JP3682821B2

JP3682821B2 - Lithographic printing plate

Info

Publication number: JP3682821B2
Application number: JP4201298A
Authority: JP
Inventors: 明西岡; 秀司住友
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1998-02-24
Filing date: 1998-02-24
Publication date: 2005-08-17
Anticipated expiration: 2018-02-24
Also published as: JPH11240266A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は平版印刷版に関するものであり、特に好適な使用形態として多色印刷装置に用いられる平版印刷用捨版に関するものである。捨版システムについては特開平３−１７５０９０号公報に詳述されている。
【０００２】
【従来の技術】
特開平３−１７５０９０号公報には、ＰＳ版の感光層を全面除去し、捨版とした場合、感光層を完全には除去することが出来ず印刷汚れが起きたと記述されている。更に、これを解決する方法として、感光層が塗布されていなかったベース上にインキ付着防止用の保護膜が設けてなる捨版が提案されている。
しかしながら、このように前もって保護膜が設けられた捨版では、印刷開始時、不必要なインキが付着したものが完全に除去されるのに必要な印刷枚数（通常黒損と称される）が増大してしまう欠点を有しており、市場に全く受け入れられていない。黒損が増大してしまう理由は長期保管しても印刷汚れが発生しないように保護膜が通常ＰＳ版のガム引き量よりも非常に多いこと、および長期保管により印刷時の湿し水への溶解性が劣化することによる。
このため市場には保護膜も全く設けられていないベースをＰＳ版メーカーより供給され、これを印刷寸前にＰＳ版と同様の親水化、ガム引きがなされて使用されている。このような捨版用未塗布版の欠点としては、長期保管時に種々の汚染により印刷汚れが発生しやすいことである。更に、ガム引きが完了するまでの取り扱いにより、キズつきやすいことである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、長期間保管しても印刷汚れが発生せず、ガム引きが完了するまでの取り扱いによるキズがつきにくく、白灯下で取扱うことが出来る平版印刷版を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明の前記目的は、下記の発明によって達成された。
１．二つ以上の版胴を有する多色印刷装置を用いて一部の版胴に画像を有する版を取り付け、残りの版胴に画像を有さない多色印刷用捨版を取り付けて印刷する平版印刷方法であって、該捨版が、親水性表面を有する金属支持体上に水溶性化合物からなる下塗層および水不溶性の非感光性樹脂層が設けられてなる平版印刷版であることを特徴とする平版印刷方法。
２．下塗層がスルホン酸基を有する水溶性重合体であることを特徴とする項１に記載の平版印刷方法。
３．非感光性樹脂層がポリウレタンをアルカリ可溶化した樹脂であることを特徴とする項１または２に記載の平版印刷方法。
本発明の効果は、水溶性化合物の下塗層上に水不溶性の非感光性樹脂層を設けるという構成をとることにより、水溶性化合物の下塗層が印刷汚れを引き起こす汚染物質が親水性支持体表面に固着することを防止するための遮蔽層として、又水不溶性の非感光性樹脂は皮膜性が良好なため取り扱いによるキズつきを防止する機能を発揮することによるものと考えられる。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明の下塗層について説明する。
親水性表面を有する支持体には水溶性化合物の下塗りを施す。
下塗りに用いられる水溶性化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホンホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩、スルホン酸基を有する水溶性重合体等が好ましく用いられ、中でもスルホン酸基を有する水溶性重合体が特に好ましい。
【０００６】
スルホン酸基を有する水溶性重合体は、スルホン酸基を有するモノマー単位の少なくとも一種を繰り返し単位として分子中に含む水溶性高分子化合物であり、例えば特公平４−９２９６号公報（第３欄２２行〜第４欄４１行）に記載のものが挙げられる。スルホン酸基を有するモノマー単位としては、例えばｐ−スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、エチレンスルホン酸等か好ましく、これらを適宜１つまたは２つ以上が選択され重合されるかあるいは他のモノマーと共重合される。他のモノマーと共重合される場合、相手のモノマーはスルホン酸基を有するモノマーと共重合可能であればどの様なモノマーでもよい。具体例としては、例えばメチルメタクリレート／エチルアクリレート／２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム、メチルメタクリレート／メチルアクリレート／ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。
本発明の水溶性化合物の分子量範囲は、水可溶性である限り制限はないが、一般的な目安を示せば重量平均分子量約１０００〜１００００００の範囲が適当であり、好ましくは２０００〜１０００００、最も好ましくは１００００〜１０００００の範囲である。
【０００７】
この下塗層は、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトンなどもしくはそれらの混合溶剤に上記の化合物を溶解させ、支持体上に塗布、乾燥して設けることができる。
下塗層の乾燥後の被覆層は、１０〜５００mg/m²が適当であり、好ましくは５０〜２００mg/m²である。
下塗層が１０mg/m²より少ないと印刷汚れ防止能力が不足する。下塗層が５００mg/m²より多いと、後で塗布される非感光性樹脂層の膜強度が低下し、取扱いによるキズつき防止能力が低下する。
【０００８】
下塗層に引き続いて水不溶性の非感光性樹脂層が設けられる。樹脂として好ましいものは、酸含量０．１〜３．０meq/g 、好ましくは０．２〜２．０meq/g であり、実質的に水不溶性（すなわち、中性または酸性水溶液に不溶性）で、皮膜形成性を有する有機高分子化合物であるが、アルカリ水溶液に溶解または膨潤することができるものが好ましい。尚、酸含量０．１meq/g 未満では溶解が困難であり、３．０meq/g を超えると特に高温高湿保管時の膜の強度が著しく弱くなる。
非感光性樹脂の分子量は、塗布溶媒に溶解およびアルカリ水溶液に溶解または膨潤する限り制限はないが、重量平均分子量で１０００〜１００００００、好ましくは１００００〜５０００００である。分子量が低いと膜強度が弱く、分子量が高いと溶解性が劣化する。
【０００９】
