JP3614071B2 - 半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、種々の成膜技術において膜剥がれの防止及び半導体ウェーハ表面に絶縁膜を形成した際の容量の向上に好適な半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハに関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイス等のデバイスプロセスにおいて、シリコンウェーハ等の表面に絶縁膜等の膜を形成するために種々の成膜技術が使われているが、成膜される下地の状態によって形成した膜が時々剥がれる現象が見られる。この膜剥がれを防止するために、下地となる半導体ウェーハの表面を粗くして膜の密着性を向上させる方法がある。従来、例えば成膜における下地の表面を粗くする方法として、ウェーハ表面を砥粒で研磨して粗くする表面処理方法がある。
また、デバイスプロセスにおいて、ウェーハ表面に静電容量用の絶縁膜を形成する場合があるが、通常、静電容量は絶縁膜の面積に応じて増大するため、大きな絶縁容量を確保するには絶縁膜の面積を大きくする必要がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記表面処理方法では、以下のような課題が残されている。すなわち、砥粒でウェーハ表面を研磨する方法では、砥粒の大きさを変えて表面の粗さを制御していたが、砥粒を大きくするとウェーハ内部に至る傷や欠陥等が発生するおそれがあり、このようなダメージを与えずにウェーハ表面を精度良く粗くする方法がなかった。
また、ウェーハ表面に絶縁膜を形成して容量を設ける場合、平坦な表面の一定領域に絶縁膜を形成するだけでは容量の増大に限界があった。トレンチ構造等により面積を拡大して絶縁容量を向上させる方法もあるが、この場合は構造やプロセスが複雑化してしまう。
【0004】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、傷や欠陥等の発生を伴わず半導体ウェーハ表面を精度良く粗くすること及び表面に容量用絶縁膜を形成した際に容量を容易に向上させることができる半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、半導体ウェーハの熱処理について研究を行ってきた結果、半導体ウェーハ表面に高温状態で窒化膜を形成するとウェーハ表面が粗くなることを見出すことができた。また、この表面粗れの大きさは、窒化膜が形成される温度に応じて変わることがわかった。したがって、本発明は、これらの知見に基づいた技術であり、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。
【0006】
本発明の半導体ウェーハの表面処理方法は、半導体が露出した少なくとも一部の表面を粗くする半導体ウェーハの表面処理方法であって、前記半導体ウェーハを反応室内の還元性雰囲気中で熱処理する熱処理工程と、該熱処理工程後に、前記反応室内に窒素ガスを供給して前記還元性雰囲気を窒素雰囲気に置換して前記表面に窒化膜を形成する窒化膜形成工程と、該窒化膜形成工程後に、前記表面に形成された窒化膜をエッチングにより除去する窒化膜除去工程とを備えていることを特徴とする。
【0007】
この半導体ウェーハの表面処理方法では、まず熱処理工程で半導体ウェーハを反応室内の還元性雰囲気中で熱処理することで、表面の自然酸化膜を除去し、次に窒化膜形成工程で反応室内に窒素ガスを供給して還元性雰囲気を窒素雰囲気に置換して表面に極薄い窒化膜を形成すると、窒化膜によりウェーハ表面が粗くなる。さらに、窒化膜除去工程で表面に形成された窒化膜をエッチングにより除去することで、ウェーハ表面が傷や欠陥等の発生を伴わずに粗くされる。
【0008】
また、本発明の半導体ウェーハの表面処理方法は、窒化膜形成工程において、所望する前記表面の粗さに応じて前記窒素雰囲気に置換する際の前記半導体ウェーハの温度を設定することが好ましい。
この半導体ウェーハの表面処理方法では、所望する表面の粗さに応じて窒素雰囲気に置換する際の半導体ウェーハの温度を設定することにより、置換時の温度調整だけで表面粗さの大きさを精度良く制御することができる。
【0009】
さらに、本発明の半導体ウェーハの表面処理方法は、前記窒素雰囲気に置換する際の前記半導体ウェーハの温度を650℃から850℃の範囲内で設定することが好ましい。この半導体ウェーハの表面処理方法では、窒素雰囲気に置換する際の半導体ウェーハの温度を650℃から850℃の範囲内で設定することにより、この範囲内で形成される窒化膜が不安定な膜質のものを含んでいるため、後の窒化膜除去工程においてSC1洗浄等で容易に窒化膜を除去することができる。
また本発明の半導体ウェーハの表面処理方法において、
前記窒化膜形成工程は、前記置換温度が650℃から850℃の範囲内で高いほど、安定した膜質であるSi 3 N 4 が比較的不安定な膜質であるSiNに比べて高い割合の前記窒化膜を形成して、この窒化膜を除去することにより、ウェーハ表面の粗れを大きくすることができる。
