JP3609230B2 - 半導体装置の製造装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は液晶パネル等の角形状のガラス基板を洗浄等のウェット処理した後、枚葉式スピン乾燥する半導体装置の製造装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図5は従来の半導体装置の製造装置を示す一部破断した正面図、図6は図5の平面図及び図7は図6のVIIーVII線の断面図である。
図5〜図7において、ステージ1に角形状の例えば厚さが0.7mm〜1.0mmの端部を面取りしたガラス基板2の角部2aと対向するように支持ピン3を固着する。さらに、支持ピン3上に裁置したガラス基板2の角部2a近傍でガラス基板2の各辺と当接してガラス基板2を支持する円柱形のガイドピン4をステージ1に固着する。なお、ガイドピン4はガラス基板2に傷を付けたり、回転時のショックで割れを生じさせるのを防止するために、材質が比較的に柔らかいポリテトラフルオロエチレン(テフロン:商標登録)製が一般に使用されている。そして、洗浄等のウェット処理した後のガラス基板2を支持ピン3を介してステージ1上に裁置し、固定部5に取り付けたモータ等の駆動源6によりステージ1を回転して、遠心力を利用したガラス基板2の振り切り乾燥を行う。
上記において、ガイドピン4の軸方向にガラス基板2の端面がそれぞれ点接触するように一つの角部2aの各辺を一対のガイドピン4で支持している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
従来の半導体装置の製造装置は以上のように構成されているので、薄いガラス基板2の面取りをした端面が円柱形のガイドピン4と点接触しているため、回転の加速時に荷重が接触部に集中して、ガラス基板2が図8に示すようにガイドピン4に食い込んで切り欠き部4aができる。このため、乾燥終了後にガラス基板2をステージ1から鉛直方向に引き上げる際に、ガラス基板2の端部がガイドピン4の切り欠き部4aにひっかかって、ガラス基板2を破損するという問題点があった。
【0004】
この発明は上記のような問題点を解消するためになされたもので、スピン乾燥中にガラス基板がガイドピンに食い込むことのない半導体装置の製造装置を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
この発明に係わる半導体装置の製造装置は、角形状のガラス基板の各角部近傍部分を支持する支持ピンと、上記ガラス基板の各角部近傍端面に当接して上記ガラス基板を支持するガイドピンとをそれぞれステージ上に固着し、上記ガラス基板を上記支持ピン上に載置し上記ガイドピンに当接した状態で上記ステージを回転し、上記ガラス基板をスピン乾燥する半導体装置の製造装置において、上記ガイドピンを、上記ガラス基板の端面との当接面が線接触になるように平面状に形成すると共に、上記ステージ上に、上記ガイドピンのステージ面上での回転を阻止する係止手段を設けたものである。
【0013】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1の構成を示す一部破断した正面図、図2は図1の平面図、図3は図2のIII−III線の断面図である。
図1〜図3において、7は固定部8に取り付けたモータ等の駆動源で、回転軸7aが鉛直方向になるように配置されている。9は十字形状のステージで、上面が水平方向になるように回転軸7aに固着されている。10は上面が曲面状に形成された支持ピンで、後述のガラス基板11の各角部11aの近傍になるようにステージ9に固着されている。11は例えば厚さが0.7mm〜1.0mmの角形状の例えば液晶パネル等の端面が面取りされたガラス基板で、各角部11aの近傍の下面が支持ピン10の上面に当接するように裁置されている。12はガラス基板11の各角部11aの近傍にそれぞれ一対ずつ配置されステージ9に固着された合成樹脂(例えば、ポリテトラフルオロエチレン)製のガイドピンで、ガラス基板11の端面との当接面12aが線接触になるように平面状に形成されている。さらに、ガイドピン12はガラス基板11と当接する側にガラス基板11の上面より開口が広くなるように、テーパ部12bが形成されている。
【0014】
次に動作について説明する。図1〜図3において、洗浄等のウェット処理されたガラス基板11を、ロボットで移動して支持ピン10上に裁置することによりステージ9で支持する。そして、ステージ9でガラス基板11を支持した状態で、駆動源7を駆動してガラス基板11を振り切り乾燥する。
【0015】
以上のように、ガラス基板11の端面が当接するガイドピン12の当接面12aを平面状にして、ガラス基板11とガイドピン12とが線接触するようにしたので、振り切り乾燥における回転加速時のガラス基板11のガイドピン12への食い込みを防止することができる。
【0016】
また、ガイドピン12にテーパ部12bを設けてガラス基板11が滑りながら移動できるようにしたので、実質的に開口が広くなり、ガラス基板11をステージ9に裁置するのが容易にできる。
【0017】
実施の形態2.