特に好適な非感光性樹脂としてはアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須成分として含む共重合体、例えば特開昭５０−１１８８０２号公報に記載されている様な２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル、アクリル酸またはメタクリル酸および必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭５３−１２０９０３号公報に記載されている様な末端がヒドロキシ基であり、かつジカルボン酸エステル残基を含む基でエステル化されたアクリル酸またはメタクリル酸、アクリル酸、またはメタクリル酸及び必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭５４−９８６１４号公報に記載されている様な芳香族性水酸基を末端に有する単量体（例えばＮ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドなど）、アクリル酸またはメタクリル酸および必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭５６−４１４４号公報に記載されている様なアルキルアクリレート、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリルおよび不飽和カルボン酸よりなる多元共重合体をあげることが出来る。この他、酸性ポリビニルアルコール誘導体や酸性セルロース誘導体も有用である。またポリビニルアセタールやポリウレタンをアルカリ可溶化した特公昭５４−１９７７３号公報、特開昭５７−９４７４７号、同６０−１８２４３７号、同６２−５８２４２号、同６２−１２３４５３号記載の結合剤も有用であり、ポリウレタンをアルカリ可溶化した樹脂が、膜強度が高く、特に好ましい。
【００１０】
非感光性樹脂層組成物は公知の種々の塗布溶剤に溶解し、親水性表面及び下塗層を有するアルミニウム支持体上に乾燥塗布重量が０．２〜３．０g/m²となる様に、好ましくは０．３〜１．５g/m²となる様に塗布して乾燥して、平版印刷用捨版を得ることができる。塗布量が０．２g/m²より少ないと、キズつき防止能力が不足し、逆に３．０g/m²以上はキズつき防止能力として十分であり、溶解除去時の溶解スピードが低下したり、溶解液の処理能力を低下させてしまう。塗布する際の樹脂層組成物の固形分濃度は１．０〜５０重量％が適当であり、好ましくは２．０〜３０重量％が適当である。支持体上に樹脂組成物を塗布する方法としては従来公知の方法、たとえばロールコーティング、バーコーティング、スプレーコーティング、カーテンコーティング、回転塗布等の方法を用いることができる。塗布された樹脂層組成物溶液は５０〜１５０℃で乾燥させるのが好ましい。乾燥方法は、始め温度を低くして予備乾燥した後、高温で乾燥させても良いし、直接高温度で乾燥させても良い。
【００１１】
非感光性樹脂層には種々の添加剤、例えば、塗布層を判別するための色素、溶解促進のための可塑剤または低分子酸化合物、フッ素系界面活性剤等の塗布面質改良剤、表面マット化のためのマット剤などを添加することが出来る。
特に、ジピコリン酸、リンゴ酸、スルホサリチル酸、スルホフタル酸、トリカルバリル酸等のカルボン酸基またはスルホン酸基を含有する低分子酸化合物は、溶解促進作用と共に、長期保管時の印刷汚れ防止作用があり好ましい。また、フッ素系界面活性剤は、塗布面質改良効果のみならず、キズつきにくさ向上効果があり好ましい。低分子酸化合物は、非感光性樹脂層に対して、１〜２０ｗｔ％、フッ素系界面活性剤は０．１〜５ｗｔ％添加される。
【００１２】
非感光層上には相互に独立して設けられた突起物により構成されるマット層を設けることが好ましい。マット層の目的はキズつきにくさ向上効果及び版材保管時版材どうしが密着してしまうことを防止することである。
マット層の塗布方法としては、特開昭５５−１２９７４号公報に記載されているパウダリングされた固体粉末を熱融着する方法、特開昭５８−１８２６３６号公報に記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる方法などがあり、いずれの方法をも用いうる。マット層は樹脂層を除去するためのアルカリ水溶液に溶解するか、あるいはこれにより除去可能な物質から構成されることが望ましい。
【００１３】
親水性表面を有する金属支持体としては、アルミニウム及びアルミニウム被覆された複合支持体が好ましく、さらに鉄を０．１〜０．５重量％、ケイ素を０．０３〜０．３重量％、銅を０．００１〜０．０３重量％、更にチタンを０．００２〜０．１重量％含有する１Ｓアルミニウム板が好ましい。
アルミニウム材の表面は、保水性を高める目的で表面処理されていることが望ましい。アルカリ好ましくは、１〜３０重量％の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム等の水溶液に、２０〜８０℃の温度で５秒〜２５０秒間浸漬してエッチングするのもよい。エッチング浴には、アルミニウムイオンをアルカリの５分の１程度加えても良い。ついで、１０〜３０重量％硝酸または硫酸水溶液に２０〜７０℃の温度で５秒〜２５秒間浸漬して、アルカリエッチング後の中和及びスマット除去を行う。例えば、粗面化方法として、一般に公知のブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等の方法およびこれらの組合せが挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチングおよび液体ホーニングが挙げられ、これらのうちで、特に電解エッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。さらに、特開昭５４−６３９０２号公報に記載されているようにブラシ研磨した後、電解エッチングする方法も好ましい。
【００１４】
また、電解エッチングの際に用いられる電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これらのうちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電解液が好ましい。
ブラシ研磨はパミストン−水懸濁液とナイロンブラシとを用いるのが好ましく、平均表面粗さを０．２５〜０．９μｍとすることが好ましい。
【００１５】
電解エッチング処理に使用される電解液は塩酸、または硝酸の水溶液であり、濃度は０．０１〜３重量％の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜２．５重量％であれば更に好ましい。
また、この電解液には必要に応じて硝酸塩、塩化物、モノアミン類、ジアミン類、アルデヒド類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸アンモニウム塩等の腐蝕抑制材（または安定化剤）、砂目の均一化剤などを加えることが出来る。また、電解液中には、適当量（１〜１０ｇ／リットル）のアルミニウムイオンを含んでいてもよい。
【００１６】
電解エッチング処理は、通常１０〜６０℃の電解液の温度で行なわれる。この際に使用される交流電流は、正負の極性が交互に交換されたものであれば、矩形波、台形波、正弦波いずれのものも用いることができ、通常の商用交流の単相及び三相交流電流を用いることができる。また電流密度は、５〜１００A/dm²で、１０〜３００秒間処理することが望ましい。
【００１７】
本発明におけるアルミニウム合金支持体の表面粗さは、電気量によって調整し、０．２〜０．８μｍとする。
さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット処理される。
このように砂目立てされたアルミニウム合金は、１０〜５０重量％の熱硫酸（４０〜６０℃）や希薄なアルカリ（水酸化ナトリウム等）により、表面に付着したスマットの除去及びエッチング（好ましくは０．０１〜２．０g/m²の範囲で）されるのが好ましい。アルカリでスマットの除去及びエッチングした場合は、引き続いて洗浄のため酸（硝酸または硫酸）に浸漬して中和する。
【００１８】
