JP3575271B2 - Pure water production method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、原水を逆浸透膜分離装置(RO装置)と連続電気再生式純水装置(CEDI)とで処理して純水を製造する方法に係り、特に、RO装置とCEDIとを組み合わせて純水を製造するに当り、水回収率を高めると共に、得られる純水の水質を向上させる純水の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体、レンズ、液晶等の洗浄用水、医薬用水等に用いられる純水の製造には、図3に示す如く、複数のアニオン交換膜21及びカチオン交換膜22を交互に配列して濃縮水室23と処理水室24とを交互に形成し、処理水室24にアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂とを混合して充填した連続電気再生式純水装置(CEDI)が多用されている。CEDIは効果的な脱イオン処理が可能であり、イオン交換樹脂のように再生を必要とせず、完全な連続採水が可能で、極めて高純度の水が得られるという優れた特長を有する。
【0003】
CEDIでは、処理水室24に流入した供給水(被処理水)中のイオンが親和力、濃度及び移動度に基づいて陽極25と陰極26の電位の傾きの方向に樹脂20中を移動し、更に、処理水室24と濃縮水室23とを仕切るカチオン交換膜22又はアニオン交換膜21を横切って移動し、すべての室において電荷の中和が保たれるようになる。そして、イオン交換膜21、22の半浸透特性及び電位の傾きの方向性により、供給水中のイオンは処理水室24では減少し、隣りの濃縮水室23では濃縮されることになる。このため、処理水室24から純水(脱イオン水)が回収される。なお、27は陽極室、28は陰極室である。
【0004】
▲1▼ 従来、このようなCEDIの前処理手段として、逆浸透膜分離装置(RO装置)を設けることがある。RO装置を配設することにより、原水中の電解質、TOC成分を効率的に除去することができ、CEDIにおける負荷を低減し
、高純度の処理水を得ることができるようになる。
【0005】
▲2▼ このようにRO装置を設ける場合において、CEDIの脱イオン効率を高めて高水質の処理水を効率的に製造することを目的として、特開平9−290271号公報には、高脱塩率RO装置と低脱塩率RO装置とを組み合わせて処理すること、例えば、図2に示す如く、原水を高脱塩率RO装置11に通水しその透過水をCEDI12の処理水室12Aへ給水し、濃縮水を低脱塩率RO装置13に通水し、その透過水をCEDI12の濃縮水室12Bへ給水することが提案されている。この特開平9−290271号公報記載の技術は、CEDIの濃縮水としては、塩類濃度がある程度高い方が電流効率が高く、脱イオ
ン効率が向上するとの知見に基いてなされたものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記▲1▼のRO装置とCEDIとの組み合わせによる純水の製造法においては、高水質の処理水を得るためには、前処理装置として再生処理が必要なイオン交換樹脂塔を設置したり、後段にやはり再生処理が必要な混床式イオン交換樹脂塔を設置する必要があるといった不具合がある。また、Caやシリカ等によるスケール化の問題から水回収率を高くすることができないといった問題もあった。例えば、RO装置では濃縮水のシリカ濃度は100〜120ppm以下となるように水回収率が設定され、通常の場合、水回収率は70〜80%である。また、CEDIにおいても水回収率は70〜80%程度とされている。従来においては、CEDIの濃縮水をRO装置の給水として返送することにより、システム全体の水回収率を70〜80%に高めているが、十分に満足し得る水回収率とは言えない。
【0007】
また、CEDIによる脱塩では、原水中のカチオンとアニオンとのバランスがくずれると、多い方のイオンが処理水中に残留する恐れがあるが、原水中に炭酸(CO2)があると、このバランスをくずす原因となり、炭酸の存在がCEDIの処理水の水質を左右することになることから、CO2に起因する水質低下の問題もある。
【0008】
上記▲2▼の特開平9−290271号公報記載の技術でも、シリカ及び炭酸の除去や水回収率の向上について特に考慮されておらず、低脱塩率RO装置13からシリカが流出し、これがCEDI12の負荷となり、処理水水質の低下やCEDI12における電流量の増大につながっている。また、炭酸に起因する水質低下の問題もある。
【0009】
この低脱塩率RO装置13からのシリカの流出を防止するために、第2段目のRO装置として、低脱塩率RO装置ではなく、通常の脱塩率のRO装置を使用することも考えられるが、この場合には、シリカが第2段目のRO装置において更に濃縮されることになり、シリカのゲル化によるスケール障害の問題がある。また、CaCO3スケールの問題もある。
【0010】
本発明は上記従来の問題点を解決し、スケール障害を引き起こすことなく水回収率を高め、炭酸による水質の低下やシルカのリークを防止して高水質の処理水を得ることができる純水の製造方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の純水の製造方法は、原水をpH4〜5に調整した後、低脱塩率の第1の逆浸透膜分離装置(第1RO装置)に通水して第1の透過水と第1の濃縮水とを得、該第1の透過水を脱気処理した後pH7〜11に調整し、次いで第2の逆浸透膜分離装置(第2RO装置)に通水して第2の透過水と第2の濃縮水とを得、該第2の透過水を連続電気再生式純水装置(CEDI)の処理水室に給水して該処理水室から純水を得る純水の製造方法であって、該第1の濃縮水を系外へ排出し、該第2の濃縮水を該連続電気再生式純水装置(CEDI)の濃縮水室と該第1の逆浸透膜分離装置(第1RO装置)に給水し、該連続電気再生式純水装置(CEDI)の濃縮水を該第2の逆浸透膜分離装置(第2RO装置)に給水することを特徴とする。
