JP3652155B2 - Ceramic substrate flaw detection liquid application equipment - Google Patents
Ceramic substrate flaw detection liquid application equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP3652155B2 JP3652155B2 JP02443099A JP2443099A JP3652155B2 JP 3652155 B2 JP3652155 B2 JP 3652155B2 JP 02443099 A JP02443099 A JP 02443099A JP 2443099 A JP2443099 A JP 2443099A JP 3652155 B2 JP3652155 B2 JP 3652155B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flaw detection
- detection liquid
- ceramic substrate
- roller
- crack
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 89
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 82
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 72
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 71
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セラミックス基板のクラック検査の為の、探傷液を塗布する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
セラミックス基板のクラックは、目視検査では検出しにくく検査精度を上げる為に、一般的に探傷液を塗布してから検査を行う。この探傷液塗布の方法は以下の通りである。
【0003】
まず図7(a)に示すように、篭状のコンテナー102に複数のセラミックス基板1を入れ、図7(b)に示すように、このコンテナー102を探傷液2が入った探傷液槽101に入れる。この状態でセラミックス基板1の全体へ探傷液2が付くようにバラバラの状態にし、5〜20分放置する。次に探傷液槽101からコンテナー102を出し、セラミックス基板1をシャワー水洗または水中へ浸し、軽く表面の探傷液2を洗い落とし、乾燥室へコンテナー102ごと入れ、セラミックス基板1の表面乾燥を、6〜8時間、80〜90℃の雰囲気で行う。
【0004】
また他の方法として、上記と同様にセラミックス基板1を篭状のコンテナー102へ入れ、このコンテナー102を、探傷液2を入れた密閉出来る容器に入れ、この容器内へ、セラミックス基板1のクラックへ探傷液2を浸透させる目的で不活性ガスを供給して加圧し、1〜2分放置した後取り出し、前述の方法で、洗浄、乾燥処理を行う。
【0005】
このようにして探傷液を塗布したセラミックス基板1は、図5(a)(b)に示すように、クラック19に探傷液2が浸透し、目視によって容易に検査を行うことが出来る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところが従来の方法では、セラミックス基板1のクラック19へ探傷液2を浸透させる為に、図7(b)に示す探傷液2への浸漬時間を長く置くか、または、同様の状態で密閉加圧する必要があり、手間が掛かり非効率的であった。更に、その後の洗浄、乾燥も長時間必要であるという問題があった。
【0007】
また、洗浄は人手により行う為、例えば図5(a)に示すように、セラミックス基板1のクラック19並びにその周囲に探傷液2の残留ムラが生じ、また乾燥は図7(a)のコンテナー102に入れたまま乾燥室で行う為、セラミックス基板1の重なりによる乾燥シミがセラミックス基板1の表面に生じる。これらはいずれも、クラック検査の検出精度低下の要因となっていた。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、これらに鑑みて行われたもので、セラミックス基板に塗布した探傷液を、上下から押しあてた多孔性樹脂のローラーで3〜5Kgf/cm 2 にてクラックへ浸透させるようにした探傷液塗布部と、不要な探傷液を洗い落とす洗浄部と、乾燥部とからなり、これらを連続的に備えて探傷液塗布装置を構成したことにより、短時間で効率的に探傷液塗布処理が出来、また、探傷液のクラックへの浸透が確実で、洗浄ムラと重なりによる乾燥シミを防止出来る為、クラック検査の検出精度を向上出来るようにしたものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態について詳述する。