表面のスマット除去を行った後、陽極酸化皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られている方法を用いることが出来るが、硫酸が最も有用な電解液として用いられる。それに次いで、リン酸もまた有用な電解液である。さらに特開昭５５−２８４００号公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用である。
【００１９】
硫酸法は通常直流電流で処理が行われるが、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度５〜３０重量％、２０〜６０℃の温度範囲で５〜２５０秒間電解処理されて、表面に１〜１０g/m²の酸化皮膜が設けられる。この電解液には、アルミニウムイオンが含まれていることが好ましい。さらにこのとき電流密度は１〜２０A/dm²が好ましい。
リン酸法の場合には、５〜５０重量％のリン酸濃度、３０〜６０℃の温度で１０〜３００秒間、１〜１５A/dm²の電流密度で処理される。
【００２０】
また、更に必要に応じて米国特許第２，７１４，０６６号明細書や米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されている珪酸塩（ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）処理、米国特許第２，９４６，６３８号明細書に記載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第３，２０１，２４７号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第１，１０８，５５９号明細書に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第１，０９１，４３３号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第１，１３４，０９３号明細書や英国特許第１，２３０，４４７号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭４４−６４０９号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第３，３０７，９５１号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭５８−１６８９３号や特開昭５８−１８２９１号の各公報に記載されている親水性有機高分子化合物と２価の金属との塩による処理によって親水化処理を行うことが出来る。珪酸塩処理は親水化能力が高く、かつ処理も簡便であるため、特に好ましい。
【００２１】
その他の親水化処理方法としては米国特許第３，６５８，６６２号明細書に記載されているシリケート電着をも挙げることが出来る。
また、砂目立て処理及び陽極酸化後、封孔処理を施すことが出来る。かかる封孔処理は熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。
【００２２】
親水性表面層及び下塗層を有する支持体上に塗布され乾燥された非感光性樹脂層を有する平版印刷用捨版は、アルカリ水溶液で溶解することにより捨版が得られる。
【００２３】
アルカリ水溶液としては、特開昭５１−７７４０１号、同５１−８０２２８号、同５３−４４２０２号や同５５−５２０５４号の各公報に記載されているような感光性平版印刷版用現像液であって、ｐＨ＝８〜１３、水が７５重量％以上含まれるものが好ましい。必要により水に対する溶解度が常温で１０重量％以下の有機溶媒（ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェニルエーテル）、アルカリ剤（トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム）、アニオン性界面活性剤（芳香族スルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩）、ノニオン界面活性剤（ポリオキシエチレンアルコルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー）、汚れ防止剤（亜硫酸ナトリウム、スルホピラゾロンのナトリウム塩）や硬水軟化剤（エチレンジアミンテトラ酢酸四ナトリウム塩、ニトリル三酢酸三ナトリウム塩）を加えることができる。
【００２４】
しかし、有機溶媒等を含有すると、作業時の毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安全性の問題、泡の発生等の作業性の問題、廃液による公害等の問題、コストの問題等が発生するため、実質上有機溶媒を含まないものが更に好ましい。
このような、実質上有機溶媒を含まない水性アルカリ現像液として、例えば特開昭５９−８４２４１号、特開昭５７−１９２９５２号及び特開昭６２−２４２６３号公報等に記載されている現像液組成物を使用することができる。
【００２５】
本発明の平版印刷用捨版は、特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４５号、同５９−５８４３１号の各公報に記載されている方法で製版処理しても良い。即ち、現像処理後、水洗してから不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処理、または酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水溶液で処理後、不感脂化処理を施してもよい。
【００２６】
さらに、この種の捨版平版印刷版の現像工程では処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されアルカリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像機の長時間運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため処理能力が低下するが、その際、特開昭５４−６２００４号公報に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特許第４，８８２，２４６号に記載されている方法で補充することが好ましい。
【００２７】
また、上記のような製版処理は、特開昭２−７０５４号、同２−３２３５７号の各公報に記載されているような自動現像機で行うことが好ましい。
なお製版工程の最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては特公昭６２−１６８３４号、同６２−２５１１８号、同６３−５２６００号、特開昭６２−７５９５号、同６２−１１６９３号、同６２−８３１９４号の各公報に記載されているものが好ましい。
【００２８】
以下、実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（実施例１〜３、比較例１〜５）
評価材として以下の捨版平版印刷版を作成、使用した。
９９．５重量％アルミニウムに、銅を０．０１重量％、チタンを０．０３重量％、鉄を０．３重量％、ケイ素を０．１重量％含有するＪＩＳＡ１０５０アルミニウム材の厚み０．３０mm圧延板を、４００メッシュのパミストン（共立窯業製）の２０重量％水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ（６，１０−ナイロン）とを用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
【００２９】