【0012】
本発明では第1RO装置への給水をpH4〜5に調整することにより、シリカのゲル化を防止して、シリカ濃度200mg/L程度までシリカの析出を抑制することができる。従って、第1RO装置では、シリカはスケールとならずに低脱塩率のRO膜を通過する。この低脱塩率の第1RO装置は、Caイオンを除去するものであり、他の塩類は必ずしも除去されなくても良い。この第1RO装置は低脱塩率であるため、高い水回収率で低圧力で運転でき、膜フラックスの低下も少ない。
【0013】
この第1RO装置の透過水は脱気工程へ送られる。
【0014】
脱気工程では、系内のpHが5以下であることから、水中の炭酸はCO2の状態となっており、容易に除去される。
【0015】
そして、第1RO装置におけるCaイオンの除去と、この脱気工程におけるCO2の除去とで後段のCaCO3スケールを防止することができる。
【0016】
脱気処理水は次いでpH7〜11に調整された後、第2RO装置に導入される。このように第2RO装置への給水をアルカリ性とすることにより、シリカのリークやスケール障害を防止することができる。即ち、シリカはゲル化することでRO膜を目詰まりさせる等のスケール障害をもたらすが、アルカリ性ではシリカはイオン化するためゲル化せず、スケール障害を引き起こすことがない。このイオン化したシリカはRO膜を目詰まりさせることなく、RO膜で排除されるため、透過水側へのシリカのリークは抑制される。また、水中に残留する炭酸も(重)炭酸イオンとなり、他のイオンと共にRO膜で排除され、透過水側へのリークは抑制される。従って、第2RO装置において、水回収率を高めてもスケール障害を引き起こすことがなく、また、スケール化成分が高度に除去された高水質の透過水を得ることができる。
【0017】
CEDIでは、その前段までの工程で、Caイオン、シリカ、炭酸イオン等のスケールの原因となる物質が除去されているため、CEDIにおけるスケールの発生が防止でき、CEDIを安定して長時間運転できる。特に、炭酸は脱気による除去と、アルカリ性下の第2RO装置での処理による排除によって可能な限り除去されるので、CEDIへの(重)炭酸イオンの流入が極めて少ない。このため、前述のCO2に起因するCEDI処理水の水質低下の問題はなく、安定して良好な水質を得ることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【0019】
図1は本発明の実施の形態の一例を示す系統図である。
【0020】
本発明において、原水としては、工水、市水、井水等、通常の純水製造用原水として使われる水が使用でき、また、超純水を使用する半導体製造工程からの排水を常法に従って生物処理、RO処理、イオン交換処理したものを原水とすることもできる。
【0021】
原水はまず、原水中の濁質や、不溶化可能な溶存物質を除去するために除濁装置1で処理するのが好ましく、この場合、除濁装置1としては凝集沈澱、濾過、除濁用膜分離(例えば、精密濾過(MF)膜や限外濾過(UF)膜)などが使用できる。除濁装置1を設けることで後段の負荷を軽減し、処理水質を向上させることができる。
【0022】
除濁処理した原水は、次いで、後段の第2RO装置4の濃縮水と共に、HCl、H2SO4等の酸が添加されpH4〜5に調整される。第1RO装置2の給水をpH4〜5に調整することにより、第1RO装置2でのシリカのゲル化を防止して、シリカスケールを防止することができる。即ち、従来においては、シリカスケールの面から、シリカ濃度100〜120ppm以下で運転されているが、pH4〜5とすることで、シリカ濃度200ppm程度までシリカスケールを防止することができ、水回収率を大幅に高め、90%以上の水回収率での運転が可能となる。
【0023】
本発明においては、第1RO装置2として、低脱塩率のRO膜、好ましくは、NaCl除去率が85〜95%程度のRO膜を装着したRO装置(以下「ルーズRO装置」と称す場合がある。)を用いる。このようなルーズRO装置であればシリカ除去率は低いが、Ca2+は99%以上除去することができる。
【0024】
また、ルーズRO装置であれば低圧力で運転することができ、膜フラックスの低下も少ないという利点もある。
【0025】
この第1のルーズRO装置2の濃縮水は系外へ排出され、透過水は脱気装置3で脱気処理される。
【0026】
脱気装置3では、給水のpHが5以下の酸性であるため、水中の炭酸成分はCO2の状態となっており、効率的に除去される。また、同時に水中の溶存酸素を除去することもできる。この脱気装置3としては、脱炭酸(空気接触法)装置、N2脱気装置、真空脱気装置、膜脱気装置など通常の脱気装置を用いることができる。
【0027】
脱気装置3からの脱気処理水は、後段のCEDI6の濃縮水と共に、NaOH、KOH等のアルカリが注入されpH7〜11に調整される。この調整pH値は、シリカのイオン化の面からは高い程望ましいが、高すぎると第2RO装置4のRO膜の劣化の問題が生じるため、調整pH値は特に8〜10.5、とりわけ9.5〜10が好ましい。
【0028】
このようにpH調整された水が給水される第2RO装置4のRO膜としては、好ましくはNaCl除去率が99%以上の高脱塩率のRO膜、例えばポリアミド系又は酢酸セルロース系等のRO膜を用いる。