図4は、この発明の実施の形態2の要部を示す断面図である。図4において、9〜12は実施の形態1のものと同様である。
13はステージ9に固着した係止手段で、ガイドピン12のガラス基板11の支持面に対して、垂直方向の軸中心でガイドピン12がステージ9面で回動するのを阻止している。14はステージ9の裏面からガイドピン12にねじ込んだねじで、ガイドピン12をステージ9に固着している。
なお、係止手段13はステージ9に切り込みをつけて、ガイドピン12をステージ9に沈めるようにしてもよい。
さらに、係止手段13をステージ9の表面側からねじ14で固着してもよい。
【0018】
以上により、ガイドピン12をねじで取り付けても、ガイドピン12の回動を阻止して位置を正確に保持できるので、ガラス基板11とガイドピン12との接触を精度よく行うことができる。
【0019】
【発明の効果】
この発明によれば、ガラス基板とガイドピントとが線接触するようになるので、ガラス基板とガイドピンとの接触面積が大きくなり、ガラス基板の位置決め機能が向上すると共に、安定した回転動作を持続して振り切り乾燥におけるガイドピンへのガラス基板の食い込みを防止することができる。また、上記ガイドピンのステージ面上での回転を阻止する係止手段を設けたことにより、ガイドピンの位置ずれを防止すると共にガラス基板を回転させるときの振動及びショックによりガラス基板が動くのを抑制することができるので、ガイドピンとガラス基板との面接触状態を良好に維持することができ、ガイド基板のガイドピンへの食い込みを更に確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1の構成を示す一部破断した正面図である。
【図2】図1の平面図である。
【図3】図2のIII−III線の断面図である。
【図4】この発明の実施の形態2の要部を示す断面図である。
【図5】従来の半導体装置の製造装置を示す一部破断した正面図である。
【図6】図5の平面図である。
【図7】図6のVIIーVII線の断面図である。
【図8】ガラス基板がガイドピンに食い込んだ状態を示す説明図である。
【符号の説明】
9 ステージ、10 支持ピン、11 ガラス基板、11a 角部、
12 ガイドピン、12a 当接面、12b テーパ部、13 ねじ、
14 係止手段。
Claims (5)
- 角形状のガラス基板の各角部近傍部分を支持する支持ピンと、上記ガラス基板の各角部近傍端面に当接して上記ガラス基板を支持するガイドピンとをそれぞれステージ上に固着し、上記ガラス基板を上記支持ピン上に載置し上記ガイドピンに当接した状態で上記ステージを回転し、上記ガラス基板をスピン乾燥する半導体装置の製造装置において、上記ガイドピンを、上記ガラス基板の端面との当接面が線接触になるように平面状に形成すると共に、上記ステージ上に、上記ガイドピンのステージ面上での回転を阻止する係止手段を設けたことを特徴とする半導体装置の製造装置。
- 上記ガイドピンには、上記ガラス基板の載置が容易になるように、開口が広くなるテーパ部を設けたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造装置。
- 上記係止手段は、上記ガイドピンに当接するように上記ステージの上面に突出させたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造装置。
- 上記係止手段は、上記ステージに切り込みをつけてガイドピンをステージに沈めるようにして構成されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造装置。
- 係止手段は上記ステージの表面側からねじで固着して構成されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造装置。
Priority Applications (1)
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JP4423397A JP3609230B2 (ja) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | 半導体装置の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP4423397A JP3609230B2 (ja) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | 半導体装置の製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH10242112A JPH10242112A (ja) | 1998-09-11 |
JP3609230B2 true JP3609230B2 (ja) | 2005-01-12 |
Family
ID=12685825
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP4423397A Expired - Lifetime JP3609230B2 (ja) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | 半導体装置の製造装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP3609230B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
KR100418341B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2004-02-14 | 동부전자 주식회사 | 반도체 웨이퍼 스핀 드라이어 |
KR100999090B1 (ko) | 2003-08-22 | 2010-12-07 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조용 감압건조장치 |
-
1997
- 1997-02-27 JP JP4423397A patent/JP3609230B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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