これを１５重量％水酸化ナトリウム水溶液（アルミニウム４．５重量％含有）に浸漬してアルミニウムの溶解量が５g/m²になるようにエッチングした後、流水で水洗した。さらに、１重量％硝酸で中和し、次に０．７重量％硝酸水溶液（アルミニウム０．５重量％含有）中で、陽極時電圧１０．５ボルト、陰極時電圧９．３ボルトの矩形波交番波形電圧（電流比ｒ＝０．９０、特公昭５８−５７９６号公報実施例に記載されている電流波形）を用いて１６０クーロン/dm²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が１g/m²になるようにエッチングした後、水洗した。次に、５０℃３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、水洗した。
【００３０】
さらに、３５℃の硫酸２０重量％水溶液（アルミニウム０．８重量％含有）中で直流電流を用いて、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電流密度１３A/dm²で電解を行い、電解時間の調節により陽極酸化皮膜重量２．７g/m²とした。この支持体を水洗後、７０℃のケイ酸ナトリウムの３重量％水溶液に３０秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。
【００３１】
以上のようにして得られたアルミニウム支持体は、マクベスＲＤ９２０反射濃度計で測定した反射濃度は０．３０で中心線平均粗さは０．５８μｍであった。次に、メチルメタクリレート／エチルアクリレート／２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸（仕込重量比６５／２０／１５）共重合体の一部をナトリウム塩としたものを、１．０重量％メタノール／水に９０／１０溶液とし、バーコーターにより乾燥後の塗布量が０．１g/m²になるように塗布した。
【００３２】
更に、表１に示す組成物をメタノール／メチルエチルケトン／１−メトキシ−２−プロパノール／乳酸メチルメチル＝３０ｇ／３０ｇ／２５ｇ／１２ｇの混合溶剤に溶解し、バーコーターを用いて塗布し、１１０℃で４５秒間乾燥させた。乾燥塗布量は１．０g/m²であった。
【００３３】
更にマット層形成用樹脂液として、先に下塗層に使用した共重合体を１２重量％水溶液とし、回転霧化静電塗装機で回転数２５，０００rpm 、送液量４ml/ 分、印加電圧−９０kV、周囲環境２５℃５０％ＲＨとし、塗布後２．５秒で塗布面に蒸気を吹き付けて湿潤させ、ついで湿潤した３秒後に温度６０℃、湿度１０％ＲＨの温風を５秒間吹き付けて乾燥させた。マットの高さは平均約６μｍ、大きさは平均約３０μｍ、塗布量は１５０mg/m²であった。
【００３４】
その後、捨版として印刷評価を行なうため、製作したシートを製作直後、３ケ月保管後及び４０℃８０％ＲＨ条件保管後８００Ｈ（富士写真フイルム（株）製自動現像機）でＤＮ−３Ｃ（富士写真フイルム（株）製ネガ型ＰＳ版用アルカリ水溶液系現像液）を水で１：１に稀釈した液にて溶出し、ただちにＦＮ−２（富士写真フイルム（株）製ガム）を水で１：１に稀釈した液を塗り、乾燥した。この捨版を、オフセット輪転印刷機にて、坂田インキ（株）の新聞用インキと東洋インキ（株）の東洋アルキー湿し水を用いて１００，０００枚／時のスピードで２０，０００枚印刷し、汚れ状況を評価した。
結果を表１に示す。
【００３５】
【表１】

【００３６】
表１中、○、○△、×、××の意味するところは以下の通り。
○：全く発生せず
○△：殆ど発生せず
×：非常に劣る
××：極端に劣る
【００３７】
実施例１〜３は平版印刷用捨版として良好な結果を得られた。特に実施例１は、キズつきにくさ、保存性共に良好で好ましい。
一方、比較例１は黒損が非常に劣った。
比較例２は、未塗布板であるが、非常にキズがつきやすく、又、合紙と重ねて保管すると合紙のシワ状汚れが発生してしまった。
比較例４、５はＰＳ版であるが、実施例１の方が良好な結果である。ＰＳ版では白灯下で取扱、保管するとカブリを生じてしまうが、本発明では非感光性であるため、白灯下で取扱、保管しても全く問題が出なかった。
また、比較例４からジアゾ樹脂を除いた比較例３は、経時することなく作成直後でも地汚れしてしまうのに対して比較例５からジアゾ樹脂を除いた実施例１は汚れにくさが非常に良好な結果になることを本発明で初めて見出した。
【００３８】
（実施例４、５）
実施例１において、樹脂層組成を下記の様に変更して平版印刷用捨版を作成した。

【００３９】
樹脂層の塗布量は実施例４が１．０g/m²、実施例５が０．５g/m²であった。キズつきにくさは実施例１に比較し、実施例４は良好であり、実施例５が、同等であった。
又、汚れにくさは、実施例４、５共に実施例１と同等以上で、良好な結果であった。
【００４０】
【発明の効果】
上記の通り、本発明により長期間保管しても印刷汚れが発生せず、ガム引きが完了するまでの取り扱いによるキズがつきにくく、白灯火で扱うことができる平版印刷版を提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a lithographic printing plate, and more particularly to a lithographic printing plate used in a multicolor printing apparatus as a preferred form of use. The discarding system is described in detail in JP-A-3-175090.
[0002]
[Prior art]
Japanese Laid-Open Patent Publication No. 3-175090 describes that when the PS photosensitive layer was completely removed and discarded, the photosensitive layer could not be completely removed and printing stains occurred. Further, as a method for solving this problem, there has been proposed a plate-up method in which a protective film for preventing ink adhesion is provided on a base that has not been coated with a photosensitive layer.
However, in the case of such a discard plate provided with a protective film in advance, the number of printed sheets (usually referred to as black loss) necessary for completely removing the ink adhering to unnecessary ink at the start of printing. It has the disadvantage of increasing and is not accepted by the market at all. The reason for the increase in black loss is that the protective film is usually much larger than the gumming amount of the PS plate so that printing stains will not occur even if stored for a long period of time. This is due to degradation of solubility.
