JP3564419B2 - ヘッド支持機構における薄膜接着方法および薄膜接着冶具 - Google Patents
ヘッド支持機構における薄膜接着方法および薄膜接着冶具 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コンピュータなどの記憶装置として用いられるディスク装置に設けられるヘッド支持機構に関し、特に、磁気ディスク装置のヘッド支持機構におけるスライダに対して回動力を付与する薄膜の薄膜接着方法および薄膜接着冶具に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気ディスク装置に設けられた磁気ディスクの記録密度は、日を追う毎に高密度化が進でいる。磁気ディスクに対するデータの記録および再生に使用される磁気ヘッドは、通常スライダに搭載されており、磁気ヘッドが搭載されたスライダは、磁気ディスク装置内に設けられたヘッド支持機構によって支持されている。
【０００３】
ヘッド支持機構は、スライダが取り付けられたヘッドアクチュエータアームを有しており、このヘッドアクチュエータアームが、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）によって回動されるようになっている。そして、ボイスコイルモータを制御することにより、スライダに搭載された磁気ヘッドが、磁気ディスク上の任意の位置に位置決めされる。
【０００４】
磁気ディスクに対してデータをさらに高密度で記録するためには、磁気ディスクに対して磁気ヘッドをさらに高密度に位置決めする必要がある。しかしながら、ＶＣＭにてヘッドアクチュエータアームを回動させて磁気ヘッドを位置決めする構成では、磁気ヘッドを、より高精度に位置決めできないという問題がある。そこで、磁気ヘッドを高精度に位置決めするヘッド支持機構が既に提案されている。
【０００５】
以下、従来の磁気ディスク装置について説明する。図２１は従来の磁気ディスク装置におけるヘッド支持機構の一例を示す平面図である。回転駆動される図示しない磁気ディスクに対するデータの記録／再生を行う磁気ヘッド１０２は、サスペンションアーム１０４の一端に支持される。サスペンションアーム１０４の他方の端部は、キャリッジ１０６の突起１０８に対して、この突起１０８を中心に微小角範囲内で回動可能に支持されている。キャリッジ１０６は磁気ディスク装置のハウジングに対して固定される軸部材１１０に対して回動可能に支持されている。
【０００６】
キャリッジ１０６には、永久磁石（図示せず）が固定されており、ハウジング側に固定された磁気回路１１２の一部である駆動コイル１１４に流す励磁電流を制御することによって、この永久磁石に対して、キヤリッジ１０６が軸部材１１０に対して回動するようになっている。これにより磁気ヘッド１０２を磁気ディスクの実質的な半径方向に沿って移動される。
【０００７】
キャリッジ１０６とサスペンションアーム１０４との間には、一対の圧電素子１１６，１１６が設けられている。各圧電素子１１６，１１６は、キャリッジ１０６の長手方向に対して、それぞれの長手方向が相反する方向に若干傾斜した状態で取り付けられている。そして、各圧電素子１１６，１１６を、それぞれ矢印Ａ１４，Ａ１４で示す方向に伸縮させることによって、サスペンションアーム１０４の先端部に取り付けられた磁気ヘッド１０２は、磁気ディスク表面に沿って、微小な範囲で変位され、磁気ディスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図２１に示すような従来のヘッド支持機構では、各圧電素子１１６，１１６，１１６が、サスペンションアーム１０４およびキャリッジ１０６にそれぞれ設けられた部材の間にそれぞれ挟まれた状態で配置され、これら各圧電素子１１６，１１６，１１６の側部が、サスペンションアーム１０４とキャリッジ１０６の各部材に当接されている。そして、各圧電素子１１６，１１６のバルク変形によって、サスペンションアーム１０４を回動させて磁気ヘッド１０２を微小に変位させるようになっている。
【０００９】
このように、各圧電素子１１６，１１６への印加電圧に対して、サスペンションアーム１０４を回動させ、磁気ヘッド１０２を微小に変位させている。
【００１０】
しかしながら、各圧電素子１１６，１１６にそれぞれ印加される電圧に対して磁気ヘッド１０２が機構上必ずしも高精度に追従するものではないので、磁気ヘッド１０２を高精度で位置決めすることができないおそれがあり、また、磁気ヘッド１０２の必要とする変位を得るためには、圧電素子に印加する電圧を数十ボルト必要とするため新たに圧電素子駆動用の昇圧電源回路などを必要とする。
【００１１】
そこで、低い印加電圧によって効率的に磁気ヘッドを微小変位させることが可能な薄膜圧電体を用いたヘッド支持機構が考えられており、このヘッド支持機構によって、磁気ディスクに対するトラッキング補正などのために磁気ヘッドを高精度で微小変位させることができるようになった。
【００１２】
しかしながら、このようにして磁気ヘッドの変位精度を高めたヘッド支持機構においては、薄膜圧電体をヘッド支持機構に精度高く取り付けることが困難であるという課題があった。
【００１３】
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、低い印加電圧によって効率的に磁気ヘッドなどのヘッド素子を微小変位させることが可能な薄膜圧電体を有するヘッド支持機構において、精度高く薄膜を取り付けることが可能な薄膜接着方法および薄膜接着冶具を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、ヘッド素子を搭載したスライダがロードビームの先端部に装着されると共に、前記スライダが前記ロードビームに対して回転自在に支持されるように構成されたヘッド支持機構において、前記スライダに回動力を付与する薄膜を、ヘッド素子配線用のフレクシャの要部に接着する薄膜接着方法であって、
互いに嵌合することで一体化する第１、第２の位置決めベースを用意したうえで、第１の位置決めベースに前記薄膜を配置し、前記第２の位置決めベースに前記フレクシャを固定的に取り付ける工程と、
前記第１の位置決めベース上の前記薄膜に対して位置補正処理を施す工程と、
補正後の前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースに吸着させる工程と、
前記第１の位置決めベースと前記第２の位置決めベースとを嵌合させることで、前記フレクシャの要部に前記薄膜を対向させる工程と、
前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する工程と、
とを含み、前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する際に、前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースから離間させて前記フレクシャの要部に接着する、ことに特徴を有している。
【００１５】
本発明に係る薄膜接着方法によれば、低い印加電圧によって効率的にヘッド素子を微小変位させることが可能な薄膜からなる圧電体素子をフレクシャ上に高精度で貼り付けることが可能となる。これにより圧電素子駆動用の昇圧電源回路などを必要とするようなことがなく、ヘッド素子は磁気ディスク上に沿って、微小な範囲で変位可能となり、したがって、ヘッド素子を磁気ディスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることができるヘッド支持機構が得られる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、ヘッド素子を搭載したスライダがロードビームの先端部に装着されると共に、前記スライダが前記ロードビームに対して回転自在に支持されるように構成されたヘッド支持機構において、前記スライダに回動力を付与する薄膜を、ヘッド素子配線用のフレクシャの要部に接着する薄膜接着方法であって、
互いに嵌合することで一体化する第１、第２の位置決めベースを用意したうえで、第１の位置決めベースに前記薄膜を配置し、前記第２の位置決めベースに前記フレクシャを固定的に取り付ける工程と、
前記第１の位置決めベース上の前記薄膜に対して位置補正処理を施す工程と、
補正後の前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースに吸着させる工程と、
前記第１の位置決めベースと前記第２の位置決めベースとを嵌合させることで、前記フレクシャの要部に前記薄膜を対向させる工程と、
前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する工程と、
とを含み、前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する際に、前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースから離間させて前記フレクシャの要部に接着する、
ことに特徴を有している。
【００１７】
