JP3675767B2 - Diode, diode press-fitting method, diode mounting method, and fin - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フィンへ圧入するダイオード構造、及びその圧入方法に関するものであり、特に乗用車、及びトラック等に搭載される車両用交流発電機の整流装置に用いて好適なものである。
【0002】
【従来技術】
従来、整流装置のフィンへのダイオード接合方法として、特開平5−114678号公報に記載されているように圧入によるものが知られている。ダイオードをフィンへ圧入するには、圧入後にダイオードがフィンから外れないようにするために、ダイオードのヒートシンクの外径を整流装置のフィンの貫通孔の内径よりも大きくし、圧入代を設ける必要がある。そのため、ダイオード圧入時に高荷重で印加せざるをえない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、ダイオード圧入時にダイオードのヒートシンクに加わる荷重が大きくなると、ダイオードのヒートシンクの形状は、図11(c)、及び図12(c)に示すように変形してSi素子の破壊の原因となる。このことを図に基づき説明する。
【0004】
(従来例1)
図11(a)は、ダイオードの形状を示した図である。図11(b)は、整流装置のフィンへのダイオード圧入時を示した図である。図11(c)は、ダイオード圧入後のダイオードのヒートシンクの形状を示した図である。
【0005】
図11(a)に示すように、ダイオード1は、ヒートシンク20、Si素子30、応力緩衝板40、銅リード50、及び半田60,70,80等から構成されている。
【0006】
ヒートシンク20は、銅で形成され、有底円筒状であり、ダイオード1による整流時に発生する熱を整流装置のフィン110へ逃がす役割を果たすものである。また、ヒートシンク20には、半田付面90、及び押圧面100が形成されている。半田付面90には、応力緩衝板40、Si素子30、銅リード50の順に積層され、これらは、半田60、70、80を介して接合されている。押圧面100は、半田付面90の裏面であり、フィン110へのダイオード1圧入時に圧入棒121により押圧される。
【0007】
Si素子30は、円板状であり、交流電流を直流電流に変換するものである。なお、変換された直流電流は、銅リード50を介して車両のバッテリ等に伝送される。
【0008】
応力緩衝板40は、銅で形成されており、ダイオード1圧入時、及びダイオード1による整流時におけるSi素子30の変形力を吸収するものである。
【0009】
また、ダイオード1のヒートシンク20の外径をフィン110に形成されている貫通孔130の内径よりも大きくすることにより圧入代を設けている。
【0010】
そして、以上説明したダイオード1を図11(b)に示すように、フィン110に形成されている貫通孔130に設置し、先端面が平面である圧入棒121により、圧入方向Bへ押圧面100に荷重を印加し、圧入する。
【0011】
ダイオード1圧入時、ヒートシンク20の底部に圧入代を設けているため、ヒートシンク20の外周部は、貫通孔130の内周壁から中心方向へ押される。さらに、圧入棒121の先端面は平面であるため、ヒートシンク20の押圧面100には、全面に均等な荷重がかかる。そのため、ヒートシンク20の底部の中央部分は、圧入方向Bへ大きな反力を受ける。
【0012】
このことにより、ダイオード1圧入後のヒートシンク20は、図11(c)に示すように、圧入方向Bに凸型に変形する。
【0013】
(従来例2)
次に、従来例2について説明する。図12(a)に示すように、ダイオード1は、ヒートシンク2a、Si素子3a、応力緩衝板4a、銅リード5a、及び半田6a,7a,8a等から構成されている。
【0014】
ヒートシンク2aは、銅で形成され、ほぼ円柱状であり、ダイオード1による整流時に発生する熱を整流装置のフィン110へ逃がす役割を果たすものである。また、ヒートシンク2aには、半田付面9a、及び押圧面10aが形成されている。半田付面9aには、応力緩衝板4a、Si素子3a、銅リード5aの順に積層され、これらは、半田6a、7a、8aを介して接合されている。押圧面10aは、半田付面9aの裏面であり、ダイオード1圧入時に圧入棒121により押圧される。
【0015】
Si素子3a、応力緩衝板4a、及び銅リード5aは、従来例1と同様のものである。
【0016】
また、ダイオード1のヒートシンク2aの外径をフィン110に形成されている貫通孔130の内径よりも大きくすることにより圧入代を設けている。
【0017】
そして、以上説明したダイオード1を図11(b)に示すように、貫通孔130に設置し、先端面が平面である圧入棒121により、圧入方向Bへ押圧面10aに荷重を印加し、圧入する。
【0018】
ダイオード1圧入時、ヒートシンク2aに圧入代を設けているため、ヒートシンク2aの外周部は、貫通孔130の内周壁から中心方向へ押される。さらに、圧入棒121の先端面は平面であるため、ヒートシンク2aの押圧面10aには、全面に均等な荷重がかかる。そのため、ヒートシンク2aの中央部分は、圧入方向Bへ大きな反力を受ける。
【0019】
このことにより、ダイオード1圧入後のヒートシンク2aは、図11(c)に示すように、圧入方向Bに凸型に変形する。
【0020】
以上説明したように、整流装置のフィンへのダイオード圧入後、ダイオードのヒートシンクは、圧入方向に凸型に変形するため、Si素子は、ダイオードのヒートシンクとは逆側に凹型に変形する。このことにより、Si素子の変形方向には、ダイオードのヒートシンクのような硬い材質が設けられていないため、Si素子には、変形方向とは逆方向の反力を受けない。そのため、Si素子の変形を抑制できない。これにより、Si素子の破壊が発生する場合がある。また、ダイオード圧入時にSi素子の破壊が発生しなくても、ダイオードによる整流時にSi素子には、発熱により圧入方向の内部応力が発生するため、変形量が増大して破壊に至る場合もある。
【0021】
いずれの時にSi素子が破壊するにしても、ダイオード圧入時にダイオードのヒートシンクが圧入方向に凸型に変形することにより、Si素子は、ダイオードのヒートシンクとは逆側に凹型に変形することでSi素子の変形を抑制できないことが大きな原因である。
【0022】
本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、Si素子の変形を抑制することを目的とする。
【0023】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1では、円板状の底部を有するヒートシンクと底部の一方の面に設けられ、交流電流を直流電流に変換する半導体ペレットとを備えているダイオードを放熱フィンに設けられた貫通孔へ圧入するダイオード圧入方法において、底部の他方の面の外周部に主に荷重をかけてダイオードを貫通孔に圧入することを特徴としている。
【0024】
このことにより、ヒートシンクの底部の外周部は、中心方向に押される。そのため、ヒートシンクの底部の中央部分は、反圧入方向に反力を受けるので、ヒートシンクの底部は、反圧入方向の球状凸型に変形する。そのため、半導体ペレットは、ヒートシンクの底部側に球状凸型に変形し、半導体ペレットは、ヒートシンクの底部から変形方向とは逆方向の反力を受ける。よって、半導体ペレットの変形を抑制することができる。
【0025】
また、請求項2では、円板状の底部を有するヒートシンクと底部の一方の面に設けられ、交流電流を直流電流に変換する半導体ペレットとを備えているダイオードを放熱フィンに設けられた貫通孔へ圧入するダイオード圧入方法において、底部の他方の面は、球状凸型に形成されており、他方の面にほぼ均等に荷重をかけてダイオードを貫通孔に圧入することを特徴としている。また、請求項4では、円板状の底部を有するヒートシンクと底部の一方の面に設けられ、交流電流を直流電流に変換する半導体ペレットとを備えているダイオードにおいて、底部の他方の面は、球状凸型に形成されていることを特徴としている。
【0026】
これらのことにより、ダイオード圧入時にヒートシンクの底部の他方の面と圧入治具の先端面とがほぼ全域で接触する。そのため、ヒートシンクの底部には、ほぼ均等な荷重がかかる。また、ヒートシンクの外周部は、中心方向へ押される。そのため、ヒートシンクの底部の中央部分は、反圧入方向へ反力を受けるので、ヒートシンクの底部は、圧入方向へ変形しない。そのため、半導体ペレットも同様に圧入方向へ変形せず、半導体ペレットは、ヒートシンクの底部から変形方向とは逆方向の反力を受ける。よって、請求項1と同様の効果を得ることができる。
【0027】
また、請求項3では、ダイオードの貫通孔への圧入は、先端が球状凹型に形成されている圧入治具により行われることを特徴としている。