【0010】
図1に示すように、本発明の探傷液塗布装置は、探傷液塗布部A、洗浄部B、乾燥部Cで構成されている。
【0011】
探傷液塗布部Aは、図1に示す探傷液槽15から探傷液2を、循環ポンプ16によりスプレーノズル5へ供給し、セラミックス基板1へ吹き付けた後、ローラー8で塗布するようになっている。探傷液塗布部Aの詳細を図2(a)に示すように、セラミックス基板1を搬送ローラー14で矢印方向に搬送しながら、スプレーノズル5よりセラミックス基板1の上下から探傷液2を吹き付けて塗布する。次に図2(b)に示すように一対のローラー8をセラミックス基板1の上下から押しあてて、探傷液2を擦り込む。
【0012】
ここでローラー8は、多孔性の材質からなり、例えば表1に示すスポンジローラーのような多孔性樹脂が好適である。またローラー8の径D1は35mm以下とし、セラミックス基板1の上下から押しあてる圧力は、3〜5Kgf/cm2 とすることが好ましい。ローラー8の径D1を35mmφ以下とした根拠は、本発明の探傷液塗布装置は、一般的なセラミックス基板へ対応出来る汎用機であり、一般的なセラミックス基板の最小外辺サイズが25.4mmであることから、これに対応するため搬送ローラー14のピッチPは25mmとし、また、搬送ローラー14の径D2が10mmであることより、その間に入るローラー8の径D1は、最大35mmとした。
【0013】
また、ローラー8をセラミックス基板1の上下から押しあてる圧力を3〜5Kgf/cm2 としたのは、3Kgf/cm2 未満では、セラミックス基板1のクラック19への探傷液2の浸透が確実でなく、5Kgf/cm2 を越えると、セラミックス基板1のローラー8部分での搬送速度が遅くなり、セラミックス基板1の滞留が発生するからである。
【0014】
なお、以上の実施形態では、スプレーノズル5から探傷液2を塗布したが、例えばローラ8の中央部から探傷液2を供給し、ローラ8を通して探傷液2を塗布するとともに押圧してクラックに浸透させるようにすることもできる。また、セラミック基板1の両面を保証する場合は、上記実施形態のように両面に探傷液2を塗布するが、片面のみ保証する場合は片面のみ探傷液2を塗布すればよく、このような場合に、ローラ8を通して探傷液2を塗布する方法が好適である。
【0015】
さらに、この工程でセラミック基板1に超音波を作用させてよりクラックへの浸透度を高めることもできる。
【0016】
【表1】
【0017】
次に洗浄部Bは、図1に示すようにスプレーノズル6、6aと、水分除去ローラー9で構成されている。洗浄部Bの詳細な説明は、図3(a)に示すように、セラミックス基板1へ、上下からスプレーノズル6で水3を吹き付け探傷液2を洗い落とす。次に図3(b)に示すように、多孔性の水分除去ローラー9で、上下よりセラミックス基板1の表面の水3を搾りとって行く。尚、水分除去ローラー9のセラミックス基板1の進入側の上方には、更にスプレーノズル6aを追加してあるが、これは、水分除去ローラー9が探傷液2で汚れやすい為、この汚れを洗い落とす目的で、水3を水分除去ローラー9へ吹き付けている。洗浄部Bの水分除去ローラー9の材質、サイズ、加圧条件は、探傷液塗布部Aのローラー8と同一としている。
【0018】
さらに、乾燥部Cは図1で示すように、セラミックス基板1の水分除去ローラー10と、エアーブローの為のスプレーノズル7と、乾燥機11で構成され、スプレーノズル7へはリングブロー17を付加し、乾燥機11へは熱風発生器18より熱風を供給している。乾燥部Cの詳細は図4(a)に示すように、まず水分除去ローラー10をセラミックス基板1の上下から押しあてるが、この水分除去ローラー10の材質、サイズ、加圧条件は、探傷液塗布部Aのローラー8と同一とし、その目的は、洗浄部の水分除去ローラー9と同じで、セラミックス基板1の表面へ残留した水3を搾り取る為のものである。この後、図4(b)に示すエアーブロー用のスプレーノズル7で、セラミックス基板1の上下からエアー4を吹き付ける。このエアーブローは、セラミックス基板1には穴を有するものがあり、その穴内部へ水分が残留している為この水分の除去と、表面の水分除去を目的とし、セラミックス基板1の上下からスプレーノズル7で、エアー4を4〜5Kgf/cm2 の圧力で、セラミックス基板1の搬送方向と逆の方向から傾斜角15〜20°で吹き付ける。この後、図4(c)で示すように、セラミックス基板1は乾燥機11へ搬送されていく。この乾燥機11の内部温度は、80〜150℃で、パイプ12が上下4組からなり、一つのパイプ12に2.5mmφの穴径のノズル13を5カ所付け、このノズル13より熱風を噴射するようになっている。
【0019】
本発明の探傷液塗布装置の、探傷液塗布部A、洗浄部B、乾燥部Cの各部の
セラミックス基板1を処理出来る有効幅は500mm程度とし、この範囲内であれば同時に最多5列迄並行して、セラミックス基板1の探傷液塗布処理が出来る。