請求項１に記載の発明によれば、薄膜を高精度に、かつ破損させずにフレクシャに接着することができるようになる。そして、これにより圧電素子駆動用の昇圧電源回路などを必要とするようなことがなく、ヘッド素子は磁気ディスク上に沿って、微小な範囲で変位可能となり、したがって、ヘッド素子を磁気ディスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることができるヘッド支持機構が得られる。
【００１９】
本発明の請求項２に記載の発明は、前記薄膜を接着剤により前記フレクシャの要部に接着するとともに、その接着に際して、第１、第２の位置決めベースのうち、少なくとも第２の位置決めベースを加熱することに特徴があり、これにより、接着剤が硬化して、薄膜が確実に所定位置に接着されることになる。
【００２０】
本発明の請求項３に記載の発明は、前記第１の位置決めベース上の前記薄膜に対して位置補正処理を施す際に、前記第１の位置決めベースの薄膜載置部を薄膜外形形状と同等形状の凸状に形成したうえで、前記薄膜を搭載した前記薄膜載置部の側面に位置決めブロックを当接させることで、前記薄膜を前記薄膜載置部の所定位置に対して位置補正することに特徴があり、これにより薄膜を薄膜載置部の正確な位置に破損なく配置することが可能となる。
【００２１】
このような薄膜接着方法に最適に用いることができる薄膜接着治具としては、請求項４に記載したように、第1の基準面を有するとともに当該第１の基準面に前記薄膜の外形と同一形状となった凸状の薄膜載置部を有する第1の位置決めベースと、
前記薄膜載置部の側面に当接することで、前記薄膜載置部上の前記薄膜を位置決め補正する位置決めブロックと、
前記薄膜載置部の上面に開口する空気孔と、
前記開口から空気を吸引あるいは噴射させる吸引・噴射手段と、
第２の基準面を有し、この第2の基準面上に前記フレクシャを位置決め固定する第2の位置決めベースと、
前記第1の基準面と前記第2の基準面とが互いに平行な状態を維持したまま、前記第1の位置決めベースと前記第2の位置決めベースとを、その対向方向に沿って相対移動可能に保持するガイド機構と、
を有し、前記薄膜載置部の上面と前記第２の基準面との間の離間間隔を、前記薄膜の厚さと前記フレクシャの厚さを加えた値より僅かに広く設定するものが好ましく、そうすれば、第１の位置決めベースと第２の位置決めベースとが最近接した状態においても、薄膜はフレクシャに当接することはなく当接による破損を未然に防止することができる。薄膜の接着は、その後、吸引・噴射手段により空気を噴射することでフレクシャに対して薄膜をゆっくりと当接させて行えばよく、そうすれば、薄膜の破損を生じさせることなくその接着を行うことができる。
【００２３】
以下、本発明に係るヘッド支持機構における薄膜接着方法および薄膜接着冶具の具体的な実施の形態を図１から図２１を用いて説明する。
【００２４】
図１は本実施形態に係るヘッド支持機構の斜視図であり、図２はそのヘッド支持機構を分解して示す斜視図である。また、図３はそのヘッド支持機構におけるスライダの斜視図である。
【００２５】
図１から図３において、ヘッド支持機構１００は、ヘッド素子としての例えば磁気ヘッド１が取り付けられたスライダ２を先端部に支持するロードビーム４を有している。ロードビーム４は、ヘッドアクチュエータアーム（図示しない）に取り付けられる正方形状をした基端部４ａを有し、基端部４ａは、ビーム溶接等によってベースプレート５に固定されている。ベースプレート５は、上記ヘッドアクチュエータアームに取り付けられている。ロードビーム４には、基端部４ａから先細状に延出するネック部４ｂに連続して、ビーム部４ｃが直線状に延出するように設けられている。ネック部４ｂの中央部には、開口部４ｄが設けられており、ネック部４ｂにおける開口部４ｄの両側部分が、それぞれ、板バネ部４ｅになっている。ビーム部４ｃの先端部における各側縁部には、スライダ保持基板３ａの回動を若干の隙間をもって規制する規制部４ｆがそれぞれ設けられている。
【００２６】
なお各規制部４ｆは、ビーム部４ｃの先端から基端部４ａ側に向かって直線状に延出している。ビーム部４ｃ上には、ヘッド配線パターン６を有するフレクシャ７が設けられている。フレクシャ７は、ステンレス材をベースとしている。フレクシャ７の一端に設けられたスライダ取付部７ｘ上には、磁気ヘッド１が搭載されたスライダ２が配置されている。
【００２７】
スライダ２の磁気ヘッド１が設けられた端面の下部には、４つの端子２ａ〜２ｄが横方向に並んだ状態で設けられている（図３参照）。さらに、スライダ２の上面には、回転駆動される磁気ディスクによって生じる空気流が、スライダ２のピッチ方向（磁気ディスクの接線方向）に沿って通流させて、磁気ディスクとの間にエアー潤滑膜を形成するエアベアリング面２ｅが設けられている。エアベアリング面２ｅの中心位置は、ロードビーム４のディンプル４ｇに一致している。
【００２８】
図４はヘッド支持機構１００におけるフレクシャ７の先端部分の構造を示す分解状態の斜視図である。図４において、フレクシャ７は、フレクシャ７の本体を構成するフレクシャ基板３と、フレクシャ７の一端に設けられたスライダ保持基板３ａとを有している。フレクシャ基板３とスライダ保持基板３ａとは、ステンレス等からなっており、フレクシャ基板３の一端（フレクシャ７の一端）にスライダ保持基板３ａは並列配置されている。フレクシャ基板３とスライダ保持基板３ａとの間には、両者の表面にポリイミド樹脂等からなるフレキシブル基板Ｆが設けられており、このフレキシブル基板Ｆによりフレクシャ基板３とスライダ保持基板３ａとは機械的に連結されている。さらには、フレキシブル基板Ｆには局部的に狭い幅で形成された弾性ヒンジ部となった繋ぎ部１９ａ、１９ｂが設けられている。繋ぎ部１９ａ，１９ｂは、フレクシャ基板３とスライダ保持基板３ａとの間の境目に設けられており、両基板３、３ａは、繋ぎ部１９ａ、１９ｂにより互いに可動自在に連結されている。フレキシブル基板Ｆの上面には配線６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが設けられている。また、フレキシブル基板Ｆの上面には、薄膜保持部８ａ，８ｂが互いに並列した状態で設けられている。薄膜保持部８ａ，８ｂは、フレクシャ基板３の一端側に設けられている。薄膜保持部８ａ，８ｂは、後述する薄膜圧電体素子１０を載置可能な面状に形成されている。なお、スライダ保持基板３ａの外形形状は、フレクシャ基板３と同時にエッチング加工により形成される。
【００２９】
スライダ保持基板３ａには突起部３ｂが形成され、この突起部３ｂはロードビーム４の先端付近に形成されたディンプル４ｇに当接している。この突起部３ｂがディンプル４ｇによって押圧されることにより、ディンプル４ｇを中心として全方位にわたってスライダ保持基板３ａは回動可能に保持されている。
【００３０】
フレクシャ７の他方の端部には、外部接続端子保持部７ｙが設けられている。外部接続端子保持部７ｙは、ロードビーム４の基端部４ａにおける一方の側縁部に配置されている。
【００３１】
図５はヘッド支持機構１００における薄膜圧電体素子１０の平面図であり、図６は図５中のＺ―Ｚ線における断面図である。図５および図６において、薄膜圧電体素子１０は、フレクシャ７の薄膜保持部８ａ，８ｂ（図４参照）に接着して取り付けられる。なお、薄膜保持部８ａ，８ｂにおいては、薄膜圧電体素子１０を接着する面に、接着性を向上させるためのクローム等のサブミクロンオーダーの薄膜がコーティングされている。
【００３２】
薄膜圧電体素子１０は、図６に示すように、左右それぞれ別々の薄膜圧電体素子１０ａ，１０ｂが一対となって構成されている。各薄膜圧電体素子１０ａ，１０ｂは、第１の薄膜圧電体１１ａ、および第２の薄膜圧電体１１ｂとが積層配置された２層構造を有している。図から見て上部に位置する第１の薄膜圧電体１１ａの上側および下側には、第１の電極金属膜１２ａと第２の電極金属膜１２ｂが形成されている。同様に第２の薄膜圧電体１１ｂは、第１の薄膜圧電体１１ａの下部に配置され、その両面には第３の電極金属膜１２ｃと第４の電極金属膜１２ｄとが設けられている。第２の電極金属膜１２ｂと第３の電極金属膜１２ｃとは接着剤１３で接着されている。また、薄膜圧電体素子１０の全体は、柔軟性のあるコーティング樹脂１４でカバーされるとともに左右の薄膜圧電体素子１０ａ、１０ｂを一体化している。
【００３３】
図７はヘッド支持機構１００におけるフレクシャ７の平面図である。即ち、この図７は薄膜圧電体素子１０を貼り付けたフレクシャ７をスライダ貼り付け側から見た平面図である。図８は図７に示すＸ−Ｘ線による断面図（薄膜圧電体素子１０を貼りつけた状態）である。図９は図７に示すＹ―Ｙ’線による断面図ある。図７から図９に示すように、薄膜圧電体素子１０の周囲には配線６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄおよびスライダ２のグランド配線９ｄが薄膜圧電体素子１０と同一平面状に配置されている。
【００３４】
次に薄膜圧電体素子１０の配線について説明する。図９において、薄膜圧電体素子１０の第１、第４の電極金属膜１２ａ，１２ｄにはプラス電圧が加えられ、第２、第３の電極金属膜１２ｂ，１２ｃはグランドに落とされている。第１、第４の電極金属膜１２ａ，１２ｄは、フレクシャ７の中程に配置された薄膜圧電体素子駆動配線９ａに対してワイヤボンド線１６でつながれている。第１、第４の電極金属膜１２ａ、１２ｄは、薄膜圧電体素子駆動配線９ｂに対してワイヤボンド線１６でつながれている。電極金属膜１２ｂと電極金属膜１２ｃとは、グランド金属膜１７を介して薄膜圧電体素子駆動配線９ｃにつながれている。スライダ２のグランド配線９ｄは、スライダ２をグランドに落とすためのアース端子であり、薄膜圧電体素子駆動配線９ｃに短絡されている。これら薄膜圧電体素子駆動配線９ａ，９ｂ，９ｃは外部接続用端子保持部７ｙに一方の端部が設けられており、外部の駆動回路（図示省略）に接続されている。
