JP3648887B2 - Analysis equipment - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、放電やレーザ光照射により試料から生じる光を分光分析する、もしくはレーザ光照射により固体試料をエアロゾル化したうえでICPやICPマス分析する一方、試料に代えて校正試料を用いて前記分析操作を行って分析の校正を行う分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、分析装置においては、校正操作、すなわち、装置内部の測定器が有する相対的な目盛と絶対的な数値との間に生じる狂いを補正する操作を日常的に行う必要がある。このような校正操作は、予め標準分析値が分かっている校正試料(標準試料)を用いて分析を行い、そのときの分析結果と標準分析値との間の誤差を元にして上記した狂いを補正するようになっている。
【0003】
校正操作は、校正試料に対して複数回の分析操作を行ったうえで、それらの分析結果の平均を求める、あるいは、それらの分析結果の中から、他の分析結果に対して大きく値に差のある分析結果を排除したうえで、残った分析結果の平均を求めることで、校正用のデータとするようになっている。
【0004】
さらには、分析対象に応じた複数の校正試料を選択し、これらの校正試料に対して校正操作を行ってそれぞれ校正用データを採取し、これら校正用データを基にして校正を行うようになっている。
【0005】
一方、放電もしくはレーザ光照射により試料から生じる光を分光分析するスパーク発光分析装置やレーザ発光分析装置といった分析装置や、レーザ光照射により固体試料をエアロゾル化したうえでICPもしくはICPマス分析する分析装置においては、図3に示すように、分析を行う試料(図3では校正試料20を例示している)の表面(以下、分析面20aという)に放電孔等の分析傷21が生じることは避けられず、このような分析傷21が生じた分析面20aの部位を再度分析することは不可能となる。そのため、分析毎に、分析面20a上の分析箇所を替える必要があり、さらには、分析面20a上に、分析可能箇所が無くなれば、分析傷21が無くなるまで分析面20aを研磨して更新する前処理を行う必要がある。なお、図3において、符号22は分析面20a上において、残存している分析可能箇所である。また、図3に例示した円柱状の校正試料20では、分析面20aの分析可能回数が8回であって、合計8カ所の分析可能箇所を有しており、図では、既に4回分析が行われ、残分析可能回数が4回となっている状態を示している。
【0006】
このように、放電もしくはレーザ光照射により試料から生じる光を分光分析するスパーク発光分析装置やレーザ発光分析装置といった分析装置や、レーザ光照射により固体試料をエアロゾル化したうえでICPもしくはICPマス分析する分析装置においては、上記した前処理を含めて校正操作を行わねばならず、その作業が面倒なものとなっていた。そこで、従来から、前処理を含めた校正操作を自動化した分析装置がある。
【0007】
この分析装置は、校正試料保管部と前処理部と分析部と校正分析実行部とを備えており、校正分析開始時に、校正分析実行部が次のような制御を行うようになっている。すなわち、校正試料保管部から校正試料を取り出して前処理部で前処理を行い、処理済校正試料を分析部で分析したのち、分析済校正試料を校正試料保管部に戻すようになっている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、校正操作の自動化を図った従来の分析装置においては、校正試料の消耗が激しいうえに、作業時間も長時間化するという課題があった。以下、説明する。
【0009】
前述したように、校正操作を行うためには、校正試料20それぞれに対して複数回の分析を行う必要がある。ところが、各校正試料20の分析面20aに対する分析可能回数は、試料外形上の大きさ(分析面20aの面積)に応じて決められている。そのため、校正用の分析が既に行われた分析面20aにおいては、分析許容回数が、次の校正用の分析に必要な分析回数を満たさない場合があり、そうなると、校正用の分析ができなくなってしまう。
【0010】
このような不都合を無くすため、校正の自動化を図った従来の分析装置では、校正試料20に対して、校正操作を行うたびに前処理、すなわち、分析面20aの研磨を行うようになっていた。しかしながら、これでは、校正用の分析ができなくなるといった不都合がなくなるものの、校正試料20の消耗が激しくなってしまった。校正試料20は高価なものが多く、校正の自動化により、校正試料20の消耗が激しくなったために、分析装置のランニングコストを上昇させてしまった。
【0011】
