitance components, the external power supply voltage VDD is at the upper limit of the allowable range, and the operation margin is tested. Therefore, in a state where an external power supply voltage of a level higher than normal is supplied, when the operation power supply of the sense amplifier is switched to the step-down voltage VDL, a current flows from the sense amplifier toward the output terminal of the step-down circuit. Is expected to flow backward.
[0005]
At this time, when adopting a circuit in which a high resistance is connected in series to a current source coupled to an external power supply voltage as a step-down circuit and trying to minimize the through current in the step-down circuit, the step-down circuit from the sense amplifier side It has been found by the present inventor that the current flowing backward toward the output terminal is prevented from promptly leaking to the ground potential due to the high resistance, and as a result, the step-down voltage VDL may increase.
[0006]
The undesired level increase of the step-down voltage VDL is disadvantageous in the following points. The increase of the step-down voltage VDL increases the arrival voltage of the data line due to the amplification operation of the sense amplifier, thereby reducing the potential difference between the selection level of the word line and the high level of the data line, and the high level to the memory cell. In writing, the high-level voltage of the data line cannot be applied to the storage capacitor. If the voltage reached by the data line by the sense amplifier is increased due to an undesired level increase of the step-down voltage VDL, the initial level (precharge level) of the data line that is equalized in the chip non-selection period accordingly. When the data written in such a state is read out, the high-level read voltage margin with respect to the precharge level is also reduced. Further, when the booster circuit that forms the word line selection level uses the step-down voltage VDL, an undesired increase in the step-down voltage VDL raises the word line selection level, and the gate oxide film of the memory cell selection transistor May cause damage.
[0007]
An object of the present invention is to reduce the level of the step-down voltage of a step-down circuit that supplies a step-down voltage as a single operation power supply to a differential amplifier circuit such as a sense amplifier driven in an overdrive type. Semiconductor that can be prevented beforehand Body Is to provide a place.
[0008]
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.
[0010]
That is, when the operating voltage is lowered due to the high integration of the memory array, the differential amplifier circuit (3) such as a sense amplifier is firstly activated at the activation timing of the differential amplifier circuit in order to guarantee the high speed operation of the differential amplifier circuit (3). Overdrive technology in which an external power supply voltage (VDD) is connected to the differential amplifier circuit as an operation power supply, and then a step-down voltage (VDL) formed by the step-down circuit (1) is connected to the differential amplifier circuit as an operation power supply. Is adopted, the step-down circuit is added to the step-down unit (10) that forms the step-down voltage at the series connection point (Nout) of the current source (Q50) and the high resistance (R1). A discharge unit (11) is provided for connecting the series coupling point to the ground potential (VSS) at a predetermined voltage that is equal to or higher than the step-down voltage.
[0011]
In a more detailed aspect of the step-down circuit, when the current source circuit of the step-down unit and the discharge unit is improved in performance, negative feedback control is performed on the current source MOS transistors (Q50, Q51) by the operational amplifiers (AMP1, AMP2). Can be configured. At this time, in order to prevent the discharge operation by the discharge circuit from becoming excessive, after the operation power supply of the differential amplifier circuit is switched from the external power supply voltage to the step-down voltage, the output voltage of the step-down circuit is differentially amplified. Means (TG, Q52) for forcing the current source MOS transistor to an off state may be adopted except for a certain period within a period in which the circuit is supplied as operating power.
[0012]
[Action]
When overdrive technology is adopted as a driving method of a differential amplifier circuit such as a sense amplifier, when the operating power supply of the differential amplifier circuit is switched from the external power supply voltage (VDD) to the step-down voltage (VDL), It is expected that current flows backward from the differential amplifier circuit toward the output terminal of the step-down circuit. When using a circuit in which a high resistance is connected in series to a current source coupled to an external power supply voltage as a step-down circuit, and trying to minimize the through current in the step-down circuit, the output of the step-down circuit from the sense amplifier side Current flowing backward toward the terminal is prevented from promptly leaking to the ground potential by the high resistance. At this time, the discharge unit provided in the step-down circuit allows the backflow current to escape to the ground potential, thereby preventing the step-down voltage from being undesirably increased in level.