【0028】
このことにより、ヒートシンクの底部の外周部にかかる荷重をヒートシンクの底部の中央部分にかかる荷重よりも大きくすることができる。また、ヒートシンクの底部が球状凸型で形成されている場合、ヒートシンクの底部にほぼ均等な荷重をかけることができる。
【0029】
また、請求項5では、円板状の底部を有するヒートシンクと、交流電流を直流電流に変換する半導体ペレットと、半導体ペレットの変形力を吸収する応力緩衝板とを備え、底部の一方の面に第1の半田、応力緩衝板、第2の半田、半導体ペレットがこの順序で積層されているダイオードにおいて、第2の半田の半導体ペレットとの接合面、もしくは応力緩衝板の第2の半田との接合面は、球状凹型に形成されていることを特徴としている。
【0030】
第2の半田の半導体ペレットとの接合面が球状凹型に形成されている場合、ダイオード組付け時に半導体ペレットは、第2の半田との接合面に沿って変形する。そして、ダイオード圧入時、ヒートシンクの底部は、圧入方向に凸型に変形するため、第1の半田、及び応力緩衝板も同様に圧入方向に凸型に変形する。そして、第2の半田の応力緩衝板との接合面は、変形した応力緩衝板に沿って変形するため、第2の半田の半導体ペレットとの接合面は、平面状になる。これにより、半導体ペレットの変形を小さくすることができる。
【0031】
また、応力緩衝板の第2の半田との接合面が球状凹型に形成されている場合、ダイオード組付け時に第2の半田は、応力緩衝板との接合面に沿って変形する。これにより、半導体ペレットも同様に第2の半田との接合面に沿って変形する。そして、ダイオード圧入時、ヒートシンクの底部は、圧入方向に凸型に変形するため、第1の半田も同様に圧入方向に凸型に変形する。そして、第1の半田の応力緩衝板との接合面は、変形した第1の半田に沿って変形するため、応力緩衝板の第2の半田との接合面は、平面状になる。これにより、第2の半田の半導体ペレットとの接合面は、平面状になる。そのため、半導体ペレットの変形を小さくすることができる。
【0038】
また、請求項6では、貫通孔が形成されている放熱フィンにおいて、放熱フィンには、円板状の底部を有するヒートシンク、及び底部の一方の面に交流電流を直流電流に変換する半導体ペレットを備えたダイオードを放熱フィンの一方側から他方側に圧入可能な貫通孔が設けられ、且つ貫通孔の内径は、一方側から他方側方向に漸減していることを特徴としている。
【0039】
ダイオード圧入時、ヒートシンクの外周部は、貫通孔の内径が圧入方向に漸減しているため、貫通孔の内周に沿って斜めに変形する。そのため、ヒートシンクの底部の中央部分は、反圧入方向に反力を受けるので、ヒートシンクの底部は、反圧入方向の球状凸型に変形し、半導体ペレットは、ヒートシンクの底部側に球状凸型に変形する。これにより、半導体ペレットは、ヒートシンクの底部から変形方向とは逆方向の反力を受ける。よって、半導体ペレットの変形を抑制することができる。
【0042】
また、請求項7では、円板状の底部、及び底部の一方の面側に形成される周壁部を有するヒートシンクと、周壁部に包囲され、交流電流を直流電流に変換する半導体ペレットとを備えるダイオードを放熱フィンに設けられた貫通孔へ装着するダイオード装着方法において、ダイオードは、貫通孔へ圧入され、その後、周壁部の先端部の径を減少することを特徴としている。
【0043】
このことにより、ヒートシンクの底部の中央部分は、反圧入方向に反力を受けるため、ヒートシンクの底部は、反圧入方向の球状凸型に変形する。そのため、半導体ペレットは、ヒートシンクの底部側に球状凸型に変形する。これにより、半導体ペレットは、ヒートシンクの底部から変形方向とは逆方向の反力を受ける。よって、半導体ペレットの変形を抑制することができる。
【0044】
また、請求項8では、先端部の径の減少は、かしめにより行われることを特徴としている。
【0045】
このことにより、周壁部の先端部の径は、減少する。よって、請求項7と同様の効果を得ることができる。
【0046】
また、請求項9では、放熱フィンには、貫通孔の近傍に他の貫通孔が設けられており、先端部の径の減少は、テーパー状で形成されているかしめ棒を他の貫通孔にダイオードの反圧入方向から圧入することにより行われることを特徴としている。
【0047】
このことにより、貫通孔の内周は、他の貫通孔にかしめ棒を圧入することにより、中心方向に力が加わり、かしめ棒の側面に沿って変形する。そのため、ヒートシンクの周壁部は、変形した貫通孔の内周に沿って変形する。これにより、周壁部の先端部の径は、減少する。よって、請求項7と同様の効果を得ることができる。
【0048】
また、請求項10では、他の貫通孔は、周方向にほぼ均等に少なくとも3つ、もしくは周方向全域に設けられていることを特徴としている。
【0049】
このことにより、貫通孔の内周は、他の貫通孔にかしめ棒を圧入することにより、径方向にほぼ同心円状に変形する。そのため、ヒートシンクの底部は、径方向にほぼ同心円状に変形する。これにより、半導体ペレットも同様に径方向にほぼ同心円状に変形する。よって、半導体ペレットの耐久性を向上させることができる。
【0050】
【発明の実施の形態】
以下、図に示す実施形態について説明する。
【0051】
(第1実施形態)
図1(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図1(b)は、整流装置のフィン110へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図1(c)は、本実施形態におけるダイオード1圧入後のダイオード1のヒートシンク20の形状を示した図である。
【0052】
図1(a)に示すダイオード1は、整流装置に用いられるものである。そのダイオード1は、ヒートシンク20、半導体ペレットであるSi素子30、応力緩衝板40、銅リード50、及び半田60,70,80等から構成されている。
【0053】
ヒートシンク20は、銅で形成され、有底円筒状であり、ダイオード1による整流時に発生する熱を整流装置のフィン110へ逃す役割を果たすものである。
【0054】
また、ヒートシンク20は、底部20a、及び周壁部20bを有している。周壁部20bは、ダイオード1を整流装置のフィン110に形成されている貫通孔130に圧入した際、その貫通孔130の内周と嵌合する。また、ヒートシンク20の底部20aには、圧入側に押圧面100、及び押圧面100の裏面に半田付面90が形成されている。ヒートシンク20の周壁部20bは、底部20aの外周側に形成されていて、半田付面90側に突出している。
【0055】
半田付面90には、圧入方向Bに応力緩衝板40、Si素子30、及び銅リード50の順に積層されており、これらは、半田60、70、80を介して接合されている。また、押圧面100は、半田付面90の裏面であり、ダイオード1圧入時に圧入棒120により押圧される。
【0056】
Si素子30は、ヒートシンク20の周壁部20bに包囲され、円板状であり、交流電流を直流電流に変換するものである。また、Si素子30により変換された直流電流は、銅リード50を介して車両のバッテリ等に伝送される。
【0057】
応力緩衝板40は、Si素子30と同様に円板状であり、銅で形成されている。また、応力緩衝板40は、ダイオード1圧入時、及びダイオードによる整流時におけるSi素子30の変形力を吸収するものである。
【0058】
また、図1(b)に示す整流装置のフィン110は、銅で形成されており、ダイオード1による整流時に発生する熱をダイオード1のヒートシンク20から受け、その熱を放熱する役割を果たす。また、圧入治具である圧入棒120は、ダイオード1の貫通孔への圧入時に押圧面100と接する先端面が球状凹型で形成されている。
【0059】
また、ダイオード1のヒートシンク20の外径をフィン110に形成されている貫通孔130の内径よりも大きくすることにより圧入代を設けている。
【0060】
そして、硬質金属からなるSKD−11の固定装置2にフィン110を挟み、フィン110に形成されている貫通孔130に押圧面100が圧入方向Bとは逆方向を向くようにダイオード1を設置する。そして、圧入棒120の先端部と押圧面100が接触するように圧入棒120を配し、ダイオード1の押圧面100に荷重を印加し、圧入方向Bにダイオード1を圧入する。
【0061】
この構成では、圧入棒120の先端面は、圧入方向Bとは逆方向の球状凹型に形成しているため、圧入棒120の先端面は、押圧面100の外周部と主に接触する。そのため、ヒートシンク20の底部20aの外周部にかかる荷重は、ヒートシンク20の底部20aの中央部分にかかる荷重よりも大きくなる。また、ダイオード1の外径を貫通孔130の内径よりも大きくすることで圧入代を設けているため、ヒートシンク20の周壁部20bは、中心方向へ押される。これにより、ヒートシンク20の底部20aの中央部分は、圧入方向Bとは逆方向へ大きな力を受けるため、ヒートシンク20の底部20aは、図1(c)に示すように、圧入方向Bとは逆方向の球状凸型に変形する。
