JP3537608B2 - 走査光強度の測定方法およびその装置 - Google Patents
走査光強度の測定方法およびその装置Info
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子又はこれ
に類するものの品質、例えば面精度、表面欠陥、内部欠
陥等による光学性能上の影響を測定するための走査光強
度の測定方法および測定装置に関するもので、高精度面
を有する物体の面精度、表面欠陥または内部欠陥等の測
定に利用可能なものである。
に類するものの品質、例えば面精度、表面欠陥、内部欠
陥等による光学性能上の影響を測定するための走査光強
度の測定方法および測定装置に関するもので、高精度面
を有する物体の面精度、表面欠陥または内部欠陥等の測
定に利用可能なものである。
【0002】
【従来の技術】反射もしくは透過性のある高精度面が要
求される光学素子や光学部品の品質は、これら光学素子
や光学部品を含む光学系によって形成される画像品質に
大きな影響を与える。例えば上記光学素子等に、面精度
上の欠陥や、傷、汚れ、異物付着等による表面欠陥、歪
み、異物混入等による内部欠陥などがあると、上記光学
素子等を含む光学系によって形成される画像にムラを生
じ、画像品質が劣化する。従って、光学素子や光学部品
の品質すなわち面精度、表面欠陥、内部欠陥等による画
像ムラ等の光学性能上の影響を測定する必要性が生じる
が、このような光学素子等の品質による光学性能上の影
響を測定することは非常に難しい。従来知られている測
定方法として、(a)分光光度計等による静的反射率や
透過率の測定値をもとに光走査時の光強度を推定する方
法、(b)べた中間調の画像信号を入力してべた中間調
の画像を形成し、光走査方向に直交する方向に生じるす
じによって良否を判定する方法などがある。
求される光学素子や光学部品の品質は、これら光学素子
や光学部品を含む光学系によって形成される画像品質に
大きな影響を与える。例えば上記光学素子等に、面精度
上の欠陥や、傷、汚れ、異物付着等による表面欠陥、歪
み、異物混入等による内部欠陥などがあると、上記光学
素子等を含む光学系によって形成される画像にムラを生
じ、画像品質が劣化する。従って、光学素子や光学部品
の品質すなわち面精度、表面欠陥、内部欠陥等による画
像ムラ等の光学性能上の影響を測定する必要性が生じる
が、このような光学素子等の品質による光学性能上の影
響を測定することは非常に難しい。従来知られている測
定方法として、(a)分光光度計等による静的反射率や
透過率の測定値をもとに光走査時の光強度を推定する方
法、(b)べた中間調の画像信号を入力してべた中間調
の画像を形成し、光走査方向に直交する方向に生じるす
じによって良否を判定する方法などがある。
【0003】上記(a)の方法によって光学素子等の品
質が画像に及ぼす影響を正確に把握するには、走査面対
応で1〜2mm程度のピッチで測定する必要がある。し
かしながら、静的にこのような細かいピッチで測定する
ことは非常に時間を要する上に、被検体が平面でない場
合は各測定位置に対応して被検体の保持状態を変化させ
なければならず、測定自体が非常に難しくなってしま
う。また、上記(b)の方法によれば、出力される画像
がどのようになるかを正確に把握することができるとい
う長所があるものの、実際の光学機械またはこれに近い
装置に組み込まなければ被検体の良否を判定することが
できないという難点がある。
質が画像に及ぼす影響を正確に把握するには、走査面対
応で1〜2mm程度のピッチで測定する必要がある。し
かしながら、静的にこのような細かいピッチで測定する
ことは非常に時間を要する上に、被検体が平面でない場
合は各測定位置に対応して被検体の保持状態を変化させ
なければならず、測定自体が非常に難しくなってしま
う。また、上記(b)の方法によれば、出力される画像
がどのようになるかを正確に把握することができるとい
う長所があるものの、実際の光学機械またはこれに近い
装置に組み込まなければ被検体の良否を判定することが
できないという難点がある。
【0004】このような測定方法に代わって、近年、レ
ーザーのような電磁波ビーム走査による測定方法が提案
されている。これは、レーザーのような電磁波ビームを
被検体に照射しかつ被検体上を走査し、被検体によって
反射されまたは被検体を透過した電磁波ビームを検出す
ることによって、被検体の異常を検出するものである。
このような電磁波ビーム走査による測定方法によれば、
上記(a)(b)の測定方法に見られるような問題点は
なく、優れた測定方法といえる。そこで次に、電磁波ビ
ーム走査による測定方法の各種従来例について説明して
おく。
ーザーのような電磁波ビーム走査による測定方法が提案
されている。これは、レーザーのような電磁波ビームを
被検体に照射しかつ被検体上を走査し、被検体によって
反射されまたは被検体を透過した電磁波ビームを検出す
ることによって、被検体の異常を検出するものである。
このような電磁波ビーム走査による測定方法によれば、
上記(a)(b)の測定方法に見られるような問題点は
なく、優れた測定方法といえる。そこで次に、電磁波ビ
ーム走査による測定方法の各種従来例について説明して
おく。
【0005】特開平2−201142号公報記載の「感
光層表面の異常検出方法」は、感光層に対して高吸光度
であるレーザー光を照射し、この感光層表面にて反射さ
れたレーザー光の光学的情報に基づき、上記感光層表面
の異常を検出するものである。より具体的には、上記感
光層表面にて反射されたレーザー光を光電子像倍管で受
光し、この光電子像倍管の出力電圧が所定値よりも低下
した場合、上記感光層表面に異常が存在するものと判断
することを特徴とするものである。
光層表面の異常検出方法」は、感光層に対して高吸光度
であるレーザー光を照射し、この感光層表面にて反射さ
れたレーザー光の光学的情報に基づき、上記感光層表面
の異常を検出するものである。より具体的には、上記感
光層表面にて反射されたレーザー光を光電子像倍管で受
光し、この光電子像倍管の出力電圧が所定値よりも低下
した場合、上記感光層表面に異常が存在するものと判断
することを特徴とするものである。
【0006】特開平2−201143号公報記載の「コ
ーティング物表面の異常検出装置」は、上記特開平2−
201142号公報記載の発明の改良発明とでもいうべ
きもので、被検体としてのコーティング物の表面にレー
ザー光を照射し、その表面の異常を検出する装置であっ
て、レーザー光源とレーザー光を所定方向に順次走査す
る走査手段と、走査されたレーザー光をコーティング物
の表面へ常に所定の角度で入射するようにする光路変更
手段と、反射されたレーザー光の光学的情報の検出手段
を具備してなるものである。
ーティング物表面の異常検出装置」は、上記特開平2−
201142号公報記載の発明の改良発明とでもいうべ
きもので、被検体としてのコーティング物の表面にレー
ザー光を照射し、その表面の異常を検出する装置であっ
て、レーザー光源とレーザー光を所定方向に順次走査す
る走査手段と、走査されたレーザー光をコーティング物
の表面へ常に所定の角度で入射するようにする光路変更
手段と、反射されたレーザー光の光学的情報の検出手段
を具備してなるものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記特開平2−201
142号公報記載のものは、レーザー光を光偏向器で偏
向し、偏向されたレーザー光をそのまま被検体表面に照
射すると共に被検体表面上を走査し、その反射光を検出
することによって被検体の異常を検出するものであるた
め、被検体の場所によってレーザー光の入射条件すなわ
ち入射角度が異なることになり、測定結果によって判明
した欠陥が被検体自体の欠陥によるものかまたは配置に
よるものかすなわち被検体へのレーザー光の入射条件に
よるものかの判断が難しいという難点がある。
142号公報記載のものは、レーザー光を光偏向器で偏
向し、偏向されたレーザー光をそのまま被検体表面に照
射すると共に被検体表面上を走査し、その反射光を検出
することによって被検体の異常を検出するものであるた
め、被検体の場所によってレーザー光の入射条件すなわ
ち入射角度が異なることになり、測定結果によって判明
した欠陥が被検体自体の欠陥によるものかまたは配置に
よるものかすなわち被検体へのレーザー光の入射条件に
よるものかの判断が難しいという難点がある。
【0008】その点、特開平2−201143号公報記
載のものによれば、走査されたレーザー光を被検体の表
面へ常に所定の角度で入射するようにする光路変更手段
を有しているため、被検体の場所によってレーザー光の
入射条件が異なることはなく、測定結果によって判明し
た欠陥が被検体自体の欠陥によるものかまたは被検体へ
のレーザー光の入射条件によるものかを判断することは
可能になる。しかし、被検体が平面や円筒面ではなく、
球面や非球面、トロイダル面などになると、やはり測定
結果によって判明した欠陥が被検体自体の欠陥によるも
のかまたは被検体へのレーザー光の入射条件によるもの
かを判断することができなくなる。
載のものによれば、走査されたレーザー光を被検体の表
面へ常に所定の角度で入射するようにする光路変更手段
を有しているため、被検体の場所によってレーザー光の
入射条件が異なることはなく、測定結果によって判明し
た欠陥が被検体自体の欠陥によるものかまたは被検体へ
のレーザー光の入射条件によるものかを判断することは
可能になる。しかし、被検体が平面や円筒面ではなく、
球面や非球面、トロイダル面などになると、やはり測定
結果によって判明した欠陥が被検体自体の欠陥によるも
のかまたは被検体へのレーザー光の入射条件によるもの
かを判断することができなくなる。
【0009】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたもので、被検体の品質、すなわち面精