また、前処理として行う分析面20aの研磨はある程度の時間を要する作業であるうえに、前述したように、校正用の分析は、複数の校正試料20に対して行う必要がある。そのため、校正用の分析の度に前処理を行わねばならない従来の分析装置では、分析に要する時間が長時間化してしまった。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した課題の解決するために、次のような構成を有している。すなわち、放電やレーザ光照射により試料から生じる光を分光分析する、もしくはレーザ光照射により固体試料をエアロゾル化したうえでICPやICPマス分析する一方、試料に代えて校正試料を用いて前記分析操作を行って分析の校正を行う分析装置において、校正試料を保管する校正試料保管部と、校正試料の分析面を研磨して分析面の更新を行う前処理部と、試料および校正試料に対して前記分析操作を行う分析部と、校正試料の分析面の分析可能回数から該分析面の既分析回数を減算することで得られる分析面の残分析可能回数を記憶する分析可能回数管理部と、校正分析開始時に、前記分析可能回数管理部で記憶している校正試料の分析面の残分析可能回数を呼び出し、呼び出した残分析可能回数が校正に必要な分析回数を満たさない場合には前処理指令を出力する一方、呼び出した残分析可能回数が校正分析に必要な分析回数を満たす場合には校正分析指令を出力する判断部と、前記校正分析指令を受けると、校正試料保管部から校正試料を取り出し、分析部で該校正試料の分析面の分析可能部位を分析する一方、前記前処理指令を受けると、校正試料保管部から校正試料を取り出して前処理部で分析面の更新処理を行い、処理済校正試料を分析部で分析する分析実行部とを備えている。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実施の形態の分析装置の概略構成を示す図である。この分析装置1はスパーク放電によって試料から生じさせた光を分光分析する発光分析装置であって、校正試料保管部2と、前処理部3と、分析部4と、分析可能回数管理部5と、判断部6と、分析実行部7と、モニタ8とを備えている。
【0014】
校正試料保管部2は、校正用の分析に用いる校正試料(図示省略)を保管するものである。前処理部3は、校正試料の分析面を研磨して分析面の更新を行うものである。分析部4は、試料および校正試料に対してスパーク放電を生じさせ、この放電により試料ないし校正試料から生じさせる光を分光分析するものである。分析可能回数管理部5は校正試料の分析面の分析可能回数から該分析面の既分析回数を減算することで分析面の残分析可能回数を算出して、そのデータを記憶するものである。判断部6は、校正分析開始時に、分析可能回数管理部5で記憶している校正試料の分析面の残分析可能回数を呼び出し、呼び出した残分析可能回数が校正に必要な分析回数を満たさない場合には、前処理指令Fを出力する一方、呼び出した残分析可能回数が校正分析に必要な分析回数を満たす場合には、校正分析指令Cを出力するものである。分析実行部7は、校正試料保管部2で保管している校正試料の搬出・搬入を行うハンドリングロボット9と、校正分析指令C,前処理指令F等に基づいて、ハンドリングロボット9、前処理部3,分析部4の動作を制御する分析制御部10とを備えている。モニタ8は、校正に必要な分析回数や校正試料管理部2で保管している校正試料と、その校正試料の分析データとを、校正試料管理部2のストックテーブルナンバーに対応させて表示している。
【0015】
モニタ8のモニタ画面8aに表示する分析データの一例を図2を参照して説明する。モニタ画面8aには、例えば、
・校正操作に必要な分析回数D1、
・ストックテーブルナンバーD2(校正試料保管部2において、各校正試料が保管されている領域の識別番号)、
・分析可能回数D3(各分析面の分析可能回数であって、校正試料の大きさ(面積)により決まる)、
・既分析回数D4(現分析面において既に行った分析の回数)、
・残分析可能回数D5(=分析可能回数D3−既分析回数D4)、
とが表示され、かつ、各データD 3〜D5をストックテーブルナンバーD 2に対応させた表形態で表示する。
【0016】
次に、この分析装置1による校正操作を説明する。予め、各校正試料保管部2に各校正試料20(図3に例示)を保管しておくとともに、校正操作に必要な分析回数D1や校正試料保管部2のストックテーブルそれぞれに保管する校正試料のデータ(物質名や分析可能回数D3)等の初期データを分析可能回数管理部5に登録しておく。登録は図示しない入力装置を介して行う。
【0017】
このような初期設定操作を行ったのち、実際に分析を行う試料等に応じた校正試料20を選択し、選択した校正試料名等のデータを図示しない入力装置を介して分析制御部10に入力する。すると、分析制御部10は、判断部6に対して、指定された校正試料20の分析面20aの分析状態を問い合わせる。問い合わせを受けた判断部6では、指定された校正試料20に対応するストックテーブルD2の管理データを呼び出す。さらに、判断部6では、呼び出した管理データにおいて、残分析可能回数D5が校正に必要な分析回数D1を満たしていると、校正試料20の現分析面20aで、校正用の分析を行うことが可能と判断して、校正指令Cを分析制御部10に出力する。一方、呼び出した管理データにおいて、残分析可能回数D5が校正に必要な分析回数D1を満たしていないと、校正試料20の現分析面20aでは、校正用の分析を行うことが不可能であって、前処理を行う必要があると判断して、前処理指令Fを分析制御部10に出力する。
【0018】
校正指令Cを受けた分析制御部10はハンドリングロボット9、分析部4に対して校正制御信号S1を送信する。校正制御信号S1を受けたハンドリングロボット9および分析部4は次のような動作を行う。すなわち、ハンドリングロボット9は、まず指定された校正試料20を校正試料保管部2から取り出して分析部4に搬送する。
【0019】
校正試料20が搬入された分析部4は、校正試料20の分析面20a上で残存している分析可能箇所22に対して分析操作(試料との間にスパーク放電を生じさせ、その放電によって試料から生じさせた光を分光分析する操作)を行い、校正データを採取する。このとき、分析操作は、校正に必要な分析回数だけ重複して行う。
【0020】
校正データの採取が終了すると、ハンドリングロボット9は、分析済校正試料20を分析部4から取り出して、校正試料保管部2まで搬送する。校正試料保管部2では、搬入された校正試料20を、対応する保管領域に格納する。
【0021】
このようにして、校正用の分析動作が終了すると、分析制御部10は分析可能回数管理部5に対して第1のデータ更新指令Eを出力する。第1のデータ更新指令Eを受けた分析可能回数管理部5では、校正用の分析を行った校正試料20に対応するストックテーブルナンバーの既分析回数D4,残分析可能回数D5の各データを更新する。データの更新は例えば、次のようにして行われる。すなわち、既分析回数D4のデータの更新は、記憶している既分析回数D4のデータに校正に必要な分析回数D1のデータを加算することで行う。残分析可能回数D5のデータの更新は、記憶している分析可能回数D3のデータから、更新した既分析回数D4のデータを減算することで行う。このようなデータの更新は更新方法の一例であって他の更新方法であってもよい。このようにして、更新されたデータを含めた各D1〜D5は、モニタ8に表示されるので、操作者は、校正試料20の状態を正確に把握できる。
【0022】
一方、前処理指令Fを受けた分析制御部10はハンドリングロボット9、前処理部3、および分析部4に対して前処理制御信号S2を送信する。前処理制御信号S2を受けたハンドリングロボット9、前処理部3、および分析部4は次のような動作を行う。すなわち、ハンドリングロボット9は、まず指定された校正試料20を校正試料保管部2から取り出して前処理部3に搬送する。校正試料20が搬入された前処理部3は、前処理、すなわち、分析傷21が消滅するまで校正試料20の分析面20aを研磨して更新する処理を行う。
【0023】
前処理部3において上記前処理が終了すると、ハンドリングロボット9は、前処理部3から前処理済校正試料20を取り出して分析部4まで搬送する。処理済校正試料20が搬入された分析部4は、処理済校正試料20の分析面20a上で残存している分析可能箇所22(処理済校正試料20の場合には、すべての分析可能箇所で分析可能)に対して分析操作(試料との間にスパーク放電を生じさ、その放電によって試料から生じさせた光を分光分析する操作)を行い、校正データを採取する。このとき、分析操作は、校正に必要な分析回数だけ重複して行う。
【0024】
校正データの採取が終了すると、ハンドリングロボット9は、分析済校正試料20を分析部4から取り出して、校正試料保管部2まで搬送する。校正試料保管部2では、搬入された校正試料20を、対応する保管領域に格納する。
【0025】
このようにして、前処理および校正用の分析動作が終了すると、分析制御部10は分析可能回数管理部5に対して第2のデータ更新指令Gを出力する。第2のデータ更新指令Gを受けた分析可能回数管理部5では、校正用の分析を行った校正試料20に対応するストックテーブルナンバーの既分析回数D4,残分析可能回数D5の各データを更新する。データの更新は例えば次のようにして行われる。すなわち、既分析回数D4のデータの更新は、記憶している既分析回数D4のデータに替えて、校正に必要な分析回数D1のデータを既分析回数データD4として記憶することで行う。残分析可能回数D5のデータの更新は、記憶している分析可能回数D3のデータから、更新した既分析回数D4のデータを減算することで行う。このようなデータの更新は更新方法の一例であって他の更新方法であってもよい。このようにして、更新されたデータを含めた各D1〜D5は、モニタ8に表示されるので、操作者は、校正試料20の状態を正確に把握できる。
【0026】