【0062】
このことにより、Si素子30は、ヒートシンク20の底部20a側に球状凸型に変形する。これにより、Si素子30は、Si素子30よりも硬い材質であるヒートシンク20の底部20aから変形方向とは逆方向の反力を受けるため、Si素子30の変形が抑制される。よって、Si素子30の変形を小さくし、破壊を発生し難くすることができる。
【0063】
なお、本実施形態でのダイオード1のヒートシンク20は、有底円筒状で説明したが、ダイオード1のヒートシンク20が図12のようにほぼ円柱状であっても同様の効果を得ることができる。
【0064】
(第2実施形態)
図2(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図2(b)は、整流装置のフィン110へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図2(c)は、本実施形態におけるのダイオード1圧入後のダイオード1のヒートシンク21の形状を示した図である。ここでは、第1実施形態と同様な箇所は省略し、相違する箇所についてのみ説明する。
【0065】
図2(a)に示すように、本実施形態でのヒートシンク21の底部21aは、圧入方向Bとは逆方向の球状凸型で形成している。ヒートシンク21の底部21aを球状凸型にすることにより、半田付面91、及び押圧面101の形状も圧入方向Bとは逆方向の球状凸型になる。なお、ヒートシンク21の底部21a、及び圧入棒120の先端面の曲面率は、ほぼ同じである。そのため、半田付面91に配設される半田61、応力緩衝板41、半田71、Si素子31、半田81、及び銅リード51の形状も半田付面91に沿うように変形する。
【0066】
この構成により、ダイオード1圧入時、ヒートシンク21に形成されている押圧面101と圧入棒120の先端面がほぼ全域に接触するため、ヒートシンク21の底部21aには、ほぼ均等な荷重がかかる。また、ダイオード1の外径を貫通孔130の内径よりも大きくすることで圧入代を設けているため、ヒートシンク21の周壁部21bは、中心方向へ押される。これにより、ヒートシンク21の底部21aの中央部分は、圧入方向Bとは逆方向に反力を受けるため、ヒートシンク21の底部21aは、図2(c)に示すように、ほとんど変形が起こらない。そのため、Si素子31も同様にほぼ変形が起こらない。
【0067】
このことにより、Si素子31は、Si素子30よりも硬い材質であるヒートシンク21の底部21aから変形方向とは逆方向の反力を受けるため、Si素子30の変形が抑制される。よって、Si素子30の変形を小さくし、破壊を発生し難くすることができる。
【0068】
なお、本実施形態でのダイオード1のヒートシンク20は、有底円筒状で説明したが、ダイオード1のヒートシンク20が図12のようにほぼ円柱状であっても同様の効果を得ることができる。
【0069】
(第3実施形態)
図3(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図3(b)は、整流装置のフィン111へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図3(c)は、本実施形態におけるのダイオード1圧入後のダイオード1のヒートシンク20の形状を示した図である。ここでは、第1実施形態と同様な箇所は省略し、相違する箇所についてのみ説明する。
【0070】
図3(b)に示すように、本実施形態での整流装置のフィン111に形成されている貫通孔131の内径は、圧入方向Bに漸減している。なお、貫通孔131の挿入側の内径は、フィン貫通孔径Aである。また、圧入棒121の先端面は、平面で形成されている。
【0071】
この構成により、ダイオード1圧入時、ヒートシンク20の周壁部20bは、貫通孔131の内径が圧入方向Bに漸減しているため、貫通孔131の内周に沿って斜めに変形する。そのため、ヒートシンク20の底部20aの中央部分は、圧入方向Bとは逆方向に反力を受ける。これにより、ヒートシンク20の底部20aの中央部分は、圧入方向Bとは逆方向の大きな力を受けるため、ヒートシンク20の底部20aは、図3(c)に示すように、圧入方向Bとは逆方向の球状凸型に変形する。
【0072】
このことにより、Si素子30は、ヒートシンク20の底部20a側に球状凸型に変形する。これにより、Si素子30は、Si素子30よりも硬い材質であるヒートシンク20の底部20aから変形方向とは逆方向の反力を受けるため、Si素子30の変形が抑制される。よって、Si素子30の変形を小さくし、破壊を発生し難くすることができる。
【0073】
なお、本実施形態では、先端面が圧入方向Bとは逆方向の球状凹型に形成している圧入棒120を用いても同様の効果を得ることができる。また、本実施形態でのダイオード1のヒートシンク20は、有底円筒状で説明したが、ダイオード1のヒートシンク20が図12のようにほぼ円柱状であっても同様の効果を得ることができる。
【0074】
(第4実施形態)
図4(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図4(b)は、整流装置のフィン110へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図4(c)は、本実施形態におけるのダイオード1圧入後のダイオード1のヒートシンク20のかしめ状態を示した図である。ここでは、第1実施形態と同様な箇所は省略し、相違する箇所についてのみ説明する。
【0075】
本実施形態では、ヒートシンク20の周壁部20bの先端部が圧入方向Bのフィン110端部を突出するようにダイオード1を圧入する。そして、その先端部の径が小さくなるようにかしめ治具により、先端部をかしめる。これにより、ヒートシンク20の底部20aの中央部分は、ダイオード1圧入時よりも圧入方向Bとは逆方向に大きい反力を受ける。そのため、ヒートシンク20の底部20aの形状は、ダイオード1圧入時よりも圧入方向Bとは逆方向の球状凸型に大きく変形する。
【0076】
このことにより、Si素子30は、ダイオード1圧入時よりもヒートシンク20の底部20a側に球状凸型に大きく変形する。これにより、Si素子30は、Si素子30よりも硬い材質であるヒートシンク20の底部20aからダイオード1圧入時よりも変形方向とは逆方向の大きい反力を受けるため、Si素子30の変形が抑制される。よって、ダイオード1による整流時におけるSi素子30の変形を小さくし、破壊をより発生し難くすることができる。
【0077】
(第5実施形態)
図5(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図5(b)は、整流装置のフィン112へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図5(c)は、本実施形態におけるダイオード1圧入後、整流装置のフィン112にかしめ棒4を圧入した時を示した図である。ここでは、第1実施形態と同様な箇所は省略し、相違する箇所についてのみ説明する。
【0078】
図5(b)に示すように、本実施形態では、整流装置のフィン112に形成されている貫通孔130の近傍に他の貫通孔であるかしめ棒挿入孔3が空けられている。そのかしめ棒挿入孔3は、周方向に均等になるように少なくとも3つ、もしくは周方向全域に穴が空けられている。
【0079】
かしめ棒挿入孔3に圧入されるかしめ棒4は、フィン112より硬い材質で形成されている。また、かしめ棒4は、フィン112の板厚よりも長く、先端にいくに従って径が小さくなるようなテーパー状をしている。
【0080】
この構成により、ダイオード1圧入後、かしめ棒4をかしめ棒挿入孔3に圧入方向Bとは逆方向に圧入する。そして、貫通孔130の内周は、かしめ棒4の側面に沿って斜めに変形する。そのため、ヒートシンク20の周壁部20bは、変形した貫通孔130の内周から中心方向に押され、貫通孔130の内周に沿って斜めに変形する。これにより、ヒートシンク20の底部20aの中央部分は、ダイオード1圧入時よりも圧入方向Bとは逆方向に大きい反力を受けるため、ヒートシンク20の底部20aの形状は、ダイオード1圧入時よりも圧入方向Bとは逆方向の球状凸型に大きく変形する。
【0081】
このことにより、Si素子30は、ダイオード1圧入時よりもヒートシンク20の底部20a側に球状凸型に大きく変形する。これにより、Si素子30は、Si素子30よりも硬い材質であるヒートシンク20の底部20aからダイオード1圧入時よりも変形方向とは逆方向の大きい反力を受けるため、Si素子30の変形が抑制される。よって、ダイオード1による整流時におけるSi素子30の変形を小さくし、破壊をより発生し難くすることができる。