For this reason, a base that is not provided with any protective film is supplied from the PS plate manufacturer, and this is used after being hydrophilicized and gummed just like the PS plate just before printing. A disadvantage of such an uncoated plate for discarding is that printing stains easily occur due to various contaminations during long-term storage. Furthermore, it is easy to be scratched by handling until gumming is completed.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate that does not generate printing stains even when stored for a long period of time, is not easily damaged by handling until gumming is completed, and can be handled under white light. .
[0004]
[Means for Solving the Problems]
The object of the present invention has been achieved by the following invention.
1. A lithographic plate that uses a multi-color printing device having two or more plate cylinders to attach a plate having an image to some plate cylinders, and attaches a multi-color printing plate without an image to the remaining plate cylinders for printing. A printing method, wherein the discarding plate is a lithographic printing plate in which an undercoat layer made of a water-soluble compound and a water-insoluble non-photosensitive resin layer are provided on a metal support having a hydrophilic surface. A lithographic printing method characterized.
2. Item 2. The lithographic printing method according to Item 1, wherein the undercoat layer is a water-soluble polymer having a sulfonic acid group .
3. Item 3. The lithographic printing method according to Item 1 or 2, wherein the non-photosensitive resin layer is a resin in which polyurethane is alkali-solubilized .
The effect of the present invention is that a water-insoluble non-photosensitive resin layer is provided on an undercoat layer of a water-soluble compound, so that the water-soluble compound undercoat layer has hydrophilic support for contaminants that cause printing stains. As a shielding layer for preventing adhesion to the body surface, water-insoluble non-photosensitive resin is considered to have a function of preventing scratches due to handling because of its good film property.
[0005]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The undercoat layer of the present invention will be described.
A support having a hydrophilic surface is primed with a water-soluble compound.
Examples of water-soluble compounds used for the undercoat include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, and 2-aminoethyl phononic acid, phenylphosphonic acid optionally having a substituent, naphthylphosphonic acid, Organic phosphonic acids such as alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, organic phosphoric acids such as phenylphosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphonic acid which may have a substituent, Hydroxyl groups such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and organic phosphinic acid such as glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and triethanolamine hydrochloride which may have a substituent The Hydrochloride salt of an amine, a water-soluble polymer and the like having a sulfonic acid group is preferably used, water-soluble polymer having a Above all sulfonic acid groups are particularly preferred.
[0006]
The water-soluble polymer having a sulfonic acid group is a water-soluble polymer compound containing in the molecule at least one monomer unit having a sulfonic acid group as a repeating unit. For example, Japanese Patent Publication No. 4-9296 (column 3 22). Line to fourth column 41 line). As the monomer unit having a sulfonic acid group, for example, p-styrene sulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, ethylene sulfonic acid or the like is preferable, and one or two or more of these are appropriately selected and polymerized. Or copolymerized with other monomers. When copolymerized with another monomer, the other monomer may be any monomer as long as it is copolymerizable with a monomer having a sulfonic acid group. Specific examples include methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonate sodium, methyl methacrylate / methyl acrylate / sodium p-styrene sulfonate, sodium polystyrene sulfonate and the like.
The molecular weight range of the water-soluble compound of the present invention is not limited as long as it is water-soluble, but a weight average molecular weight range of about 1,000 to 1,000,000 is suitable, and preferably 2,000 to 100,000, most preferably, as a general guide. Is in the range of 10,000 to 100,000.
[0007]
This undercoat layer can be provided by dissolving the above compound in water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, methyl ethyl ketone or the like or a mixed solvent thereof, and applying and drying on a support.
The coating layer after drying the undercoat layer is suitably 10 to 500 mg / m ² , preferably 50 to 200 mg / m ² .
If the undercoat layer is less than 10 mg / m ² , the ability to prevent printing stains will be insufficient. When the amount of the undercoat layer is more than 500 mg / m ^2, the film strength of the non-photosensitive resin layer to be applied later is lowered, and the ability to prevent scratches due to handling is lowered.
[0008]
Subsequent to the undercoat layer, a water-insoluble non-photosensitive resin layer is provided. Preferred as the resin is an acid content of 0.1 to 3.0 meq / g, preferably 0.2 to 2.0 meq / g, substantially water insoluble (ie, insoluble in neutral or acidic aqueous solution), Although it is an organic polymer compound having film-forming properties, those capable of being dissolved or swollen in an alkaline aqueous solution are preferable. If the acid content is less than 0.1 meq / g, it is difficult to dissolve, and if it exceeds 3.0 meq / g, the strength of the film particularly at high temperature and high humidity storage becomes extremely weak.
The molecular weight of the non-photosensitive resin is not limited as long as it dissolves in a coating solvent and dissolves or swells in an aqueous alkali solution, but is 1000 to 1000000, preferably 10000 to 500000 in terms of weight average molecular weight. When the molecular weight is low, the film strength is weak, and when the molecular weight is high, the solubility is deteriorated.
[0009]
Particularly suitable non-photosensitive resins include copolymers containing acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid or maleic acid as essential components, such as 2-hydroxyethyl acrylate as described in JP-A-50-118802. Or a multi-component copolymer of 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylonitrile or methacrylonitrile, acrylic acid or methacrylic acid and optionally other copolymerizable monomers, described in JP-A-53-120903 Multiple with acrylic acid or methacrylic acid, acrylic acid, or methacrylic acid and optionally other copolymerizable monomers esterified with groups containing a hydroxy group and containing a dicarboxylic acid ester residue Copolymer, as described in JP-A-54-98614 A monomer having an aromatic hydroxyl group at the end (for example, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide), acrylic acid or methacrylic acid and, if necessary, a multi-component copolymer with other copolymerizable monomers, Examples thereof include multi-component copolymers composed of alkyl acrylate, acrylonitrile or methacrylonitrile and unsaturated carboxylic acid as described in JP-A-56-4144. In addition, acidic polyvinyl alcohol derivatives and acidic cellulose derivatives are also useful. Also useful are the binders described in JP-B-54-19773, JP-A-57-94747, JP-A-60-182437, JP-A-62-58242, and JP-A-62-212353, in which polyvinyl acetal and polyurethane are solubilized with alkali. A resin obtained by solubilizing polyurethane with alkali is particularly preferable because of high film strength.