【0029】
この第2RO装置4では、前述の如く、アルカリ性条件下で運転を行うために、シリカスケールの恐れがない。また、第1のルーズRO装置2でCa2+が除去され、脱気装置3でCO2 が除去されているため、CaCO3スケールの恐れもなく、水回収率を高くすることができ、一般的には80〜90%の水回収率で運転することができる。この第2RO装置4では、イオン化したシリカが除去されると共に、残留する炭酸成分も(重)炭酸イオンとなって他のイオンと共に除去されるため、高水質の透過水が得られる。
【0030】
この第2RO装置4の透過水は後段のCEDI6の処理水室6Aに供給され、また、濃縮水の一部はCEDI6の濃縮水室6Bに供給され、残部は第1のルーズRO装置2へ給水される。
【0031】
本実施例では、第2RO装置4の透過水を紫外線照射酸化装置(以下「UV酸化装置」と称す。)5で処理した後、CEDI6に供給する。このようにUV酸化装置5で処理することにより、より高水質の処理水を得ることができ、好ましい。
【0032】
即ち、RO装置2,4、脱気装置3、CEDI6のみでは、原水中のTOCを微量まで除去することができないが、図1に示す如く、UV酸化装置5を設けることで、原水中のTOCをUV酸化分解により低分子化してイオン化し、これを後段のCEDI6で容易に分離することができ、より一層水質を高めることができる。
【0033】
UV酸化装置を設ける場合、その設置場所には特に制限はなく、任意の箇所に設置することができるが、特に、CEDIの直前に設けるのが、UV酸化分解でイオン化させたTOC成分を速やかに除去できる点で好ましい。
【0034】
なお、UV酸化装置5としては、酸化能力の高い180〜220nm、特に180〜190nmの低波長のUVを照射できるものを用いるのが好ましい。
【0035】
UV酸化装置5の処理水はCEDI6の処理水室6Aに供給される。
【0036】
CEDI6としては、図3に示す如く、アニオン交換膜21とカチオン交換膜22により濃縮水室23及び処理水室24と陽極室27及び陰極室28とが隔成され、処理水室24に、或いは、処理水室24と濃縮水室23とにカチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂との混床が充填された、一般的な市販のCEDIを用いることができる。
【0037】
CEDI6では、前述の原理で脱イオン処理がなされ、処理水室6Aから純水が得られ、濃縮水室6Bからは濃縮水が排出される。なお、CEDI6の電極室(陽極室、陰極室)には第2RO装置4の濃縮水が給水される。
【0038】
処理水室6Aからの純水は系外へ排出され、使用場所へ送給される。
【0039】
一方、濃縮水室6Bからの濃縮水は第2RO装置4の前段に返送され、第2RO装置4に給水される。
【0040】
本発明においては、CEDI6の前段までに、原水中のCa2+イオン、シリカ、炭酸イオン等のスケールの原因となる物質が高度に除去されており、CEDI6におけるスケールの発生が防止され、CEDI6自体も85〜95%程度の高水回収率で、長期に亘り安定して運転することができる。特に、炭酸は脱気による除去と、アルカリ性下の第2RO装置における排除によって高度に除去されるため、CEDI6への(重)炭酸イオンの流入が極めて少なく、前述のCO2 に起因するイオンバランスのずれからくるCEDI処理水の水質低下はなく、安定して良好な水質の処理水を得ることができる。
【0041】
また、前述の如く、第2RO装置4はアルカリ性下で処理されるため、このCEDI6の濃縮水を返送して給水しても、スケール障害等を引き起こすことなく、安定に処理を行うことができる。
【0042】
図1に示される実施の形態では、系外へ排出される水は、第1のルーズRO装置2の濃縮水のみであり、システム全体としての水回収率を、従来の70〜80%から、90%以上の高水回収率とすることができる上に、高水質の処理水を得ることができる。
【0043】
【実施例】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。
【0044】
実施例1
図1に示す方法により市水を処理して純水の製造を行った。ただし、UV酸化装置5は設けず、第2RO装置4の透過水は直接CEDI6に給水した。
【0045】
まず、市水270L/hrを除濁装置(外圧型中空糸UF膜分離装置)1で処理した後、後段の第2RO装置4の濃縮水10L/hrと共に、HClでpH4に調整し、第1のルーズRO装置2に通水した。この第1のルーズRO装置2としては、日東電工社製「NTR−729HF」(ポリアミド系合成複合膜、NaCl除去率90%)1本(4インチ)を装填したものを用い、給水圧10kg/cm2、水回収率90%で運転した。
【0046】
第1のルーズRO装置2の濃縮水は系外へ排出し、透過水は脱気装置3に供給した。脱気装置3としては、膜脱気装置(ヘキストジャパン製:Liq−CEL,2インチ1本)を用い、真空度40Torr,N2量1L/minで処理した。
【0047】
次いで、脱気処理水250L/hrを後段のCEDI6の濃縮水40L/hrと共に、NaOHを添加してpH9.5に調整した後、第2RO装置4に通水した。
【0048】
第2RO装置4としては、RO膜として日東電工社製「NTR−759HR」(ポリアミド系合成複合膜、NaCl除去率99.5%)1本(4インチ)を装填したものを用い、給水圧12kg/cm2、水回収率83%で処理を行った。この第2RO装置4の透過水240L/hrはCEDI(栗田工業(株)製「ピュアエースPA240」)6の処理水室6Aに給水し、濃縮水のうちの40L/hrはCEDI6の濃縮水室6Bに通水した。