【0082】
(第6実施形態)
図6(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図6(b)は、整流装置のフィン110へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図6(c)は、本実施形態におけるの圧入後のダイオード1の形状を示した図である。ここでは、第1実施形態と同様な箇所は省略し、相違する箇所についてのみ説明する。
【0083】
図6(a)に示すように、Si素子32、及び応力緩衝板42との間には、これらを接合するために半田72が用いられている。その半田72は、中心部分が薄くなるように圧入方向Bとは逆方向の球状凹型で形成されている。これは、先端が丸い治具で半田72を圧入することで形成できる。また、図6(b)に示すように、圧入棒121の先端は、従来と同じく平面で形成されている。
【0084】
この構成により、ダイオード1の組み付け時にSi素子32、及び銅リード52は、球状凹型で形成さている半田72との接合面に沿って変形する。そして、ダイオード1を圧入後、ヒートシンク20の底部20aは、図6(c)に示すように、圧入方向Bに凸型に変形する。そのため、応力緩衝板42もヒートシンク20の底部20aと同じように凸型に変形し、半田72の応力緩衝板42との接合面は、変形した応力緩衝板42に沿って変形するので、半田72のSi素子32との接合面は、平面状になる。
【0085】
このことにより、Si素子32は、平面状に変形するため、ほとんど内部応力が発生しない。そのため、Si素子32の破壊を発生し難くすることができる。
【0086】
なお、本実施形態でのダイオード1のヒートシンク20は、有底円筒状で説明したが、ダイオード1のヒートシンク20が図12のようにほぼ円柱状であっても同様の効果を得ることができる。
【0087】
(第7実施形態)
図7(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図7(b)は、整流装置のフィン110へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図7(c)は、本実施形態におけるの圧入後のダイオード1の形状を示した図である。ここでは、第6実施形態と同様な箇所は省略し、相違する箇所についてのみ説明する。
【0088】
図7(a)に示すように、応力緩衝板43は、中心部分が薄くなるように圧入方向Bとは逆方向の球状凹型で形成されている。これは、先端が丸い治具で応力緩衝板43を圧入することで形成できる。
【0089】
この構成により、ダイオード1の組み付け時に半田73、Si素子33、及び銅リード53は、球状凹部で形成されている応力緩衝板4との接合面に沿って変形する。そして、ダイオード1を圧入後、ヒートシンク20の底部20aは、図7(c)に示すように、圧入方向Bに凸型に変形するため、半田73も同様に凸型に変形する。そして、応力緩衝板43の半田73との接合面は、変形した半田73に沿って変形するため、応力緩衝板43の半田73との接合面は、平面状になる。
【0090】
このことにより、Si素子32は、平面状に変形するため、ほとんど内部応力が発生しない。そのため、Si素子32の破壊を発生し難くすることができる。
【0091】
なお、本実施形態でのダイオード1のヒートシンク20は、有底円筒状で説明したが、ダイオード1のヒートシンク20が図12のようにほぼ円柱状であっても同様の効果を得ることができる。
【0092】
(第8実施形態)
図8(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図8(b)は、整流装置のフィン113へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図8(c)は、本実施形態におけるダイオード1による整流時のダイオード1の形状を示した図である。ここでは、第1実施形態と同様な箇所は省略し、相違する箇所についてのみ説明する。
【0093】
図8(b)に示すように、本実施形態では、整流装置のフィン113を熱膨張係数が異なる第1のフィン113a、及び第2のフィン113bの二層に分けて構成されている。第2のフィン113bは、第1のフィン113aよりも熱膨張係数が大きい材質を選択する。なお、第1のフィン113aと第2のフィン113bは、熱処理により結合されている。また、フィン113は、一体に形成されていて、熱加工することにより、熱膨張係数が異なるように分けてもよい。
【0094】
この構成により、ダイオード1による整流時、熱膨張係数が大きい第2のフィン103bは、第1のフィン113aに比べて熱膨張が大きくなる。そのため、第2のフィン113bは、図8(c)に示すように、ダイオード1を圧入する貫通孔130の中心方向に第1のフィン113aよりも大きく変形する。これにより、ヒートシンク20の周壁部20bは、第1のフィン113a、及び第2のフィン113bにより中心方向に押されるため、周壁部20bの先端部が中心方向に大きく変形する。これにより、ヒートシンク20の底部20aの中央部分は、ダイオード1圧入時よりも圧入方向Bとは逆方向に大きい反力を受けるため、ヒートシンク20の底部20aの形状は、ダイオード1圧入時よりも圧入方向Bとは逆方向の球状凸型に大きく変形する。
【0095】
このことにより、Si素子30は、ダイオード1圧入時よりもヒートシンク20の底部20a側に球状凸型に大きく変形する。これにより、Si素子30は、Si素子30よりも硬い材質であるヒートシンク20の底部20aからダイオード1圧入時よりも変形方向とは逆方向の大きい反力を受けるため、Si素子30の変形が抑制される。よって、ダイオード1による整流時におけるSi素子30の変形を小さくし、破壊をより発生し難くすることができる。
【0096】
(第9実施形態)
図9(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図9(b)は、整流装置のフィン110へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図9(c)は、本実施形態におけるダイオード1による整流時のダイオード1の形状を示した図である。ここでは、第8実施形態と同様な箇所は省略し、相違する箇所についてのみ説明する。
【0097】
図9(a)に示すように、本実施形態では、ヒートシンク22の周壁部22bは、熱膨張係数が異なる第1の周壁部22c、及び第2の周壁部22dの二層に分けて構成されている。第2の周壁部22dは、第1の周壁部22cよりも熱膨張係数が大きい材質を選択する。また、第1の周壁部22cと第2の周壁部22dは、熱処理により結合されている。なお、ヒートシンク22の周壁部22bは、一体に形成されていて、熱加工することにより、熱膨張係数が異なるように分けてもよい。
【0098】
この構成により、ダイオード1による整流時、熱膨張係数が大きい第2の周壁部22dは、第1の周壁部22cに比べて熱膨張が大きくなる。そして、第2の周壁部22dの外周には、フィン110の内周を接しているため、第2の周壁部22dは、図9(c)に示すように、中心方向に第1の周壁部22cよりも大きく変形する。これにより、ヒートシンク22の底部22aの中央部分は、ダイオード1圧入時よりも圧入方向Bとは逆方向に大きい反力を受けるため、ヒートシンク22の底部22aの形状は、ダイオード1圧入時よりも圧入方向Bとは逆方向に径が広がる球状凸型に大きく変形する。
【0099】
このことにより、Si素子30は、ダイオード1圧入時よりもヒートシンク20の底部20a側に球状凸型に大きく変形する。これにより、Si素子30は、Si素子30よりも硬い材質であるヒートシンク20の底部20aからダイオード1圧入時よりも変形方向とは逆方向の大きい反力を受けるため、Si素子30の変形が抑制される。よって、ダイオード1による整流時におけるSi素子30の変形を小さくし、破壊をより発生し難くすることができる。
【0100】
(第10実施形態)
図10(a)は、本実施形態におけるダイオード1の形状を示した図である。また、図10(b)は、整流装置のフィン110へのダイオード1の圧入方法を示した図である。また、図10(c)は、本実施形態におけるダイオード1による整流時のダイオード1の形状を示した図である。ここでは、第1実施形態と同様な箇所は省略し、相違する箇所についてのみ説明する。
【0101】
本実施形態では、図10(a)に示すダイオード1のヒートシンク20の熱膨張係数を銅リード50の熱膨張係数よりも大きくしている。
【0102】
この構成により、ダイオード1による整流時、熱膨張係数が大きいダイオード1のヒートシンク20は、銅リード50に比べて熱膨張が大きくなる。これにより、ヒートシンク20の底部20aの中央部分は、圧入方向Bとは逆方向にダイオード圧入時よりも大きい反力を受けるため、ヒートシンク20の底部20aの形状は、ダイオード1圧入時よりも図8(c)に示すように、圧入方向Bとは逆方向の球状凸型に大きく変形する。