[0010]
The non-photosensitive resin layer composition is dissolved in various known coating solvents so that the dry coating weight is 0.2 to 3.0 g / m ² on an aluminum support having a hydrophilic surface and an undercoat layer. The lithographic printing plate can be obtained by applying and drying at 0.3 to 1.5 g / m ² . If the coating amount is less than 0.2 g / m ² , the ability to prevent scratches is insufficient, and conversely 3.0 g / m ² or more is sufficient as the ability to prevent scratches, and the dissolution speed during dissolution and removal may be reduced. , Reducing the throughput of the solution. The solid content concentration of the resin layer composition during coating is suitably 1.0 to 50% by weight, preferably 2.0 to 30% by weight. As a method for applying the resin composition on the support, conventionally known methods such as roll coating, bar coating, spray coating, curtain coating, and spin coating can be used. The applied resin layer composition solution is preferably dried at 50 to 150 ° C. In the drying method, after the temperature is initially lowered and preliminarily dried, it may be dried at a high temperature or may be directly dried at a high temperature.
[0011]
Various additives for the non-photosensitive resin layer, for example, a pigment for distinguishing the coating layer, a plasticizer or a low molecular acid compound for promoting dissolution, a coating surface quality improving agent such as a fluorosurfactant, a surface A matting agent for matting can be added.
In particular, low-molecular acid compounds containing carboxylic acid groups or sulfonic acid groups such as dipicolinic acid, malic acid, sulfosalicylic acid, sulfophthalic acid, and tricarballylic acid have an action of promoting dissolution and an effect of preventing printing stains during long-term storage. preferable. In addition, the fluorine-based surfactant is preferable because it has not only an effect of improving the coating surface quality but also an effect of improving scratch resistance. The low molecular acid compound is added in an amount of 1 to 20 wt% and the fluorosurfactant is added in an amount of 0.1 to 5 wt% with respect to the non-photosensitive resin layer.
[0012]
It is preferable to provide a mat layer composed of protrusions provided independently of each other on the non-photosensitive layer. The purpose of the mat layer is to improve the resistance to scratching and to prevent the plate materials from coming into close contact with each other during storage.
As a coating method of the mat layer, a method of heat-sealing the powdered solid powder described in JP-A No. 55-12974, or a polymer-containing water described in JP-A No. 58-182636 is disclosed. There is a method of spraying and drying, and any method can be used. The mat layer is preferably dissolved in an alkaline aqueous solution for removing the resin layer or made of a material removable by this.
[0013]
As the metal support having a hydrophilic surface, aluminum and an aluminum-coated composite support are preferable. Further, 0.1 to 0.5% by weight of iron, 0.03 to 0.3% by weight of silicon, and copper are used. A 1S aluminum plate containing 0.001 to 0.03% by weight and further 0.002 to 0.1% by weight of titanium is preferable.
The surface of the aluminum material is preferably surface-treated for the purpose of increasing water retention. Alkali Preferably, etching may be performed by immersing in an aqueous solution of 1 to 30% by weight of sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate or the like at a temperature of 20 to 80 ° C. for 5 to 250 seconds. Aluminum ions may be added to the etching bath by about one fifth of the alkali. Subsequently, it is immersed in a 10 to 30% by weight nitric acid or sulfuric acid aqueous solution at a temperature of 20 to 70 ° C. for 5 to 25 seconds to neutralize and remove smut after alkali etching. For example, as a roughening method, generally known brush polishing method, ball polishing method, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, sand blasting method and combinations thereof, preferably brush polishing method, electrolytic etching, Chemical etching and liquid honing are mentioned, and among these, a surface roughening method including the use of electrolytic etching is particularly preferable. Furthermore, as described in JP-A-54-63902, a method of electrolytic etching after brush polishing is also preferable.
[0014]
In addition, as an electrolytic bath used for electrolytic etching, an aqueous solution containing an acid, an alkali or a salt thereof or an aqueous solution containing an organic solvent is used, and among these, hydrochloric acid, nitric acid or a salt thereof is particularly included. An electrolytic solution is preferred.
Brush polishing preferably uses a pumiston-water suspension and a nylon brush, and the average surface roughness is preferably 0.25 to 0.9 μm.
[0015]
The electrolytic solution used for the electrolytic etching treatment is an aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid, and the concentration is preferably used in the range of 0.01 to 3% by weight, and further 0.05 to 2.5% by weight. preferable.
In addition, this electrolyte solution contains corrosion inhibitors (or stabilizers) such as nitrates, chlorides, monoamines, diamines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, ammonium oxalate, as necessary, A graining agent can be added. Further, the electrolyte solution may contain an appropriate amount (1 to 10 g / liter) of aluminum ions.
[0016]
The electrolytic etching treatment is usually performed at a temperature of the electrolytic solution of 10 to 60 ° C. The alternating current used at this time can be any of rectangular, trapezoidal, and sinusoidal, as long as the positive and negative polarities are alternately exchanged. Phase alternating current can be used. The current density is preferably 5 to 100 A / dm ² and is preferably treated for 10 to 300 seconds.
[0017]
The surface roughness of the aluminum alloy support in the present invention is adjusted according to the amount of electricity, and is 0.2 to 0.8 μm.
Further, the roughened aluminum plate is desmutted with an aqueous acid or alkali solution as necessary.