度、表面欠陥、内部欠陥等が、形成される画像にどのよ
うに影響を及ぼすかを、走査光強度の変化として測定す
るようにし、もって、被検体に非接触で、高速かつ高精
度に測定することができる走査光強度の測定方法および
その装置を提供することを目的とする。ここでいう
「面」とは、設計値が明らかでさえあれば、平面、球面
はもとより、非球面、アナモフィック面等の特殊面でも
よいことが大きな特徴である。
鑑みてなされたもので、被検体の品質、すなわち面精
度、表面欠陥、内部欠陥等が、形成される画像にどのよ
うに影響を及ぼすかを、走査光強度の変化として測定す
るようにし、もって、被検体に非接触で、高速かつ高精
度に測定することができる走査光強度の測定方法および
その装置を提供することを目的とする。ここでいう
「面」とは、設計値が明らかでさえあれば、平面、球面
はもとより、非球面、アナモフィック面等の特殊面でも
よいことが大きな特徴である。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1記載の測定方法は、反射もしくは透過性
の高精度面を有する被検体を、電磁波ビームで走査し、
反射もしくは透過ビームによる走査光強度を必要な走査
面の走査位置で測定し、被検体を含む測定系における走
査光強度の、シミュレーション値に対する差をとること
により、被検体の品質を測定するようにし、かつ、被検
体を含まない測定系の特性値を上記の測定方法によって
予め測定しておき、測定系の加工および設置誤差の影響
を除去しておくようにした。
めに、請求項1記載の測定方法は、反射もしくは透過性
の高精度面を有する被検体を、電磁波ビームで走査し、
反射もしくは透過ビームによる走査光強度を必要な走査
面の走査位置で測定し、被検体を含む測定系における走
査光強度の、シミュレーション値に対する差をとること
により、被検体の品質を測定するようにし、かつ、被検
体を含まない測定系の特性値を上記の測定方法によって
予め測定しておき、測定系の加工および設置誤差の影響
を除去しておくようにした。
【0011】請求項2記載の測定方法は、反射もしくは
透過性の高精度面を有する被検体を、実使用と略等しい
状態で、電磁波ビームで走査し、被検体からの反射もし
くは透過ビームによる走査光強度を必要な走査面の走査
位置で測定し、光学素子を含む測定系の各走査位置にお
ける走査光強度の、シミュレーション値に対する差をと
ることにより、被検体の品質を測定するようにした。
透過性の高精度面を有する被検体を、実使用と略等しい
状態で、電磁波ビームで走査し、被検体からの反射もし
くは透過ビームによる走査光強度を必要な走査面の走査
位置で測定し、光学素子を含む測定系の各走査位置にお
ける走査光強度の、シミュレーション値に対する差をと
ることにより、被検体の品質を測定するようにした。
【0012】請求項3記載の測定方法は、反射もしくは
透過性の高精度面を有する被検体を、実使用と略等しい
状態で、電磁波ビームで走査し、被検体からの反射もし
くは透過ビームによる走査光強度を必要な走査面の走査
位置で測定し、光学素子を含む測定系の各走査位置にお
ける走査光強度の、シミュレーション値に対する差をと
ることにより、被検体の品質上の欠陥によって起こるデ
ジタル画像の異常を、画像を出力することなく測定する
ようにした。
透過性の高精度面を有する被検体を、実使用と略等しい
状態で、電磁波ビームで走査し、被検体からの反射もし
くは透過ビームによる走査光強度を必要な走査面の走査
位置で測定し、光学素子を含む測定系の各走査位置にお
ける走査光強度の、シミュレーション値に対する差をと
ることにより、被検体の品質上の欠陥によって起こるデ
ジタル画像の異常を、画像を出力することなく測定する
ようにした。
【0013】請求項4記載の測定方法は、被検体を含ま
ない測定系の特性値を、請求項2または3記載の測定方
法によって予め測定しておき、測定系の加工および設置
誤差の影響を除去するようにした。
ない測定系の特性値を、請求項2または3記載の測定方
法によって予め測定しておき、測定系の加工および設置
誤差の影響を除去するようにした。
【0014】請求項5記載の測定装置は、反射もしくは
透過性の高精度面を有する被検体を電磁波ビームで走査
する走査手段と、反射もしくは透過ビームによる走査光
強度を走査位置で測定する測定手段と、被検体を含む測
定系における走査光強度の、シミュレーション値に対す
る差をとることにより、被検体の品質を算出する計算手
段とを有し、計算手段は、あらかじめ求めておいた被検
体を含まない測定系の特性に応じて測定系の加工および
設置誤差の影響を除去するものであることを特徴とす
る。
透過性の高精度面を有する被検体を電磁波ビームで走査
する走査手段と、反射もしくは透過ビームによる走査光
強度を走査位置で測定する測定手段と、被検体を含む測
定系における走査光強度の、シミュレーション値に対す
る差をとることにより、被検体の品質を算出する計算手