【0103】
このことにより、Si素子30は、ダイオード1圧入時よりもヒートシンク20の底部20a側に球状凸型に大きく変形する。これにより、Si素子30は、Si素子30よりも硬い材質であるヒートシンク20の底部20aからダイオード1圧入時よりも変形方向とは逆方向の大きい反力を受けるため、Si素子30の変形が抑制される。よって、ダイオード1による整流時におけるSi素子30の変形を小さくし、破壊をより発生し難くすることができる。
【0104】
なお、本実施形態では、ダイオード1のヒートシンク20の熱膨張係数をSi素子30の熱膨張係数よりも大きく構成しても同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図2】本発明の第2実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図3】本発明の第3実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図4】本発明の第4実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図5】本発明の第5実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図6】本発明の第6実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図7】本発明の第7実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図8】本発明の第8実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図9】本発明の第9実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図10】本発明の第10実施形態に係るダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図11】従来例1のダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【図12】従来例2のダイオード構造、及びその圧入方法を示した図である。
【符号の説明】
1…ダイオード、
2…固定装置、
3…かしめ棒挿入孔、
4…かしめ棒、
2a、2b、20、21、22…ヒートシンク、
3a、3b、30、31、32、33…Si素子、
4a、4b、40、41、42、43…応力緩衝板、
5a、5b、50、51、52、53…銅リード、
6a、6b、7a、7b、8a、8b、60、61、62、63、70、71、72、73、80、81、82、83…半田、
9a、9b、90、91…半田付面、
10a、10b、100、101…押圧面、
20a、21a、22a…底部、
20b、21b、22b…周壁部、
22c…第1の周壁部、
22d…第2の周壁部、
110、111、112、113…フィン、
113a…第1のフィン、
113b…第2のフィン、
120、121…圧入棒、
130、131…貫通孔、
A…フィン貫通孔径、
B…圧入方向。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a diode structure for press-fitting into a fin and a press-fitting method thereof, and is particularly suitable for use in a rectifier of a vehicle AC generator mounted on a passenger car, a truck or the like.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for joining a diode to a fin of a rectifier, a method by press-fitting is known as described in JP-A-5-114678. In order to press-fit the diode into the fin, it is necessary to make the outer diameter of the heat sink of the diode larger than the inner diameter of the through-hole of the fin of the rectifier and to provide a press-fitting allowance so that the diode does not come off from the fin. is there. Therefore, it must be applied with a high load at the time of diode press-fitting.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, when a load applied to the heat sink of the diode is increased when the diode is pressed, the shape of the heat sink of the diode is deformed as shown in FIGS. 11C and 12C, causing the destruction of the Si element. This will be described with reference to the drawings.
[0004]
(Conventional example 1)
FIG. 11A is a diagram showing the shape of the diode. FIG.11 (b) is the figure which showed the time of the diode press injection to the fin of a rectifier. FIG. 11C shows the shape of the heat sink of the diode after diode press-fitting.
[0005]
As shown in FIG. 11A, the
[0006]
The
[0007]
The
[0008]
The
[0009]
Further, a press-fitting allowance is provided by making the outer diameter of the
[0010]
Then, as shown in FIG. 11B, the
[0011]
Since the press-fitting allowance is provided at the bottom of the
[0012]
As a result, the
[0013]
(Conventional example 2)
Next, Conventional Example 2 will be described. As shown in FIG. 12A, the
[0014]
The
[0015]
The
[0016]
Further, the press-fitting allowance is provided by making the outer diameter of the
[0017]
Then, as shown in FIG. 11B, the
[0018]
When the
[0019]
Thus, the
[0020]
