JP3677553B2 - 保護被覆 - Google Patents
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Description
ガスタービンの構成部分、特にその燃焼器の近く及び下流における内部構成部分は、高温に対して高い強度と耐食性が要求されるということが随分前から認識されていた。
そのような構成部分に、高温に対する充分な強度を与えるために、スーパアロイ材の耐負荷構造を設けることは公知である。使用する典型的なスーパアロイ(例えば、IN100、IN718、IN738、MAR−M002、MAR−M247、CMSX−4、PWA1480及びPWA1484という商品名で知られているもの)は、Ni、CoおよびFeをベースとし、特別な応用要求に基づくスーパアロイである。FeとCoをベースとするスーパアロイは、強化された固溶体であることが多い。Niベースのアロイは主成分としてNiを含み、所定量のCr、Co、Fe、Mo、WあるいはTaを含むことが多く、強化された固溶体あるいはデポジション(析出)であることが多い。Niベースの強化デポジション・アロイは、ガスタービン構成部分に広く使用され、しばしばAl、TiあるいはNbが含まれていて適当な熱処理にデポジットされた第2の相を生じる。ガスタービン構成部分に使用されるNiベース強化デポジション・スーパアロイの例としては、INCO 713、B−1900、IN100、MAR−M 200、MAR−M 247という商品名をもつものが知られている。Coベースのスーパアロイの例としては、MAR−M 509及びHaynes 188があり、FeベースのスーパアロイとしてはIncoloy 802及びIncoloy 903がある。スーパアロイのガスタービン構成部分は、時には圧延あるいは鋳造され、あるいはまたよりひどい動作状態のために、方向強化され、あるいは単結晶構造の形にされてよい。
スーパアロイそれ自体は通常腐食性/酸化性の稼働中雰囲気に耐えることができないので、耐食材でスーパアロイ構成部分を被覆することは常識となっている。
1つの方法はスーパアロイをアルミ化することである。これは通常いわゆるパック・アルミナイジング法を用いて、あるいは物理的蒸着によって達成される。これらの方法は、Niベースのスーパアロイの場合にNiAlのようなアルミ化物を形成するためのスーパアロイへのAl拡散に関連する。稼働中、Al2O3の表面層が下の物質を保護するために形成されるが、これは熱膨張および収縮によって剥離する傾向がある。これは、Alを外方に拡散することによって徐々に修復され、最終的に、ある特別な場所にもはや充分なAlがなくて剥離物質に置換された時に、スーパアロイ構成部分は迅速な局所的腐食を生じやすい。クローム化物あるいはシリコン化物を含む表面層を形成するために、クロームおよびシリコンを共に、あるいはどちらか単独に、それのみを、あるいはアルミニウムを付加して、スーパアロイに拡散することは好ましいことである。以下、主としてアルミナイジングについて言及するが、この言及は、必要な変更を加えてクロマイジング及び/またはシリコナイジングに代替的に言及しているものと解釈すべきである、と理解されたい。
もう1つの方法は、例えば、MCrAlY、MCrAlHf、MCrAlYHf、MCrAlYHfSi及びCrAlTaYの上塗りでスーパアロイを被覆することである。ここでMはCo、Ni、Feあるいはそれらの混合である。Y、SiあるいはHfの添加はAl2O3が表面から剥離することを防ぎ、構成部分の寿命延長を助ける。この上塗り材料は、プラズマスプレー、あるいは例えば我々が英国特許GB−B−2167446に記載したような共デポジション方法で塗布することができる。通常、これらの材料で構成部分を被覆して厚さ75−200μmあるいはそれ以上の層を形成する。この被覆方法は高価であるが、この程度の厚さで構成部分を被覆すると寿命を充分に延長することができるので、このコストを正当化する。しかし、ガスタービン構成部分への負荷が増加し続けるに従い、そのロータ・ブレードのような構成部分を非構造的材料で効果的に被覆することは望ましくなってくる。