【0020】
以上の装置構成により、例えば図5(a)に示すような、セラミックス基板1のクラック19へ、図5(b)に示すように探傷液2を自動的に確実に浸透させることが出来、塗布ムラ、乾燥シミの無い綺麗な処理面が得られ、また探傷液塗布処理時間も、10〜15秒と短時間で行える。
【0021】
【実施例】
本発明の実施例について以下に説明する。
【0022】
実施例に用いたセラミックス基板1はAl2 O3 含有量96%アルミナセラミックスからなり、図6(a)に示すように、外辺サイズL1=62mm、L2=60mm、スルーホール20の径D3=0.4mm、スルーホール20とセラミックス基板1の外辺間距離L3=0.8mmのものを用いた。またセラミックス基板1のスルーホール20から外辺迄の間に、長さ0.8mmのクラック19が入り、図6(b)に示すようにクラック19の幅W1並びにW2=2〜4μmで、その深さT=0.64mmでセラミックス基板1の表裏貫通しているものであり、このクラック19があることを倍率32倍の顕微鏡で確認した。
【0023】
このセラミックス基板1を、従来技術の図7(b)に示す探傷液2の浸積処理により塗布したものと、図1に示す本発明による探傷液塗布装置を使用したもの、各300シート準備した。この探傷液2は、染色浸透探傷液で表2に示すものを用いた。尚、本発明の探傷液塗布装置のセラミックス基板1の処理は、横方向に5列並行して連続し処理した。
【0024】
【表2】
【0025】
以上の探傷液塗布処理を施したセラミックス基板1を、同一検査員が、100Wの白熱電球照明下で、目視にてクラック19の検査をし検出精度を比較調査した。まず従来技術による探傷液塗布処理と、本発明による探傷液塗布装置の処理時間の比較を行った結果、従来技術による探傷液塗布方式は、セラミックス基板1を300シート探傷液2に塗布し洗浄する迄の処理時間が20分を要し、その後の乾燥に6時間を要した。これに対し、本発明による探傷液塗布装置での処理時間は、セラミックス基板1を300シート探傷液塗布、洗浄、乾燥迄行うのに15分で済み、従来技術に比較し短時間で効率的な処理が出来た。
【0026】
また以上の探傷液塗布処理したセラミックス基板1で、クラック検出精度について比較した結果は、従来技術により探傷液塗布処理を行ったセラミックス基板1のクラック19の検出精度が88.3%に対し、本発明による探傷液塗布装置により処理したセラミックス基板1のクラック19の検出精度は100%という結果が得られ、クラック検出精度の向上が確認出来た。
【0027】
【発明の効果】
本発明によれば、探傷液槽からスプレーノズルへ探傷液を供給し、セラミックス基板へ吹き付け、多孔性のローラーを、セラミックス基板の上下から押しあて探傷液をクラック部へ浸透させ、その後、洗浄、乾燥を連続的に実施する装置としたことにより、探傷液の塗布処理が効率的に出来、またセラミックス基板のクラック部への探傷液浸透も確実で、セラミックス基板表面の塗布ムラ、乾燥シミも無いため、クラック検査の検出精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のセラミックス基板の探傷液塗布装置の概略の断面図である。
【図2】(a)(b)は本発明のセラミックス基板の探傷液塗布装置の探傷液塗布部の断面図である。
【図3】(a)(b)は本発明のセラミックス基板の探傷液塗布装置の洗浄部の断面図である。
【図4】(a)〜(c)は本発明のセラミックス基板の探傷液塗布装置の乾燥部の断面図である。
【図5】(a)はセラミックス基板の平面図、(b)はセラミックス基板のクラック部分の断面図である。
【図6】(a)は本発明の実施例に用いたセラミックス基板の平面図、(b)はクラック部分の断面図である。
【図7】従来の探傷液の塗布方法を説明する図で、(a)はコンテナーとセラミックス基板の斜視図、(b)は探傷液槽へ浸漬したセラミックス基板の断面図である。
【符号の説明】
1、セラミックス基板
2、探傷液
3、水
4、エアー
5、スプレーノズル
6、6a、スプレーノズル
7、スプレーノズル
8、ローラー
9、水分除去ローラー
10、水分除去ローラー
11、乾燥機
12、パイプ
13、ノズル
14、搬送ローラー
15、探傷液槽
16、循環ポンプ
17、リングブロー
18、熱風発生器
19、クラック
20、スルーホール
101、探傷液槽
102、コンテナー
A、探傷液塗布部
B、洗浄部
C、乾燥部
D1、D2、D3、径
P、ピッチ
L1、L2、外辺寸法
L3、外辺間距離
T、深さ
W1、W2、幅[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an apparatus for applying a flaw detection liquid for crack inspection of a ceramic substrate.