[0013]
In addition, the timing at which the discharge unit (11) can operate is changed so that the operation power supply of the differential amplifier circuit is switched from the external power supply voltage to the step-down voltage, and then the output voltage of the step-down circuit is applied to the differential amplifier circuit. Current supply operation via both current source MOS transistors (Q50, Q51) when the negative feedback control is always performed on the step-down unit side and the discharge unit side. By repeating the current extraction operation frequently, it is possible to prevent the power consumption from increasing to a negligible level, and the step-down voltage is made periodic by constantly performing negative feedback control on the step-down unit side and the discharge unit side. The step-down voltage changes periodically even when there is no backflow of current from the differential amplifier circuit. It is possible to prevent the state.
[0014]
【Example】
FIG. 4 is a block diagram of a DRAM according to an embodiment of the present invention. The DRAM shown in the figure is not particularly limited, but is formed on one semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique. FIG. 4 typically shows two memory arrays MARY0 and MARY1.
[0015]
The DRAM of this embodiment receives an external power supply voltage VDD such as 3.3V and a ground potential VSS such as 0V from the external power supply terminal. In the DRAM of this embodiment, the MOS transistors in the memory arrays MARY0 and MARY1 are miniaturized in order to increase the storage capacity, whereby the gate oxide film is made thinner as the gate length of the MOS transistors is reduced. For this reason, the operation voltage in the memory arrays MARY0 and MARY1 is lowered, and a step-down voltage VDL such as 2.2V is used as a basic operation power supply. The step-down voltage VDL is generated by the step-down circuit 1 that steps down the external power supply voltage VDD.
[0016]
Each memory array MARY0, MARY1 is divided into eight memory mats MMAT0 to MMAT7. Each of the memory mats MMAT0 to MMAT7 includes a number of one-transistor type dynamic memory cells in which a selection terminal is coupled to a word line and a data input / output terminal is coupled to a complementary data line. For each memory mat, word drivers WD0 to WD7 and row address decoders XD0 to XD7 are provided. When the operation is selected, row address decoders XD0-XD7 decode internal complementary row address signal AX to form a word line selection signal, and select one word line corresponding to internal complementary row address signal AX. . The word drivers WD0 to WD7 receive the word line selection signal and drive the word line to be selected by the word line selection signal to the selection level in synchronization with the word line driving timing instructed by the control signal φX. The word line selection level formed by the word drivers WD0 to WD7 is a boosted voltage VPP having a level higher than the step-down voltage VDL. The boost voltage VPP is generated by the boost circuit 2 that boosts the step-down voltage VDL.
[0017]
SA01, SA23, SA45, and SA67 are sense amplifier blocks, and CSW01, CSW23, CSW45, and CSW67 are column switch circuit blocks that are arranged between a pair of left and right memory mats and are shared by a pair of adjacent left and right memory mats. . The pair of left and right memory mats arranged across the sense amplifier blocks SA01, SA23, SA45, SA67 and the column switch circuit blocks CSW01, CSW23, CSW45, CSW67 employ a shared data line structure. The action is selected. Memory mat operation selection and operation control, such as operation control of each sense amplifier block and control of a data line sharing switch circuit (see FIG. 5) between memory mats sharing the sense amplifier block, form a pair. The mat controllers MCNT01, MCNT23, MCNT45, and MCNT67 are provided for each.
[0018]
A mat selection signal MS and sense amplifier control signals φSAN, φSAP2, and φSAP1B are supplied to the mat controllers MCNT01, MCNT23, MCNT45, and MCNT67. The mat selection signal MS is a 3-bit signal that indicates which one of the eight memory mats MMAT0 to MMAT7 is to be selected. Actually, it corresponds to the information of the upper 3 bits of the row address signal held in the row address buffer RAB. The mat controllers MCNT01, MCNT23, MCNT45, and MCNT67 decode the mat selection signal MS, and control the operation of the sense amplifier block and the activation of the row address decoder so as to operate the memory mat designated by the mat selection signal MS. For example, when the mat selection signal MS designates the memory mat MMAT0, the row address decoder XD0 is activated and the sense amplifier block SA01 is connected to the memory mat MMAT0 via the data line sharing switch circuit. The memory cell selection operation is enabled. Details of the sense amplifier control signals φSAN, φSAP2, and φSAP1B will be described later.