この程度の厚さの層に関する問題としては、より近代的なガスタービンにおいては稼働中の条件が、徐々に、より極端になるので、この層は熱機械的な疲労割れを生じやすく、これは、特に被覆が例えばタービン・ブレードのような薄壁中空のスーパアロイ構成部分に塗布されると被覆の割れがブレード事故を起こすので、極めて望ましくない。
米国特許USP4,933,239はNiベーススーパアロイ上へのCoCrAlYSiHfの0.001インチ(25.4μm)厚の上塗りのプラズマ・スプレーを記載している。プラズマ・デポジションの後、被覆はガラス・ビーズ・ピーニングされ、バック・セメンテーション混合でアルミ化され、最後に拡散及び析出を経て熱処理工程に置かれる。この明細書は、CoCrAlYSiHf被覆の好適な塗布方法は、プラズマ・スプレーによることであると指摘している。しかしこの明細書はまた、一般的な記述として、上塗り被覆は例えばプラズマ・スプレー、電子ビーム蒸着、電気メッキ、スパッタリング、あるいはスラリ・デポジションなどで塗布することができると、述べている。この先行技術におけるピーニング作用の1つの理由は、このようにデポジットしたMCrAlYが特に滑らかでないからであると思われる。
さらにまた、上塗りの形態は、アルミニウムを上塗りを介してスーパアロイ基板の中へ完全に拡散させる目的で行なわれるアルミナイジング処理によって大きく変化させられる。
もう1つ別の問題は、上塗りに最初から存在するのであるが、重要な元素であるY、Si及びHfが都合よく仕上がり製品の外表面近くに比較的大きい割合で存在することを確実にするのが困難であるということである。
本発明の目的は従来技術の上記問題を軽減することである。
本発明の第1の特徴によれば、基板の上に被覆を施す方法であって、上記基板にアルミナイジング、クロマイジングあるいはシリコナイジングを行い、前記基板上に電解あるいは無電解デポジション法によって、CrAlM2の粒子を含む浴から、金属M1をマトリックスとして、M1CrAlM2を共デポジットする工程を含み、上記M1がNi、Co、Feからなる群から選ばれた少なくとも1つの元素であり、M2がY、Si、Ti、Hf、Ta、Nb、Mn、Pt及び希土類元素からなる群から選ばれた少なくとも1つの元素である被覆方法が提供される。
本発明の1つの利点は、被覆方法の本質的特徴として、ピーニング工程を含んでいないことである。別の利点は、例えば、Y、Si及びHfというような重要元素を都合よく仕上がり製品の外表面近くに存在させることができる点である。さらに別の利点は、M1CrAlM2をさらにアルミナイジングする必要がなく、仕上がり製品においてはるかにすぐれた形態が得られることである。
基板は、例えば、パック・アルミナイジング、物理的気相あるいはフレーム・スプレー・アルミナイジング、スパッタリングあるいは電気メッキを含む、種々異なる多くのアルミナイジング法の1つに従ってアルミ化することができる。好ましくは、基板はパック・アルミナイジング法でアルミ化するのがよい。同様に、クロマイジングあるいはシリコナイジングは同様な方法で達成することができる。
好ましい実施例においては、基板はプラチナ・アルミ化される。これは、アルミナイジングの前あるいは後でプラチナの層を例えば電気メッキでデポジットする工程を含んでいてもよい。プラチナの層は約5μmあるいは約10μmの厚さにデポジットされてよい。パラジウムあるいはルテニウムをプラチナの代わりに、あるいはプラチナと共に用いてもよい。
金属マトリックスM1と粒子CrAlM2との共デポジションの前に、熱処理を被覆工程に組み入れてもよい。
特に好適な実施例において、熱処理を金属マトリックスM1と粒子CrAlM2との共デポジションの前に組み入れるか否かについては、熱処理はアルミナイジングとM1CrAlM2被覆の間の望ましい量の均等化拡散が生じるように金属マトリックスM1と粒子CrAlM2との共デポジションの後に行なわれる。好ましくは、アルミナイジングは例えばアルゴンあるいはヘリウムの制御された雰囲気においてほぼ900℃でほぼ6時間パック・アルミナイジングによって行なわれる。その後、構成部分には真空中でほぼ1時間ほぼ1100℃で後拡散処理を行い、その後被覆は真空中でほぼ16時間ほぼ870℃で時効化される。アルミ化層の上へのM1CrAlM2層のデポジション後に、構成部分は代替的にあるいは付加的に真空中でほぼ2時間ほぼ1050℃で熱処理される。