段とを有し、計算手段は、あらかじめ求めておいた被検
体を含まない測定系の特性に応じて測定系の加工および
設置誤差の影響を除去するものであることを特徴とす
る。
【0015】請求項6記載の測定装置は、反射もしくは
透過性の高精度面を有する被検体を、実使用と略等しい
状態で、電磁波ビームで走査する走査手段と、被検体か
らの反射もしくは透過ビームによる走査光強度を走査位
置で測定する測定手段と、被検体を含む測定系の各走査
位置における走査光強度の、シミュレーション値に対す
る差をとることにより、被検体の品質を算出する計算手
段とを有してなる。
透過性の高精度面を有する被検体を、実使用と略等しい
状態で、電磁波ビームで走査する走査手段と、被検体か
らの反射もしくは透過ビームによる走査光強度を走査位
置で測定する測定手段と、被検体を含む測定系の各走査
位置における走査光強度の、シミュレーション値に対す
る差をとることにより、被検体の品質を算出する計算手
段とを有してなる。
【0016】請求項7記載の測定装置は、反射もしくは
透過性の高精度面を有する被検体を、実使用と略等しい
状態で、電磁波ビームで走査する走査手段と、被検体か
らの反射もしくは透過ビームによる走査光強度を走査位
置で測定する測定手段と、被検体を含む測定系の各走査
位置における走査光強度の、シミュレーション値に対す
る差をとることにより、被検体の品質上の欠陥によって
起こるデジタル画像の異常を、画像を出力することなく
算出する計算手段とを有してなる。
透過性の高精度面を有する被検体を、実使用と略等しい
状態で、電磁波ビームで走査する走査手段と、被検体か
らの反射もしくは透過ビームによる走査光強度を走査位
置で測定する測定手段と、被検体を含む測定系の各走査
位置における走査光強度の、シミュレーション値に対す
る差をとることにより、被検体の品質上の欠陥によって
起こるデジタル画像の異常を、画像を出力することなく
算出する計算手段とを有してなる。
【0017】請求項8記載の測定装置は、請求項6又は
7記載の走査光強度の測定装置において、計算手段は、
あらかじめ求めておいた被検体を含まない測定系の特性
に応じて測定系の加工および設置誤差の影響を除去する
ものであることを特徴とする。
7記載の走査光強度の測定装置において、計算手段は、
あらかじめ求めておいた被検体を含まない測定系の特性
に応じて測定系の加工および設置誤差の影響を除去する
ものであることを特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
にかかる走査光強度の測定方法およびその装置の実施の
形態について説明する。本発明にかかる走査光強度の測
定方法および測定装置の実施の形態は、レーザー等の電
磁波ビームを発生させる手段と、この電磁波ビームを光
学素子等の高精度面を有する被検体上で走査させるため
のビーム偏向手段を含む走査手段と、被検体面で反射さ
れるか又は被検体を透過した電磁波ビームによる走査光
強度を必要な走査面の走査位置で測定するための走査光
強度測定手段と、この走査光強度測定手段による測定結
果を、無欠陥の被検体とした場合のシミュレーション値
と比較し、これらの差を導出して被検体の品質による形
成画像に与える影響を推定するための計算手段および表
示手段とを有してなる。
にかかる走査光強度の測定方法およびその装置の実施の
形態について説明する。本発明にかかる走査光強度の測
定方法および測定装置の実施の形態は、レーザー等の電
磁波ビームを発生させる手段と、この電磁波ビームを光
学素子等の高精度面を有する被検体上で走査させるため
のビーム偏向手段を含む走査手段と、被検体面で反射さ
れるか又は被検体を透過した電磁波ビームによる走査光
強度を必要な走査面の走査位置で測定するための走査光
強度測定手段と、この走査光強度測定手段による測定結
果を、無欠陥の被検体とした場合のシミュレーション値
と比較し、これらの差を導出して被検体の品質による形
成画像に与える影響を推定するための計算手段および表
示手段とを有してなる。
【0019】上記電磁波ビームの発生手段としては、例
えば可視光や赤外光のレーザーや電子ビーム、X線など
の放射装置の何れかを用いることができる。ビーム偏向
手段としては、ポリゴンミラーやガルバノミラーなどを
用いることができる。走査光強度測定手段としては、ス
リット又はナイフエッジ、フォトダイオード等の組み合
せやCCD(チャージ・カップルド・デバイス)などが
考えられる。
えば可視光や赤外光のレーザーや電子ビーム、X線など
の放射装置の何れかを用いることができる。ビーム偏向
手段としては、ポリゴンミラーやガルバノミラーなどを
用いることができる。走査光強度測定手段としては、ス
リット又はナイフエッジ、フォトダイオード等の組み合
せやCCD(チャージ・カップルド・デバイス)などが
考えられる。
【0020】また、ここに示す測定方法では、被検体の
被測定面を含む全測定系の設計値が既知であることを前