[0002]
[Prior art]
In order to improve the inspection accuracy, cracks in the ceramic substrate are generally difficult to detect by visual inspection, and inspection is generally performed after applying a flaw detection liquid. The method for applying the flaw detection liquid is as follows.
[0003]
First, as shown in FIG. 7 (a), a plurality of
[0004]
As another method, the
[0005]
As shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), the
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional method, in order to infiltrate the
[0007]
Further, since cleaning is performed manually, for example, as shown in FIG. 5A, residual unevenness of the
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has been made in view of the above, and the flaw detection liquid applied to the ceramic substrate is infiltrated into the crack at 3 to 5 kgf / cm 2 with a porous resin roller pressed from above and below. It consists of a liquid application section, a cleaning section that removes unnecessary flaw detection liquid, and a drying section. By continuously providing these parts, the flaw detection liquid application apparatus can be configured to perform flaw detection liquid application processing efficiently in a short time. In addition, since the penetration of the flaw detection liquid into the cracks is reliable, and it is possible to prevent dry spots due to uneven cleaning and overlapping, the detection accuracy of crack inspection can be improved.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
[0010]
As shown in FIG. 1, the flaw detection liquid application apparatus of the present invention includes a flaw detection liquid application part A, a cleaning part B, and a drying part C.
[0011]
The flaw detection liquid application part A supplies the
[0012]
Here, the roller 8 is made of a porous material, and for example, a porous resin such as a sponge roller shown in Table 1 is suitable. In addition, the diameter D1 of the roller 8 is preferably 35 mm or less, and the pressure applied from above and below the
[0013]
Further, the pressure for pressing the roller 8 from above and below the
[0014]
In the above embodiment, the
[0015]
Further, in this process, ultrasonic waves can be applied to the
[0016]
[Table 1]
[0017]
Next, as shown in FIG. 1, the cleaning unit B is composed of
[0018]
Further, as shown in FIG. 1, the drying section C includes a
[0019]
In the flaw detection liquid coating apparatus of the present invention, the effective width capable of processing the
[0020]
With the above apparatus configuration, for example, the
[0021]
【Example】
Examples of the present invention will be described below.
[0022]
The
[0023]
300 sheets were prepared by applying this
[0024]
[Table 2]
[0025]
The same inspector visually inspected the
[0026]
The results of comparison of crack detection accuracy in the above-described
[0027]
【The invention's effect】
According to the present invention, the flaw detection liquid is supplied from the flaw detection liquid tank to the spray nozzle, sprayed onto the ceramic substrate, the porous roller is pressed from the top and bottom of the ceramic substrate to infiltrate the flaw detection liquid into the crack portion, and then washed. By adopting a device that performs continuous drying, the flaw detection liquid can be applied efficiently, and the flaw detection liquid penetrates into the cracks of the ceramic substrate without any uneven coating or drying spots on the ceramic substrate surface. Therefore, the detection accuracy of crack inspection can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic sectional view of a flaw detection liquid coating apparatus for a ceramic substrate according to the present invention.
FIGS. 2A and 2B are cross-sectional views of a flaw detection liquid application portion of a ceramic substrate flaw detection liquid application apparatus of the present invention.
FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views of a cleaning unit of a ceramic substrate flaw detection liquid coating apparatus according to the present invention.
4A to 4C are cross-sectional views of a drying section of the flaw detection liquid coating apparatus for a ceramic substrate according to the present invention.
5A is a plan view of a ceramic substrate, and FIG. 5B is a cross-sectional view of a crack portion of the ceramic substrate.