【0049】
得られた処理水(CEDI6からの純水)の水質及び水回収率を調べ、結果を表1に示した。
【0050】
実施例2
実施例1において、185nmのUVを照射するUV酸化装置5を設け第2RO装置4の透過水を、このUV酸化装置5で0.2KWH/m3の条件で処理したこと以外は同様にして処理を行い、得られた処理水の水質及び水回収率を調べ、結果を表1に示した。
【0051】
【表1】
【0052】
比較例1
実施例1において、脱気装置を設けなかったこと以外は同様にして処理を行ったところ、10〜12日でCaCO3のスケールが発生し、第2RO装置の透過水量の低下、差圧の上昇を生じた。
【0053】
比較例2
実施例1において、第1のルーズRO装置2の入口側でpH調整を行わず、pH7.0で処理したこと以外は同様にして処理を行ったところ、5〜7日でCaCO3のスケールが発生し、第2RO装置の透過水量の低下、差圧の上昇を生じた。
【0054】
比較例3
実施例1において、第2RO装置4の入口側でpH調整を行わず、pH6.9で処理したこと以外は同様にして処理を行ったところ、20〜25日で第2RO装置にシリカスケールが発生し、透過水量の低下を生じた。
【0055】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明の純水の製造方法によれば、RO装置とCEDIとを組み合わせて純水を製造する場合の水回収率を、従来法に比べて10〜20%も向上させることができる上に、高水質の処理水を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例を示す系統図である。
【図2】従来例を示す系統図である。
【図3】CEDIの構造を示す概略的な構成図である。
【符号の説明】
1 除濁装置
2 第1のルーズRO装置
3 脱気装置
4 第2RO装置
5 UV酸化装置
6 CEDI
6A 処理水室
6B 濃縮水室
11 高脱塩率RO装置
12 CEDI
12A 処理水室
12B 濃縮水室
13 低脱塩率RO装置
20 イオン交換樹脂
21 アニオン交換膜
22 カチオン交換膜
23 濃縮水室
24 処理水室
25 陽極
26 陰極
27 陽極室
28 陰極室[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing pure water by treating raw water with a reverse osmosis membrane separation device (RO device) and a continuous electric regeneration type pure water device (CEDI), and in particular, combining the RO device and CEDI. The present invention relates to a method for producing pure water, which increases the water recovery rate and improves the quality of pure water obtained when producing pure water.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, in the production of pure water used for cleaning water for semiconductors, lenses, liquid crystals, etc., medical water, etc., as shown in FIG. 3, concentrated water is formed by alternately arranging a plurality of
[0003]
In CEDI, ions in the supply water (water to be treated) flowing into the treated
[0004]
{Circle around (1)} Conventionally, a reverse osmosis membrane separation device (RO device) may be provided as a pretreatment means for such CEDI. By disposing the RO device, the electrolyte and the TOC component in the raw water can be efficiently removed, the load on CEDI can be reduced, and high-purity treated water can be obtained.
[0005]