【００３５】
図１０は薄膜圧電体素子１０およびその第１〜第４の電極金属膜１２ａ〜１２ｄを単結晶基板１８上で成膜する手順を示す図である。この図１０を参照して、薄膜圧電体素子１０の成膜方法について説明する。先ず、図１０（ａ）に示すように単結晶基板１８上に第１、第４の電極金属膜１２ａ（１２ｄ）が成膜される。次に、図１０（ｂ）に示すように第１、第４の電極金属膜１２ａ（１２ｄ）の上にＰＺＴ等の第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）が単結晶成長される。さらに、図１０（ｃ）に示すように第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）の上面に第２、第３の電極金属膜１２ｂ（１２ｃ）が成膜される。このとき第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）の分極方向は成膜時点で結晶のｃ軸方向（矢印Ａ方向）に向いている。
【００３６】
図１１は単結晶基板１８上に成膜した第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）を２層構成化する手順を示した図であり、図１２のステップは第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）の製造方法を示すフローチャートである。図１１および図１２のステップを参照して第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）を２層構成にする工程を説明する。
【００３７】
図１１（ａ）に示すように第１の単結晶基板１８ａ上に第１の電極金属膜１２ａ、第１の薄膜圧電体１１ａおよび第２の電極金属膜１２ｂを形成し（図１２のステップＳ１２０１）、次に、図１１（ｂ）に示すように第２の単結晶基板１８ｂ上に第３の電極金属膜１２ｃ、第２の薄膜圧電体１１ｂおよび第４の電極金属膜１２ｄを形成する（図１２のステップＳ１２０２）。
【００３８】
その後、図１１（ｃ）に示すように、第２の電極金属膜１２ｂと第４の電極金属膜１２ｃを接着剤１３で接着する（図１２のステップＳ１２０３）。
【００３９】
次に、図１１（ｄ）に示すように、単結晶基板１８のうちの一方である第１の単結晶板１８ａをエッチングで除去する（図１２のステップＳ１２０４）。その後、図１１（ｅ）に示すように、２層構造の第１、第２の薄膜圧電体１１ａ、１１ｂを薄膜圧電体素子１０の形状になるようにドライエッチングで成形加工する（図１２のステップＳ１２００５）。
【００４０】
次に、図１１（ｆ）に示すように、薄膜圧電体素子１０の腐食を回避するために、第２の単結晶基板１８ｂ上において、薄膜圧電体素子１０が形成された表面をコーティング樹脂１４で覆う（図１２のステップＳ１２０６）。その後、図１１（ｇ）に示すように、最後に残っていた第２の単結晶基板１８ｂをエッチング除去することにより薄膜圧電体素子１０を得る（図１２のステップＳ１２０７）。
【００４１】
なお、第１の電極金属膜１２ａと第４の電極金属膜１２ｄとの接着は超音波振動を用いた熱溶着で接着してもよい。
【００４２】
図１３は第２の単結晶基板１８ｂを除去する工程を説明するための図である。この図１３を参照して、第２の単結晶基板１８ｂ上に形成した薄膜圧電体１０を薄膜として取り出す方法について説明する。前記図１１（ｆ）で示した第２の単結晶基板１８ｂ上の薄膜圧電体素子１０は、図１３（ａ）に示すように１枚の第２の単結晶基板１８ｂ上に複数形成されている。第２の単結晶基板１８ｂは、網籠２０２に乗せて第２の単結晶基板１８ｂを溶解して除去する溶液を満たした溶解槽２０１に浸される。これによって薄膜圧電体素子１０は、膜の状態で取り出される。この溶解槽２０１の溶解液は強制的に循環されており第２の単結晶基板１８ｂは、完全に溶解される（図１２のステップＳ１２０７）。そして完全に溶解が完了した時点で溶解槽２０１上部に設けられた開閉扉２０３が開放される。これにより薄膜圧電体素子１０は溶解液を洗浄する流路２０４に沿って移送される。
【００４３】
この流路２０４には薄膜圧電体素子１０を攪拌する超音波振動器２０５が備えられており、薄膜圧電体素子１０は超音波振動を加えられながら流路２０４に沿って搬送される。流路２０４の下流にはベルトコンベア２０６が設けられ、薄膜圧電体素子１０を流路２０４から取り出し乾燥される（図１３（ｃ））。乾燥した薄膜圧電体素子１０は、図外のエアピンセットで吸引し搬送され図１３（ｄ）に示すようにトレイ２０７に並べられる（図１２のステップＳ１２０８）。
【００４４】
薄膜圧電体素子１０を、薄膜保持部８ａ、８ｂに高精度に貼り付ける方法について図１２、および図１４から図１７を参照して説明する。図１４は薄膜圧電体素子１０を第１の位置決めベース２０９上に位置決めする工程を説明するための図であり、図１５は第１の位置決めベース２０９の斜視図である。図１６は第２の位置決めベース２１１の斜視図であり、図１７は第２の位置決めベース２１１を第１の位置決めベース２０９に重ね合わせる工程を説明するための図である。本発明はこのような工程を実施することに特徴を有している。
【００４５】
まず、トレイ２０７上の薄膜圧電体素子１０をエアピンセット２０８で取り出し、第１の位置決めベース２０９上に移送する（図１２のステップＳ１２０９）。
【００４６】
第１の位置決めベース２０９には、薄膜圧電体素子１０の外形形状と同一形状となった凸状の薄膜載置部２０９ａが設けられている。
【００４７】
薄膜載置部２０９ａの上面は平面であり、かつ薄膜圧電体素子１０を受ける面は、その外周は一回り小さい形状、好ましくは、薄膜圧電体素子１０と相似形となっている（図１５参照）。これにより、接着剤１３が第１の位置決めベース２０９に洩れるのを防止することができる。
【００４８】
薄膜載置部２０９ａの上面に移送された薄膜圧電体素子１０は、図１４（ｂ）に示すように精度よく位置決めされた状態にあるとは限らない。そこで、薄膜圧電体素子１０の位置ずれを補正するために、図１４（ｃ）に示すように４方向から位置決めブロック２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃ，２１０ｄを、薄膜圧電体素子１０の外周部を押し付ける。これらのブロック２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃ，２１０ｄは、薄膜圧電体素子１０と同一形状の外形部を有する薄膜載置部２０９ａの側面部２０９ｂで規制される。
【００４９】
各ブロック２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃ，２１０ｄが薄膜載置部２０９ａの側面部２０９ｂに当接することにより薄膜圧電体素子１０は、第１の位置決めべース２０９上の所定の位置に位置決めされる（図１２のステップＳ１２１０）。
【００５０】
薄膜載置部２０９ａの上面には、エアを吸引あるいは噴出する微細な空気孔２０９ｃが複数個設けられている。薄膜載置部２０９ａの上面に位置決めされた薄膜圧電体素子１０は、微細な空気孔２０９ｃを通してエアポンプ２１２で吸引され固定される（図１２のステップＳ１２１１）。
【００５１】
一方、フレクシャ７は、図１６に示すように第２の位置決めベース２１１上に固定されている（図１２のステップＳ１２１２）。この状態でフレクシャ７の薄膜保持部８ａ，８ｂには接着剤１３が塗布される（図１２のステップＳ１２１３）。
【００５２】
その後、図１７に示すように薄膜圧電体素子１０を吸引した状態の第１の位置決めベース２０９は、フレクシャ７を固定した第２の位置決めベース２１１に嵌め合われる。嵌め合いは、第２の位置決めベース２１１に設けたガイド軸２１１ａを、第１の位置決めベース２０９に設けたガイド穴２０９ｄに係合させることにより行い、これにより、第１、第２の位置決めベース２０９、２１１は互いに正確に位置決めされて重ねられる（図１２のステップＳ１２１４）。
【００５３】
このときフレクシャ７と薄膜圧電体素子１０との間には数μの隙間ｍが生じるように第１の位置決めベース２０９と第２の位置決めベース２１１とは構成されている。これにより薄膜圧電体素子１０を薄膜載置部２０９ａに押し付けて破損させないように配慮している。
【００５４】
そして、第１の位置決めベース２０９と第２の位置決めベース２１１とが重ね合わされて薄膜圧電体素子１０とフレクシャ７が対向した状態となったところで、薄膜載置部２０９ａの空気孔２０９ｃから逆にエアを噴出させる（図１２のステップＳ１２１５）。これにより、薄膜圧電体素子１０は、フレクシャ７の薄膜保持部８ａ、８ｂに確実に接着される。接着剤１３の硬化のために加熱を行うが、その間も薄膜載置部２０９ａの空気穴２０９ｃからエアを噴出し続ける（図１２のステップＳ１２１６）。
【００５５】