我々は、M1CrAlM2層が、例えば安定化されるジルコニウム(例えば安定化石灰あるいはイットリア)のような熱障壁物質の層の引続いての塗布のための特に好適な接着被覆を提供する、ということを発見した。熱障壁物質は柱状物質の形でデポジットされてよい。好ましくは、熱障壁層は25μmより大きい厚さを有していてよく、また100と250μmの間の厚さを有していてよい。
熱障壁は好ましくは電子ビーム物理的蒸着あるいは空中におけるプラズマ・スプレーによって塗布される。
本発明においては、我々は金属マトリックスM1と粒子CrAlM2との共デポジションの期間の1平方センチメートル当たりの電流密度を5mAより小さく、より好ましくは3mAより小さく、またさらに好ましくは2.5mAに選択する。ある環境では1平方センチメートル当り約2mAの電流密度がより好ましく、1平方センチメートル当り約1mAの電流密度というのがその1例である。
本発明に用いることができる比較的小さい電流密度において、我々は、より小さい粒子は選択的にデポジットされる(例えば<15μm粉末を用いると、>10μm粒子は<10μm粒子ほど選択的にメッキできない)という点で、デポジットされた被覆における粒子構成は浴中における構成と異なる傾向に注目する。これは、特に驚くべきことである。それは、ファラデーの法則及びストークスの式に基づく理論(J.Foster他の論文「粒子の共デポジションによるマルチ・コンポーネント・アロイ被覆の生成」、トランザクションズ・オブ・インスティチュート・オブ・メタル・フィニシング、Vol.63、No.3−4、pp.115−119、1985参照)において、適当な条件の電流密度と撹拌を用いれば、粒径が大きくなればなる程、粉末の特別な部分をデポジットされた被覆中に組込むのに必要な浴負荷が小さくなるからである。従って、より大きい粒子を選択的にメッキしたいと期待されるかもしれないが、我々は比較的小さい電流密度で反対のことが起こることを発見した。
一実施例において、M1はCoを含む。これは特に滑らかな被覆を促すのに助けとなる。もし被覆中にNiが存在するのが望ましいならば、共デポジットされた物質の頂上に、あるいは共デポジション工程の前にアルミ化物被覆に直接にNiのフラッシュを電気メッキする。このNiのフラッシュは約2μmの厚さでよい。
金属マトリックス材及び粒子は、共デポジットして50μm、より好ましくは25μmより薄い厚さの層を形成することが好ましい。特に好ましい実施例においては、この層は約15μmの厚さであってよい。しかし、この層は15ミクロンの厚さより小さくてもよく、約12あるいは10μm以下というのがその例である。多くの応用では、この層の厚さは5μm以上が好ましく、10μm以上が特に好ましい。しかし、ある応用では、この層の厚さは15μmより大であってよい。
共デポジションは40g/lより少ない粒子の浴負荷で実施するのが好ましい。より好ましくは、約30g/lあるいはそれより低い浴負荷が用いられる。さらに好ましくは、約20g/lあるいはそれより低い浴負荷が用いられる。特に好ましい実施例では約10g/lの浴負荷が用いられているが、それより低い浴負荷、例えば約1g/lが注目されている。これらの比較的低い浴負荷はデポジットされた被覆が多孔状に形成されないことを確実にしている。
粒子は球状であってよく、例えばノズル式アトマイザのような噴霧器を用いて形成してもよい。
好ましくは、浴中の粒子は<15μm、<12μmあるいは<10μmの粉末を含んでいてよい。
好ましい一実施例においては、浴中の粒子の分布は、15と12μmの間が25%、12と10μmの間が45%、10μmより下が30%である。我々は、驚いたことには、そして期待しなかったことであるが、比較的低い電流密度によるメッキによって、小さい粒子が選択的にデポジットされるということを発見した。浴中の上記粉末分布が用いられると、デポジットされたM1CrAlM2被覆における分布(デポジット中の粉末の重量パーセント)は、<10μmが45%、10と12μmの間が55%、12と15μmの間が0%となる。