{Circle around (2)} In the case where the RO apparatus is provided as described above, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-290271 discloses a high desalination for the purpose of increasing the deionization efficiency of CEDI and efficiently producing high-quality treated water. A combination of a high-rate RO apparatus and a low-demineralization rate RO apparatus, for example, as shown in FIG. 2, raw water is passed through a high-desalination-rate RO apparatus 11 and the permeated water is passed to a treated water chamber 12A of the
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In the method for producing pure water by combining the RO device and CEDI in the above item (1), in order to obtain high-quality treated water, an ion-exchange resin tower requiring regeneration treatment is installed as a pretreatment device, There is a disadvantage that it is necessary to install a mixed bed type ion exchange resin tower which also requires a regeneration treatment in the subsequent stage. In addition, there was a problem that the water recovery rate could not be increased due to scaling problems caused by Ca, silica, and the like. For example, in the RO device, the water recovery rate is set so that the silica concentration of the concentrated water is 100 to 120 ppm or less. In a normal case, the water recovery rate is 70 to 80%. Also, the water recovery rate of CEDI is set to be about 70 to 80%. Conventionally, the concentrated water of CEDI is returned as feed water to the RO device to increase the water recovery rate of the entire system to 70 to 80%, but it cannot be said that the water recovery rate is sufficiently satisfactory.
[0007]
In the desalination using CEDI, if the balance between the cations and anions in the raw water is lost, more ions may remain in the treated water. However, if there is carbonic acid (CO 2 ) in the raw water, this balance is lost. Since the presence of carbonic acid affects the quality of the CEDI treated water, there is also a problem of water quality deterioration due to CO 2 .
[0008]
Even in the technique described in JP-A-9-290271 of the above item (2), no consideration is given to the removal of silica and carbonic acid and the improvement of the water recovery rate. This is a load on the
[0009]
In order to prevent the outflow of silica from the low-desalting-ratio RO apparatus 13, as the second-stage RO apparatus, not a low-desalting-ratio RO apparatus but an RO apparatus with a normal desalting rate may be used. It is conceivable that, in this case, silica is further concentrated in the second-stage RO apparatus, and there is a problem of scale hindrance due to gelation of silica. There is also a problem of CaCO 3 scale.