このような構成のディスク装置におけるヘッド支持機構１００の動作について、図１８〜図２０を参照して説明する。図１８はヘッド支持機構１００の側面図であり、図１９はヘッド支持機構１００の動作を説明するための薄膜圧電体素子１０の断面および電圧印加仕様を説明するための図である。図２０はヘッド支持機構１００の動作を説明するための概略構成図である。
【００５６】
薄膜圧電体素子１０の薄膜圧電体素子駆動配線９ｃはグランドレベルに設定されている。薄膜圧電体素子駆動配線９ａ，９ｂには図１９（ｂ），（ｃ）に示すようにそれぞれ第１、第２の薄膜圧電体１１ａ、１１ｂをそれぞれ駆動する駆動電圧が印可される。この駆動電圧は、バイアス電圧Ｖ０を中心としてお互いに逆位相となっている。駆動電圧が印加されると、図１９（ａ）に示すように第１、第２の薄膜圧電体１１ａ，１１ｂは矢印Ｂ方向に伸縮する。第１、第２の薄膜圧電体１１ａ，１１ｂには図１１（ｃ）に示す分極方向Ａに電圧が印加されるため、第１、第２の薄膜圧電体１１ａ，１１ｂの分極が反転しその特性を損なうことはない。
【００５７】
図２０は薄膜圧電体素子１０ａが伸び、薄膜圧電体素子１０ｂが収縮したときのスライダ２の回転動作について描いた図であり、薄膜圧電体素子１０ａが矢印Ｅ方向に伸び、薄膜圧電体素子１０ｂが矢印Ｄ方向に収縮すると、スライダ２およびスライダ保持基板３ａは突起部３ｂに当接するディンプル４ｇを中心に矢印Ｃ方向に回動する。従って、スライダ２上に設けられた磁気ヘッド１は、磁気ディスクに同心状態で設けられた各トラックの幅方向に移動することになる。これによりトラックから位置ずれを起こした磁気ヘッド１を所定のトラックに追従させることができ、磁気ヘッド１のオントラック性を高精度で実現することができる。
【００５８】
繋ぎ部１９ａ，１９ｂの幅寸法は、図４に示すように、配線６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが、それぞれ配置される必要最小限の幅寸法にそれぞれなっているために、スライダ保持基板３ａの回動時における負荷が低減されて、スライダ保持基板３ａが確実に回動される。
【００５９】
なお、スライダ２には、図２に示すロードビーム４の板バネ部４ｅによりロード荷重（２０〜３０ｍＮ）が加えられており、スライダ保持基板３ａが回動される場合には、このロード荷重が、ディンプル４ｇとスライダ保持基板３ａとに作用する。従って、スライダ保持基板３ａには、スライダ保持基板３ａとディンプル４ｇとの摩擦係数にて決定される摩擦力が作用する。この摩擦力によりスライダ保持基板３ａの突起部３ｂとディンプル４ｇとの間に位置ずれが生じない。
【００６０】
図２０（ｂ）は、図２０（ａ）の構成の模式図を示したものである。薄膜保持部８ａと薄膜圧電体素子１０ａとからなる第１のビーム１６１と薄膜保持部８ｂおよび薄膜圧電体素子１０ｂとからなる第２のビーム１６２とは、ディンプル４ｇで回動自在に拘束されたスライダ保持基板３ａに回動自在に連結されている。磁気ヘッド１はディンプル４ｇから距離ｄを置いてスライダ保持基板３ａ上に設けられている。弾性ヒンジ部１９ａ，１９ｂは、スライダ２のロール方向およびピッチ方向に柔軟な構成となっているため、スライダ２がディスク上に浮上特性に対して良好な特性を与える。第１のビーム１６１と第２のビーム１６２とがそれぞれＤ方向、Ｅ方向に伸縮するとスライダ保持基板３ａが回動し、磁気ヘッド１はトラックに対して垂直方向に移動する。
【００６１】
以上のように本実施の形態によれば、単結晶の薄膜圧電体１１ａ、１１ｂが２層構成を有しているので、小さい印加電圧により大きな変位を得ることができる薄膜圧電体アクチュエータを実現することができる。また、薄膜圧電体１１ａ、１１ｂを２層化することでその剛性が高められるので、アクチュエータとして共振周波数を高くすることができる。これにより駆動周波数を高めることができ、追従性の高い良好な特性を得ることができる。
【００６２】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、薄膜を高精度に、かつ破損させずにフレクシャに貼り付けることができる。また、これにより圧電素子駆動用の昇圧電源回路などを必要とするようなことがなく、ヘッド素子は磁気ディスク上に沿って、微小な範囲で変位可能となり、したがって、ヘッド素子を磁気ディスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることができるヘッド支持機構が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構の斜視図
【図２】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構を分解して示す斜視図
【図３】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構に使用されるスライダの斜視図
【図４】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構に使用されるフレクシャの構成図
【図５】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における薄膜圧電体の平面図
【図６】図５のＺ−Ｚ線における断面図
【図７】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構に使用されるフレクシャの平面図
【図８】図７の Ｘ−Ｘ線における断面図
【図９】図７のＹ−Ｙ線における断面図
【図１０】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における薄膜圧電体およびその電極を単結晶基板上で成膜する手順を示した図
【図１１】本発明の実施の形態において単結晶基板上に成膜した薄膜圧電体を２層構成化する手順を示した図
【図１２】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における薄膜圧電体の製造方法を示すフローチャート
【図１３】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における第２単結晶基板を除去する工程図
【図１４】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における薄膜圧電体を第１の位置決めベース上に位置決めする工程図
【図１５】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における第１の位置決めベースの斜視図
【図１６】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における第２の位置決めベースの斜視図
【図１７】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における第２の位置決めベースを第一の位置決めベース上に重ねる工程図
【図１８】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構の側面図
【図１９】本発明の実施の形態におけるヘッド支持機構の動作を説明するための薄膜圧電体の断面および電圧印加仕様を説明する図
【図２０】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構の動作を説明するための概略構成の平面図
【図２１】従来のディスク装置に備えられるヘッド支持機構の一例を示す平面図
【符号の説明】
１ 磁気ヘッド（ヘッド素子）
２ スライダ
３ａ スライダ保持基板
４ ロードビーム
７ フレクシャ
８ 薄膜保持部
１０ 薄膜圧電体素子（薄膜）
２０９ 第１の位置決めベース
２０９ａ 薄膜載置部＋
２０９ｂ 薄膜載置部の側面部
２０９ｃ 空気孔
２０９ｄ ガイド穴
２１１ 第２の位置決めベース
２１１ａ ガイド軸
【発明の属する技術分野】
本発明は、コンピュータなどの記憶装置として用いられるディスク装置に設けられるヘッド支持機構に関し、特に、磁気ディスク装置のヘッド支持機構におけるスライダに対して回動力を付与する薄膜の薄膜接着方法および薄膜接着冶具に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気ディスク装置に設けられた磁気ディスクの記録密度は、日を追う毎に高密度化が進でいる。磁気ディスクに対するデータの記録および再生に使用される磁気ヘッドは、通常スライダに搭載されており、磁気ヘッドが搭載されたスライダは、磁気ディスク装置内に設けられたヘッド支持機構によって支持されている。
【０００３】
ヘッド支持機構は、スライダが取り付けられたヘッドアクチュエータアームを有しており、このヘッドアクチュエータアームが、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）によって回動されるようになっている。そして、ボイスコイルモータを制御することにより、スライダに搭載された磁気ヘッドが、磁気ディスク上の任意の位置に位置決めされる。
【０００４】
磁気ディスクに対してデータをさらに高密度で記録するためには、磁気ディスクに対して磁気ヘッドをさらに高密度に位置決めする必要がある。しかしながら、ＶＣＭにてヘッドアクチュエータアームを回動させて磁気ヘッドを位置決めする構成では、磁気ヘッドを、より高精度に位置決めできないという問題がある。そこで、磁気ヘッドを高精度に位置決めするヘッド支持機構が既に提案されている。