良好な被覆は、この改良工程を組込んだ方法、好ましくは改良工程が共デポジション工程に含まれた方法で得ることができる。
特に好ましい実施例においては、粒子の単層のみあるいは2層を含むM1CrAlM2保護物質の層がデポジットされる。例えば、<15μm粉末が浴中に懸濁していると、この改良によって、望み通り、実質的に連続する12あるいは10μmの単層粒子(デポジットされた最も大きい粒子のサイズはそれぞれ12あるいは10μmである)を沈下することができる。別の好ましい方法では、4−8μmの粉末を用いて、ほぼ10、12、15あるいは20ミクロン厚の2層あるいは3層が望み通り生成される。
このようにして、我々は比較的少量のM1CrAlM2を必要とするだけで、Al2O3の剥離を防止するのに助けとなるY、SiあるいはHfというような有用元素を提供する。これは、例えば、ロータ・ブレードというようなガスタービン構成部分にとって極めて望ましい。それは、基板(例えばロータ・ブレード)上の被覆材の全高、従って重量を耐食性を低下させることなく減少させることができるからである。従って、ロータ・ブレードはその重さの割に強く、そしてより高い回転力あるいは空力的な力を持続することができ、ガスタービンの性能を増加させる。
アルミ化層は30−60μm(典型的には50μm)の初期厚さを有し、M1CrAlM2層は熱処理後に10−50μmの初期厚さを有するが、アルミ化層は低Al濃度で10−20μm厚の内部拡散領域と、高Al濃度で20−40μm厚の外部拡散領域とを有する。M1CrAlM2層の厚さは実質的に熱処理には影響されない。M1CrAlM2層に対するアルミ化層の厚さの比率は好ましくは4:1(例えば全厚さ50μm)と1:1(例えば全厚さ110μm)の間である。言及した厚さは全て熱障壁層が含まれる場合には増加し、例えば層は100−250μmの範囲の厚さとなる。
一実施例において、アルミナイジング物質が塗布される基板は、ガスタービンの構成部分であるスーパアロイを含む。
この基板は、ガスタービン構成部分のガスにさらされる基板、例えばブレードのエーロホイル、基部あるいはカバー部分を含む。
共デポジション後、共デポジットされた物質は40%より多くの粒子、ある応用では45%を越える粒子からなる。
共デポジション工程の間、ガス、例えば空気あるいは不活性ガスを、浴中のある領域では溶液中で概ね上方への還流が生じ第2の領域では概ね下方への還流が生じるような場所へ注入してもよい。基板は共デポジションの間この第2の領域に置かれる。共デポジションの間、基板(あるいは部品を形成する構成部分)を水平な軸、あるいは水平部分をもつ軸のまわりで回転させてもよい。我々の英国特許GB−B−2182055に記載した電気溶着装置を用いることができる。
ある場合には、共デポジションの間、基板を水平部分をもつ第1の軸のまわりに回転させ、そして第1の軸と平行でない第2の軸のまわりに回転させてもよい。第1の軸のまわりでの回転のサイクルは、高い角速度と低い角速度の各周期を含んでいてよい。第2の軸は第1の軸に垂直であり、かつ/あるいは、それと交差していてよい。第1の軸のまわりの回転のサイクルは回転と停止が交互に行なわれてもよい。基板が水平部分をもつ1つの軸のまわりのみ回転する時には、回転のサイクルは高い角速度と低い角速度の各周期を含んでいてよく、回転については、回転と停止とが交互に行なわれてよい。基板の取扱いは我々の英国特許GB−B−2221921に記載された方法に従って行なうことができる。
本発明の第2の特徴によれば、前記本発明の第1の特徴に従う構成部分の基板の被覆を含む、ガスタービン構成部分の製造あるいはオーバホール方法が提供される。
本発明の第3の特徴によれば、本発明の第2の特徴に従って製造あるいはオーバホールされた構成部分を含むガスタービン構成部分あるいはガスタービンが提供される。
本発明の第4の特徴によれば、本発明の第3の特徴に従うガスタービンを含む車両あるいは固定装着が提供される。本発明のこの特徴に従う車両は、例えば航空機、水上あるいは陸上車両を含むことができる。