以上のようににして採取した校正データを基にして、図示しない校正演算部において校正操作を行う。校正操作そのものは従来の方法と変わらないので、その説明は省略する。
【0027】
ところで、上記のように構成された分析装置1においては、校正試料20の分析面20a上において残存している分析可能箇所22の位置を掌握したうえで、分析部4に搬入する必要がある。そうしないと、分析傷21の形成箇所に対して、再度分析操作を行う不都合が生じる可能性がある。残存している分析可能箇所22の掌握方法としては種々考えられるが、例えば、分析部4から搬出した分析済校正試料20を校正試料保管部2に戻す際において、ハンドリングロボット9が校正試料20の向きを次のように制御すればよい。すなわち、残存している分析可能箇所22が所定の角度位置になるように、校正試料20の向きを制御したうえで、校正試料保管部2に搬入する。そうすれば、次回、ハンドリングロボット9が校正試料保管部12から校正試料20を取り出す際に、残存している分析可能箇所を正確に把握することができ、分析傷21の形成箇所に対して、再度分析操作を行うといった不都合は起きなくなる。
【0028】
上記した実施の形態では、スパーク発光分析装置において、本発明を実施していたが、本発明は、この他、アーク発光分析装置やレーザ発光分析装置、さらには、レーザ光照射により固体試料をエアロゾル化したうえでICPやICPマス分析する分析装置など、校正試料に対して、研磨等の前処理を施して分析面を更新する必要のある分析装置に対して実施できるのはいうまでもない。
【0029】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、校正試料の分析面を効率よく分析に用いることが可能となり、その分、校正試料の消耗が少なくなり、分析装置のランニングコストを抑えることができた。
【0030】
また、校正試料に対して必要最小限の前処理を行えばよいので、その分、分析時間の短縮化が図れた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る分析装置の構成を示す図である。
【図2】実施の形態の分析装置のモニタの表示例を示す図である。
【図3】本発明の分析装置が扱う校正試料の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
2 校正試料保管部 3 前処理部
4 分析部 5 分析可能回数管理部
6 判断部 7 分析実行部
9 ハンドリングロボット 10 分析制御部
20 校正試料 20a 分析面
21 分析傷 C 校正指令
F 前処理指令[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention spectroscopically analyzes light generated from a sample by discharge or laser light irradiation, or analyzes a solid sample by aerosolization by laser light irradiation and then ICP or ICP mass analysis, while using a calibration sample instead of the sample. The present invention relates to an analyzer for performing an analysis operation to calibrate an analysis.
[0002]
[Prior art]
In general, in an analysis apparatus, it is necessary to routinely perform a calibration operation, that is, an operation for correcting a deviation occurring between a relative scale and an absolute value of a measuring instrument inside the apparatus. In such a calibration operation, an analysis is performed using a calibration sample (standard sample) whose standard analysis value is known in advance, and the above-described deviation is made based on the error between the analysis result and the standard analysis value. It is to be corrected.