[0019]
Each of the column switch circuit blocks CSWn receives a column selection signal from the column address decoder YD, thereby selecting four sets of complementary data lines from the memory mat and making them conductive to the complementary common data lines CD0 to CD3. The column address decoder YD is enabled by a timing signal φY which is set to an enable level after the word line selection operation is determined in the read operation, thereby decoding the internal complementary column address signal AY to generate a column selection signal. .
[0020]
By the word line selection operation and the column selection operation, four memory cells designated by the mat selection signal MS, the internal complementary row address signal AX, and the internal complementary column address signal AY are conducted to the complementary common data lines CD0 to CD3. Is done. Although not specifically shown, the memory array MARY1 side is also configured in the same manner as described above, and complementary common data lines CD4 to CD7 are arranged on the memory array MARY1 side.
[0021]
The complementary common data lines CD0 to CD7 are not particularly limited, but are coupled to the data input / output circuit DIO. The data input / output circuit DIO includes a main amplifier, a write amplifier, and a data input / output buffer. When the timing signal φW is set to the enable level, the data input operation for writing is performed, and the timing signal φR is set to the enable level. As a result, a data output operation for reading is performed. In the dynamic RAM of this embodiment, data is written and read in units of 8 bits, the memory array MARY0 is responsible for the lower 4 bits, and the memory array MARY1 is responsible for the upper 4 bits.
[0022]
The row address buffer RAB takes in and holds a row address signal input from the external address input terminals A0 to Ai via the address multiplexer AMX. This capture operation is instructed by the high level of the timing signal φXL supplied from the timing generation circuit TG.
[0023]
The address multiplexer AMX is not particularly limited, but is supplied via the external terminals A0 to Ai by being supplied with the disable level timing signal φREF from the timing generation circuit TG when the dynamic RAM is set in the normal operation mode. The row address signal to be transmitted is transmitted to the row address buffer RAB. Further, when the timing signal φREF is set to the enable level when the dynamic RAM is set to a CBR (CAS before RAS) refresh cycle, the refresh address signal supplied from the refresh address counter RFC is selected and used as a row address buffer. Communicate to RAB.
[0024]
The refresh address counter RFC is not particularly limited. When the dynamic RAM is set to the CBR refresh mode, the refresh address counter RFC generates a refresh address by performing a counting operation in synchronization with the timing signal φRC supplied every predetermined cycle from the timing generation circuit TG. To do.
[0025]
The column address buffer CAB captures and holds the column address signal supplied via the external address input terminals A0 to Ai in synchronization with the timing when the control signal φYL supplied from the timing generation circuit TG is enabled. To do.
[0026]
The timing generation circuit TG uses, as an external access control signal, a row address strobe signal RAS * (the symbol * means that a signal to which this is added is a row enable signal), a column address strobe CAS *, a write An enable signal WE * and an output enable signal OE * are supplied. Based on these levels and change timing, the operation mode of the dynamic RAM is determined, and the above various timing signals are formed to control the internal operation of the dynamic RAM. Control. The row address strobe signal RAS * instructs chip selection according to the low level, and notifies that the row address signal is valid. In accordance with this, the timing controller TG sequentially takes in the row address signal and sequentially generates the control signals for the word line selection operation and memory mat selection. The column address strobe CAS * is a signal for notifying that the column address signal is valid. When it is set to the enable level, the timing controller TG sequentially takes in the column address signal and generates the control signal for the column selection operation. The write enable signal WE * instructs the DRAM to perform a write operation according to the enable level, and the output enable signal OE * instructs the DRAM to perform a read operation according to the enable level. The CBR refresh mode is designated by setting the column address strobe CAS * to the enable level before the row address strobe signal RAS * is enabled.
[0027]
FIG. 5 shows a partial circuit diagram of the memory mats MMAT0 and MMAT1, the sense amplifier block SA01, and the column switch circuit block CSW01. In particular, FIG. 2 representatively shows a circuit portion that receives one column selection signal YS00. In the figure, a MOS transistor with an arrow in the channel (back gate) portion is a P-channel type, and is distinguished from an N-channel type MOS transistor without an arrow.
[0028]
WL0 to WLi typically shown in FIG. 5 are word lines, DL0, DL0B, DL1 and DL1B are complementary data lines, and MC is a dynamic memory cell. The dynamic memory cell MC is formed by connecting a series circuit of a selection MOS transistor Q1 connected to a data line and a storage capacitor SC to a plate potential PL (VDL / 2). Q27 to Q34 are some sharing switch MOS transistors constituting the data line sharing switch circuit. The representatively shown sharing switch MOS transistors Q27 to Q30 arranged between the memory mat MMAT0 are switch-controlled by the control signal φSHRL, and are shown representatively arranged between the memory mat MMAT1. The sharing switch MOS transistors Q31 to Q34 are switch-controlled by a control signal φSHRR. For example, when the mat selection signal MS selects the memory mat MMAT0, the mat controller MCNT01 controls the control signal φSHRL to a high level. When the mat selection signal MS selects the memory mat MMAT1, the mat controller MCNT01 controls the control signal φSHRR to high level. The sharing switch MOS transistor related to the memory mat that is not selected by the mat selection signal MS is controlled to be turned off by the mat controller corresponding to the memory mat.
[0029]
A static latch type differential amplifier circuit composed of N-channel MOS transistors Q9 and Q10 and P-channel MOS transistors Q13 and Q14 is one sense amplifier 3, and the sense amplifier 3 is provided for each complementary data line. ing. The operating power of the sense amplifier 3 is supplied via the drive lines SDN and SDP. Drive lines SDN and SDP are common to each sense amplifier 3. The operation power supply control to the drive lines SDN and SDP will be described later. In addition to the sense amplifier 3, each complementary data line includes a MOS transistor Q21 for equalizing the complementary data line when the dynamic RAM is on standby. MOS transistor Q21 is switch-controlled by control signal φPCSB. Further, MOS transistors Q17 and Q18 are provided for equalizing the complementary data lines and supplying a precharge potential to the complementary data lines. The precharge potential is set to a half level of the step-down voltage VDL and is supplied via the wiring HVC. MOS transistors Q17 and Q18 are switch-controlled by a control signal φPCB. The control signals φPCB and φPCSB are output from the timing controller TG. The precharge voltage VDL / 2 is formed by the precharge voltage forming circuit 4 and is constituted by, for example, a resistance voltage dividing circuit that receives the step-down voltage VDL.
[0030]
In FIG. 5, Q23 and Q24 are column switches provided between the complementary data lines DL0 and DL0B and the complementary common data line CD0 (cd0 and cd0B). Q25 and Q26 are complementary data lines DL1 and DL1B and complementary common data. This is a column switch provided between the line CD1 (cd1, cd1B). Similar column switches are provided for each complementary data line, and four pairs of complementary data lines are combined into four pairs of complementary common data lines CD0 (cd0, cd0B), CD1 (cd1, cd1B), CD2 (cd2, cd2B). , CD3 (cd3, cd3B).
[0031]
Next, a circuit configuration for supplying operation power to the drive lines SDN and SDP of the sense amplifier 3 will be described.
[0032]
FIG. 1 shows a circuit for supplying operating power to the drive lines SDN and SDP of the sense amplifier 3. In the figure, the sense amplifiers 3 for one column are representatively shown, but the drive lines SDN and SDP shown representatively in the figure are all of the sense amplifiers 3 included in the DRAM of this embodiment. The drive lines SDN and SDP are generically named. The drive line SDN is supplied with the ground potential VSS via an N-channel MOS transistor Q40 that is switch-controlled by a control signal φSAN. An external power supply voltage VDD is supplied to the drive line SDP via a P-channel MOS transistor Q41 that is switch-controlled by a control signal φSAP1B, and an N-channel MOS transistor Q42 that is switch-controlled by a control signal φSAP2 The step-down voltage VDL is supplied through the via. Control signals φSAN, φSAP1B, and φSAP2 are output from the timing controller TG.