本発明は種々の方法で実施できるが、添付図面を参照して1つの被覆方法を例示的に説明する。
その図面において、
第1図は被覆装置の斜視図、
第2図はその装置の立側図、
第3図はその装置の立正面図、
第4図はメッキすべき物品が吊される治具の斜視図である。
スーパアロイ製の一連のガスタービン・ブレード(42)に、2層あるいは3層の保護物質層のデポジションに関する方法で保護物質が被覆される。これらブレードは図示のデポジション装置を用いて先ずパック・アルミ化され、そしてそれに引続いて被覆される。任意の第3の工程では、熱障壁物質の層が引続いてデポジットされる。
図示の装置は、長方形の上方部分2と下方に先細りの下方部分3とを有する容器1を備え、この下方部分3は、一方の側面4が上方部分の一側面5と連続するようにゆがめられた逆ピラミッド形状になっている。
容器1は容器の側面4及び5に平行な垂直面内に存在する仕切り6を有し、仕切り6はその側縁7及び8のところで、隣接する容器の垂直面及び傾斜面と接触している。このようにして仕切り6は容器を大きなワーク領域9と小さいリターン領域11に分割している。仕切り6はその底部の水平縁12が容器の底の上方のところで終端してワーク領域9とリターン領域11の間の相互接続13を行なっている。仕切り6の頂部はその水平縁14が容器1の頂部の縁より下のところで終端している。
リターン領域11の底のところに、空気流入口15があり、これには空気ポンプ(図示せず)が接続されている。ワーク領域9には治具21が載置され、その治具21に被覆を施すべき工作物が載置される。治具21は工作物を容器内で以下により詳細に述べる方法で移動させるように配置されている。
装置を電解メッキに使用する時には、ワーク領域に吊された陽極に対して、治具21上に載置された工作物に電圧を印加するための導体が設けられる。
装置を使用するには、工作物上に被覆を共デポジットするために、上記したように容器内に位置決めされた治具21に工作物を載置する。治具の位置決めの前あるいは後で、仕切り6の上縁14の上方の高さ17のところまで容器に、共デポジットすべき粒子を含むメッキ溶液を充たす。空気が流入口15に注入され、これがリターン領域11を上昇し、溶液とその中の粒子を上昇させる。リターン領域の頂部で空気は脱出し、溶液と粒子は仕切り上縁14によって形成されて頭を垂れた広い堰をあふれ出し治具21上の工作物を越えて流れ落ちる。ワーク領域9の底で粒子は澱み、容器の傾斜側面を相互接続13のところへ向けて滑り落ち、そしてそこで再び溶液中に混じり循環させられる。
ワーク領域9内で下方に移動する粒子が工作物に出会うと、それらは工作物上に沈澱し、そこでそこらは同時にメッキされつつある金属内に埋め込まれる。
図4に示すように、そして英国特許GB−B−2254338に記載するように、被覆すべき工作物は容器1内に吊り下げられた治具21上に載置される。治具は図2、3では簡単化された形で示されているが、図1では明瞭にするために除外されている。治具21は容器1の頂部に嵌合されるデッキ22と、一端に向かう従属台脚23と、他端における一対の従属案内24とから成る。案内24は対向する案内路を有し、その案内路内を横断ヘッド25が滑動するようになっている。横断ヘッド25は垂直ラック26を担持していて、垂直ラック26はデッキ22内の孔27を介して上方に突き抜け逆転可能な電動機29によって駆動されるピニオン28と噛み合っている。デッキ22は垂直軸32を駆動する第2の電動機31を支持しており、この垂直軸32はベベル・ピニオン33を担持している。ベベル・ピニオン33は、台脚23に載置されたスピンドル35の一端に固定されたクラウン歯車34に係合している。スピンドル35の他端はユニバーサル・ジョイント36を介して軸37の一端に接続され、軸37の他端は横断へッド25の中の球面軸受38によって担持されている。
軸37はそれに堅固に取付けられた複数個のスプールを担持しているが、図4には1つのスプール39のみが示されている。スプール39は軸37の軸を含む平面内に延在し、スプールの長さ方向の軸は軸37の軸と角αをなしている。スプール39には被覆されるべきガスタービン・ブレード42が3つスプールの長さ方向に離間されて載置されている。ブレードの長手方向の軸はスプール39の長さ方向の軸に垂直に上記平面内に延在していて、軸37の軸と(90−α)°の角を形成している。