本発明の半導体ウェーハの表面処理方法において、
前記窒化膜形成工程は、前記窒素雰囲気に置換する際の前記半導体ウェーハの温度を800℃にして、ウェーハ表面粗さをRmsで0.5nm以上とすることが可能である。
【0010】
本発明の半導体ウェーハは、半導体が露出した少なくとも一部の表面を粗くした半導体ウェーハであって、上記本発明の半導体ウェーハの製造方法により前記表面が粗く処理されたことを特徴とする。
この半導体ウェーハは、上記本発明の半導体ウェーハの熱処理方法により表面が粗く処理されているので、成膜用の下地に好適な表面状態を有し、成膜技術が施される半導体デバイス等の基板に好適である。また、この粗くなった表面に絶縁膜を形成することにより、平坦面に比べて絶縁膜の面積が増大し、静電容量を向上させることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハの一実施形態を、図1から図5を参照しながら説明する。
図1にあって、符号1はSiボート、2は石英反応管、3はヒータ、4は水素供給源、5は窒素供給源、6はエレベータ機構を示している。
【0012】
図1は、本発明の半導体ウェーハの表面処理方法を実施するためのバッチ式の縦型熱処理炉を示すものである。該熱処理炉は、図1に示すように、シリコンウェーハ(半導体ウェーハ)Wを複数枚載置可能なSiボート1と、該Siボート1を下方から内部に挿入可能な円筒状の石英反応管(反応室)2と、該石英反応管2の周囲を覆うように配置され石英反応管2内のシリコンウェーハWを加熱するヒータ3と、石英反応管2内に接続されて水素ガスを供給する水素供給源4と、石英反応管2内に接続されて窒素ガスを供給する窒素供給源5と、前記Siボート1を支持部6aで支持すると共に上下動させて石英反応管2に挿入及び石英反応管2下方に抜き出すエレベータ機構6とを備えている。
【0013】
また、ヒータ3内側又は石英反応管2内には、熱電対(図示略)が設置されて温度が計測可能であるとともに、石英反応管2内には、真空ポンプ(図示略)等が接続されて石英反応管2内を真空引きできるようになっている。
さらに、前記水素供給源4及び前記窒素供給源5は、いずれか一方のみが石英反応管2内にガスを供給するように制御される。
なお、汚染を防止するために、ヒータ3と石英反応管2との間に石英反応管2を覆うSiCチューブを設置しても構わない。
【0014】
この熱処理炉によりシリコンウェーハWの表面を粗くする処理を行うには、まず、Siボート1にシリコンウェーハWを載置し、これをエレベータ機構6により上昇させて石英反応管2内に挿入し配置する。
そして、石英反応管2内を真空ポンプ等により真空引きして空気を吸引排気し、充分に内部の酸素を排出させる。又は、一度、窒素ガスや不活性ガスで置換してもよい。
【0015】
次に、ヒータ3により所定の温度(700℃以上が好ましい)まで石英反応管2内を加熱するとともに、水素供給源4から水素ガスを石英反応管2内に供給して水素雰囲気(還元性雰囲気)とし、前記所定温度の状態で表面の自然酸化膜を除去する。
この水素雰囲気熱処理を所定時間だけ行った後、真空ポンプ等で石英反応管2内を真空引きして水素を排気する。
【0016】
次に、窒素供給源5により石英反応管2内に窒素ガスを供給して内部を窒素雰囲気に置換し、ウェーハW表面と窒素とを反応させて窒化膜を極薄く形成する。このときの石英反応管2内の温度は、650℃から850℃の範囲内で設定されるとともに、所望の表面粗れの大きさに応じて前記範囲内で当該温度が決定される。すなわち、表面の粗れを大きくしたい場合は高い温度に設定し、比較的小さい粗れにしたい場合は低い温度に設定する。なお、シリコンウェーハWの温度は、ほぼ石英反応管2内の温度と同様である。
この後、ヒータ3による加熱を停止するとともに、石英反応管2内の温度を低下させる。なお、水素雰囲気による熱処理中にヒータ3による加熱を止め、石英反応管2内の温度が上記範囲内の温度にまで下がった時点で、窒素雰囲気に置換しても良い。
【0017】
石英反応管2内の温度が十分低くなった時点で、エレベータ機構6によりSiボート1を下降させて石英反応管2内から抜き出し、そして、十分にウェーハWの温度が下がった状態でウェーハWをSiボート1から取り出す。
この後、取り出したシリコンウェーハWをSC1洗浄し、表面に形成した窒化膜を除去することにより、ウェーハW表面を精度良く粗くすることができる。
【0018】
本実施形態により、実際に表面処理を行った取り出し直後のウェーハWの表面粗れを測定した結果、図2に示すように、窒素雰囲気への置換温度が800℃の場合は、置換温度が700℃及び750℃の場合に比べて表面粗れが大きくなっていることがわかる。これは、SC1洗浄後の窒化膜がエッチングされて除去された表面においても、図3に示すように、同様の傾向が確認できた。
【0019】