The grained aluminum alloy is subjected to removal and etching (preferably 0%) of smut adhering to the surface with 10 to 50% by weight of hot sulfuric acid (40 to 60 ° C.) or dilute alkali (sodium hydroxide or the like). Preferably in the range of .01 to 2.0 g / m ² . When the smut is removed and etched with an alkali, it is subsequently neutralized by dipping in an acid (nitric acid or sulfuric acid) for cleaning.
[0018]
After removing the surface smut, an anodized film is provided. As the anodic oxidation method, a conventionally well-known method can be used, but sulfuric acid is used as the most useful electrolytic solution. Next, phosphoric acid is also a useful electrolyte. Further, a mixed acid of sulfuric acid and phosphoric acid disclosed in JP-A-55-28400 is also useful.
[0019]
The sulfuric acid method is usually treated with a direct current, but alternating current can also be used. The electrolytic treatment is performed for 5 to 250 seconds in a sulfuric acid concentration of 5 to 30% by weight in a temperature range of 20 to 60 ° C., and an oxide film of 1 to 10 g / m ² is provided on the surface. This electrolytic solution preferably contains aluminum ions. Further, at this time, the current density is preferably 1 to 20 A / dm ² .
In the case of the phosphoric acid method, it is processed at a current density of 1 to 15 A / dm ² for 10 to 300 seconds at a phosphoric acid concentration of 5 to 50% by weight and a temperature of 30 to 60 ° C.
[0020]
Further, if necessary, silicate (sodium silicate, potassium silicate) treatment described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461, US Patent No. 2,946,638 treatment with potassium zirconate fluoride, phosphomolybdate treatment described in US Pat. No. 3,201,247, British Patent No. 1,108,559 Alkyl titanate treatment described in German Patent No. 1,091,433, polyacrylic acid treatment described in German Patent No. 1,091,433, German Patent No. 1,134,093 and British Patent No. No. 1,230,447, polyvinylphosphonic acid treatment, Japanese Patent Publication No. 44-6409, phosphonic acid treatment, US Pat. No. 3,307,9 Phytic acid treatment described in No. 1 specification, salt of hydrophilic organic polymer compound and divalent metal described in JP-A-58-16893 and JP-A-58-18291 Hydrophilization treatment can be performed by the treatment according to. Silicate treatment is particularly preferred because of its high hydrophilization ability and simple treatment.
[0021]
As other hydrophilization treatment methods, silicate electrodeposition described in US Pat. No. 3,658,662 can also be mentioned.
Further, after the graining treatment and the anodic oxidation, a sealing treatment can be performed. Such sealing treatment is performed by immersion in a hot aqueous solution containing hot water and an inorganic salt or an organic salt, a steam bath, or the like.
[0022]
A lithographic printing plate having a non-photosensitive resin layer coated and dried on a support having a hydrophilic surface layer and an undercoat layer is obtained by dissolving in an alkaline aqueous solution.
[0023]
Examples of the alkaline aqueous solution include photosensitive lithographic printing plate developers described in JP-A Nos. 51-77401, 51-80228, 53-44202, and 55-52054. Thus, it is preferable that pH = 8 to 13 and water is contained by 75% by weight or more. If necessary, organic solvents (benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether) having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature, alkaline agents (triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, sodium phosphate, sodium carbonate), anionic interface Activator (aromatic sulfonate, dialkyl sulfosuccinate, alkyl naphthalene sulfonate, fatty acid salt, alkyl sulfate ester salt), nonionic surfactant (polyoxyethylene alcohol ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene) Polyoxypropylene block polymer), antifouling agent (sodium sulfite, sodium salt of sulfopyrazolone) and water softener (ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt, nitrile triacetic acid trisodium Potassium salt) can be added.
[0024]
However, if it contains organic solvent, etc., toxicity during work, sanitation problems such as odor, safety problems such as fire and gas explosion, workability problems such as generation of bubbles, pollution problems due to waste liquid, Since the problem of cost etc. generate | occur | produces, what does not contain an organic solvent is still more preferable.
Examples of such an aqueous alkaline developer substantially free of an organic solvent include developers described in, for example, JP-A-59-84241, JP-A-57-192952, and JP-A-62-24263. Compositions can be used.
[0025]
The plate for lithographic printing according to the present invention may be subjected to plate making by the methods described in JP-A Nos. 54-8002, 55-1115045 and 59-58431. That is, after the development treatment, washing with water followed by desensitization treatment, or a desensitization treatment as it is, treatment with an aqueous solution containing an acid, or treatment with an aqueous solution containing an acid may be followed by performing the desensitization treatment.
[0026]
Further, in the development process of this type of lithographic printing plate, the alkaline aqueous solution is consumed depending on the processing amount and the alkali concentration is reduced, or the alkali concentration is reduced by the air due to the long-time operation of the automatic developing machine. In this case, the processing capacity may be recovered by using a replenisher as described in JP-A-54-62004. In this case, it is preferable to replenish by the method described in US Pat. No. 4,882,246.
[0027]
The plate making process as described above is preferably performed by an automatic developing machine as described in JP-A-2-7054 and JP-A-2-32357.
In addition, as the desensitizing gum to be applied as desired in the final step of the plate making process, JP-B-62-16834, JP-A-62-25118, JP-A-63-52600, JP-A-62-7595, JP-A-62-11693 And those described in JP-A-62-83194.
[0028]
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
(Examples 1-3, Comparative Examples 1-5)
The following lithographic printing plates were prepared and used as evaluation materials.
Thickness of JIS A1050 aluminum material containing 99.5 wt% aluminum, 0.01 wt% copper, 0.03% wt titanium, 0.3 wt% iron and 0.1 wt% silicon 0.30 mm The surface of the rolled plate was grained with a 20 wt% aqueous suspension of 400 mesh Pamiston (manufactured by Kyoritsu Ceramics) and a rotating nylon brush (6,10-nylon), and then washed well with water. .