As described above, after the diode is press-fitted into the fin of the rectifier, the heat sink of the diode is deformed into a convex shape in the press-fitting direction, so that the Si element is deformed into a concave shape on the opposite side to the heat sink of the diode. As a result, a hard material such as a diode heat sink is not provided in the deformation direction of the Si element, and therefore, the Si element does not receive a reaction force in the direction opposite to the deformation direction. Therefore, deformation of the Si element cannot be suppressed. Thereby, destruction of the Si element may occur. Even if the Si element does not break when the diode is press-fitted, the Si element generates internal stress in the press-fitting direction due to heat generation during rectification by the diode, so that the deformation amount may increase and breakage may occur.
[0021]
Even if the Si element breaks down at any time, the Si element is deformed into a concave shape on the opposite side of the diode heat sink by deforming the diode heat sink into a convex shape in the press-fitting direction. The main reason is that the deformation of the material cannot be suppressed.
[0022]
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to suppress deformation of the Si element.
[0023]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problem, in
[0024]
As a result, the outer periphery of the bottom of the heat sink is pushed in the center direction. For this reason, the central portion of the bottom of the heat sink receives a reaction force in the counter press-fitting direction, so that the bottom of the heat sink is deformed into a spherical convex shape in the counter press-fitting direction. Therefore, the semiconductor pellet is deformed into a spherical convex shape on the bottom side of the heat sink, and the semiconductor pellet receives a reaction force in a direction opposite to the deformation direction from the bottom of the heat sink. Therefore, deformation of the semiconductor pellet can be suppressed.
[0025]
According to a second aspect of the present invention, there is provided a diode having a heat sink having a disk-shaped bottom portion and a semiconductor pellet provided on one surface of the bottom portion for converting alternating current into direct current. In the diode press-fitting method, the other surface of the bottom is formed in a spherical convex shape, and the diode is press-fitted into the through hole while applying a load almost evenly to the other surface. According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a diode including a heat sink having a disk-shaped bottom and a semiconductor pellet that is provided on one surface of the bottom and converts alternating current into direct current. It is characterized by being formed in a spherical convex shape.
[0026]
As a result, the other surface of the bottom portion of the heat sink and the tip surface of the press-fitting jig come into contact with each other at almost the entire area when the diode is press-fitted. Therefore, a substantially uniform load is applied to the bottom of the heat sink. Further, the outer peripheral portion of the heat sink is pushed toward the center. Therefore, the central portion of the bottom portion of the heat sink receives a reaction force in the counter press-fitting direction, so that the bottom portion of the heat sink does not deform in the press-fitting direction. For this reason, the semiconductor pellet is similarly not deformed in the press-fitting direction, and the semiconductor pellet receives a reaction force in the direction opposite to the deformation direction from the bottom of the heat sink. Therefore, an effect similar to that of the first aspect can be obtained.
[0027]
According to a third aspect of the present invention, the press-fitting into the through hole of the diode is performed by a press-fitting jig whose tip is formed in a spherical concave shape.
[0028]
Thereby, the load applied to the outer peripheral part of the bottom part of the heat sink can be made larger than the load applied to the central part of the bottom part of the heat sink. When the bottom of the heat sink is formed in a spherical convex shape, a substantially uniform load can be applied to the bottom of the heat sink.
