JP3565394B2 - 半導体パルス光源装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体パルス光源装置に関し、特にチャープドグレーティングを有する半導体パルス光源装置に適用して有用なものである。
【0002】
【従来の技術】
図4(a)は従来の半導体パルス光源装置の構成を説明するための図であり、01は光変調器、02は利得部、03は回折格子よりなる分布ブラッグ反射器(DBR)である。従来はDBRには均一な回折格子が用いられている。図2(b)は他の従来の半導体パルス光源装置を説明するための図であり、04は光利得部、05はチャープドグレーティング06が形成されたファイバーである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、半導体パルス光源装置では、発生したパルスの繰り返し周波数は共振器を光パルスが往復するのに要する時間の逆数で与えられる共振周波数に一致するため、各素子ごとに固定されてしまう。必要な繰り返し周波数を得るためには、共振器長を精度よく作製する事が必要であるが、劈開時の共振器長のばらつきや共振周波数を決める群屈折率のばらつきにより、再現性良く作製することが困難であった。また、能動モード同期レーザにおいて変調周波数を上記共振周波数からわずかでもずらすとパルス幅が増大し、パルスのパワーが低下し、ノイズが増大するという問題があった。
【0004】
図4(b)に示す半導体パルス光源装置は、チャープドグレーティング06を形成したファイバー05と光利得部04を結合させたものであり、この装置ではチャープドグレーティング06により繰り返し周波数が広い範囲で変えられることが報告されている(P.A.Morton,et.al.,“Mode−locked soliton pulse source with fibercavity and integrated chirped Braggreflector,”OFC/IOOC ’93 Technical Digest,pp.57−58)。
【0005】
ところが、上記半導体パルス光源装置では、ファイバー05と光利得部04とを外部で結合させているため共振器長が長くなり、10GHZ 以上の高い繰り返し周波数は困難であった。また、チャープドグレーティング06を形成したファイバー05ではグレーティング部分が1ミリメートル以上と長くしないと反射率が確保できないため、波長帯域が狭くなり時間幅の小さいパルスを発生することは困難であった。
【0006】
本願発明は、上記従来技術に鑑み、発生する光パルスの繰り返し周波数を設計に対して再現性良く作成し、また10GHZ 以上の高い繰り返し周波数において、変調周波数の変化に対して光パルス幅の変動が少なく、10ps以下の光パルスの発生を可能にする半導体パルス光源装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の構成は次の点を特徴とする。
【0008】
1) ある波長域に対して利得を有する半導体利得部と、電圧あるいは電流を加えることにより前記波長域に対する光吸収係数あるいは光利得係数が変化する半導体変調器部と、回折格子を有する光フィルター部とを一組とする光半導体パルス発生素子が、同一半導体基板上に形成された半導体パルス光源装置において、
上記光フィルター部が周期性を有する回折格子より構成され一定の負の位相シフトが多数挿入されるとともに挿入間隔が光出射方向に行くに伴い減少するように構成したチャープドグレーティングを有すること。
【0009】
2) ある波長域に対して利得を有する半導体利得部と、電圧あるいは電流を加えることにより前記波長域に対する光吸収係数あるいは光利得係数が変化する半導体変調器部と、回折格子を有する光フィルター部とを一組とする光半導体パルス発生素子が、同一半導体基板上に形成された半導体パルス光源装置において、
上記光フィルター部が周期性を有する回折格子より構成され一定の正の位相シフトが多数挿入されるとともに挿入間隔が光出射方向に行くに伴い増大するように構成したチャープドグレーティングを有すること。
【0010】
3) 上記1)又は2)に記載する半導体パルス光源装置において、
上記光フィルター部の長さが200ミクロン以下であること。
【0011】
4) 上記1)乃至3)の何れか一つに記載する半導体パルス光源装置において、
出射端面に少なくとも1%以下の反射率を有する無反射膜がコーティングされていること。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づき詳細に説明する。図1は本形態の基本構成を示す構造図である。同図に示すように、本形態に係る半導体パルス光源装置は、ある波長域に対して利得を有する半導体利得部1と、電圧を加えることにより前記波長域に対する光吸収係数が増大する半導体変調器部2と、回折格子を有する光フィルター部3とを同一の半導体基板8、11上に形成したものである。このとき光フィルター部3は、その回折格子の周期が光出射方向にある一定の割合で減少するとともにその長さが200ミクロン以下になるように構成してある。
【0013】
なお、図中4は利得部電極、5は変調器部電極、6はDBR電極、7は下部電極、9は変調器用多重量子井戸、10は利得部用多重量子井戸、12はDBR、13は高反射膜、14は無反射膜である。
【0014】
また、上記光フィルター部3は周期性を有する回折格子より構成され、一定の負の位相シフトが多数挿入されるとともに挿入間隔が光出射方向に行くに伴い減少するように構成したチャープドグレーティングを有するか、若しくは一定の正の位相シフトが多数挿入されるとともに挿入間隔が光出射方向に行くに伴い増大するように構成したチャープドグレーティングを有するものであっても良い。
【0015】
図2は光フィルター部3の反射率と有効長の波長依存性に関する計算結果である。前記半導体変調器部2に正弦波電圧を加えることにより吸収係数が変化しロスの時間変化が与えられる。この時の繰り返し周波数は共振器を光パルスが往復するのに要する時間の逆数で与えられる共振周波数に一致させる必要がある。光フィルター部3を構成する分布ブラッグ反射器(DBR)内の有効長は、回折格子の周期が光射出方向にある一定の割合で減少するため、図2に示すように波長に依存して変化する。変調周波数を変化させると発振波長が変化してDBR内で光パルスが往復するのに要する時間の逆数で与えられる共振周波数に一致するように、有効長を自動的に変化させるため、10GHZ 以上の繰り返し周波数で安定なパルス発生が得られる。
【0016】
一方、図4(a)に示す従来の構造では有効長の波長依存性が小さく上記の効果はほとんどない。図4(b)に示す従来の構造では、チャープドグレーティング06を形成したファイバー05と光利得部04を結合させたものであり、チャープドグレーティング06により繰り返し周波数が広い範囲で変えられることが報告されているが、光利得部04との外部での結合構造であるため、共振器長が長くなり、10GHz 以上の高い繰り返し周波数は困難である。また、チャープドグレーティング06を形成したファイバー05ではグレーティング部分が1ミリメートル以上と長くしないと反射率が確保できないため、幅の小さいパルスを発生することは困難である。
【0017】
【実施例】
次に本発明のさらに詳言な実施例を説明する。半導体利得部1、電界吸収型の半導体変調器部2及び光フィルター部3は、n型InP よりなる同一半導体基板8及びp型InP よりなる同一半導体基板11上に集積されており、これらで光共振器を形成している。半導体利得部1は井戸層がInGaAsまたはInGaAsP 、障壁層がInGaAsP の利得部用多重量子井戸9よりなり、そのホトルミネッセンス波長は1.55ミクロン近傍である。半導体変調器部2は井戸層がInGaAsまたはInGaAsP 、障壁層がInGaAsP の半導体多重量子井戸10よりなり、そのホトルミネッセンス波長は1.49ミクロン近傍である。半導体利得部1の長さは1800ミクロン、半導体変調器部2の長さは100ミクロンである。半導体利得部1と半導体変調器部2は相互の電極4、5が50ミクロンの長さにわたり分離されており、共振器長は約2200ミクロンである。
【0018】
チャープドグレーティングを形成したDBRは150ミクロンである。チャープレイトは7250Å/cmである。チャープドグレイティングは図3に示す多重位相シフトパタンを用いた。これらのパタンは電子ビーム露光装置を用いて実現した。ここで「位相シフト」とは、周期性を有する回折格子の位相を光出射方向に対し反対方向に所定量ずらす(これを負の位相シフトといい、図3はこの負の位相シフトの場合を示している)こと、若しくは周期性を有する回折格子の位相を光出射方向に所定量ずらす(これを正の位相シフトという)ことをいう。また、「多重位相シフト」とは、「位相シフト」を複数個(図3では4個)設けることをいう。図3(a)には回折格子の周期、同図(b)には位相シフト、同図(c)にはこのとき形成される回折格子を概念的に示している。
【0019】
図3に示す場合においてチャープレイトrc は
rc =4neq(△Λ/Λ)/m2
で与えられる。ここで、neqは光導波路の等価屈折率、△Λは位相シフト量、Λは回折格子の周期、mは最初に位相シフトが挿入される位置の周期の数である。図3に示すように、位相シフトが負の場合には出射端面に対して反対側(図3の左側)から、位相シフトの番号iに対して 番号i の平方根にmを乗じた値となる位置に位相シフトが挿入される。この位相シフトの挿入位置を図3(a)中に下向きの矢印で示す。この結果形成される回折格子は、図3(c)に示すように、負の位相シフト△Λが4個挿入され、かつその挿入間隔T1 〜T4 が光出射方向にいくにしたがい減少するものとなる。すなわちT1 >T2 >T3 >T4 となっている。
【0020】
位相シフトが正の場合は、出射端面側から位相シフトの番号iに対して番号i の平方根にmを乗じた値となる位置に位相シフトを挿入し、かつその挿入間隔が光出射方向にいくにしたがい増大するように、すなわちT1 <T2 <T3 <T4 となるように挿入すれば良い。
【0021】
DBR側の端面の無反射膜14はSiO2とTiO2からなる多層膜の無反射コーティングにより形成され、反射率は0.2%以下になっている。
【0022】
【発明の効果】
以上実施の形態とともに詳細に説明した通り、本発明によればパルスの繰り返し周波数がDBR内での有効長の自己整合化で可変できるために、広い範囲での周波数のパルス発生が容易になり、また小型に集積化されているため20GHZ 以上の高い周波数を得ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態にかかる半導体パルス光源装置す構成図である。
【図2】光フィルター部3の反射率と有効長の波長依存性に関する計算結果に基づく特性を示す特性図である。
【図3】本発明の実施の形態にかかる装置の光フィルター部における位相シフトを説明するための説明図。
【図4】従来技術に係る半導体パルス光源装置を示す構造図。
【符号の説明】
1 半導体利得部
2 半導体変調部
3 光フィルター部
Claims (4)
- ある波長域に対して利得を有する半導体利得部と、電圧あるいは電流を加えることにより前記波長域に対する光吸収係数あるいは光利得係数が変化する半導体変調器部と、回折格子を有する光フィルター部とを一組とする光半導体パルス発生素子が、同一半導体基板上に形成された半導体パルス光源装置において、
上記光フィルター部が周期性を有する回折格子より構成され一定の負の位相シフトが多数挿入されるとともに挿入間隔が光出射方向に行くに伴い減少するように構成したチャープドグレーティングを有することを特徴とする半導体パルス光源装置。 - ある波長域に対して利得を有する半導体利得部と、電圧あるいは電流を加えることにより前記波長域に対する光吸収係数あるいは光利得係数が変化する半導体変調器部と、回折格子を有する光フィルター部とを一組とする光半導体パルス発生素子が、同一半導体基板上に形成された半導体パルス光源装置において、
上記光フィルター部が周期性を有する回折格子より構成され一定の正の位相シフトが多数挿入されるとともに挿入間隔が光出射方向に行くに伴い増大するように構成したチャープドグレーティングを有することを特徴とする半導体パルス光源装置。 - 請求項1又は請求項2に記載する半導体パルス光源装置において、
上記光フィルター部の長さが200ミクロン以下であることを特徴とする半導体パルス光源装置。 - 〔請求項1〕乃至〔請求項3〕の何れか一つに記載する半導体パルス光源装置において、
出射端面に少なくとも1%以下の反射率を有する無反射膜がコーティングされていることを特徴とする半導体パルス光源装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04391997A JP3565394B2 (ja) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | 半導体パルス光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04391997A JP3565394B2 (ja) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | 半導体パルス光源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10242580A JPH10242580A (ja) | 1998-09-11 |
JP3565394B2 true JP3565394B2 (ja) | 2004-09-15 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04391997A Expired - Lifetime JP3565394B2 (ja) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | 半導体パルス光源装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3565394B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100420950B1 (ko) * | 2001-12-12 | 2004-03-02 | 한국전자통신연구원 | 파장 가변 레이저 광원 |
JP4036256B2 (ja) * | 2002-01-30 | 2008-01-23 | 日本電信電話株式会社 | 半導体パルス光源装置 |
JP2008035265A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Oki Electric Ind Co Ltd | 多波長キャリア抑圧光パルス信号生成装置 |
JP5287460B2 (ja) | 2009-04-17 | 2013-09-11 | 富士通株式会社 | 半導体レーザ |
-
1997
- 1997-02-27 JP JP04391997A patent/JP3565394B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10242580A (ja) | 1998-09-11 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040127 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040323 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040603 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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