[0029]
This was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 4.5% by weight of aluminum) and etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m ² , and then washed with running water. Further, neutralized with 1% by weight nitric acid, and then in a 0.7% by weight nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum), a rectangular wave with an anode voltage of 10.5 volts and a cathode voltage of 9.3 volts Using an alternating waveform voltage (current ratio r = 0.90, current waveform described in the example of Japanese Patent Publication No. 58-5796), an electrolytic surface roughening treatment is performed at an anode time electricity of 160 coulomb / dm ^2. It was. After washing with water, it was immersed in a 10 wt% sodium hydroxide aqueous solution at 35 ° C., etched so that the amount of dissolved aluminum was 1 g / m ² , and then washed with water. Next, it was immersed in an aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C. and 30% by weight, desmutted, and washed with water.
[0030]
Further, a porous anodic oxide film forming treatment was performed using a direct current in a 20 wt% sulfuric acid aqueous solution (containing 0.8 wt% aluminum) at 35 ° C. That is, electrolysis was performed at a current density of 13 A / dm ² , and the weight of the anodic oxide film was adjusted to 2.7 g / m ² by adjusting the electrolysis time. The support was washed with water, immersed in a 3% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried.
[0031]
The aluminum support obtained as described above had a reflection density of 0.30 and a center line average roughness of 0.58 μm as measured with a Macbeth RD920 reflection densitometer. Next, a methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid (charged weight ratio 65/20/15) copolymer in which a sodium salt is partially converted to 1.0 wt% methanol / A 90/10 solution was prepared in water, and coating was performed by a bar coater so that the coating amount after drying was 0.1 g / m ² .
[0032]
Further, the composition shown in Table 1 was dissolved in a mixed solvent of methanol / methyl ethyl ketone / 1-methoxy-2-propanol / methyl methyl lactate = 30 g / 30 g / 25 g / 12 g and applied using a bar coater at 110 ° C. Dry for 45 seconds. The dry coating amount was 1.0 g / m ² .
[0033]
Further, as the resin solution for forming the mat layer, the copolymer previously used for the undercoat layer is made into a 12% by weight aqueous solution, and the rotational speed is 25,000 rpm with a rotary atomizing electrostatic coating machine, the liquid feeding amount is 4 ml / min, and the applied voltage. −90 kV, ambient environment 25 ° C., 50% RH, steam is sprayed on the coated surface 2.5 seconds after coating, and then warmed at 60 ° C. and humidity 10% RH for 5 seconds after 3 seconds of wetting. And dried. The average mat height was about 6 μm, the average size was about 30 μm, and the coating amount was 150 mg / m ² .
[0034]
Then, in order to evaluate printing as a discarded plate, DN-3C (Fuji Photo Film Co., Ltd.) is used with 800H (automatic developing machine manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) immediately after production, after storage for 3 months and after storage at 40 ° C. and 80% RH. The alkaline aqueous developer for negative PS plate manufactured by Photo Film Co., Ltd.) is eluted with a solution diluted 1: 1 with water, and FN-2 (Gum manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is immediately added with water. The solution diluted to 1 was applied and dried. This discarded plate is printed on an offset rotary printing press using a newspaper ink of Sakata Ink Co., Ltd. and Toyo Ink Co., Ltd.'s Toyo Alky dampening solution at a speed of 100,000 sheets / hour. And the dirt situation was evaluated.
The results are shown in Table 1.
[0035]
[Table 1]

[0036]
In Table 1, the meanings of ○, ○ △, ×, XX are as follows.
○: Not generated at all ○ △: Not generated at all ×: Very inferior XX: Extremely inferior [0037]
In Examples 1 to 3, good results were obtained as lithographic printing plates. In particular, Example 1 is preferable because it is difficult to scratch and has good storage stability.
On the other hand, Comparative Example 1 had very poor black loss.
Comparative Example 2 was an uncoated plate, but was very easily scratched, and wrinkled stains on the interleaf paper were generated when stored over the interleaf paper.
Comparative Examples 4 and 5 are PS plates, but Example 1 gives better results. When the PS plate is handled and stored under white light, fogging occurs. However, since it is non-photosensitive in the present invention, there is no problem even if it is handled and stored under white light.
Further, Comparative Example 3 in which the diazo resin was removed from Comparative Example 4 was soiled immediately after production without aging, whereas Example 1 in which the diazo resin was removed from Comparative Example 5 was very difficult to stain. It has been found for the first time in the present invention that the results are very good.
[0038]
(Examples 4 and 5)
In Example 1, the resin layer composition was changed as follows to prepare a lithographic printing plate.

[0039]
The coating amount of the resin layer was 1.0 g / m ^{2 in} Example 4 and 0.5 g / m ² in Example 5. Compared to Example 1, scratch resistance was good, Example 4 was good, and Example 5 was equivalent.
In addition, the resistance to contamination was the same as or better than Example 1 in both Examples 4 and 5, and good results were obtained.
[0040]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a lithographic printing plate can be provided that does not cause printing stains even after long-term storage, is hardly scratched by handling until gumming is completed, and can be handled with white light. .

Claims

A lithographic plate that uses a multicolor printing device having two or more plate cylinders to attach a plate having an image to a part of the plate cylinder, and attaches a multicolor printing waste plate having no image to the remaining plate cylinder. A printing method, wherein the discarding plate is a lithographic printing plate in which an undercoat layer made of a water-soluble compound and a water-insoluble non-photosensitive resin layer are provided on a metal support having a hydrophilic surface. A lithographic printing method characterized.

The lithographic printing method according to claim 1, wherein the undercoat layer is a water-soluble polymer having a sulfonic acid group .

3. The lithographic printing method according to claim 1, wherein the non-photosensitive resin layer is a resin obtained by solubilizing polyurethane with an alkali .