【０００５】
以下、従来の磁気ディスク装置について説明する。図２１は従来の磁気ディスク装置におけるヘッド支持機構の一例を示す平面図である。回転駆動される図示しない磁気ディスクに対するデータの記録／再生を行う磁気ヘッド１０２は、サスペンションアーム１０４の一端に支持される。サスペンションアーム１０４の他方の端部は、キャリッジ１０６の突起１０８に対して、この突起１０８を中心に微小角範囲内で回動可能に支持されている。キャリッジ１０６は磁気ディスク装置のハウジングに対して固定される軸部材１１０に対して回動可能に支持されている。
【０００６】
キャリッジ１０６には、永久磁石（図示せず）が固定されており、ハウジング側に固定された磁気回路１１２の一部である駆動コイル１１４に流す励磁電流を制御することによって、この永久磁石に対して、キヤリッジ１０６が軸部材１１０に対して回動するようになっている。これにより磁気ヘッド１０２を磁気ディスクの実質的な半径方向に沿って移動される。
【０００７】
キャリッジ１０６とサスペンションアーム１０４との間には、一対の圧電素子１１６，１１６が設けられている。各圧電素子１１６，１１６は、キャリッジ１０６の長手方向に対して、それぞれの長手方向が相反する方向に若干傾斜した状態で取り付けられている。そして、各圧電素子１１６，１１６を、それぞれ矢印Ａ１４，Ａ１４で示す方向に伸縮させることによって、サスペンションアーム１０４の先端部に取り付けられた磁気ヘッド１０２は、磁気ディスク表面に沿って、微小な範囲で変位され、磁気ディスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図２１に示すような従来のヘッド支持機構では、各圧電素子１１６，１１６，１１６が、サスペンションアーム１０４およびキャリッジ１０６にそれぞれ設けられた部材の間にそれぞれ挟まれた状態で配置され、これら各圧電素子１１６，１１６，１１６の側部が、サスペンションアーム１０４とキャリッジ１０６の各部材に当接されている。そして、各圧電素子１１６，１１６のバルク変形によって、サスペンションアーム１０４を回動させて磁気ヘッド１０２を微小に変位させるようになっている。
【０００９】
このように、各圧電素子１１６，１１６への印加電圧に対して、サスペンションアーム１０４を回動させ、磁気ヘッド１０２を微小に変位させている。
【００１０】
しかしながら、各圧電素子１１６，１１６にそれぞれ印加される電圧に対して磁気ヘッド１０２が機構上必ずしも高精度に追従するものではないので、磁気ヘッド１０２を高精度で位置決めすることができないおそれがあり、また、磁気ヘッド１０２の必要とする変位を得るためには、圧電素子に印加する電圧を数十ボルト必要とするため新たに圧電素子駆動用の昇圧電源回路などを必要とする。
【００１１】
そこで、低い印加電圧によって効率的に磁気ヘッドを微小変位させることが可能な薄膜圧電体を用いたヘッド支持機構が考えられており、このヘッド支持機構によって、磁気ディスクに対するトラッキング補正などのために磁気ヘッドを高精度で微小変位させることができるようになった。
【００１２】
しかしながら、このようにして磁気ヘッドの変位精度を高めたヘッド支持機構においては、薄膜圧電体をヘッド支持機構に精度高く取り付けることが困難であるという課題があった。
【００１３】
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、低い印加電圧によって効率的に磁気ヘッドなどのヘッド素子を微小変位させることが可能な薄膜圧電体を有するヘッド支持機構において、精度高く薄膜を取り付けることが可能な薄膜接着方法および薄膜接着冶具を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、ヘッド素子を搭載したスライダがロードビームの先端部に装着されると共に、前記スライダが前記ロードビームに対して回転自在に支持されるように構成されたヘッド支持機構において、前記スライダに回動力を付与する薄膜を、ヘッド素子配線用のフレクシャの要部に接着する薄膜接着方法であって、
互いに嵌合することで一体化する第１、第２の位置決めベースを用意したうえで、第１の位置決めベースに前記薄膜を配置し、前記第２の位置決めベースに前記フレクシャを固定的に取り付ける工程と、
前記第１の位置決めベース上の前記薄膜に対して位置補正処理を施す工程と、
補正後の前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースに吸着させる工程と、
前記第１の位置決めベースと前記第２の位置決めベースとを嵌合させることで、前記フレクシャの要部に前記薄膜を対向させる工程と、
前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する工程と、
とを含み、前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する際に、前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースから離間させて前記フレクシャの要部に接着する、ことに特徴を有している。
【００１５】
本発明に係る薄膜接着方法によれば、低い印加電圧によって効率的にヘッド素子を微小変位させることが可能な薄膜からなる圧電体素子をフレクシャ上に高精度で貼り付けることが可能となる。これにより圧電素子駆動用の昇圧電源回路などを必要とするようなことがなく、ヘッド素子は磁気ディスク上に沿って、微小な範囲で変位可能となり、したがって、ヘッド素子を磁気ディスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることができるヘッド支持機構が得られる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、ヘッド素子を搭載したスライダがロードビームの先端部に装着されると共に、前記スライダが前記ロードビームに対して回転自在に支持されるように構成されたヘッド支持機構において、前記スライダに回動力を付与する薄膜を、ヘッド素子配線用のフレクシャの要部に接着する薄膜接着方法であって、
互いに嵌合することで一体化する第１、第２の位置決めベースを用意したうえで、第１の位置決めベースに前記薄膜を配置し、前記第２の位置決めベースに前記フレクシャを固定的に取り付ける工程と、
前記第１の位置決めベース上の前記薄膜に対して位置補正処理を施す工程と、
補正後の前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースに吸着させる工程と、
前記第１の位置決めベースと前記第２の位置決めベースとを嵌合させることで、前記フレクシャの要部に前記薄膜を対向させる工程と、
前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する工程と、
とを含み、前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する際に、前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースから離間させて前記フレクシャの要部に接着する、
ことに特徴を有している。
【００１７】
請求項１に記載の発明によれば、薄膜を高精度に、かつ破損させずにフレクシャに接着することができるようになる。そして、これにより圧電素子駆動用の昇圧電源回路などを必要とするようなことがなく、ヘッド素子は磁気ディスク上に沿って、微小な範囲で変位可能となり、したがって、ヘッド素子を磁気ディスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることができるヘッド支持機構が得られる。
【００１９】
本発明の請求項２に記載の発明は、前記薄膜を接着剤により前記フレクシャの要部に接着するとともに、その接着に際して、第１、第２の位置決めベースのうち、少なくとも第２の位置決めベースを加熱することに特徴があり、これにより、接着剤が硬化して、薄膜が確実に所定位置に接着されることになる。
【００２０】
本発明の請求項３に記載の発明は、前記第１の位置決めベース上の前記薄膜に対して位置補正処理を施す際に、前記第１の位置決めベースの薄膜載置部を薄膜外形形状と同等形状の凸状に形成したうえで、前記薄膜を搭載した前記薄膜載置部の側面に位置決めブロックを当接させることで、前記薄膜を前記薄膜載置部の所定位置に対して位置補正することに特徴があり、これにより薄膜を薄膜載置部の正確な位置に破損なく配置することが可能となる。
【００２１】
このような薄膜接着方法に最適に用いることができる薄膜接着治具としては、請求項４に記載したように、第1の基準面を有するとともに当該第１の基準面に前記薄膜の外形と同一形状となった凸状の薄膜載置部を有する第1の位置決めベースと、
前記薄膜載置部の側面に当接することで、前記薄膜載置部上の前記薄膜を位置決め補正する位置決めブロックと、
前記薄膜載置部の上面に開口する空気孔と、
前記開口から空気を吸引あるいは噴射させる吸引・噴射手段と、
第２の基準面を有し、この第2の基準面上に前記フレクシャを位置決め固定する第2の位置決めベースと、