デッキ22上には電動機制御器43が載置されていて、ライン44及び45を介して各電動機29及び31に接続されている。制御器43は電動機31を一方向のみに駆動/停止して軸37を形式的水平軸(x−軸)のまわりに回転させるよう設計されている。制御器43はまた電動機29を両方向に交互に駆動して横断ヘッド25を往復運動させると共に、x−軸のまわりの回転にユニバーサル・ジョイント36の回転軸(y−軸)のまわりの振動回転を重畳させるよう設計されている。
角度αと、電動機29及び31によって実行される各サイクルのパラメータとは被覆されつつある工作物に適切なように選択され、被覆されるべき全ての表面が充分な時間概ね上を向いて、降下してくる適正な負荷の粒子がデポジットする時にメッキされた金属内に組込まれるように受取ることを確実にする。被覆とその生成の方法の1つの特別な例を、以下に例示として説明する。
例
エーロホイル部43を有するガスタービン・ブレード42の上に被覆が施される。エーロホイル部43はその一端に基部44を有し、他端にカバー部45を有している。基部とカバーのプラットフォームは共にエーロホイル部の軸とほぼ70°の角度をもって延長しており、基部とカバー部の端面はブレードの部分をなしているリングの周に対してそれぞれ30°と40°の角度をなして延長している。この構造をもったブレードの角度αは70°である。
ブレードのエーロホイル部とプラットフォーム部の上に18.32重量パーセントのCr、8.25重量パーセントのAl、0.457重量パーセントのY、及び残部のコバルトを含む被覆をもつアルミナイジング被覆が生成されるように意図されている。前記Cr、Al、Y及びコバルトの被覆を生成するために、浴には1リットル当り400グラムのCoSO4・7H2Oと、1リットル当り15グラムのNaClと、1リットル当り20グラムのほう酸H3BO3を含むコバルト・メッキ液が充たされる。浴はpH4.5、温度45℃に維持される。浴には、また、5−15μmの粒径分布をもち、67.8重量パーセントのクローム、30.1重量パーセントのアルミニウム、及び1.7重量パーセントのイットリウムからなる粉末を1リットル当り10グラムの濃度になるまで入れる。
先ず、ブレードのエーロホイル部及びプラットフォーム部がアルゴンの中で6時間、900℃でパック・アルミナイジング法によってアルミ化される。その後、アルミ化層は真空中で1時間、1100℃で後拡散され、真空中で16時間、870℃で時効化される。
CoCrAlY物質で被覆を施す前に、メッキされない基部とカバー部の部分にはワックス・マウスを施し、他の表面にはコバルトメッキに適切な従来の準備処理を施す。
ブレードはその軸(図4を参照)が治具50に水平なx−軸と20°の角度をなすように治具50に固定する。メッキの間、治具のx−軸は、x−軸に垂直なy−軸のまわりで±25°の振動運動をさせられる。この振動運動の1サイクルは3分間である。同時に、治具はx−軸のまわりに単一方向に360°にわたって回転させられる。完全に1回転する1サイクルは10分間である。しかしこのx−軸のまわりの回転とは、3秒間回転する毎に10秒間停止する断続回転運動である。
メッキは、ほぼ12μmの厚さの被覆を生成するのに充分な時間1平方センチメートル当り1.5アンペヤの電流密度をもって実施される。
エーロホイル部と基部及びカバーのプラットフォームとを被い、そして組込んだ粉末の0.27重量部分を持つ優れた品質の被覆が生成される。
小さい粒子が選択的にメッキされ、>12μmの粒径の粒子が実質的に全然デポジットされず、それより大きい(すなわち12μmと15μmの間の)粒子はメッキ液の中に残る。被覆されたブレードを治具から取除いた後、マスキングが取去られる。
その後ブレードは真空中で2時間、1050℃で熱処理される。
特に好ましいM2元素は、Y、Hf及びSiである。
本発明に従って生成される被覆は良好な耐酸化性及び耐熱疲労性を有する。
Claims (10)