提としており、それ故、以下に示す各種実施の形態のよ
うに、基本的にはfθ光学系を用いることなく測定する
ことが可能である。従って、被検体はレーザー書込光学
系等、走査光学系用のものばかりでなく、複写機用、カ
メラ用等の光学素子についても測定することができる。
以下、各種実施の形態について具体的に説明する。
被測定面を含む全測定系の設計値が既知であることを前
提としており、それ故、以下に示す各種実施の形態のよ
うに、基本的にはfθ光学系を用いることなく測定する
ことが可能である。従って、被検体はレーザー書込光学
系等、走査光学系用のものばかりでなく、複写機用、カ
メラ用等の光学素子についても測定することができる。
以下、各種実施の形態について具体的に説明する。
【0021】図1に示す実施の形態は、被検体が、平面
で反射するもの、例えば光学素子としての平面鏡である
場合の例である。図1において、電磁波ビーム発生手段
によって発生されたレーザー等の電磁波ビーム1は、光
走査手段を構成するビーム偏向手段2で所定の角度範囲
で偏向される。ビーム偏向手段2による偏向光の進路上
には被検体として高精度の反射面を有する平面鏡3が設
置されており、平面鏡3による反射光路上に光の走査面
4がある。この走査面4に沿って測定手段5が移動しな
がら平面鏡3からの反射光を受光する。測定手段5は、
CCDその他の走査光強度検知型の受光素子などからな
り、各走査位置における走査光強度信号を出力する。な
お、測定手段としてCCD等からなるラインセンサを用
いる場合は、このラインセンサを走査面4に沿って固定
し、ビーム偏向手段2によって偏向され走査面4上を走
査される電磁波ビームを上記ラインセンサの各画素で受
光し、各走査位置における各画素の走査光強度を出力す
るようにしてもよい。
で反射するもの、例えば光学素子としての平面鏡である
場合の例である。図1において、電磁波ビーム発生手段
によって発生されたレーザー等の電磁波ビーム1は、光
走査手段を構成するビーム偏向手段2で所定の角度範囲
で偏向される。ビーム偏向手段2による偏向光の進路上
には被検体として高精度の反射面を有する平面鏡3が設
置されており、平面鏡3による反射光路上に光の走査面
4がある。この走査面4に沿って測定手段5が移動しな
がら平面鏡3からの反射光を受光する。測定手段5は、
CCDその他の走査光強度検知型の受光素子などからな
り、各走査位置における走査光強度信号を出力する。な
お、測定手段としてCCD等からなるラインセンサを用
いる場合は、このラインセンサを走査面4に沿って固定
し、ビーム偏向手段2によって偏向され走査面4上を走
査される電磁波ビームを上記ラインセンサの各画素で受
光し、各走査位置における各画素の走査光強度を出力す
るようにしてもよい。
【0022】測定手段5は、平面鏡3から反射されたビ
ームを特定の走査位置ごとに検知することにより、それ
ぞれの特定位置での走査光強度を測定し、測定結果を適
宜の表示手段に表示する。上記ビーム偏向手段2、走査
面4、測定手段5を有してなる測定装置は、あらかじ
め、被検体としての平面鏡に欠陥がない場合の各走査位
置における走査光強度をシミュレーション値として用意
しており、このシミュレーション値と上記被検体として
の平面鏡3との測定値との差を図示されない計算手段に
より計算し、計算結果を適宜の表示手段に表示する。こ
れにより、上記被検体としての平面鏡3の品質、例えば
面精度や、傷、汚れ、異物付着等による表面欠陥、又は
歪み、異物混入等による内部欠陥等が画像に与える影響
を測定することができる。上記シミュレーション値は、
計算によって求めてもよいし、上記のように、測定系に
被検体としての平面鏡3に代わる欠陥のない標準の平面
鏡を設置し、特定の走査位置ごとに走査光強度を測定し
て、この測定結果をシミュレーション値の代用として用
いてもよい。
ームを特定の走査位置ごとに検知することにより、それ
ぞれの特定位置での走査光強度を測定し、測定結果を適
宜の表示手段に表示する。上記ビーム偏向手段2、走査
面4、測定手段5を有してなる測定装置は、あらかじ
め、被検体としての平面鏡に欠陥がない場合の各走査位
置における走査光強度をシミュレーション値として用意
しており、このシミュレーション値と上記被検体として
の平面鏡3との測定値との差を図示されない計算手段に
より計算し、計算結果を適宜の表示手段に表示する。こ
れにより、上記被検体としての平面鏡3の品質、例えば
面精度や、傷、汚れ、異物付着等による表面欠陥、又は
歪み、異物混入等による内部欠陥等が画像に与える影響
を測定することができる。上記シミュレーション値は、
計算によって求めてもよいし、上記のように、測定系に
被検体としての平面鏡3に代わる欠陥のない標準の平面
鏡を設置し、特定の走査位置ごとに走査光強度を測定し
て、この測定結果をシミュレーション値の代用として用
いてもよい。
【0023】以上説明した実施の形態によれば、面形状
の設計値が既知である被検体3の表面を測定あるいは検
査したいという場合に、レーザー等の電磁波ビーム1で
被検体3を走査し、その反射ビームの走査光強度を測定
手段5で測定し、被検体3を含む測定系におけるビーム
の走査光強度の、シミュレーション値に対する差をとる
ことによって、被検体3の特性の測定あるいは被検体3
の良否等の検査を行うことができるようにしたため、測
定、検査のための全系の走査等速性や走査線曲りがそれ
ほど高い精度に補正されていなくても、被検体の設計値
からの面精度誤差、表面欠陥、内部欠陥等を、高精度か
つ迅速に測定することができる利点がある。
の設計値が既知である被検体3の表面を測定あるいは検
査したいという場合に、レーザー等の電磁波ビーム1で
被検体3を走査し、その反射ビームの走査光強度を測定
手段5で測定し、被検体3を含む測定系におけるビーム
の走査光強度の、シミュレーション値に対する差をとる
ことによって、被検体3の特性の測定あるいは被検体3
の良否等の検査を行うことができるようにしたため、測
定、検査のための全系の走査等速性や走査線曲りがそれ
ほど高い精度に補正されていなくても、被検体の設計値
からの面精度誤差、表面欠陥、内部欠陥等を、高精度か
つ迅速に測定することができる利点がある。
【0024】また、後で詳細に説明する図7に示すよう
な走査光学系の場合は、実際に使用される走査光学系を
そのまま測定光学系として使用することができる。すな
わち、走査光学系の大部分を測定系として使用し、残り
の一部(図7の例ではトロイダルレンズ12c)が被検
体となり、この被検体を次々と入れ替えながら測定、検
査を行うのである。この場合、測定系となる部分の光学
素子は一応高精度が要求されるが、この部分だけのシミ
ュレーション値と測定値とがあれば、それらの差から補
正値を求め、被検素子の測定、検査の値を補正すること
もできるため、ある程度の精度があればよいということ
もできる。
な走査光学系の場合は、実際に使用される走査光学系を
そのまま測定光学系として使用することができる。すな
わち、走査光学系の大部分を測定系として使用し、残り
の一部(図7の例ではトロイダルレンズ12c)が被検
体となり、この被検体を次々と入れ替えながら測定、検
査を行うのである。この場合、測定系となる部分の光学
素子は一応高精度が要求されるが、この部分だけのシミ
ュレーション値と測定値とがあれば、それらの差から補
正値を求め、被検素子の測定、検査の値を補正すること
もできるため、ある程度の精度があればよいということ
もできる。
【0025】なお、従来もレーザー等の電磁波ビームで
被検体を走査し、反射もしくは透過ビームを測定して、
面形状などを測定する方法が提案されているが、本発明
の上記実施の形態のように被検体に欠陥がない場合のシ
ミュレーション値との差をとるものではないため、高精
度かつ迅速に測定や検査をすることは難しい。本発明の
上記実施の形態によれば、走査光強度を測定し、これと
シミュレーション値との差をとることによって、被検体
の品質による影響を測定するため、通常の測定方法に比
して高精度かつ迅速に測定や検査を行うことができると
いう特徴がある。
被検体を走査し、反射もしくは透過ビームを測定して、
面形状などを測定する方法が提案されているが、本発明
の上記実施の形態のように被検体に欠陥がない場合のシ
ミュレーション値との差をとるものではないため、高精
度かつ迅速に測定や検査をすることは難しい。本発明の
上記実施の形態によれば、走査光強度を測定し、これと
シミュレーション値との差をとることによって、被検体
の品質による影響を測定するため、通常の測定方法に比
して高精度かつ迅速に測定や検査を行うことができると
いう特徴がある。
【0026】次に、図2に示す第2の実施の形態につい
て説明する。この実施の形態が上記第1の実施の形態と
異なる点は、被検体6が光透過性の高精度面を有するも
の、例えば平行平板ガラスであり、ビーム偏向手段2に
よる偏向光を上記被検体6に透過させ、この透過ビーム
を必要な走査面4の走査位置で測定手段5により検知
し、この透過ビームによる走査光強度を走査位置で測定
するようにした点である。この実施の形態においても、
欠陥のない被検体の場合のシミュレーション値と上記被
検体6との実測値との差を測定手段により求める。従っ
て、測定、検査のための全系の走査等速性や走査線曲り
がそれほど高い精度に補正されていなくても、高精度か
つ迅速に測定することができる。
て説明する。この実施の形態が上記第1の実施の形態と
異なる点は、被検体6が光透過性の高精度面を有するも
の、例えば平行平板ガラスであり、ビーム偏向手段2に
よる偏向光を上記被検体6に透過させ、この透過ビーム
を必要な走査面4の走査位置で測定手段5により検知
し、この透過ビームによる走査光強度を走査位置で測定
するようにした点である。この実施の形態においても、
欠陥のない被検体の場合のシミュレーション値と上記被
検体6との実測値との差を測定手段により求める。従っ
て、測定、検査のための全系の走査等速性や走査線曲り
がそれほど高い精度に補正されていなくても、高精度か
つ迅速に測定することができる。
【0027】図3に示す第3の実施の形態は、被検体が
楔形プリズム7でその透過特性を測定する場合である。
この場合の測定系の構成および測定方法は図2に示す例
と同じである。この実施の形態の場合も、上記第2の実
施の形態と同様に、欠陥のない被検体の場合のシミュレ
ーション値と上記被検体7との実測値との差を測定手段
により求めるものであるため、測定検査のための全系の
走査等速性や走査線曲りがそれほど高い精度に補正され
ていなくても、走査位置での走査光強度を高精度かつ迅
速に測定することができる。
楔形プリズム7でその透過特性を測定する場合である。
この場合の測定系の構成および測定方法は図2に示す例
と同じである。この実施の形態の場合も、上記第2の実
施の形態と同様に、欠陥のない被検体の場合のシミュレ
ーション値と上記被検体7との実測値との差を測定手段
により求めるものであるため、測定検査のための全系の
走査等速性や走査線曲りがそれほど高い精度に補正され
ていなくても、走査位置での走査光強度を高精度かつ迅
速に測定することができる。
【0028】図4に示す第4の実施の形態は、被検体が
球面の反射面を持つ凹面鏡8でその反射特性を測定する
場合である。この場合の測定系の構成および測定方法は
図1に示す例と同じである。この実施の形態の場合も、
前記第1の実施の形態と同様に、欠陥のない被検体の場
合のシミュレーション値と、上記被検体としての凹面鏡
8からの反射ビームによる走査光強度の実測値との差を
測定手段により求めることにより、測定検査のための全
系の走査等速性や走査線曲りがそれほど高い精度に補正
されていなくても、走査位置での走査光強度を高精度か
つ迅速に測定することができる。
球面の反射面を持つ凹面鏡8でその反射特性を測定する
場合である。この場合の測定系の構成および測定方法は
図1に示す例と同じである。この実施の形態の場合も、
前記第1の実施の形態と同様に、欠陥のない被検体の場
合のシミュレーション値と、上記被検体としての凹面鏡
8からの反射ビームによる走査光強度の実測値との差を
測定手段により求めることにより、測定検査のための全
系の走査等速性や走査線曲りがそれほど高い精度に補正
されていなくても、走査位置での走査光強度を高精度か
つ迅速に測定することができる。
【0029】なお、図1や図4に示す実施の形態は、共
軸非球面からなる反射面の測定、アナモフィック面から
なる反射面の測定にも適用することができる。
軸非球面からなる反射面の測定、アナモフィック面から
なる反射面の測定にも適用することができる。
【0030】図5に示す第5の実施の形態は、被検体が
球面単レンズ9でその透過特性を測定する場合である。
この場合の測定系の構成および測定方法は図2、図3に
示す例と同じであり、図2、図3に示す例と同じ効果を
奏する。なお、図2、図3、図5に示す実施の形態は、
共軸非球面単レンズの透過特性の測定、アナモフィック
単レンズの透過特性の測定にも適用することができる。
球面単レンズ9でその透過特性を測定する場合である。
この場合の測定系の構成および測定方法は図2、図3に
示す例と同じであり、図2、図3に示す例と同じ効果を
奏する。なお、図2、図3、図5に示す実施の形態は、
共軸非球面単レンズの透過特性の測定、アナモフィック
単レンズの透過特性の測定にも適用することができる。
【0031】これまで説明してきた各実施の形態は、偏
向されたビームの被検体および走査面上での走査速度が
偏向角度によって異なる構成になっていた。このような
構成でも、シミュレーション値と被検体の実測値との差
を求めることにより、被検体の走査位置での走査光強度
を測定するものであるから、高精度かつ迅速に測定する
ことができる。しかし、被検体が図1〜図3に示すよう
に平面での反射面、あるいは平面的な透過面である場合
には、被検体に対して電磁波ビームが常に同じ条件で入
射した方が測定精度が高まるはずである。そこで、図6
に示す第6の実施の形態のように、被検体3が図1の場
合と同様に平面ミラーである場合に、ビーム偏向手段2
と被検体3との間にfθレンズ10を配置し、ビーム偏
向手段2によるビームの偏向角度にかかわらず、被検体
3および走査面4上での走査速度が常に一定になるよう
にし、実使用と略等しい状態で被検体3を電磁波ビーム
で走査し、被検体3による反射ビームを必要な走査面4
の走査位置で測定し、測定系の各走査位置における走査
光強度を測定するとよい。
向されたビームの被検体および走査面上での走査速度が
偏向角度によって異なる構成になっていた。このような
構成でも、シミュレーション値と被検体の実測値との差
を求めることにより、被検体の走査位置での走査光強度
を測定するものであるから、高精度かつ迅速に測定する
ことができる。しかし、被検体が図1〜図3に示すよう