前記第1の基準面と前記第2の基準面とが互いに平行な状態を維持したまま、前記第1の位置決めベースと前記第2の位置決めベースとを、その対向方向に沿って相対移動可能に保持するガイド機構と、
を有し、前記薄膜載置部の上面と前記第２の基準面との間の離間間隔を、前記薄膜の厚さと前記フレクシャの厚さを加えた値より僅かに広く設定するものが好ましく、そうすれば、第１の位置決めベースと第２の位置決めベースとが最近接した状態においても、薄膜はフレクシャに当接することはなく当接による破損を未然に防止することができる。薄膜の接着は、その後、吸引・噴射手段により空気を噴射することでフレクシャに対して薄膜をゆっくりと当接させて行えばよく、そうすれば、薄膜の破損を生じさせることなくその接着を行うことができる。
【００２３】
以下、本発明に係るヘッド支持機構における薄膜接着方法および薄膜接着冶具の具体的な実施の形態を図１から図２１を用いて説明する。
【００２４】
図１は本実施形態に係るヘッド支持機構の斜視図であり、図２はそのヘッド支持機構を分解して示す斜視図である。また、図３はそのヘッド支持機構におけるスライダの斜視図である。
【００２５】
図１から図３において、ヘッド支持機構１００は、ヘッド素子としての例えば磁気ヘッド１が取り付けられたスライダ２を先端部に支持するロードビーム４を有している。ロードビーム４は、ヘッドアクチュエータアーム（図示しない）に取り付けられる正方形状をした基端部４ａを有し、基端部４ａは、ビーム溶接等によってベースプレート５に固定されている。ベースプレート５は、上記ヘッドアクチュエータアームに取り付けられている。ロードビーム４には、基端部４ａから先細状に延出するネック部４ｂに連続して、ビーム部４ｃが直線状に延出するように設けられている。ネック部４ｂの中央部には、開口部４ｄが設けられており、ネック部４ｂにおける開口部４ｄの両側部分が、それぞれ、板バネ部４ｅになっている。ビーム部４ｃの先端部における各側縁部には、スライダ保持基板３ａの回動を若干の隙間をもって規制する規制部４ｆがそれぞれ設けられている。
【００２６】
なお各規制部４ｆは、ビーム部４ｃの先端から基端部４ａ側に向かって直線状に延出している。ビーム部４ｃ上には、ヘッド配線パターン６を有するフレクシャ７が設けられている。フレクシャ７は、ステンレス材をベースとしている。フレクシャ７の一端に設けられたスライダ取付部７ｘ上には、磁気ヘッド１が搭載されたスライダ２が配置されている。
【００２７】
スライダ２の磁気ヘッド１が設けられた端面の下部には、４つの端子２ａ〜２ｄが横方向に並んだ状態で設けられている（図３参照）。さらに、スライダ２の上面には、回転駆動される磁気ディスクによって生じる空気流が、スライダ２のピッチ方向（磁気ディスクの接線方向）に沿って通流させて、磁気ディスクとの間にエアー潤滑膜を形成するエアベアリング面２ｅが設けられている。エアベアリング面２ｅの中心位置は、ロードビーム４のディンプル４ｇに一致している。
【００２８】
図４はヘッド支持機構１００におけるフレクシャ７の先端部分の構造を示す分解状態の斜視図である。図４において、フレクシャ７は、フレクシャ７の本体を構成するフレクシャ基板３と、フレクシャ７の一端に設けられたスライダ保持基板３ａとを有している。フレクシャ基板３とスライダ保持基板３ａとは、ステンレス等からなっており、フレクシャ基板３の一端（フレクシャ７の一端）にスライダ保持基板３ａは並列配置されている。フレクシャ基板３とスライダ保持基板３ａとの間には、両者の表面にポリイミド樹脂等からなるフレキシブル基板Ｆが設けられており、このフレキシブル基板Ｆによりフレクシャ基板３とスライダ保持基板３ａとは機械的に連結されている。さらには、フレキシブル基板Ｆには局部的に狭い幅で形成された弾性ヒンジ部となった繋ぎ部１９ａ、１９ｂが設けられている。繋ぎ部１９ａ，１９ｂは、フレクシャ基板３とスライダ保持基板３ａとの間の境目に設けられており、両基板３、３ａは、繋ぎ部１９ａ、１９ｂにより互いに可動自在に連結されている。フレキシブル基板Ｆの上面には配線６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが設けられている。また、フレキシブル基板Ｆの上面には、薄膜保持部８ａ，８ｂが互いに並列した状態で設けられている。薄膜保持部８ａ，８ｂは、フレクシャ基板３の一端側に設けられている。薄膜保持部８ａ，８ｂは、後述する薄膜圧電体素子１０を載置可能な面状に形成されている。なお、スライダ保持基板３ａの外形形状は、フレクシャ基板３と同時にエッチング加工により形成される。
【００２９】
スライダ保持基板３ａには突起部３ｂが形成され、この突起部３ｂはロードビーム４の先端付近に形成されたディンプル４ｇに当接している。この突起部３ｂがディンプル４ｇによって押圧されることにより、ディンプル４ｇを中心として全方位にわたってスライダ保持基板３ａは回動可能に保持されている。
【００３０】
フレクシャ７の他方の端部には、外部接続端子保持部７ｙが設けられている。外部接続端子保持部７ｙは、ロードビーム４の基端部４ａにおける一方の側縁部に配置されている。
【００３１】
図５はヘッド支持機構１００における薄膜圧電体素子１０の平面図であり、図６は図５中のＺ―Ｚ線における断面図である。図５および図６において、薄膜圧電体素子１０は、フレクシャ７の薄膜保持部８ａ，８ｂ（図４参照）に接着して取り付けられる。なお、薄膜保持部８ａ，８ｂにおいては、薄膜圧電体素子１０を接着する面に、接着性を向上させるためのクローム等のサブミクロンオーダーの薄膜がコーティングされている。
【００３２】
薄膜圧電体素子１０は、図６に示すように、左右それぞれ別々の薄膜圧電体素子１０ａ，１０ｂが一対となって構成されている。各薄膜圧電体素子１０ａ，１０ｂは、第１の薄膜圧電体１１ａ、および第２の薄膜圧電体１１ｂとが積層配置された２層構造を有している。図から見て上部に位置する第１の薄膜圧電体１１ａの上側および下側には、第１の電極金属膜１２ａと第２の電極金属膜１２ｂが形成されている。同様に第２の薄膜圧電体１１ｂは、第１の薄膜圧電体１１ａの下部に配置され、その両面には第３の電極金属膜１２ｃと第４の電極金属膜１２ｄとが設けられている。第２の電極金属膜１２ｂと第３の電極金属膜１２ｃとは接着剤１３で接着されている。また、薄膜圧電体素子１０の全体は、柔軟性のあるコーティング樹脂１４でカバーされるとともに左右の薄膜圧電体素子１０ａ、１０ｂを一体化している。
【００３３】
図７はヘッド支持機構１００におけるフレクシャ７の平面図である。即ち、この図７は薄膜圧電体素子１０を貼り付けたフレクシャ７をスライダ貼り付け側から見た平面図である。図８は図７に示すＸ−Ｘ線による断面図（薄膜圧電体素子１０を貼りつけた状態）である。図９は図７に示すＹ―Ｙ’線による断面図ある。図７から図９に示すように、薄膜圧電体素子１０の周囲には配線６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄおよびスライダ２のグランド配線９ｄが薄膜圧電体素子１０と同一平面状に配置されている。
【００３４】
次に薄膜圧電体素子１０の配線について説明する。図９において、薄膜圧電体素子１０の第１、第４の電極金属膜１２ａ，１２ｄにはプラス電圧が加えられ、第２、第３の電極金属膜１２ｂ，１２ｃはグランドに落とされている。第１、第４の電極金属膜１２ａ，１２ｄは、フレクシャ７の中程に配置された薄膜圧電体素子駆動配線９ａに対してワイヤボンド線１６でつながれている。第１、第４の電極金属膜１２ａ、１２ｄは、薄膜圧電体素子駆動配線９ｂに対してワイヤボンド線１６でつながれている。電極金属膜１２ｂと電極金属膜１２ｃとは、グランド金属膜１７を介して薄膜圧電体素子駆動配線９ｃにつながれている。スライダ２のグランド配線９ｄは、スライダ２をグランドに落とすためのアース端子であり、薄膜圧電体素子駆動配線９ｃに短絡されている。これら薄膜圧電体素子駆動配線９ａ，９ｂ，９ｃは外部接続用端子保持部７ｙに一方の端部が設けられており、外部の駆動回路（図示省略）に接続されている。
【００３５】
図１０は薄膜圧電体素子１０およびその第１〜第４の電極金属膜１２ａ〜１２ｄを単結晶基板１８上で成膜する手順を示す図である。この図１０を参照して、薄膜圧電体素子１０の成膜方法について説明する。先ず、図１０（ａ）に示すように単結晶基板１８上に第１、第４の電極金属膜１２ａ（１２ｄ）が成膜される。次に、図１０（ｂ）に示すように第１、第４の電極金属膜１２ａ（１２ｄ）の上にＰＺＴ等の第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）が単結晶成長される。さらに、図１０（ｃ）に示すように第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）の上面に第２、第３の電極金属膜１２ｂ（１２ｃ）が成膜される。このとき第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）の分極方向は成膜時点で結晶のｃ軸方向（矢印Ａ方向）に向いている。
【００３６】
図１１は単結晶基板１８上に成膜した第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）を２層構成化する手順を示した図であり、図１２のステップは第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）の製造方法を示すフローチャートである。図１１および図１２のステップを参照して第１、第２の薄膜圧電体１１ａ（１１ｂ）を２層構成にする工程を説明する。