[0029]
According to a fifth aspect of the present invention, a heat sink having a disk-shaped bottom portion, a semiconductor pellet that converts alternating current into direct current, and a stress buffer plate that absorbs deformation force of the semiconductor pellet are provided, and one surface of the bottom portion is provided. In the diode in which the first solder, the stress buffer plate, the second solder, and the semiconductor pellet are stacked in this order, the bonding surface of the second solder with the semiconductor pellet or the second solder of the stress buffer plate The joining surface is characterized by being formed in a spherical concave shape.
[0030]
When the joint surface of the second solder with the semiconductor pellet is formed in a spherical concave shape, the semiconductor pellet is deformed along the joint surface with the second solder when the diode is assembled. When the diode is press-fitted, the bottom portion of the heat sink is deformed into a convex shape in the press-fitting direction, so that the first solder and the stress buffer plate are similarly deformed into a convex shape in the press-fitting direction. Since the joint surface of the second solder with the stress buffer plate is deformed along the deformed stress buffer plate, the joint surface of the second solder with the semiconductor pellet becomes planar. Thereby, the deformation | transformation of a semiconductor pellet can be made small.
[0031]
Further, when the joint surface of the stress buffer plate with the second solder is formed in a spherical concave shape, the second solder is deformed along the joint surface with the stress buffer plate when the diode is assembled. As a result, the semiconductor pellet is similarly deformed along the joint surface with the second solder. When the diode is press-fitted, the bottom portion of the heat sink is deformed into a convex shape in the press-fitting direction, so that the first solder is also deformed into a convex shape in the press-fitting direction. Then, since the joint surface of the first solder with the stress buffer plate is deformed along the deformed first solder, the joint surface of the stress buffer plate with the second solder becomes planar. Thereby, the joint surface of the second solder with the semiconductor pellet becomes planar. Therefore, deformation of the semiconductor pellet can be reduced.
[0038]
Claims 6 Then, in the heat radiating fin in which the through hole is formed, the heat radiating fin radiates heat from a heat sink having a disk-shaped bottom and a diode having a semiconductor pellet that converts alternating current to direct current on one surface of the bottom. A through hole that can be press-fitted from one side of the fin to the other side is provided, and the inner diameter of the through hole gradually decreases from one side to the other side.
[0039]
At the time of diode press-fitting, the outer periphery of the heat sink is deformed obliquely along the inner periphery of the through-hole because the inner diameter of the through-hole gradually decreases in the press-fitting direction. Therefore, the center part of the bottom of the heat sink receives a reaction force in the counter press-fit direction, so the bottom of the heat sink is deformed into a spherical convex shape in the counter press-fit direction, and the semiconductor pellet is deformed into a spherical convex shape on the bottom side of the heat sink. To do. Thereby, the semiconductor pellet receives a reaction force in the direction opposite to the deformation direction from the bottom of the heat sink. Therefore, deformation of the semiconductor pellet can be suppressed.
[0042]
Claims 7 Then, a diode having a disk-shaped bottom portion and a heat sink having a peripheral wall portion formed on one surface side of the bottom portion and a semiconductor pellet surrounded by the peripheral wall portion and converting alternating current into direct current is used as a heat radiation fin. In the diode mounting method for mounting in the provided through hole, the diode is press-fitted into the through hole, and then the diameter of the tip of the peripheral wall portion is reduced.
[0043]
As a result, the central portion of the bottom of the heat sink receives a reaction force in the counter press-fitting direction, so that the bottom of the heat sink is deformed into a spherical convex shape in the counter press-fitting direction. Therefore, the semiconductor pellet is deformed into a spherical convex shape on the bottom side of the heat sink. Thereby, the semiconductor pellet receives a reaction force in the direction opposite to the deformation direction from the bottom of the heat sink. Therefore, deformation of the semiconductor pellet can be suppressed.
[0044]
[0045]
Thereby, the diameter of the front-end | tip part of a surrounding wall part reduces. Therefore, the claim 7 The same effect can be obtained.
[0046]
Claims 9 Then, in the radiating fin, another through hole is provided in the vicinity of the through hole, and the decrease in the diameter of the tip portion is caused by tapering the caulking rod formed in the other through hole. It is characterized by being performed by press-fitting from
[0047]
As a result, the inner circumference of the through hole is deformed along the side surface of the caulking bar by applying a force in the center direction by press-fitting the caulking bar into the other through hole. Therefore, the peripheral wall portion of the heat sink is deformed along the inner periphery of the deformed through hole. Thereby, the diameter of the front-end | tip part of a surrounding wall part reduces. Therefore, the claim 7 The same effect can be obtained.
[0048]
Claims 10 Then, the other through-holes are characterized by being provided at least three in the circumferential direction, or in the entire circumferential direction.
[0049]
As a result, the inner periphery of the through hole is deformed substantially concentrically in the radial direction by press-fitting a caulking bar into another through hole. Therefore, the bottom part of the heat sink is deformed substantially concentrically in the radial direction. As a result, the semiconductor pellet is also deformed substantially concentrically in the radial direction. Therefore, the durability of the semiconductor pellet can be improved.
[0050]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments shown in the drawings will be described.