[0010]
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, increases the water recovery rate without causing scale disturbance, prevents water quality deterioration due to carbonic acid and prevents leakage of silka, and pure water capable of obtaining high quality treated water. It is intended to provide a manufacturing method.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
In the method for producing pure water according to the present invention, after adjusting the raw water to
[0012]
In the present invention, by adjusting the water supply to the first RO device to
[0013]
The permeated water of the first RO device is sent to a deaeration step.
[0014]
In the degassing step, since the pH in the system is 5 or less, the carbonic acid in the water is in a CO 2 state and is easily removed.
[0015]
The removal of Ca ions in the first RO device and the removal of CO 2 in this deaeration step can prevent the subsequent stage of CaCO 3 scale.
[0016]
The degassed water is then adjusted to pH 7 to 11, and then introduced into the second RO device. By making the water supply to the second RO apparatus alkaline, it is possible to prevent silica leakage and scale failure. That is, the silica gel causes a scale hindrance such as clogging of the RO film, but the silica is not ionized and gelled due to ionization in an alkali, and does not cause scale hindrance. Since the ionized silica is eliminated by the RO film without clogging the RO film, the leakage of silica to the permeated water side is suppressed. In addition, carbonic acid remaining in water also becomes (bi) carbonate ion, is eliminated by the RO membrane together with other ions, and leakage to the permeated water side is suppressed. Therefore, in the second RO device, even if the water recovery rate is increased, scale disturbance is not caused, and high-quality permeated water from which scaled components are highly removed can be obtained.
[0017]
In the CEDI, up to the previous step, substances causing the scale, such as Ca ions, silica, and carbonate ions, are removed, so that scale generation in the CEDI can be prevented, and the CEDI can be operated stably for a long time. . In particular, since carbonic acid is removed as much as possible by removal by degassing and removal by treatment in a second RO device under alkaline conditions, the inflow of (bi) carbonate ions into CEDI is extremely small. Therefore, there is no problem of the deterioration of the water quality of the CEDI treated water caused by the above-mentioned CO 2 , and a good water quality can be obtained stably.
[0018]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0019]
FIG. 1 is a system diagram showing an example of an embodiment of the present invention.
[0020]
In the present invention, as the raw water, water used as ordinary raw water for producing pure water, such as industrial water, city water, and well water, can be used, and wastewater from a semiconductor production process using ultrapure water can be used in a conventional manner. The biological treatment, the RO treatment, and the ion exchange treatment can be used as raw water.
[0021]
Raw water is preferably first treated with a clarifier 1 to remove turbidity and dissolved substances that can be insolubilized in the raw water. In this case, the clarifier 1 is a membrane for coagulation sedimentation, filtration, and clarification. Separation (eg, microfiltration (MF) membranes or ultrafiltration (UF) membranes) can be used. By providing the turbidity removing device 1, the load at the subsequent stage can be reduced, and the quality of treated water can be improved.
[0022]
The raw water subjected to the turbidity treatment is then adjusted to pH 4 to 5 by adding an acid such as HCl or H 2 SO 4 together with the concentrated water of the
[0023]
In the present invention, as the first RO device 2, a RO film having a low desalting rate, preferably an RO film having a NaCl removal rate of about 85 to 95% (hereinafter sometimes referred to as a "loose RO apparatus"). Is used.) With such a loose RO apparatus, the silica removal rate is low, but Ca 2+ can be removed by 99% or more.
[0024]
In addition, a loose RO device can be operated at a low pressure, and has an advantage that a decrease in film flux is small.
[0025]
The concentrated water of the first loose RO device 2 is discharged out of the system, and the permeated water is deaerated by the deaerator 3.
[0026]
In the deaerator 3, since the pH of the feedwater is acidic of 5 or less, the carbonic acid component in the water is in a CO 2 state, and is efficiently removed. In addition, dissolved oxygen in water can be removed at the same time. As the deaerator 3, an ordinary deaerator such as a decarboxylation (air contact method) device, a N 2 deaerator, a vacuum deaerator, and a film deaerator can be used.
[0027]
The degassed treated water from the degassing device 3 is adjusted to pH 7 to 11 by injecting alkali such as NaOH and KOH together with the concentrated water of
[0028]
The RO film of the
[0029]
As described above, since the
[0030]
The permeated water of the
[0031]
In this embodiment, the permeated water of the
[0032]
That is, although only the
[0033]
When a UV oxidizing device is provided, there is no particular limitation on the place of the UV oxidizing device, and the device can be installed at any position. In particular, immediately before the CEDI, the TOC component ionized by the UV oxidative decomposition is quickly provided. It is preferable in that it can be removed.