[0003]
The calibration operation is performed multiple times on the calibration sample and then the average of the analysis results is obtained, or the analysis results are greatly different from other analysis results. After eliminating certain analysis results, the average of the remaining analysis results is obtained to obtain calibration data.
[0004]
Furthermore, a plurality of calibration samples corresponding to the analysis target are selected, calibration operations are performed on these calibration samples, and calibration data is collected respectively, and calibration is performed based on these calibration data. ing.
[0005]
On the other hand, an analyzer such as a spark emission analyzer or a laser emission analyzer that spectrally analyzes light generated from a sample by discharge or laser light irradiation, or an analyzer that analyzes a solid sample by aerosolization by laser light irradiation and then performs ICP or ICP mass analysis As shown in FIG. 3, it is avoided that
[0006]
As described above, an analysis device such as a spark emission analysis device or a laser emission analysis device that spectrally analyzes light generated from a sample by discharge or laser light irradiation, or a solid sample is aerosolized by laser light irradiation and then ICP or ICP mass analysis is performed. In the analyzer, the calibration operation must be performed including the pre-processing described above, which is troublesome. Therefore, there are conventional analyzers that automate calibration operations including preprocessing.
[0007]
This analyzer includes a calibration sample storage unit, a preprocessing unit, an analysis unit, and a calibration analysis execution unit, and at the start of calibration analysis, the calibration analysis execution unit performs the following control. That is, the calibration sample is taken out from the calibration sample storage unit, preprocessed by the preprocessing unit, the processed calibration sample is analyzed by the analysis unit, and then the analyzed calibration sample is returned to the calibration sample storage unit.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional analyzer that automates the calibration operation, there is a problem that the calibration sample is consumed very much and the working time is prolonged. This will be described below.
[0009]
As described above, in order to perform a calibration operation, it is necessary to perform a plurality of analyzes on each
[0010]
In order to eliminate such an inconvenience, in the conventional analysis apparatus in which the calibration is automated, the
[0011]
Further, the polishing of the
[0012]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problems, the present invention has the following configuration. That is, spectroscopic analysis of light generated from a sample by discharge or laser light irradiation, or analysis of ICP or ICP mass after a solid sample is aerosolized by laser light irradiation, while using the calibration sample instead of the sample The calibration sample storage unit that stores the calibration sample, the pre-processing unit that polishes the analysis surface of the calibration sample and updates the analysis surface, and the sample and the calibration sample. An analysis unit that performs the analysis operation; an analysis possible number management unit that stores the number of remaining analysis possible times of the analysis surface obtained by subtracting the number of analysis times of the analysis surface from the number of analysis possible times of the analysis surface of the calibration sample; At the start of calibration analysis, the number of remaining analysis possible times on the analysis surface of the calibration sample stored in the analysis possible number management unit is called, and the called number of remaining analysis times satisfies the number of analysis required for calibration. If not, a pre-processing command is output. On the other hand, if the number of available remaining analyzes satisfies the number of analyzes required for calibration analysis, a judgment unit that outputs a calibration analysis command and the calibration analysis command receives the calibration analysis command. from the sample storage portion removed calibration sample, while analyzing the analyzable site analysis surface of the calibration sample analyzer, when receiving the pre-processing instructions, analyzed by pre-processing unit retrieves the calibration sample from the calibration sample storage unit An analysis execution unit that performs surface update processing and analyzes the processed calibration sample by the analysis unit.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an analyzer according to an embodiment of the present invention. This
[0014]
The calibration
[0015]
An example of analysis data displayed on the
-Number of analyzes D1 required for calibration operation,
Stock table number D2 (identification number of the area where each calibration sample is stored in the calibration sample storage unit 2),
-Number of analyzable times D3 (the number of analyzable times for each analytical surface, which is determined by the size (area) of the calibration sample),
・ Number of already analyzed D4 (number of analyzes already performed on the current analysis surface),
・ Remaining analysis possible count D5 (= analysis possible count D3−already analyzed count D4),
To be shown, and is displayed in a table form that associates each
[0016]
Next, the calibration operation by the
[0017]
After performing such an initial setting operation, a
[0018]
Upon receiving the calibration command C, the
[0019]
The
[0020]
When the collection of the calibration data is completed, the handling robot 9 takes out the analyzed
[0021]
In this way, when the analysis operation for calibration is completed, the
[0022]
On the other hand, the
[0023]
When the preprocessing is completed in the
[0024]
When the collection of the calibration data is completed, the handling robot 9 takes out the analyzed
[0025]
In this way, when the preprocessing and calibration analysis operations are completed, the
[0026]
Based on the calibration data collected as described above, a calibration operation is performed in a calibration calculation unit (not shown). Since the calibration operation itself is not different from the conventional method, its description is omitted.