[0033]
As described above, the DRAM of this embodiment receives the external power supply voltage VDD such as 3.3 V from the external power supply terminal, but the MOS transistors in the memory arrays MARY0 and MARY1 are downsized to increase the storage capacity. As the gate length of these MOS transistors is reduced, the gate oxide film is thinned. Therefore, the operating voltage in the memory arrays MARY0 and MARY1 is lowered, and a step-down voltage VDL such as 2.2V is basically used. A typical operating power supply. At this time, if only the step-down voltage VDL is supplied to the drive line SDP, the operation speed of the sense amplifier 3 is slowed down. Therefore, the external power supply voltage VDD is applied to the drive line SDP at the beginning of the sense amplifier activation timing. Next, a sense amplifier overdrive technique is applied in which the sense amplifier is operated by applying a step-down voltage VDL.
[0034]
That is, as shown in FIG. 2, the control signal φSAEB (which is an internal control signal of the timing controller TG and not shown in FIG. 1) that defines the activation period of the sense amplifier 3 is set to the low active level. When changed, first, the control signal φSAP1B is changed to the low level, and the power supply voltage VDD is supplied to the drive line SDP via the MOS transistor Q41. As a result, since the current supplied from the P-channel MOS transistors Q13 and Q14 of the sense amplifier 3 is relatively large, the minute potential difference appearing on the complementary data lines DL0 and DL0B is rapidly amplified by the memory cell selection operation. Next, the control signal φSAP1B is inverted to a high level and the control signal φSAP2 is set to a high level, whereby the step-down voltage VDL is supplied to the drive line SDP via the MOS transistor Q42. The control signal φSAN is set to the high level in synchronization with the low level period of the control signal φSAEB. As a result, the arrival level of the complementary data line driven by the sense amplifier 3 is defined as one of the ground potential VSS and the other as the step-down voltage VDL. In this way, the speed of the amplification operation of the sense amplifier 3 under low voltage driving of the memory cell array is increased.
[0035]
The step-down circuit 1 according to this embodiment includes a step-down unit 10 and a discharge unit 11. The step-down unit 10 includes a series connection point of a P-channel MOS transistor Q50 coupled to the external power supply voltage VDD and a high resistance R1 coupled to the ground potential VSS as an output terminal Nout. Non Inverted input terminal ( + ) , Anti Input terminal ( ) Is supplied with a reference voltage VLR, and is provided with an operational amplifier AMP1 for controlling the switching of the MOS transistor Q50. The operational amplifier AMP1 increases the conductance of the MOS transistor Q50 (decreases the on-resistance) when the potential of the output terminal Nout is lower than the reference potential VLR, and the MOS transistor when the potential of the output terminal Nout is higher than the reference potential VLR. Negative feedback control is performed so as to reduce the conductance of Q50 (increase the on-resistance) and maintain the voltage at the output terminal Nout at the reference voltage VLR. The voltage formed at the output terminal Nout in this way is the step-down voltage VDL. In particular, the value of the resistor R1 is set to a very large value in order to minimize the through current flowing through the series circuit of the MOS transistor Q50 and the resistor R1. In the negative feedback control, the current flowing to the output terminal Nout via the high resistance R1 is reduced to a level that can be substantially ignored. The reference voltage VLR is a control voltage formed by a known reference voltage generation circuit (not shown), for example, and is 2.2V, for example.
[0036]
Here, the external power supply voltage VDD is set to 3.3 V, for example, but an allowable range of about ± 10% is generally allowed for the available power supply voltage. Therefore, the active period of the control signal φSAP1B is set so that the transient response operation of the sense amplifier 3 can be speeded up even when the lower limit level in the allowable range is supplied as the external power supply voltage VDD. Therefore, when the external power supply voltage VDD supplied on the system is the upper limit level of the allowable range, or when a particularly high external power supply voltage VDD is supplied for an operation margin test on the power supply voltage VDD side, etc. When overdrive for the sense amplifier 3 becomes excessive and the operating power supply of the sense amplifier 3 is switched from the external power supply voltage VDD to the step-down voltage VDL, a current flows from the drive line SDP toward the output terminal Nout of the step-down circuit 1. There is a risk of backflow. The reverse current cannot be expected to be immediately discharged to the ground potential VSS via the high resistance R1 as described above. In the present embodiment, the discharge unit 11 forms a path for discharging the current flowing backward from the drive line SDP.
[0037]
In the discharge unit 11, a series connection point of a high resistance R2 coupled to the external power supply voltage VDD and an N-channel type current source MOS transistor Q51 coupled to the ground potential VSS is coupled to the output terminal Nout, and the output Terminal Nout is Non Inverted input terminal ( + ) , Anti Input terminal ( ) Is supplied with the reference voltage VLR, and further includes an operational amplifier AMP2 that switches and controls the current source MOS transistor Q51, and further includes an N-channel MOS transistor Q52 that selectively conducts the output of the operational amplifier AMP2 to the ground potential VSS. It consists of
[0038]
The operational amplifier AMP2 reduces the conductance of the MOS transistor Q50 (increases the ON resistance) when the potential of the output terminal Nout is lower than the reference potential, and increases the potential of the MOS transistor Q50 when the potential of the output terminal Nout is higher than the reference potential. When the conductance is increased (ON resistance is decreased) and the voltage at the output terminal Nout exceeds the reference voltage VLR, negative feedback control is performed to form a discharge path to the ground potential VSS via the MOS transistor Q51. . Similar to the step-down unit 10, the value of the resistor R2 is set to a very large value in order to minimize the through current flowing in the series circuit of the MOS transistor Q51 and the resistor R2. The current supplied to the output terminal Nout via the resistor R2 is reduced to be substantially negligible. As described above, the discharge unit 10 forms a path for discharging the current flowing backward from the drive line SDP, so that it is possible to prevent the step-down voltage VDL from rising undesirably.
[0039]
If the discharge unit 11 is not provided, as shown in FIG. 3, the level of the step-down voltage VDL is gradually increased by the backflow current from the drive line SDP, and accordingly, the precharge of the complementary data line is performed. The level (VDL / 2) is increased.
[0040]
The undesired level increase of the step-down voltage VDL is disadvantageous in the following points. The increase of the step-down voltage VDL increases the arrival voltage of the data line due to the amplification operation of the sense amplifier, thereby reducing the potential difference between the selection level of the word line and the high level of the data line, and the high level to the memory cell. In writing, the high-level voltage of the data line cannot be applied to the storage capacitor SC. In addition, if the voltage reached by the data line by the sense amplifier is increased due to an undesired increase in the step-down voltage VDL, the precharge that is the initial level of the data line that is equalized in the chip non-selection period is accordingly generated. When the level also rises and the data written in such a state is read, the high level read voltage margin with respect to the precharge level is also reduced. Further, when the booster circuit 2 forming the word line selection level uses the step-down voltage VDL, an undesired increase in the step-down voltage VDL raises the word line selection level VPP, and the memory cell selection MOS transistor Q1. The gate oxide film may be damaged. Such inconvenience does not occur in the DRAM of this embodiment.
[0041]
A control signal φnode1 for switching the MOS transistor Q52 is formed by the timing controller TG. The control signal φnode1 is low for a certain period within a period in which the step-down voltage VDL is supplied to the sense amplifier 3 as the operation power after the operation power of the sense amplifier 3 is switched from the external power supply voltage VDD to the step-down voltage VDL. To the level. The discharge unit 11 can form a discharge path by the negative feedback control only when the control signal φnode1 is at a low level. The period during which the control signal φnode1 is set to the low level corresponds to the timing at which current backflow from the drive line SDP may occur. In other periods, the substantial discharge operation of the discharge unit 11 is inhibited. As a result, it is possible to eliminate the inconvenience caused by the fact that the direct current through path via the MOS transistors Q50 and Q51 can always be formed. That is, when negative feedback control is always performed on the step-down unit side and the discharge unit side, the current supply operation and the current extraction operation through the MOS transistors Q50 and Q51 are frequently repeated, so that the power consumption increases to a level that cannot be ignored. In addition, the negative feedback control is always performed on the step-down unit side and the discharge side, so that the step-down voltage is periodically fluctuated and the step-down voltage is periodically changed even when the current backflow from the drive line SDP does not occur. It can prevent the situation that changes.
[0042]
Further, in this embodiment, separate operational amplifiers AMP1 and AMP2 are used on the step-down unit side and the discharge unit side, so that excessive discharge is caused by making the circuit characteristics different (for example, making the offset voltages different from each other). It is possible to increase the flexibility of circuit design such as preventing operation.
[0043]
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited thereto and can be variously modified without departing from the gist thereof. For example, the operational amplifier may be shared by the step-down unit 10 and the discharge unit 11. Further, the current source in the step-down unit 10 and the discharge unit 11 is not limited to a configuration in which negative feedback control is performed using an operational amplifier. Further, the memory mat configuration of the DRAM, the logic configuration of the mat selection, the number of parallel input / output bits of data, etc. are not limited to the above embodiment, and can be changed as appropriate.
[0044]
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to a DRAM which is a field of use as a background has been described. However, the present invention is not limited to this and is operated synchronously with a clock signal. The present invention can also be applied to a synchronous DRAM, a pseudo static RAM, and those memories on-chip in a data processing LSI such as a microcomputer.
[0045]
【The invention's effect】
The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
[0046]
That is, in the flow of lowering the operating voltage accompanying the higher integration of the memory array, when trying to guarantee high-speed operation of a differential amplifier circuit such as a sense amplifier by overdrive technology, the drive line of the differential amplifier circuit Even if a reverse current flows from the current to the step-down circuit, it is possible to prevent the step-down voltage from being undesirably increased in level.
[0047]
Therefore, it is possible to prevent a situation in which the reliability of the circuit aimed at lowering the operating voltage is lowered due to a negative desired increase in the step-down voltage. For example, the voltage difference between the data line selection level and the data line high level is reduced by increasing the voltage reached by the data line by the amplification operation of a differential amplifier circuit such as a sense amplifier as the step-down voltage increases. It is possible to prevent a situation in which the high-level voltage of the data line cannot be applied to the storage capacitor in the high-level writing to the memory cell. If the voltage reached by the data line by the differential amplifier circuit such as the sense amplifier is increased due to an undesired increase in the step-down voltage, the precharge level of the data line to be equalized is increased accordingly. When data written in such a state is read, it is possible to prevent the read voltage margin at the high level relative to the precharge level from being reduced. In addition, when the step-up voltage forming the word line selection level uses the step-down voltage, an undesired level increase of the step-down voltage increases the word line selection level and damages the gate oxide film of the memory cell selection transistor. There is no danger of it.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment for supplying operation power to a drive line of a sense amplifier.
FIG. 2 is an operation waveform diagram when a discharge unit is employed in the step-down circuit.
FIG. 3 is an operation waveform diagram showing a comparative example when a discharge unit is not employed in the step-down circuit.
FIG. 4 is an overall block diagram of a DRAM according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a partial circuit diagram of a memory mat, a sense amplifier block, and a column switch circuit block of the DRAM of this embodiment.
[Explanation of symbols]
MARY0, MARY1 memory array
MMAT0 to MMAT7 memory mat
SA01, SA23, SA45, SA67 Sense amplifier block
WD0 to WD7 Word driver
XD0 to XD7 row address decoder
YD column address decoder
TG timing controller
DL0, DL0B, DL1, DL1B Complementary data lines
WLi, WL (i-1) Word line
MC dynamic memory cell
Q17, Q18 MOS transistors for precharging
Q21 Equalize MOS transistor
VDL step-down voltage
VDD External power supply voltage
VSS Ground voltage
VPP Word line drive voltage
1 Step-down circuit
10 Step-down unit
AMP1 operational amplifier
Q50 Current source MOS transistor
R1 high resistance
Nout output terminal
11 Discharge unit
AMP2 operational amplifier
Q51 Current source MOS transistor
R2 high resistance
Q52 Discharge MOS transistor
φnode1 control signal
2 Booster circuit
3 Sense amplifier
Q9, Q10 N-channel MOS transistor for sense amplifier configuration
Q13, Q14 P-channel MOS transistor for sense amplifier configuration
SDP, SDN Sense amplifier drive line
Q41, Q42 MOS transistors for operating power supply to SDP
Q40 MOS transistor for supplying power to SDN
φSAP2, φSAP1B, φSAN Sense amplifier control signal
4 Precharge voltage forming circuit

Claims (2)

複数のワード線と複数のデータ線の交点に設けられた複数のメモリセルと、
前記複数のデータ線に対応して設けられ、前記複数のメモリセルから読み出された信号を第1電位又は前記第1電位より小さい第2電位に増幅するための複数のセンスアンプと、
前記複数のセンスアンプに接続される第1及び第2ドライブラインと、
前記第1ドライブラインに接続される第1動作電源供給用トランジスタと、
前記第2ドライブラインに接続される第2動作電源供給用トランジスタと、
前記第1動作電源供給用トランジスタに接続される電位供給ノードと、前記電位供給ノードに接続される降圧ユニット及びディスチャージユニットと有する降圧回路とを具備し、
前記降圧ユニットは、
前記電位供給ノードに結合される第1の電流源MOSトランジスタと、
接地電位に結合される第1の高抵抗と、
前記第1の電流源MOSトランジスタと前記第1の高抵抗との直列接続点を出力端子として備え、前記出力端子が反転入力端子に帰還され非反転入力端子に基準電圧が供給されて前記第1の電流源MOSトランジスタをスイッチ制御する第1のオペアンプと、を含み、
前記ディスチャージユニットは、
前記電位供給ノードに結合される第2の高抵抗と、
接地電位に結合される第2の電流源MOSトランジスタと、
前記第2の高抵抗と第2の電流源MOSトランジスタとの直列接続点が前記出力端子に結合され、前記出力端子が反転入力端子に帰還され非反転入力端子に前記基準電圧が供給されて前記第2の電流源MOSトランジスタをスイッチ制御する第2のオペアンプと、
前記センスアンプの動作電源が前記電位供給ノードの電圧から前記降圧回路の出力電圧に切り換えられた後、前記降圧回路の出力電圧が動作電源として前記センスアンプに供給されている期間内の一定期間を除いて、前記第2の電流源MOSトランジスタをオフ状態に強制する手段と、を含んで成るものであることを特徴とする半導体装置。
A plurality of memory cells provided at intersections of a plurality of word lines and a plurality of data lines;
A plurality of sense amplifiers provided corresponding to the plurality of data lines, for amplifying signals read from the plurality of memory cells to a first potential or a second potential lower than the first potential;
First and second drive lines connected to the plurality of sense amplifiers;
A first operating power supply transistor connected to the first drive line;
A second operation power supply transistor connected to the second drive line;
A potential supply node connected to the first operation power supply transistor; and a step-down circuit having a step-down unit and a discharge unit connected to the potential supply node,
The step-down unit is
A first current source MOS transistor coupled to the potential supply node;
A first high resistance coupled to ground potential;
A series connection point of the first current source MOS transistor and the first high resistance is provided as an output terminal, the output terminal is fed back to an inverting input terminal, and a reference voltage is supplied to a non-inverting input terminal. A first operational amplifier for switch-controlling the current source MOS transistor of
The discharge unit is
A second high resistance coupled to the potential supply node;
A second current source MOS transistor coupled to ground potential;
A series connection point of the second high resistance and the second current source MOS transistor is coupled to the output terminal, the output terminal is fed back to an inverting input terminal, and the reference voltage is supplied to a non-inverting input terminal. A second operational amplifier for switch-controlling the second current source MOS transistor;
After the operation power supply of the sense amplifier is switched from the voltage of the potential supply node to the output voltage of the step-down circuit, a predetermined period within a period in which the output voltage of the step-down circuit is supplied to the sense amplifier as the operation power supply. And a means for forcing the second current source MOS transistor to an off state .
前記複数のメモリセルは、ダイナミック型のメモリセルであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。It said plurality of memory cells, the semiconductor device according to claim 1 Symbol mounting characterized in that it is a dynamic memory cell.
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