[0034]
In addition, as the UV oxidizing device 5, it is preferable to use a device that can irradiate UV having a high oxidizing ability at a low wavelength of 180 to 220 nm, particularly 180 to 190 nm.
[0035]
The treated water of the UV oxidizer 5 is supplied to the treated water chamber 6A of the
[0036]
As the
[0037]
In the
[0038]
Pure water from the treated water chamber 6A is discharged out of the system and sent to the place of use.
[0039]
On the other hand, the concentrated water from the concentrated water chamber 6B is returned to the preceding stage of the
[0040]
In the present invention, substances that cause scale such as Ca 2+ ions, silica, and carbonate ions in raw water are removed to a high degree by the previous stage of
[0041]
Further, as described above, since the
[0042]
In the embodiment shown in FIG. 1, the water discharged out of the system is only the concentrated water of the first loose RO device 2, and the water recovery rate of the entire system is reduced from 70 to 80% of the conventional system. In addition to a high water recovery of 90% or more, high-quality treated water can be obtained.
[0043]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples.
[0044]
Example 1
City water was treated by the method shown in FIG. 1 to produce pure water. However, the UV oxidizing device 5 was not provided, and the permeated water of the
[0045]
First, 270 L / hr of city water is treated by a turbidity removal device (external pressure type hollow fiber UF membrane separation device) 1, and then adjusted to
[0046]
The concentrated water in the first loose RO device 2 was discharged out of the system, and the permeated water was supplied to the deaerator 3. As the deaerator 3, a membrane deaerator (manufactured by Hoechst Japan: Liq-CEL, 1 inch, 2 inches) was used, and the treatment was performed at a vacuum of 40 Torr and N 2 at 1 L / min.
[0047]
Next, 250 L / hr of degassed water was adjusted to pH 9.5 by adding NaOH together with 40 L / hr of concentrated water of
[0048]
As the
[0049]
The quality and water recovery of the obtained treated water (pure water from CEDI6) were examined, and the results are shown in Table 1.
[0050]
Example 2
In the first embodiment, a UV oxidizer 5 for irradiating UV of 185 nm is provided, and the permeated water of the
[0051]
[Table 1]
[0052]
Comparative Example 1
In Example 1, where except that no providing the deaerator was treated in the same manner, scale of CaCO 3 occurs in 10 to 12 days, decrease in the permeate flow of the 2RO apparatus, the differential pressure A rise has occurred.
[0053]
Comparative Example 2
In Example 1, without pH adjustment first inlet side of the loose RO unit 2, where the was treated in the same manner except that treated with pH 7.0, scale of CaCO 3 in 5-7 days Occurred, causing a decrease in the amount of permeated water of the second RO device and an increase in the differential pressure.
[0054]
Comparative Example 3
In Example 1, the pH was not adjusted on the inlet side of the
[0055]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the method for producing pure water of the present invention, the water recovery rate when producing pure water by combining an RO apparatus and CEDI is improved by 10 to 20% as compared with the conventional method. And high-quality treated water can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a system diagram showing an example of an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a system diagram showing a conventional example.
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing the structure of CEDI.