このように上記表面処理により表面の粗れが大きくなるのは、ウェーハW表面に形成された窒化膜により歪み等が生じるためと考えられる。なお、表面粗れは、パーティクルカウンターによるヘイズのレベル(光による散乱レベル)で観測した。また、AFM(原子間力顕微鏡)で観測した結果、例えば置換温度700℃、750℃及び800℃の場合、表面粗さはRms(平方根平均ラフネス)でそれぞれ約0.2nm、約0.4nm及び約0.8nmであった。すなわち、例えば置換温度800℃にすれば、表面粗さがRmsで0.5nm以上のウェーハを精度良く作製することができる。なお、処理前のポリッシュドウェーハでは、通常、表面粗さがRmsで0.1nm以下である。
【0020】
このように本実施形態では、まずシリコンウェーハWを水素雰囲気中で熱処理することで表面の自然酸化膜を除去し、次に水素雰囲気を窒素雰囲気に置換して表面に極薄い窒化膜を形成して表面を粗くし、さらに、この窒化膜をエッチングにより除去することで、傷や欠陥等の発生を伴わずに表面を精度良く粗くすることができる。また、上述したように、上記表面粗さの大きさが置換温度(窒化膜の成膜温度)に依存することを利用して、所望する表面の粗さに応じて窒素雰囲気に置換する際のシリコンウェーハWの温度(石英反応管2内の温度)を予め設定することにより、置換時の温度調整だけで表面粗さの大きさを精度良く制御することができる。
【0021】
さらに、窒素雰囲気に置換する際のシリコンウェーハWの温度を650℃から850℃の範囲内で設定することにより、この温度範囲内で形成される窒化膜が不安定な膜質のものを含んでいるため、後のSC1洗浄により容易に窒化膜を除去することができる。
【0022】
このように上記温度範囲内で形成された窒化膜が、SC1洗浄時に容易にエッチング除去されるのは、成膜温度に応じて生じる窒化膜の膜質の違いに基づくものである。
例えば、置換温度700℃と置換温度800℃との場合において、取り出し直後のXPS(X線光電子分光)によるウェーハWの表面分析を行ったところ、置換温度800℃の場合には、図4に示すように、安定した膜質であるSi3N4のピークが増大しているのに対し、置換温度700℃の場合には、図5に示すように、比較的不安定な膜質であるSiNのピークの割合が高い。
【0023】
すなわち、置換温度が高いほど安定したSi3N4が形成され、850℃を越える置換温度で形成された窒化膜は、ほとんど安定した膜質だけとなるため、SC1洗浄で除去することが難しい。これに対し、850℃以下の置換温度で形成された窒化膜は、不安定な膜質のものが含まれており、SC1洗浄において容易にエッチングすることができる。なお、置換温度の下限を650℃としたのは、これより低温になると窒化膜自体が形成し難くなるためである。
このように、上記の表面処理方法で製造されたシリコンウェーハWは、精度良く表面が粗くなるので、この表面に絶縁膜等を成膜する場合でも、膜の高い密着性が得られて膜剥がれを防止することができる。また、このシリコンウェーハWの粗くなった表面に容量用の絶縁膜を形成することにより、平坦面に形成した場合に比べて絶縁膜の面積が大きくでき、静電容量を向上させることが容易となる。
【0024】
なお、シリコンウェーハWとしてポリッシュドウェーハの表面全体に表面処理を施して粗くしたが、半導体デバイス等のデバイスプロセス中において一部でも表面にシリコン等の半導体層が露出している場合、その表面を粗くするために本発明を適用しても構わない。
【0025】
【発明の効果】
本発明によれば、以下の効果を奏する。
本発明の半導体ウェーハの表面処理方法によれば、半導体ウェーハを反応室内の還元性雰囲気中で熱処理することで、表面の自然酸化膜を除去し、次に反応室内に窒素ガスを供給して還元性雰囲気を窒素雰囲気に置換して表面に窒化膜を形成すると、ウェーハ表面が粗くなり、さらに、窒化膜をエッチングにより除去することで、傷や欠陥等の発生を伴わずに半導体ウェーハ表面を精度良く粗くすることができる。
【0026】
また、本発明の半導体ウェーハの表面処理方法によれば、所望する表面の粗さに応じて窒素雰囲気に置換する際の半導体ウェーハの温度を設定することにより、置換時の温度調整だけで表面粗さの大きさを高精度に制御することができる。
【0027】
さらに、本発明の半導体ウェーハの表面処理方法によれば、窒素雰囲気に置換する際の半導体ウェーハの温度を650℃から850℃の範囲内で設定することにより、窒化膜が不安定な膜質のものを含んでいるため、特別な除去工程を設けなくても通常のSC1洗浄で容易に窒化膜を除去することができ、低コストで確実に表面を粗くすることができる。
【0028】
本発明の半導体ウェーハによれば、上記本発明の半導体ウェーハの表面処理方法により表面が粗く処理されているので、膜剥がれが生じ難く成膜用の下地に好適な表面状態を有し、成膜技術が施される半導体デバイス等のウェーハに好適である。すなわち、このウェーハを用いれば信頼性の高いデバイスを作製することができる。また、表面が粗くされているので、その上に形成される絶縁膜の容量を増加させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハの一実施形態における熱処理炉を示す概略的な全体断面図である。
【図2】本発明に係る半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハの一実施形態における置換温度を変えた場合の取り出し直後における表面粗さ(ヘイズ)を示すグラフである。
【図3】本発明に係る半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハの一実施形態における置換温度を変えた場合のSC1洗浄後における表面粗さ(ヘイズ)を示すグラフである。
【図4】本発明に係る半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハの一実施形態において、置換温度800℃の場合のXPSによる表面分析を示すSiNとSi3N4とのピーク分離を行ったグラフである。
【図5】本発明に係る半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハの一実施形態において、置換温度700℃の場合のXPSによる表面分析を示すSiNとSi3N4とのピーク分離を行ったグラフである。
【符号の説明】
2 石英反応管(反応室)
4 水素供給源
5 窒素供給源
W シリコンウェーハ(半導体ウェーハ)
Claims (4)
- 半導体が露出した少なくとも一部の表面を粗くする半導体ウェーハの表面処理方法であって、
前記半導体ウェーハを反応室内の還元性雰囲気中で熱処理する熱処理工程と、
該熱処理工程後に、前記反応室内に窒素ガスを供給して前記還元性雰囲気を窒素雰囲気に置換して前記表面に窒化膜を形成する窒化膜形成工程と、
該窒化膜形成工程後に、前記表面に形成された窒化膜をエッチングにより除去する窒化膜除去工程とを備え、
前記窒化膜形成工程は、所望する前記表面の粗さに応じて前記窒素雰囲気に置換する際の前記半導体ウェーハの温度を650℃から850℃の範囲内で設定することを特徴とする半導体ウェーハの表面処理方法。 - 請求項1記載の半導体ウェーハの表面処理方法において、
前記窒化膜形成工程は、前記置換温度が650℃から850℃の範囲内で高いほど、安定した膜質であるSi 3 N 4 が比較的不安定な膜質であるSiNに比べて高い割合の前記窒化膜を形成して、この窒化膜を除去することにより、ウェーハ表面の粗れを大きくすることを特徴とする半導体ウェーハの表面処理方法。 - 請求項2記載の半導体ウェーハの表面処理方法において、
前記窒化膜形成工程は、前記窒素雰囲気に置換する際の前記半導体ウェーハの温度を800℃にして、ウェーハ表面粗さをRmsで0.5nm以上とすることを特徴とする半導体ウェーハの表面処理方法。 - 半導体が露出した少なくとも一部の表面を粗くした半導体ウェーハであって、請求項1から3のいずれかに記載の半導体ウェーハの製造方法により前記表面が粗く処理されたことを特徴とする半導体ウェーハ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000034199A JP3614071B2 (ja) | 2000-02-10 | 2000-02-10 | 半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハ |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2001223201A JP2001223201A (ja) | 2001-08-17 |
JP3614071B2 true JP3614071B2 (ja) | 2005-01-26 |
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ID=18558568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000034199A Expired - Fee Related JP3614071B2 (ja) | 2000-02-10 | 2000-02-10 | 半導体ウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハ |
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JP (1) | JP3614071B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE102014208815B4 (de) * | 2014-05-09 | 2018-06-21 | Siltronic Ag | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe aus Silizium |
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JP2001223201A (ja) | 2001-08-17 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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