6A is a plan view of a ceramic substrate used in an example of the present invention, and FIG. 6B is a cross-sectional view of a crack portion.
7A and 7B are diagrams for explaining a conventional method for applying a flaw detection liquid, in which FIG. 7A is a perspective view of a container and a ceramic substrate, and FIG. 7B is a cross-sectional view of a ceramic substrate immersed in a flaw detection liquid tank.
[Explanation of symbols]
1,
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02443099A JP3652155B2 (en) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | Ceramic substrate flaw detection liquid application equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02443099A JP3652155B2 (en) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | Ceramic substrate flaw detection liquid application equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000221145A JP2000221145A (en) | 2000-08-11 |
JP3652155B2 true JP3652155B2 (en) | 2005-05-25 |
Family
ID=12137945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP02443099A Expired - Fee Related JP3652155B2 (en) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | Ceramic substrate flaw detection liquid application equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3652155B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104165893A (en) * | 2014-08-18 | 2014-11-26 | 天津戴卡轮毂制造有限公司 | Fluorescent penetrant inspection system and method |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4727793B2 (en) * | 2000-08-24 | 2011-07-20 | イビデン株式会社 | Treatment liquid supply method |
JP5265314B2 (en) * | 2008-11-21 | 2013-08-14 | 株式会社都ローラー工業 | Method of applying resist to printed wiring board |
CN102721704A (en) * | 2012-06-26 | 2012-10-10 | 潮州三环(集团)股份有限公司 | Method and device for automatically detecting defects of electronic ceramic chips |
CN108323183B (en) * | 2018-02-09 | 2020-12-18 | 深圳达闼科技控股有限公司 | Raman detection auxiliary equipment, Raman detection terminal and method |
CN108627517A (en) * | 2018-04-16 | 2018-10-09 | 九豪精密陶瓷(昆山)有限公司 | Ceramic substrate slight crack detection device |
CN113333200B (en) * | 2021-05-13 | 2023-11-10 | 上海旌轩企业管理咨询中心 | Ceramic substrate limiting spraying preparation device based on electronic paste |
-
1999
- 1999-02-01 JP JP02443099A patent/JP3652155B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104165893A (en) * | 2014-08-18 | 2014-11-26 | 天津戴卡轮毂制造有限公司 | Fluorescent penetrant inspection system and method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000221145A (en) | 2000-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ATE390706T1 (en) | PROCESS AND DEVICE FOR TREATING A WORKPIECE, SUCH AS A SEMICONDUCTOR WAFER | |
JP3652155B2 (en) | Ceramic substrate flaw detection liquid application equipment | |
KR100323502B1 (en) | Method of manufacturing liquid crystal display panel and washing machine used for the same | |
ATE443343T1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR WAFER | |
JPH10146606A (en) | Device for removing deposits on roll | |
JP2006266953A (en) | Fluorescence penetrant inspection system | |
CN108906735A (en) | A kind of transfer plate cleaning device | |
KR101572131B1 (en) | Cleaning apparatus of line conveyor for leather painting device | |
JP3827370B2 (en) | Method and apparatus for washing and drying glass plate | |
TWI441692B (en) | Method of cleaning a substrate using the ultrasonic vibration of a medium | |
JPS5947457B2 (en) | How to clean semiconductor wafers | |
JP3124241B2 (en) | Metal material surface cleaning method and apparatus | |
JP2656980B2 (en) | Glass substrate cleaning method | |
TWM504643U (en) | Delivery net washing device | |
JP3052378U (en) | Pure water washing machine | |
JPS61121337A (en) | Treatment of wafer | |
JPH03101866A (en) | Coating film forming device | |
JPH0463539B2 (en) | ||
JPH1034101A (en) | Apparatus and method for washing sheet-like article | |
JPH06315711A (en) | Liquid cutting device for strip metal | |
JPS5918984B2 (en) | Potato washing method and device | |
JP4274451B2 (en) | Skewer cleaning equipment | |
CN106842831A (en) | A kind of developing nozzle device | |
JPS6361040B2 (en) | ||
JPS6260225A (en) | Cleaning silicon wafer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041008 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041026 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050201 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050222 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090304 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090304 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100304 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110304 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |