JP3542265B2

JP3542265B2 - 水酸化第４級アンモニウムの製造方法

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Publication number: JP3542265B2
Application number: JP02973998A
Authority: JP
Inventors: 隆裕手嶋; 浩喜平山; 徹野仲
Original assignee: Tokuyama Corp
Current assignee: Tokuyama Corp
Priority date: 1998-02-12
Filing date: 1998-02-12
Publication date: 2004-07-14
Anticipated expiration: 2018-02-12
Also published as: JPH11229169A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水酸化第４級アンモニウムの製造方法、詳しくはハロゲン化第４級アンモニウム塩をイオン交換膜を介して電気分解し、高純度の水酸化第４級アンモニウム水溶液を安定して製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
水酸化第４級アンモニウムは、相間移動触媒をはじめとして、非水溶媒滴定における塩基の標準液、有機系アルカリ剤等の有機の強塩基として有用である。また、ＬＳＩの製造における半導体基板の洗浄、食刻、ポジ型レジストの現像液に利用されている。
【０００３】
従来、水酸化第４級アンモニウムの製造は、原料のハロゲン化第４級アンモニウム塩を、電解槽の陽極と陰極との間に形成された陰イオン交換膜と陽イオン交換膜とにより区画された隔室に供給して電気分解する方法が公知である。例えば、特開平１−１０８３８８号公報には、図１に示すような陽極１と陰極２との間に、陽極側から順に、陽イオン交換膜３、陰イオン交換膜４、陽イオン交換膜５を配した電解槽を用い、該電解槽の陰イオン交換膜４と陽イオン交換膜５とにより区画された隔室（原料室）８にハロゲン化第４級アンモニウム塩水溶液を供給して電気分解を行うことが示されている。こうした方法は、高純度の水酸化第４級アンモニウムが水溶液として得られ、しかも上記陰イオン交換膜が比較的長期間劣化せず使用でき好適である。
【０００４】
即ち、上記方法では、原料室８に供給されたハロゲン化第４級アンモニウム塩は、第４級アンモニウムイオンと塩を構成するハロゲン化物イオンとに分解され、それぞれが陽イオン交換膜５または陰イオン交換膜３を透過する結果、前記電解槽における陰極が存在する陰極室９に水酸化第４級アンモニウムが生成し、且つ陽イオン交換膜３と陰イオン交換膜４とにより区画された隔室（酸室）７に酸が生成する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような電気分解による水酸化第４級アンモニウムの製造方法では、陽極が存在する陽極室６では、ハロゲンガス等の酸化性物質が生成し、陽極室液に溶解する。そして、この溶存する酸化性物質は、上記電解槽の如く陽極室６が陽イオン交換膜３により前記酸室７と区画されている場合であっても、該陽極室６より若干量がこの陽イオン交換膜３を透過し、酸室７に浸透してくる。その結果、かかる酸室７と原料室８とを仕切っている陰イオン交換膜４は、電気分解中においてこれら酸化性物質に曝されてしまう。
【０００６】
しかして、陰イオン交換膜は、一般的に、マトリックスとして機能するイオン交換基を有さない樹脂（以下、単にマトリックス樹脂と記載することがある）とイオン交換基を有するイオン交換樹脂とからなる樹脂組成物が、織布等の基材に付着されたものが使用されており、上記マトリックス樹脂としては、柔軟性等の機械的特性、イオン交換樹脂との相溶性、使用時の耐久性等の面からスチレン−ブタジエン共重合体やアクリロニトリル−ブタジエン共重合体などが好適に使用されている。こうした陰イオン交換膜は、酸化性物質により劣化し易い性状にあるため、上記水酸化第４級アンモニウムの製造方法でも、運転が長期間に及ぶと該陰イオン交換膜が除々に劣化してくる。そして、樹脂が基材から剥離したり、陰極側の陽イオン交換膜を透過する陽イオンの量と陰イオン交換膜を透過する陰イオンの量のバランスがとれなくなり、運転に異常を来すなどの問題が生じていた。
【０００７】
よって、長期間において安定的に水酸化第４級アンモニウム水溶液を製造する方法を開発することが望まれていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする手段】
本発明者らは、上記した課題に鑑み鋭意研究した結果、脂肪族炭化水素系単量体から導かれる実質的に不飽和結合を有さない単量体単位とアクリロニトリルまたはスチレンに基づく単量体とよりなる共重合体をマトリックス樹脂とした陰イオン交換膜が、ハロゲンガス等の酸化性物質に対して極めて優れた耐性を有する知見を得、それを基に該陰イオン交換膜を、上記水酸化第４級アンモニウム水溶液の製造における電解槽の陰イオン交換膜として使用することにより、上記した課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明は、電解槽の陽極と陰極との間に形成された陰イオン交換膜と陽イオン交換膜とにより区画された隔室にハロゲン化第４級アンモニウム塩水溶液を供給して電気分解を行い水酸化第４級アンモニウムを製造する方法において、陰イオン交換膜として、脂肪族炭化水素系単量体から導かれる実質的に不飽和結合を有さない単量体単位とアクリロニトリルまたはスチレン系単量体に基づく単量体単位とよりなる共重合体、及び陰イオン交換樹脂からなる樹脂組成物よりなる陰イオン交換膜を用いることを特徴とする水酸化第４級アンモニウムの製造方法である。
【００１０】
本発明の製造方法において使用する電解槽は、陽極と陰極との間に陰イオン交換膜と陽イオン交換膜とにより区画された隔室を有するものであり、陰イオン交換膜は陽極側に配され、陽イオン交換膜は陰極側に配されている。かかる電解槽は、陽極と陰極との間に、陽極側から順に、陰イオン交換膜、陽イオン交換膜を配したものでも良いが、該陰イオン交換膜が、陽極液で生成する酸化性物質に直接的に曝されないように、陰イオン交換膜と陽極との間に、さらに陽イオン交換膜を配して酸室を形成したものを用いるのが好適である。
【００１１】
こうした電解槽の代表的態様を、前記した図１により説明する。即ち、図１の電解槽では、陽極１と陰極２との間に、陽極側から順に、陽イオン交換膜３、陰イオン交換膜４、陽イオン交換膜５が配されている。この電解槽では、陰イオン交換膜３と陽イオン交換膜５とにより区画された隔室がハロゲン化第４級アンモニウム塩水溶液を供給する原料室８になり、陰極２が存在する陰極室９が水酸化第４級アンモニウムの生成室になる。
【００１２】
また、陽極側が陽イオン交換膜３で仕切られ陰極側が陰イオン交換膜４で仕切られた隔室は、酸が生成する酸室７になる。このように、原料室と陰極室との間に酸室を形成させることにより、陽極液に溶解する酸化成物質が直接的に、上記陰イオン交換膜４に接触することが防止できるようになり好ましい。
【００１３】
上記電解槽において、陰極室９には、水酸化第４級アンモニウム水溶液が供給され、原料室８には、ハロゲン化第４級アンモニウム塩水溶液が供給される。さらに、酸室７には、ハロゲン化第４級アンモニウム塩を構成するハロゲン化物イオンと水素イオンからなる酸水溶液（以後、酸室液と記載することがある）が供給され、陽極室６には、硫酸、硝酸等の酸水溶液（以後、陽極液と記載することがある）が供給される。
【００１４】
なお、電解槽は、上記基本的な室の構成の他に、陽極と酸室を構成する陽イオン交換膜との間にさらに１枚以上の陽イオン交換膜を設けたり、酸室を構成する陽イオン交換膜と原料室を構成する陰イオン交換膜との間にさらに１枚以上の陰イオン交換膜を設けたり、原料室を構成する陽イオン交換膜と陰極との間にさらに１枚以上の陽イオン交換膜を設けて、各中間室を形成させても良い。その場合、これら中間室は、原料室室液中のハロゲン化第４級アンモニウム塩や陽極液中の酸化性物質等が、原料室や陽極室から拡散により各イオン交換膜を透過して隣接する他の室へ透過することを防止する機能を発揮する。また、こうした場合において、陽極室と酸室との間に形成される中間室には陽極液が供給され、酸室と原料室との間に形成される中間室には酸水溶液が供給され、原料室と陰極室との間に形成される中間室には水酸化第４級アンモニウム水溶液が供給される。
【００１５】
本発明において、原料として供給するハロゲン化第４級アンモニウム塩は、一般式〔Ｒ₄Ｎ〕Ｘ（式中、Ｒはそれぞれ一般に炭素数１から４のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリール基を示し、Ｘはふっ素、塩素、臭素、よう素等のハロゲン類を示す）にて表わされる有機塩であり、具体的にはふっ化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、よう化テトラメチルアンモニウム、ふっ化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、よう化テトラエチルアンモニウム、ふっ化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、よう化テトラブチルアンモニウム等のハロゲン化テトラアルキルアンモニウム類、ふっ化テトラフェニルアンモニウム、塩化テトラフェニルアンモニウム、臭化テトラフェニルアンモニウム、よう化テトラフェニルアンモニウム等のハロゲン化テトラアリールアンモニウム類、ふっ化テトラヒドロキシメチルアンモニウム、塩化テトラヒドロキシメチルアンモニウム、臭化テトラヒドロキシメチルアンモニウム、よう化テトラヒドロキシメチルアンモニウム、ふっ化テトラヒドロキシエチルアンモニウム、塩化テトラヒドロキシエチルアンモニウム、臭化テトラヒドロキシエチルアンモニウム、よう化テトラヒドロキシエチルアンモニウム等のハロゲン化テトラヒドロキシアルキルアンモニウム類、或いはハロゲン化トリアルキル・アリールアンモニウム類等のハロゲン化アルキル・アリールアンモニウム類、ハロゲン化トリヒドロキシアルキル・アリールアンモニウム類等のハロゲン化ヒドロキシアルキル・アリールアンモニウム類、ハロゲン化トリアルキル・ヒドロキシアルキルアンモニウム類等のハロゲン化アルキル・ヒドロキシアルキルアンモニウム類が一般に挙げられる。このうちハロゲン化テトラアルキルアンモニウム類が一般に好適に用いられる。具体的には、塩化テトラメチルアンモニウムおよび塩化テトラエチルアンモニウムを用いるのが特に好適である。
【００１６】
電解槽の原料室に供給するこれらハロゲン化第４級アンモニウムの水溶液の濃度は、１〜４ｋｍｏｌ／ｍ³が一般的である。また、本発明で得られる水酸化第４級アンモニウムとしては、一般式〔Ｒ₄Ｎ〕ＯＨ（式中、Ｒは上記と同一）で表される上記した原料のハロゲン化第４級アンモニウムに対応する有機化合物であり、例えば水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等である。なお、電解槽の陰極室に供給するこれら水酸化第４級アンモニウムの水溶液の濃度は、１〜３ｋｍｏｌ／ｍ³が一般的である。
【００１７】
本発明で用いられる酸室液は、一般式ＨＸ（式中、Ｘは上記と同一）にて表される酸の水溶液であり、具体的には、ふっ酸、塩酸、臭酸、よう酸等のハロゲン化水素水溶液が挙げられる。電解槽の酸室等に供給するこれら酸水溶液の濃度は、０．１〜１ｋｍｏｌ／ｍ³が一般的である。
【００１８】
本発明で用いられる陽極液は、塩酸、硫酸、硝酸等の酸の水溶液である。塩酸は、遊離塩素類の発生が激しくなるため、硫酸、硝酸等を用いるのが好ましい。電解槽の陽極室等に供給するこれら酸水溶液の濃度は、０．１〜１ｋｍｏｌ／ｍ³が一般的である。
【００１９】
上記電解槽では、それぞれの室から強制的または自然に室液を排出させて、排出された排出室液は、各水溶液の濃度を前記説明した好適な範囲内にあるようにコントロールしながら、少なくともその一部を再度もとの室へ循環供給するのが、安定運転を維持する点から好ましい。ここで、循環供給は、排出された室液の全てでも良いし、部分的であっても良い。
【００２０】
電気分解の運転条件としては、電流密度０．１〜５０ｋＡ／ｍ²、各室液の温度２０〜６０℃で行うのが好ましい。
【００２１】
電解槽に用いられる陽イオン交換膜は、従来公知のものが何等制限なく使用され、例えばイオン交換基としてスルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基等を有し、基体が炭化水素系、フルオロカーボン系、パーフルオロカーボン系樹脂などである陽イオン交換膜が使用される。
【００２２】
本発明の最大の特徴は、上記構造の電解槽において、陰イオン交換膜として、脂肪族炭化水素系単量体から導かれる実質的に不飽和結合を有さない単量体単位とアクリロニトリルまたはスチレン系単量体に基づく単量体単位とよりなる共重合体（以下、アクリロニトリル系共重合体またはスチレン系共重合体と略する）、及びイオン交換樹脂からなる樹脂組成物よりなる陰イオン交換膜を用いることにある。このような陰イオン交換膜は、スチレン−ブタジエン共重合体やアクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の不飽和結合を有する樹脂がマトリックス樹脂である陰イオン交換膜よりも、酸化性物質に対する耐久性が著しく優れており、かかる陰イオン交換膜を隔膜として用いることにより、本発明では、水酸化第４級アンモニウムを長期間、安定的に製造することが可能になる。
【００２３】
ここで、陰イオン交換膜の劣化の原因となる酸化性物質としては、具体的には、ふっ素、塩素、臭素、よう素等のハロゲン類、次亜ふっ素酸、次亜塩素酸、次亜臭素酸、次亜よう素酸等の次亜ハロゲン酸類等が挙げられる。
【００２４】
本発明において、上記アクリロニトリル系共重合体またはスチレン系共重合体としては、前記各構成単位からなる公知の化合物が何等制限されることなく使用できる。
【００２５】
また、スチレン系共重合体を構成するスチレン系単量体としては、スチレンや該スチレンの芳香環やビニル基にハロゲン基、アルキル基あるいはハロアルキル基等の置換基が導入されたスチレン置換体が何等制限されることなく使用される。こうしたスチレン置換体としては、例えばビニルトルエン、ビニルキシレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン、α−ハロゲン化スチレン、α，β，β’−トリハロゲン化スチレン等が挙げられる。
【００２６】
一方、前記アクリロニトリル系共重合体またはスチレン系共重合体のもう一つの構成成分である脂肪族炭化水素系単量体は、不飽和脂肪族炭化水素、好適には炭素数２〜９の不飽和脂肪族炭化水素が特に制限されることなく使用される。その場合、不飽和脂肪族炭化水素としては、具体的には、エチレン、プロピレン、ブチレン等のオレフィンやブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジオレフィンを用いるのが好ましい。
【００２７】
本発明において、マトリックス樹脂として使用する上記共重合体は、脂肪族炭化水素系単量体から導かれる単量体単位が、共重合体を構成した状態において、該単量体単位中に実質的に不飽和結合を有さないものである。従って、共重合体成分として、上記共役ジオレフィン等の複数の不飽和結合を有する脂肪族炭化水素系単量体を使用した場合は、共重合後、さらに水素添加処理を施して該単量体に基づく単位中に残存する不飽和結合を消失させる必要がある。水素添加は、チタンの有機金属化合物を主成分とする触媒や鉄、コバルト、ニッケルの有機化合物とアルキルアルミニウムの有機金属化合物等からなる触媒等の水素添加触媒の存在下で、不活性溶媒中で水素添加するなどの公知の水素添加方法が、制限なく採用される。
【００２８】
なお、共重合の形態としては、いわゆるＡ−Ｂ型のジブロックタイプ、Ａ−Ｂ−Ａ型のトリブロックタイプ、またはランダムタイプなどいかなるものであっても良い。また、ジビニルベンゼン、メタクリル酸エステル、アクリル酸エステル等の第三単量体を微量含有するものであっても良い。
【００２９】
本発明において、最も好適に使用されるアクリロニトリル系共重合体としては、アクリロニトリルとブタジエンとを共重合し、得られた共重合体をさらに水素添加して得た樹脂が挙げられる。また、最も好適に使用されるスチレン系共重合体としては、スチレン単量体とブタジエンとを共重合し、得られた共重合体をさらに水素添加して得た樹脂が挙げられる。なお、このように不飽和結合を有する共重合体に水素添加処理を施す場合、得られる共重合体には若干の不飽和結合が残存しても良い。通常、残存する不飽和結合の数は、水素添加処理を行う前の、脂肪族炭化水素系単量体から導かれる単量体単位に由来する全不飽和結合の数に対して５％以下、好適には２％以下とするのが好適である。残存する不飽和結合の数が多くなると、陽極液中または酸室液中に含まれる酸化性物質による酸化劣化が顕著に生じるようになる。
【００３０】
本発明のアクリロニトリル系共重合体においては、各構成単位の含有量は、特に制限されるものではないが、アクリロニトリルに基づく単量体単位が共重合体の全重量に対して１０〜６０重量％、好ましくは２０〜５０重量％であるのが好適である。また、共重合体の平均分子量は、特に制限されるものではないが、通常、１，０００〜１，０００，０００、好ましくは５０，０００〜５００，０００の範囲であるのが好適である。
【００３１】
一方、スチレン系共重合体においては、各構成単位の含有量は、特に制限されるものではないが、スチレン系単量体に基づく単量体単位が共重合体の全重量に対して１０〜８０重量％、好ましくは２０〜５０重量％であるのが好ましい。また、共重合体の平均分子量は、特に制限されるものではないが、通常、１，０００〜１，０００，０００好ましくは５０，０００〜５００，０００の範囲であるのが好適である。
【００３２】
本発明で用いる陰イオン交換膜において、樹脂組成物の成分として、前記アクリロニトリル系共重合体やスチレン系共重合体がマトリックス樹脂として使用されていることの確認は、例えば以下の方法により行うことができる。即ち、陰イオン交換膜をアセトンやテトラヒドロフラン等の有機溶媒でソックスレー抽出等をすることにより、該樹脂を抽出し、これを赤外分光分析等により分析することにより実施できる。
【００３３】
上記アクリロニトリル系共重合体またはスチレン系共重合体は、赤外分光分析で測定した場合、アクリロニトリル共重合体の場合、２８５０〜２９５０ｃｍ^-1付近、１４４０〜１４６０ｃｍ^-1付近に炭素−水素結合に由来するピークが存在し、２２３６ｃｍ^-1付近にニトリル基に由来するピークが存在する。その一方で、１６４０ｃｍ^-1付近、９７０ｃｍ^-1付近にアルケンの炭素−炭素二重結合に由来するピークが実質的に存在しない等の特徴を示す。また、スチレン系共重合体では、１４５０ｃｍ^-1付近に炭素−水素結合に由来するピークが存在し、１６００ｃｍ^-1付近、１５００ｃｍ^-1付近に芳香族に由来するピークが存在する。その一方で、１６４０ｃｍ^-1付近、９７０ｃｍ^-1付近にアルケンの炭素−炭素二重結合に由来するピークが実質的に存在しない等の特徴を示す。
【００３４】
上記アクリロニトリル系共重合体またはスチレン系共重合体、及びイオン交換樹脂よりなる樹脂組成物は、基材に付着されて陰イオン交換膜として使用されるのが一般的である。このような膜は、上記構成にある限り如何なる方法により得られたものであっても良いが、通常は以下の方法により製造される。
【００３５】
即ち、イオン交換基が導入可能な官能基またはイオン交換基を有する単量体、架橋剤、重合開始剤、および、アクリロニトリル系共重合体またはスチレン系共重合体からなる混合物を、基材に付着して成形重合せしめた後、必要に応じてイオン交換基を導入する方法である。ここで、イオン交換基が導入可能な官能基またはイオン交換基を有する単量体としては、従来公知であるイオン交換膜の製造において用いられる単量体が特に制限されずに使用される。具体的には、ビニルピリジン、メチルビニルピリジン、エチルビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルイミダゾール等のビニル基を有する含窒素複素芳香族化合物；スチレン；クロルメチルスチレン、ブロモメチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルキシレン、クロロスチレン、アミノスチレン、アルキルアミノスチレン、ジアルキルアミノスチレン、トリアルキルアミノスチレン、α−塩素化スチレン、α−臭素化スチレン等の置換スチレン類：ビニルナフタレン等が挙げられる。
【００３６】
また、架橋剤も、従来公知であるイオン交換膜の製造において用いられる単量体が特に制限されずに使用される。具体的には、例えば、ｍ−、ｐ−、ｏ−ジビニルベンゼン、ジビニルスルホン、ブタジエン、クロロプレン、イソプレン、ジビニルナフタレン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、ジビニルピリジン類などのジビニル化合物等やトリビニルベンゼン類等のトリビニル化合物が挙げられる。
【００３７】
さらに、重合開始剤も、従来公知の重合開始剤が特に制限されずに使用され、用いる基材、成形条件にあわせて適宜選択すれば良い。例えば、ベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ラウリルパーオキサイド、ステアリルパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサンパーオキサイド、ｏ−メチルベンゾイルパーオキサイド、２，４，４−トリメチルペンチルパーオキシ−フェノキシアセテート、α−クミルパーオキシネオデカノエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−ヘキサハイドロテレフタレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、１，１−ビス−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等が用いられる。
【００３８】
なお、本発明において、上記したイオン交換基が導入可能な官能基またはイオン交換基を有する単量体、架橋剤、重合開始剤および前記マトリックス樹脂の混合物には、必要に応じて上記単量体や架橋剤と共重合可能な他の単量体として、例えば、スチレン、アクリロニトリル、エチルスチレン、ビニルクロライド、アクロレイン、メチルビニルケトン、無水マレイン酸、その塩またはエステル類、イタコン酸、その塩またはエステル類などを適宜混合しても良い。また、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、リン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、脂肪族酸、芳香族酸のアルコールエステル等の可塑剤、さらには単量体を希釈するための溶媒等を適宜添加しても良い。
【００３９】
本発明において、上記した各成分の配合割合は、特に制限されるものではない。一般には、イオン交換基が導入可能な官能基またはイオン交換基を有する単量体１００重量部に対して、架橋剤を１〜１００重量部、好適には５〜５０重量部、スチレン系共重合体またはアクリロニトリル系共重合体を２〜２００重量部、好適には５〜５０重量部の範囲で、また、重合開始剤を全単量体量１００重量部に対して０．１〜３０重量部、好適には０．５〜２０重量部の範囲で配合するのが好ましい。
【００４０】
以上により得られる単量体混合物は、通常、基材に付着され重合される。ここで、基材としては、従来においてイオン交換膜の基材として用いられているポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンやポリ塩化ビニル等を素材樹脂とするものが何等制限されることなく使用される。形状としては、織布、不織布、網、あるいは多孔性シート等が制限なく用いられる。これらの基材の厚さは、特に制限されるものではないが、１０〜２００μｍの範囲、特に５０〜１２０μｍのものが好適である。
【００４１】
単量体混合物を上記したような基材に付着した後、重合する際には、一般に常温から加圧下で昇温する。その昇温速度は特に制限されるものではなく適宜選択すれば良い。こうした重合条件は、関与する重合開始剤の種類、単量体混合物の組成、基材の種類によっても左右されるものであり、一概に決めることはできないが、最適な陰イオン交換膜の性能を考慮して適宜選択すれば良い。なお、このペースト状物を基材に付着する方法は、例えば塗布または含浸、浸漬等の公知の方法を適宜採択すれば良い。
【００４２】
以上により重合されて得られる膜状高分子体は、必要に応じてこれを、公知の例えばアミノ化、第４級アンモニウム塩基化、第４級ピリジニウム塩基化、ホスホニウム化、スルホニウム化、加水分解、プロトネーション等の処理により所望のイオン交換基を導入して、陰イオン交換膜とすることができる。これらのイオン交換基の導入量は特に制限されないが、通常、イオン交換容量が０．２〜２０ｍｍｏｌ／ｇ−乾燥膜、好ましくは１〜５ｍｍｏｌ／ｇ−乾燥膜の範囲であるのが好適である。また、陰イオン交換膜の厚さは、所望の電流効率、電気抵抗、機械的強度、耐久性等にも関係するが、一般には１０〜２００μｍ好ましくは５０〜１２０μｍの範囲であるのが好適である。
【００４３】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、電流効率を落とすことなく極めて優れた陰イオン交換膜の耐久性で、ハロゲン化第４級アンモニウム化合物を電気分解し、水酸化第４級アンモニウムを長期間安定的に生成させることができる。
【００４４】
【実施例】
以下、本発明の実施例および比較例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００４５】
実施例１
４−ビニルピリジン１００重量部、スチレン６重量部、ジビニルベンゼン６重量部、ジオクチルフタレート２０重量部、ベンゾイルパーオキサイド３重量部、そしてマトリックス樹脂として水素添加率９８％のスチレン−ブタジエン共重合体（平均分子量；２０００００）１５重量部を混合して得たペースト状混合物を、厚み１００μｍのポリ塩化ビニルの織布に塗布し、ポリエステルフィルムを剥離材として被覆した後、７０℃で１０時間加熱重合を行った。
【００４６】
次いで、得られた膜状高分子体を４０重量％のヨウ化メチルのヘキサン溶液を用いて、３０℃、２４時間のメチル化を行い、イオン交換容量３．０ｍｍｏｌ／ｇ−乾燥膜、厚さ１１０μｍの陰イオン交換膜を得た。この膜を、テトラヒドロフランを溶剤として、４０℃、３日間ソックスレー抽出を行い、得られた抽出物を赤外分光法を用いて分析を行った。その結果、１４５０ｃｍ^-1付近に炭素−水素結合に由来するピークが存在し、１６００ｃｍ^-1付近、１５００ｃｍ^-1付近に芳香族に由来するピークが存在し、一方で、１６４０ｃｍ^-1付近、９７０ｃｍ^-1付近には、アルケンの炭素−炭素二重結合に由来するピークが実質的に認められなかった。
【００４７】
チタン板に白金をメッキした陽極とＳＵＳ３１６の陰極との間に、陽極より順に、陽イオン交換膜（デュポン社製、商品名ナフィオン３２４）、上記の通り得られた陰イオン交換膜、陽イオン交換膜（デュポン社製、商品名ナフィオン９０１）を設けて４室よりなる有効通電面積０．０１ｍ²の電解槽を構成した。
【００４８】
この電解槽を用いて、陽極室に０．３Kmol／m³の硫酸を、酸室に０．３Kmol／m³の塩酸を、原料室に２．５Kmol／m³の塩化テトラメチルアンモニウム水溶液を、陰極室に２．３Kmol／m³の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を供給し、また、各々排出された液は、再度それぞれの室に上記濃度に調整しながら循環させた。各室液の循環は、０．１５ｍ³／Ｈの流量で実施した。この電解槽で、電流密度１．８KA／m²で連続的に電気分解を実施した。
【００４９】
上記電気分解に際し、陰イオン交換膜および陰極側の陽イオン交換膜の電流効率を測定した。運転は、６ヶ月間行った。表１に、運転開始後と６ヶ月後の各イオン交換膜の電流効率を示した。なお、６ヶ月後において、陰イオン交換膜を取り出して観察したところ、外観上何等変化は認められなかった。
【００５０】
比較例１
マトリックス樹脂として水素添加していないスチレン−ブタジエン共重合体を用いた以外は実施例１と同じ条件で、イオン交換容量３．０ｍｍｏｌ／ｇ−乾燥膜、厚さ１１０μｍの陰イオン交換膜を得た。
【００５１】
次に、得られた膜を実施例１と同じ条件で運転を行い電流効率を測定した。表１に、運転開始後と６ヶ月後の各イオン交換膜の電流効率を示した。なお、６ヶ月後において、陰イオン交換膜を取り出して観察したところ、樹脂の一部に基材からの剥離が認められた。
【００５２】
実施例２
４−クロロメチルスチレン１００重量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５重量部、重合開始剤としてベンゾイルパーオキサイド２重量部、マトリックス樹脂として水素添加率９８％の水素添加したアクリロニトリル−ブタジエン共重合体（平均分子量；１０００００）２０重量部を混合して得たペースト状混合物を、厚み１００μｍのポリエチレンの織布に塗布し、ポリエステルフィルムを剥離材として被覆した後、７５℃で６時間加熱重合を行った。
【００５３】
次いで、得られた膜状高分子体を１０重量％のトリメチルアミン、４０重量％のアセトンおよび５０重量％の水の混合液を用いて、３０℃、２４時間の四級アンモニウム化を行い、イオン交換容量３．０ｍｍｏｌ／ｇ−乾燥膜、厚さ１１０μｍの陰イオン交換膜を得た。
【００５４】
実施例１と同様な条件でソックスレー抽出を行い、抽出物の赤外分光分析を行った。その結果、２８５０〜２９５０ｃｍ^-1付近、１４４０〜１４６０ｃｍ^-1付近に炭素−水素結合に由来するピークが存在し、２２３６ｃｍ^-1付近にニトリル基に由来するピークが存在し、一方で、１６４０ｃｍ^-1付近、９７０ｃｍ^-1付近には、アルケンの炭素−炭素二重結合に由来するピークが実質的に認められなかった。
【００５５】
次に、得られた膜を実施例１と同じ条件で運転を行い電流効率を測定した。その結果を表１に示した。更に、耐久性を調べるためにこの条件で６ヶ月間運転した。その後においても、膜自体に何等変化は認められなかった。
【００５６】
比較例２
マトリックス樹脂として水素添加していないアクリロニトリル−ブタジエン共重合体を使用する以外は実施例２と同じ条件で、イオン交換容量３．５ｍｍｏｌ／ｇ−乾燥膜、膜厚１００μｍの陰イオン交換膜を得た。
【００５７】
次に、得られた膜を実施例１と同じ条件で運転を行い電流効率を測定した。表１に、運転開始後と６ヶ月後の各イオン交換膜の電流効率を示した。なお、６ヶ月後において、陰イオン交換膜を取り出して観察したところ、樹脂の一部に基材からの剥離が認められた。
【００５８】
実施例３
２ビニルピリジン５０重量部、４ビニルピリジン５０重量部、架橋剤としてジビニルベンゼン１０重量部、重合開始剤としてベンゾイルパーオキサイド２重量部、マトリックス樹脂として水素添加率９８％の水素添加したアクリロニトリル−ブタジエン共重合体（平均分子量；２０００００）２０重量部を混合して得たペースト状混合物を、厚み１００μｍのポリ塩化ビニルの織布に塗布し、ポリエステルフィルムを剥離材として被覆した後、７５℃で６時間加熱重合を行った。
【００５９】
次いで、得られた膜状高分子体を４０重量％のヨウ化メチルのヘキサン溶液を用いて、３０℃、２４時間のメチル化を行い、イオン交換容量３．０ｍｍｏｌ／ｇ−乾燥膜、厚さ１１０μｍの陰イオン交換膜を得た。実施例１と同様な条件でソックスレー抽出を行い、抽出物の赤外分光分析を行った。その結果、２８５０〜２９５０ｃｍ^-1付近、１４４０〜１４６０ｃｍ^-1付近に炭素−水素結合に由来するピークが存在し、２２３６ｃｍ^-1付近にニトリル基に由来するピークが存在し、一方で、１６４０ｃｍ^-1付近、９７０ｃｍ^-1付近には、アルケンの炭素−炭素二重結合に由来するピークが実質的に認められなかった。
【００６０】
次に、得られた膜を実施例１と同じ条件で運転を行い電流効率を測定した。その結果を表１に示した。更に、耐久性を調べるためにこの条件で６ヶ月間運転した。その後においても、膜自体に何等変化は認められなかった。
【００６１】
比較例３
マトリックス樹脂として水素添加していないアクリロニトリル−ブタジエン共重合体である以外は実施例３と同じ条件で、厚さ１００μｍ、交換容量３．０ｍｍｏｌ／ｇ−乾燥膜の陰イオン交換膜を得た。
【００６２】
次に、得られた膜を実施例１と同じ条件で運転を行い電流効率を測定した。その結果を表１に示した。更に、耐久性を調べるために６ヶ月間運転を行った。その後、取り出して観察すると、樹脂の一部に剥離が認められた。
【００６３】
【表１】

【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明で使用する代表的な電解槽の概略図である。
【符号の説明】
１；陰極
２；陽極
３；陽イオン交換膜
４；陰イオン交換膜
５；陽イオン交換膜
６；原料室
７；陰極室
８；酸室
９；陽極室

Claims

電解槽の陽極と陰極との間に形成された陰イオン交換膜と陽イオン交換膜とにより区画された隔室にハロゲン化第４級アンモニウム塩水溶液を供給して電気分解を行い水酸化第４級アンモニウムを製造する方法において、陰イオン交換膜として、脂肪族炭化水素系単量体から導かれる実質的に不飽和結合を有さない単量体単位とアクリロニトリルまたはスチレン系単量体に基づく単量体単位とよりなる共重合体、及び陰イオン交換樹脂からなる樹脂組成物よりなる陰イオン交換膜を用いることを特徴とする水酸化第４級アンモニウムの製造方法。
電解槽として、陽極側から順に、少なくとも１枚以上の陽イオン交換膜、少なくとも１枚以上の陰イオン交換膜、少なくとも１枚以上の陽イオン交換膜を配したものを用いる請求項１記載の水酸化第４級アンモニウムの製造方法。