[Explanation of symbols]
REFERENCE SIGNS LIST 1 turbidity device 2 first loose RO device 3
6A Treated water chamber 6B Concentrated water chamber 11 High desalination
12A treated water chamber 12B concentrated water chamber 13 low desalting rate RO apparatus 20
Claims (3)
該第1の透過水を脱気処理した後pH7〜11に調整し、次いで第2の逆浸透膜分離装置に通水して第2の透過水と第2の濃縮水とを得、
該第2の透過水を連続電気再生式純水装置の処理水室に給水して該処理水室から純水を得る純水の製造方法であって、
該第1の濃縮水を系外へ排出し、
該第2の濃縮水を該連続電気再生式純水装置の濃縮水室と該第1の逆浸透膜分離装置に給水し、
該連続電気再生式純水装置の濃縮水を該第2の逆浸透膜分離装置に給水することを特徴とする純水の製造方法。After adjusting the raw water to pH 4-5, the raw water is passed through a first reverse osmosis membrane separator having a low desalination rate to obtain a first permeated water and a first concentrated water,
After degassing the first permeate, the pH is adjusted to 7 to 11 and then passed through a second reverse osmosis membrane separator to obtain a second permeate and a second concentrated water,
A method for producing pure water, wherein the second permeated water is supplied to a treatment water chamber of a continuous electric regeneration type pure water apparatus to obtain pure water from the treatment water chamber ,
Discharging the first concentrated water out of the system;
Supplying the second concentrated water to the concentrated water chamber of the continuous electric regeneration type pure water device and the first reverse osmosis membrane separation device,
A method for producing pure water, comprising supplying concentrated water from the continuous electric regeneration type pure water apparatus to the second reverse osmosis membrane separation apparatus .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05520698A JP3575271B2 (en) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | Pure water production method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05520698A JP3575271B2 (en) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | Pure water production method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11244853A JPH11244853A (en) | 1999-09-14 |
JP3575271B2 true JP3575271B2 (en) | 2004-10-13 |
Family
ID=12992192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05520698A Expired - Fee Related JP3575271B2 (en) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | Pure water production method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3575271B2 (en) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100465580B1 (en) * | 2000-07-13 | 2005-01-13 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | Electro-deionization device and method for operating the same |
JP4710176B2 (en) * | 2001-06-22 | 2011-06-29 | 栗田工業株式会社 | Ultrapure water production equipment |
JP2003136065A (en) * | 2001-11-05 | 2003-05-13 | Kurita Water Ind Ltd | Treatment apparatus of boiler feed water |
JP4519930B2 (en) * | 2001-12-11 | 2010-08-04 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | Ultrapure water production method and ultrapure water production apparatus |
US6929748B2 (en) * | 2003-03-28 | 2005-08-16 | Chemitreat Pte Ltd | Apparatus and method for continuous electrodeionization |
JP4525083B2 (en) * | 2004-01-22 | 2010-08-18 | 富士ゼロックス株式会社 | Wastewater treatment method |
JP2006026543A (en) * | 2004-07-16 | 2006-02-02 | Kurita Water Ind Ltd | Apparatus and method for removing silica |
JP2006051423A (en) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Kurita Water Ind Ltd | Electric deionization system, electric deionization method, and pure water production device |
JP2007268352A (en) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Water treatment method and water treatment apparatus |
JP4641003B2 (en) * | 2006-05-19 | 2011-03-02 | 一郎 庄田 | Electrolyzed water generation method and electrolyzed water generator |
JP5569784B2 (en) * | 2010-03-16 | 2014-08-13 | 三浦工業株式会社 | Pure water production system |
JP5757110B2 (en) * | 2011-03-09 | 2015-07-29 | 三浦工業株式会社 | Water treatment method and water treatment system |
JP5700080B2 (en) * | 2013-07-02 | 2015-04-15 | 栗田工業株式会社 | Method and apparatus for treating waste water containing cationic surfactant |
JP6788334B2 (en) * | 2014-08-01 | 2020-11-25 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung | Water purification system and method |
CN104944527A (en) * | 2015-06-12 | 2015-09-30 | 江苏新美星包装机械股份有限公司 | Water purifying process |
JP6752692B2 (en) * | 2016-11-18 | 2020-09-09 | オルガノ株式会社 | Water treatment method and equipment |
CN106734629B (en) * | 2017-01-16 | 2019-02-01 | 北京机科国创轻量化科学研究院有限公司 | A kind of three station transport equipment of superplastic forming |
EA202090132A1 (en) * | 2017-08-21 | 2020-08-03 | Эвокуа Уотер Текнолоджиз Ллк | TREATMENT OF SALT WATER FOR ITS USE FOR AGRICULTURAL AND INDUSTRIAL NEEDS |
WO2020045061A1 (en) * | 2018-08-28 | 2020-03-05 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | Pure water production system and pure water production method |
JP2022060806A (en) | 2020-10-05 | 2022-04-15 | オルガノ株式会社 | Pure water production system and pure water production method |
JP2024137635A (en) * | 2023-03-24 | 2024-10-07 | 住友重機械工業株式会社 | Carbonate immobilization device and carbonate immobilization method |
-
1998
- 1998-03-06 JP JP05520698A patent/JP3575271B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11244853A (en) | 1999-09-14 |
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A521 | Written amendment |
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