[0051]
(First embodiment)
FIG. 1A is a diagram showing the shape of the
[0052]
A
[0053]
The
[0054]
The
[0055]
On the
[0056]
The
[0057]
The
[0058]
Further, the
[0059]
Further, a press-fitting allowance is provided by making the outer diameter of the
[0060]
And the
[0061]
In this configuration, the tip surface of the press-
[0062]
As a result, the
[0063]
Although the
[0064]
(Second Embodiment)
FIG. 2A is a diagram showing the shape of the
[0065]
As shown in FIG. 2A, the bottom 21 a of the
[0066]
With this configuration, when the
[0067]
As a result, the
[0068]
Although the
[0069]
(Third embodiment)
FIG. 3A is a diagram showing the shape of the
[0070]
As shown in FIG. 3 (b), the inner diameter of the through
[0071]
With this configuration, when the
[0072]
As a result, the
[0073]
In the present embodiment, the same effect can be obtained by using the press-fitting
[0074]
(Fourth embodiment)
FIG. 4A is a diagram showing the shape of the
[0075]
In the present embodiment, the
[0076]
Thus, the
[0077]
(Fifth embodiment)
FIG. 5A is a diagram showing the shape of the
[0078]
As shown in FIG. 5B, in the present embodiment, a caulking rod insertion hole 3 which is another through hole is opened in the vicinity of the through
[0079]
The caulking bar 4 press-fitted into the caulking bar insertion hole 3 is formed of a material harder than the
[0080]
With this configuration, after the
[0081]
Thus, the
[0082]
(Sixth embodiment)
FIG. 6A is a diagram showing the shape of the
[0083]
As shown in FIG. 6A,
[0084]
With this configuration, when the
[0085]
As a result, the
[0086]
Although the
[0087]
(Seventh embodiment)
FIG. 7A is a diagram showing the shape of the
[0088]
As shown in FIG. 7A, the
[0089]
With this configuration, when the
[0090]
As a result, the
[0091]
Although the
[0092]
(Eighth embodiment)
FIG. 8A is a diagram showing the shape of the
[0093]
As shown in FIG. 8B, in this embodiment, the
[0094]
With this configuration, the second fin 103b having a large thermal expansion coefficient during rectification by the
[0095]
Thus, the
[0096]
(Ninth embodiment)
FIG. 9A is a diagram showing the shape of the
[0097]
As shown in FIG. 9A, in this embodiment, the
[0098]
With this configuration, the second
[0099]
Thus, the
[0100]
(10th Embodiment)
FIG. 10A is a diagram showing the shape of the
[0101]
In this embodiment, the thermal expansion coefficient of the
[0102]
With this configuration, during the rectification by the
[0103]
As a result, the
[0104]
In the present embodiment, the same effect can be obtained even if the thermal expansion coefficient of the
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a diode structure and a press-fitting method thereof according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing a diode structure and a press-fitting method thereof according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram illustrating a diode structure and a press-fitting method thereof according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a diagram showing a diode structure and a press-fitting method thereof according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a diagram illustrating a diode structure and a press-fitting method thereof according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a diagram showing a diode structure and a press-fitting method thereof according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a diagram illustrating a diode structure and a press-fitting method thereof according to a seventh embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a diagram showing a diode structure and a press-fitting method thereof according to an eighth embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a diagram illustrating a diode structure and a press-fitting method thereof according to a ninth embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a diagram showing a diode structure and a press-fitting method thereof according to a tenth embodiment of the present invention.
11 is a diagram showing a diode structure of conventional example 1 and its press-fitting method. FIG.
12 is a diagram showing a diode structure of a conventional example 2 and a press-fitting method thereof. FIG.
[Explanation of symbols]
1 ... Diode,
2 ... Fixing device,
3 ... caulking rod insertion hole,
4 ... caulking stick,
2a, 2b, 20, 21, 22 ... heat sink,
3a, 3b, 30, 31, 32, 33 ... Si element,
4a, 4b, 40, 41, 42, 43 ... stress buffer plate,
5a, 5b, 50, 51, 52, 53 ... copper leads,
6a, 6b, 7a, 7b, 8a, 8b, 60, 61, 62, 63, 70, 71, 72, 73, 80, 81, 82, 83 ... solder,
9a, 9b, 90, 91 ... soldering surface,
10a, 10b, 100, 101 ... pressing surface,
20a, 21a, 22a ... bottom,
20b, 21b, 22b ... peripheral wall,
22c ... 1st surrounding wall part,
22d ... 2nd surrounding wall part,
110, 111, 112, 113 ... fins,
113a ... first fin,
113b ... second fin,
120, 121 ... press-fit rod,
130, 131 ... through hole,
A ... Fin through-hole diameter,
B: Press-fit direction.
Claims (10)
前記底部の他方の面の外周部に主に荷重をかけて前記ダイオードを前記貫通孔に圧入することを特徴とするダイオード圧入方法。A diode press-fitting method for press-fitting a diode provided with a heat sink having a disk-shaped bottom part and a semiconductor pellet provided on one surface of the bottom part to convert an alternating current into a direct current into a through hole provided in a radiation fin In
A diode press-fitting method, wherein a load is mainly applied to an outer peripheral portion of the other surface of the bottom portion to press-fit the diode into the through hole.
前記底部の他方の面は、球状凸型に形成されており、前記他方の面にほぼ均等に荷重をかけて前記ダイオードを前記貫通孔に圧入することを特徴とするダイオード圧入方法。A diode press-fitting method for press-fitting a diode provided with a heat sink having a disk-shaped bottom part and a semiconductor pellet provided on one surface of the bottom part to convert an alternating current into a direct current into a through hole provided in a radiation fin In
The other surface of the bottom is formed in a spherical convex shape, and the diode is press-fitted into the through-hole by applying a load almost evenly to the other surface.
前記底部の他方の面は、球状凸型に形成されていることを特徴とするダイオード。In a diode comprising a heat sink having a disk-shaped bottom and a semiconductor pellet provided on one surface of the bottom and converting alternating current into direct current,
The other surface of the bottom is formed in a spherical convex shape.
交流電流を直流電流に変換する半導体ペレットと、
前記半導体ペレットの変形力を吸収する応力緩衝板とを備え、
前記底部の一方の面に第1の半田、前記応力緩衝板、第2の半田、前記半導体ペレットがこの順序で積層されているダイオードにおいて、
前記第2の半田の前記半導体ペレットとの接合面、もしくは前記応力緩衝板の前記第2の半田との接合面は、球状凹型に形成されていることを特徴とするダイオード。A heat sink having a disc-shaped bottom;
A semiconductor pellet that converts alternating current into direct current;
A stress buffer plate that absorbs the deformation force of the semiconductor pellet,
In the diode in which the first solder, the stress buffer plate, the second solder, and the semiconductor pellet are laminated in this order on one surface of the bottom portion,
The diode is characterized in that a bonding surface of the second solder with the semiconductor pellet or a bonding surface of the stress buffer plate with the second solder is formed in a spherical concave shape.
前記放熱フィンには、円板状の底部を有するヒートシンク、及び前記底部の一方の面に交流電流を直流電流に変換する半導体ペレットを備えたダイオードを前記放熱フィンの一方側から他方側に圧入可能な前記貫通孔が設けられ、且つ前記貫通孔の内径は、前記一方側から前記他方側方向に漸減していることを特徴とする放熱フィン。In the radiating fin in which the through hole is formed,
A diode including a heat sink having a disk-shaped bottom and a semiconductor pellet for converting alternating current into direct current on one surface of the bottom can be press-fitted from one side to the other side of the radiation fin. The heat dissipating fin is characterized in that the through hole is provided and the inner diameter of the through hole gradually decreases from the one side toward the other side.
前記ダイオードは、前記貫通孔へ圧入され、その後、前記周壁部の先端部の径を減少することを特徴とするダイオード装着方法。A diode having a disk-shaped bottom part and a heat sink having a peripheral wall part formed on one surface side of the bottom part and a semiconductor pellet surrounded by the peripheral wall part and converting alternating current into direct current is used as a radiation fin. In the diode mounting method for mounting in the provided through hole,
The diode is press-fitted into the through hole, and then the diameter of the tip of the peripheral wall is reduced.
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