【００３７】
図１１（ａ）に示すように第１の単結晶基板１８ａ上に第１の電極金属膜１２ａ、第１の薄膜圧電体１１ａおよび第２の電極金属膜１２ｂを形成し（図１２のステップＳ１２０１）、次に、図１１（ｂ）に示すように第２の単結晶基板１８ｂ上に第３の電極金属膜１２ｃ、第２の薄膜圧電体１１ｂおよび第４の電極金属膜１２ｄを形成する（図１２のステップＳ１２０２）。
【００３８】
その後、図１１（ｃ）に示すように、第２の電極金属膜１２ｂと第４の電極金属膜１２ｃを接着剤１３で接着する（図１２のステップＳ１２０３）。
【００３９】
次に、図１１（ｄ）に示すように、単結晶基板１８のうちの一方である第１の単結晶板１８ａをエッチングで除去する（図１２のステップＳ１２０４）。その後、図１１（ｅ）に示すように、２層構造の第１、第２の薄膜圧電体１１ａ、１１ｂを薄膜圧電体素子１０の形状になるようにドライエッチングで成形加工する（図１２のステップＳ１２００５）。
【００４０】
次に、図１１（ｆ）に示すように、薄膜圧電体素子１０の腐食を回避するために、第２の単結晶基板１８ｂ上において、薄膜圧電体素子１０が形成された表面をコーティング樹脂１４で覆う（図１２のステップＳ１２０６）。その後、図１１（ｇ）に示すように、最後に残っていた第２の単結晶基板１８ｂをエッチング除去することにより薄膜圧電体素子１０を得る（図１２のステップＳ１２０７）。
【００４１】
なお、第１の電極金属膜１２ａと第４の電極金属膜１２ｄとの接着は超音波振動を用いた熱溶着で接着してもよい。
【００４２】
図１３は第２の単結晶基板１８ｂを除去する工程を説明するための図である。この図１３を参照して、第２の単結晶基板１８ｂ上に形成した薄膜圧電体１０を薄膜として取り出す方法について説明する。前記図１１（ｆ）で示した第２の単結晶基板１８ｂ上の薄膜圧電体素子１０は、図１３（ａ）に示すように１枚の第２の単結晶基板１８ｂ上に複数形成されている。第２の単結晶基板１８ｂは、網籠２０２に乗せて第２の単結晶基板１８ｂを溶解して除去する溶液を満たした溶解槽２０１に浸される。これによって薄膜圧電体素子１０は、膜の状態で取り出される。この溶解槽２０１の溶解液は強制的に循環されており第２の単結晶基板１８ｂは、完全に溶解される（図１２のステップＳ１２０７）。そして完全に溶解が完了した時点で溶解槽２０１上部に設けられた開閉扉２０３が開放される。これにより薄膜圧電体素子１０は溶解液を洗浄する流路２０４に沿って移送される。
【００４３】
この流路２０４には薄膜圧電体素子１０を攪拌する超音波振動器２０５が備えられており、薄膜圧電体素子１０は超音波振動を加えられながら流路２０４に沿って搬送される。流路２０４の下流にはベルトコンベア２０６が設けられ、薄膜圧電体素子１０を流路２０４から取り出し乾燥される（図１３（ｃ））。乾燥した薄膜圧電体素子１０は、図外のエアピンセットで吸引し搬送され図１３（ｄ）に示すようにトレイ２０７に並べられる（図１２のステップＳ１２０８）。
【００４４】
薄膜圧電体素子１０を、薄膜保持部８ａ、８ｂに高精度に貼り付ける方法について図１２、および図１４から図１７を参照して説明する。図１４は薄膜圧電体素子１０を第１の位置決めベース２０９上に位置決めする工程を説明するための図であり、図１５は第１の位置決めベース２０９の斜視図である。図１６は第２の位置決めベース２１１の斜視図であり、図１７は第２の位置決めベース２１１を第１の位置決めベース２０９に重ね合わせる工程を説明するための図である。本発明はこのような工程を実施することに特徴を有している。
【００４５】
まず、トレイ２０７上の薄膜圧電体素子１０をエアピンセット２０８で取り出し、第１の位置決めベース２０９上に移送する（図１２のステップＳ１２０９）。
【００４６】
第１の位置決めベース２０９には、薄膜圧電体素子１０の外形形状と同一形状となった凸状の薄膜載置部２０９ａが設けられている。
【００４７】
薄膜載置部２０９ａの上面は平面であり、かつ薄膜圧電体素子１０を受ける面は、その外周は一回り小さい形状、好ましくは、薄膜圧電体素子１０と相似形となっている（図１５参照）。これにより、接着剤１３が第１の位置決めベース２０９に洩れるのを防止することができる。
【００４８】
薄膜載置部２０９ａの上面に移送された薄膜圧電体素子１０は、図１４（ｂ）に示すように精度よく位置決めされた状態にあるとは限らない。そこで、薄膜圧電体素子１０の位置ずれを補正するために、図１４（ｃ）に示すように４方向から位置決めブロック２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃ，２１０ｄを、薄膜圧電体素子１０の外周部を押し付ける。これらのブロック２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃ，２１０ｄは、薄膜圧電体素子１０と同一形状の外形部を有する薄膜載置部２０９ａの側面部２０９ｂで規制される。
【００４９】
各ブロック２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃ，２１０ｄが薄膜載置部２０９ａの側面部２０９ｂに当接することにより薄膜圧電体素子１０は、第１の位置決めべース２０９上の所定の位置に位置決めされる（図１２のステップＳ１２１０）。
【００５０】
薄膜載置部２０９ａの上面には、エアを吸引あるいは噴出する微細な空気孔２０９ｃが複数個設けられている。薄膜載置部２０９ａの上面に位置決めされた薄膜圧電体素子１０は、微細な空気孔２０９ｃを通してエアポンプ２１２で吸引され固定される（図１２のステップＳ１２１１）。
【００５１】
一方、フレクシャ７は、図１６に示すように第２の位置決めベース２１１上に固定されている（図１２のステップＳ１２１２）。この状態でフレクシャ７の薄膜保持部８ａ，８ｂには接着剤１３が塗布される（図１２のステップＳ１２１３）。
【００５２】
その後、図１７に示すように薄膜圧電体素子１０を吸引した状態の第１の位置決めベース２０９は、フレクシャ７を固定した第２の位置決めベース２１１に嵌め合われる。嵌め合いは、第２の位置決めベース２１１に設けたガイド軸２１１ａを、第１の位置決めベース２０９に設けたガイド穴２０９ｄに係合させることにより行い、これにより、第１、第２の位置決めベース２０９、２１１は互いに正確に位置決めされて重ねられる（図１２のステップＳ１２１４）。
【００５３】
このときフレクシャ７と薄膜圧電体素子１０との間には数μの隙間ｍが生じるように第１の位置決めベース２０９と第２の位置決めベース２１１とは構成されている。これにより薄膜圧電体素子１０を薄膜載置部２０９ａに押し付けて破損させないように配慮している。
【００５４】
そして、第１の位置決めベース２０９と第２の位置決めベース２１１とが重ね合わされて薄膜圧電体素子１０とフレクシャ７が対向した状態となったところで、薄膜載置部２０９ａの空気孔２０９ｃから逆にエアを噴出させる（図１２のステップＳ１２１５）。これにより、薄膜圧電体素子１０は、フレクシャ７の薄膜保持部８ａ、８ｂに確実に接着される。接着剤１３の硬化のために加熱を行うが、その間も薄膜載置部２０９ａの空気穴２０９ｃからエアを噴出し続ける（図１２のステップＳ１２１６）。
【００５５】
このような構成のディスク装置におけるヘッド支持機構１００の動作について、図１８〜図２０を参照して説明する。図１８はヘッド支持機構１００の側面図であり、図１９はヘッド支持機構１００の動作を説明するための薄膜圧電体素子１０の断面および電圧印加仕様を説明するための図である。図２０はヘッド支持機構１００の動作を説明するための概略構成図である。
【００５６】
薄膜圧電体素子１０の薄膜圧電体素子駆動配線９ｃはグランドレベルに設定されている。薄膜圧電体素子駆動配線９ａ，９ｂには図１９（ｂ），（ｃ）に示すようにそれぞれ第１、第２の薄膜圧電体１１ａ、１１ｂをそれぞれ駆動する駆動電圧が印可される。この駆動電圧は、バイアス電圧Ｖ０を中心としてお互いに逆位相となっている。駆動電圧が印加されると、図１９（ａ）に示すように第１、第２の薄膜圧電体１１ａ，１１ｂは矢印Ｂ方向に伸縮する。第１、第２の薄膜圧電体１１ａ，１１ｂには図１１（ｃ）に示す分極方向Ａに電圧が印加されるため、第１、第２の薄膜圧電体１１ａ，１１ｂの分極が反転しその特性を損なうことはない。
【００５７】
図２０は薄膜圧電体素子１０ａが伸び、薄膜圧電体素子１０ｂが収縮したときのスライダ２の回転動作について描いた図であり、薄膜圧電体素子１０ａが矢印Ｅ方向に伸び、薄膜圧電体素子１０ｂが矢印Ｄ方向に収縮すると、スライダ２およびスライダ保持基板３ａは突起部３ｂに当接するディンプル４ｇを中心に矢印Ｃ方向に回動する。従って、スライダ２上に設けられた磁気ヘッド１は、磁気ディスクに同心状態で設けられた各トラックの幅方向に移動することになる。これによりトラックから位置ずれを起こした磁気ヘッド１を所定のトラックに追従させることができ、磁気ヘッド１のオントラック性を高精度で実現することができる。
【００５８】
繋ぎ部１９ａ，１９ｂの幅寸法は、図４に示すように、配線６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄが、それぞれ配置される必要最小限の幅寸法にそれぞれなっているために、スライダ保持基板３ａの回動時における負荷が低減されて、スライダ保持基板３ａが確実に回動される。
【００５９】
なお、スライダ２には、図２に示すロードビーム４の板バネ部４ｅによりロード荷重（２０〜３０ｍＮ）が加えられており、スライダ保持基板３ａが回動される場合には、このロード荷重が、ディンプル４ｇとスライダ保持基板３ａとに作用する。従って、スライダ保持基板３ａには、スライダ保持基板３ａとディンプル４ｇとの摩擦係数にて決定される摩擦力が作用する。この摩擦力によりスライダ保持基板３ａの突起部３ｂとディンプル４ｇとの間に位置ずれが生じない。
【００６０】
図２０（ｂ）は、図２０（ａ）の構成の模式図を示したものである。薄膜保持部８ａと薄膜圧電体素子１０ａとからなる第１のビーム１６１と薄膜保持部８ｂおよび薄膜圧電体素子１０ｂとからなる第２のビーム１６２とは、ディンプル４ｇで回動自在に拘束されたスライダ保持基板３ａに回動自在に連結されている。磁気ヘッド１はディンプル４ｇから距離ｄを置いてスライダ保持基板３ａ上に設けられている。弾性ヒンジ部１９ａ，１９ｂは、スライダ２のロール方向およびピッチ方向に柔軟な構成となっているため、スライダ２がディスク上に浮上特性に対して良好な特性を与える。第１のビーム１６１と第２のビーム１６２とがそれぞれＤ方向、Ｅ方向に伸縮するとスライダ保持基板３ａが回動し、磁気ヘッド１はトラックに対して垂直方向に移動する。
【００６１】
以上のように本実施の形態によれば、単結晶の薄膜圧電体１１ａ、１１ｂが２層構成を有しているので、小さい印加電圧により大きな変位を得ることができる薄膜圧電体アクチュエータを実現することができる。また、薄膜圧電体１１ａ、１１ｂを２層化することでその剛性が高められるので、アクチュエータとして共振周波数を高くすることができる。これにより駆動周波数を高めることができ、追従性の高い良好な特性を得ることができる。
【００６２】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、薄膜を高精度に、かつ破損させずにフレクシャに貼り付けることができる。また、これにより圧電素子駆動用の昇圧電源回路などを必要とするようなことがなく、ヘッド素子は磁気ディスク上に沿って、微小な範囲で変位可能となり、したがって、ヘッド素子を磁気ディスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることができるヘッド支持機構が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構の斜視図
【図２】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構を分解して示す斜視図
【図３】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構に使用されるスライダの斜視図
【図４】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構に使用されるフレクシャの構成図
【図５】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における薄膜圧電体の平面図
【図６】図５のＺ−Ｚ線における断面図
【図７】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構に使用されるフレクシャの平面図
【図８】図７の Ｘ−Ｘ線における断面図
【図９】図７のＹ−Ｙ線における断面図
【図１０】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における薄膜圧電体およびその電極を単結晶基板上で成膜する手順を示した図
【図１１】本発明の実施の形態において単結晶基板上に成膜した薄膜圧電体を２層構成化する手順を示した図
【図１２】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における薄膜圧電体の製造方法を示すフローチャート
【図１３】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における第２単結晶基板を除去する工程図
【図１４】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における薄膜圧電体を第１の位置決めベース上に位置決めする工程図
【図１５】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における第１の位置決めベースの斜視図
【図１６】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における第２の位置決めベースの斜視図
【図１７】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構における第２の位置決めベースを第一の位置決めベース上に重ねる工程図
【図１８】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構の側面図
【図１９】本発明の実施の形態におけるヘッド支持機構の動作を説明するための薄膜圧電体の断面および電圧印加仕様を説明する図
【図２０】本発明の実施の形態に係るヘッド支持機構の動作を説明するための概略構成の平面図
【図２１】従来のディスク装置に備えられるヘッド支持機構の一例を示す平面図
【符号の説明】
１ 磁気ヘッド（ヘッド素子）
２ スライダ
３ａ スライダ保持基板
４ ロードビーム
７ フレクシャ
８ 薄膜保持部
１０ 薄膜圧電体素子（薄膜）
２０９ 第１の位置決めベース
２０９ａ 薄膜載置部＋
２０９ｂ 薄膜載置部の側面部
２０９ｃ 空気孔
２０９ｄ ガイド穴
２１１ 第２の位置決めベース
２１１ａ ガイド軸
Claims (4)
- ヘッド素子を搭載したスライダがロードビームの先端部に装着されると共に、前記スライダが前記ロードビームに対して回転自在に支持されるように構成されたヘッド支持機構において、前記スライダに回動力を付与する薄膜を、ヘッド素子配線用のフレクシャの要部に接着する薄膜接着方法であって、
互いに嵌合することで一体化する第１、第２の位置決めベースを用意したうえで、第１の位置決めベースに前記薄膜を配置し、前記第２の位置決めベースに前記フレクシャを固定的に取り付ける工程と、
前記第１の位置決めベース上の前記薄膜に対して位置補正処理を施す工程と、
補正後の前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースに吸着させる工程と、
前記第１の位置決めベースと前記第２の位置決めベースとを嵌合させることで、前記フレクシャの要部に前記薄膜を対向させる工程と、
前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する工程と、
とを含み、前記フレクシャの要部に前記薄膜を接着する際に、前記薄膜を空気圧により前記第１の位置決めベースから離間させて前記フレクシャの要部に接着する、
ことを特徴とするヘッド支持機構のおける薄膜接着方法。 - 前記薄膜を接着剤により前記フレクシャの要部に接着するとともに、その接着に際して、第１、第２の位置決めベースのうち、少なくとも第２の位置決めベースを加熱する、
ことを特徴とする請求項１に記載のヘッド支持機構における薄膜接着方法。 - 前記第１の位置決めベース上の前記薄膜に対して位置補正処理を施す際に、前記第１の位置決めベースの薄膜載置部を薄膜外形形状と同等形状の凸状に形成したうえで、前記薄膜を搭載した前記薄膜載置部の側面に位置決めブロックを当接させることで、前記薄膜を前記薄膜載置部の所定位置に対して位置補正する、
ことを特徴とする請求項１または２に記載のヘッド支持機構における薄膜接着方法。 - ヘッド素子を搭載したスライダがロードビームの先端部に装着されると共に、前記スライダが前記ロードビームに対して回転自在に支持されるように構成されたヘッド支持機構において、前記スライダに回動力を付与する薄膜を、所定位置に位置決めしたうえでヘッド素子配線用のフレクシャの要部に接着する際に用いる薄膜接着冶具であって、
第 1 の基準面を有するとともに当該第１の基準面に前記薄膜の外形と同一形状となった凸状の薄膜載置部を有する第 1 の位置決めベースと、
前記薄膜載置部の側面に当接することで、前記薄膜載置部上の前記薄膜を位置決め補正する位置決めブロックと、
前記薄膜載置部の上面に開口する空気孔と、
前記開口から空気を吸引あるいは噴射させる吸引・噴射手段と、
第２の基準面を有し、この第 2 の基準面上に前記フレクシャを位置決め固定する第 2 の位置決めベースと、
前記第 1 の基準面と前記第 2 の基準面とが互いに平行な状態を維持したまま、前記第 1 の位置決めベースと前記第 2 の位置決めベースとを、その対向方向に沿って相対移動可能に保持するガイド機構と、
を有し、前記薄膜載置部の上面と前記第２の基準面との間の離間間隔を、前記薄膜の厚さと前記フレクシャの厚さを加えた値より僅かに広く設定する、
ことを特徴とする薄膜接着冶具。
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