[0027]
By the way, in the
[0028]
In the above-described embodiment, the present invention is implemented in the spark emission analyzer. However, in the present invention, in addition to this, the arc emission analyzer, the laser emission analyzer, and further, the solid sample is aerosolized by laser light irradiation. Needless to say, the present invention can be applied to an analysis apparatus that needs to perform pre-processing such as polishing on a calibration sample and update the analysis surface, such as an analysis apparatus that performs ICP or ICP mass analysis.
[0029]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to efficiently use the analysis surface of the calibration sample for analysis, and accordingly, the consumption of the calibration sample is reduced, and the running cost of the analyzer can be suppressed.
[0030]
Further, since the calibration sample should be subjected to the minimum necessary pretreatment, the analysis time can be shortened accordingly.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an analyzer according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating a display example of a monitor of the analyzer according to the embodiment.
FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a calibration sample handled by the analyzer of the present invention.
[Explanation of symbols]
2 calibration
Claims (1)
校正試料を保管する校正試料保管部と、
校正試料の分析面を研磨して分析面の更新を行う前処理部と、
試料および校正試料に対して分析操作を行う分析部と、
校正試料の分析面の分析可能回数から該分析面の既分析回数を減算することで得られる分析面の残分析可能回数を記憶する分析可能回数管理部と、
校正分析開始時に、前記分析可能回数管理部で記憶している校正試料の分析面の残分析可能回数を呼び出し、呼び出した残分析可能回数が校正に必要な分析回数を満たさない場合には前処理指令を出力する一方、呼び出した残分析可能回数が校正分析に必要な分析回数を満たす場合には校正分析指令を出力する判断部と、
前記校正分析指令を受けると、校正試料保管部から校正試料を取り出し、分析部で該校正試料の分析面の分析可能部位を分析する一方、前記前処理指令を受けると、校正試料保管部から校正試料を取り出して前処理部で分析面の更新処理を行い、処理済校正試料を分析部で分析する分析実行部とを備えることを特徴とする分析装置。Spectral analysis of the light generated from the sample by discharge or laser light irradiation, or analysis of ICP or ICP mass after solidifying the solid sample by laser light irradiation, while performing the analysis operation using a calibration sample instead of the sample An analyzer for calibrating the analysis,
A calibration sample storage section for storing calibration samples;
A pre-processing unit that polishes the analysis surface of the calibration sample and updates the analysis surface;
An analysis unit for performing an analysis operation on the sample and the calibration sample;
An analysis possible number management unit for storing the number of remaining analysis possible times of the analysis surface obtained by subtracting the number of previous analysis of the analysis surface from the number of possible analysis times of the analysis surface of the calibration sample;
At the start of calibration analysis, call the remaining number of possible analysis on the analysis surface of the calibration sample stored in the analysis possible number management unit. If the called number of remaining analysis does not satisfy the number of analysis required for calibration, pre-processing A determination unit that outputs a calibration analysis command when the remaining number of available analysis calls satisfies the number of analysis required for calibration analysis,
When the calibration analysis command is received, the calibration sample is taken out from the calibration sample storage unit, and the analysis unit analyzes the analyzable portion of the analysis surface of the calibration sample. On the other hand, when the pretreatment command is received, the calibration sample storage unit performs calibration. An analysis apparatus comprising: an analysis execution unit configured to extract a sample, perform an analysis surface update process in a preprocessing unit, and analyze the processed calibration sample in the analysis unit.
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