- 基板上に被覆を施す方法であって、上記基板にアルミナイジング、クロマイジングあるいはシリコナイジングを行い、前記基板上に電解あるいは無電解デポジション法によって、CrAlM 2 の粒子を含む浴から、金属M 1 をマトリックスとして、M 1 CrAlM 2 を共デポジットする工程を含み、上記浴は15及び12μm間の25%、12及び10μm間の45%、及び10μm未満の30%の粒子分布を有し、上記M1がNi、Co、及びFeからなる群から選ばれた少なくとも1つの元素であり、M2がY、Si、Ti、Hf、Ta、Nb、Mn、Pt及び希土類元素からなる群から選ばれた少なくとも1つの元素であり、上記金属マトリックスM 1 と粒子CrAlM 2 との共デポジションは1平方センチメートル当たり5mAより小さい電流密度で行われ、厚さ50μm未満の層を形成することを特徴とする被覆方法。
- 前記金属マトリックスM 1 と粒子CrAlM 2 との共デポジションの前からあるいは後に熱処理工程をさらに含み、該熱処理工程を前記共デポジションの前に行う場合には、前記アルミ化し、クローム化し、あるいはシリコン化した基板を真空下でほぼ1時間1000℃〜1100℃の間で熱処理し、該熱処理工程を前記共デポジションの後に行う場合には、前記共デポジットされたM 1 CrAlM 2 を真空条件下で約1時間約1100℃で熱処理することを特徴とする請求項1記載の被覆方法。
- 上記アルミナイジング、クロマイジングあるいはシリコナイジング工程がアルミ化層、クローム化層、あるいはシリコン化層を形成し、該層が熱処理後に、Al、CrあるいはSiの厚さ10〜20μmの比較的低濃度の内部拡散領域と、Al、CrあるいはSiの厚さ20〜40μmの比較的高濃度の外部拡散領域とを含むことを特徴とする請求項2記載の被覆方法。
- 前記金属マトリックスM 1 と粒子CrAlM 2 との共デポジションに引き続いて、熱障壁物質の層を付与する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1記載の被覆方法。
- 前記金属マトリックスM 1 と粒子CrAlM 2 との共デポジションが該粒子CrAlM2の40g/l未満の浴負荷で実施されることを特徴とする請求項1記載の被覆方法。
- 上記アルミナイジング、クロマイジングあるいはシリコナイジング工程が、30〜60μmの厚さを有するアルミ化物、クローム化物、あるいはシリコン化物の層を形成することを特徴とする請求項1記載の被覆方法。
- 前記アルミナイジング、クロマイジングあるいはシリコナイジング工程が、アルミ化物、クローム化物、あるいはシリコン化物の第1の層を形成し、前記共デポジションがM1CrAlM2の第2の層を形成し、該第2の層の厚さに対する第1の層の厚さの割合が4:1と1:1の間にあることを特徴とする請求項1記載の被覆方法。
- 前記基板がエーロホイル部、基部、シュラウド、タービン軸、リング、ディスク、燃料缶部品、ステータブレード、ロータブレード及び案内羽根からなる群から選ばれるタービン部品であることを特徴とする請求項1記載の被覆方法。
- 前記金属マトリックスM 1 と粒子CrAlM 2 との共デポジションは厚さ25μm未満の層を形成することを特徴とする請求項1記載の被覆方法。
- 基板上に被覆を施す方法であって、上記基板にアルミナイジング、クロマイジングあるいはシリコナイジングを行い、前記基板上に電解あるいは無電解デポジション法によって、CrAlM 2 の粒子を含む浴から、金属M 1 をマトリックスとして、M 1 CrAlM 2 を共デポジットする工程を含み、上記M 1 はNi、Co、及びFeからなる群から選ばれた少なくとも1つの元素であり、M 2 がY、Si、TがY、Si、Ti、Hf、Ta、Nb、Mn、Pt及び希土類元素からなる群から選ばれた少なくとも1つの元素であり、上記金属マトリックスM 1 と粒子CrAlM 2 との共デポジションは該粒子の40g/l未満の浴負荷で実施され、上記浴は15及び12μm間の25%、12及び10μm間の45%、及び10μm未満の30%の粒子分布を有することを特徴とする被覆方法。
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