に平面での反射面、あるいは平面的な透過面である場合
には、被検体に対して電磁波ビームが常に同じ条件で入
射した方が測定精度が高まるはずである。そこで、図6
に示す第6の実施の形態のように、被検体3が図1の場
合と同様に平面ミラーである場合に、ビーム偏向手段2
と被検体3との間にfθレンズ10を配置し、ビーム偏
向手段2によるビームの偏向角度にかかわらず、被検体
3および走査面4上での走査速度が常に一定になるよう
にし、実使用と略等しい状態で被検体3を電磁波ビーム
で走査し、被検体3による反射ビームを必要な走査面4
の走査位置で測定し、測定系の各走査位置における走査
光強度を測定するとよい。
【0032】このように、図6に示す例によれば、偏向
されたビームがfθレンズ10を通ることにより、被検
体3および走査面4上での走査速度が常に一定になるた
め、シミュレーション値と被検体の実測値との差をより
高精度に測定することができ、被検体3の各走査位置に
おける走査光強度をより高精度に測定することができ
る。なお、fθレンズを用いた測定系は、反射体ばかり
でなく透過体の測定にも適用することができるし、平面
のみでなく、鏡面、非球面、アナモフィック面等の測定
にも適用することができる。
されたビームがfθレンズ10を通ることにより、被検
体3および走査面4上での走査速度が常に一定になるた
め、シミュレーション値と被検体の実測値との差をより
高精度に測定することができ、被検体3の各走査位置に
おける走査光強度をより高精度に測定することができ
る。なお、fθレンズを用いた測定系は、反射体ばかり
でなく透過体の測定にも適用することができるし、平面
のみでなく、鏡面、非球面、アナモフィック面等の測定
にも適用することができる。
【0033】本発明にかかる走査光強度の測定方法およ
びその装置は、実際に使われる光走査光学系をそのまま
測定系として使うことができる。つまり走査光学系の大
部分を測定系として使い、残りの一部の光学素子を被検
体とし、この被検体を次々に入れ替えることにより、測
定、検査を行うのである。この場合、測定系となる部分
の光学素子は一応高精度が要求されるが、この部分だけ
のシュミレーション値と測定値があれば、それらの差か
ら補正値を求めておき、被検体の実測値を上記補正値で
補正することもできるため、測定系を構成する光学素子
はある程度の精度があればよいということもできる。
びその装置は、実際に使われる光走査光学系をそのまま
測定系として使うことができる。つまり走査光学系の大
部分を測定系として使い、残りの一部の光学素子を被検
体とし、この被検体を次々に入れ替えることにより、測
定、検査を行うのである。この場合、測定系となる部分
の光学素子は一応高精度が要求されるが、この部分だけ
のシュミレーション値と測定値があれば、それらの差か
ら補正値を求めておき、被検体の実測値を上記補正値で
補正することもできるため、測定系を構成する光学素子
はある程度の精度があればよいということもできる。
【0034】本発明にかかる走査光強度の測定方法およ
びその装置は、被検体が光学素子等の合成系である場合
にも適用可能である。図7に示す第7の実施の形態は、
被検体12が、平凸レンズ12aとメニスカス凸レンズ
12bとアナモフィックレンズ12cとで構成されてい
る場合の例である。測定系の構成および測定方法は、図
2、図3、図5に示す例と実質的に同じであり、上記各
レンズ12a,12b,12cが合成された被検体12
を透過した電磁波ビームにより、各走査位置における走
査光強度を測定することができる。
びその装置は、被検体が光学素子等の合成系である場合
にも適用可能である。図7に示す第7の実施の形態は、
被検体12が、平凸レンズ12aとメニスカス凸レンズ
12bとアナモフィックレンズ12cとで構成されてい
る場合の例である。測定系の構成および測定方法は、図
2、図3、図5に示す例と実質的に同じであり、上記各
レンズ12a,12b,12cが合成された被検体12
を透過した電磁波ビームにより、各走査位置における走
査光強度を測定することができる。
【0035】図8は、以上説明した各測定方法に従った
測定結果の例を示すもので、横軸に偏向角(度)を、縦
軸に走査光強度の比をとってある。線aは実測値(生デ
ータ)を示すもので、比較のために、被検体になんらの
欠陥がないとした場合のシュミレーション値を示す線b
と共に示してある。シュミレーション値と実測値とを比
較すれば被検体の各走査位置における走査光強度を測定
することができる。
測定結果の例を示すもので、横軸に偏向角(度)を、縦
軸に走査光強度の比をとってある。線aは実測値(生デ
ータ)を示すもので、比較のために、被検体になんらの
欠陥がないとした場合のシュミレーション値を示す線b
と共に示してある。シュミレーション値と実測値とを比
較すれば被検体の各走査位置における走査光強度を測定
することができる。
【0036】上記実測値とシュミレーション値との差を
より明確にするために、図9に示すように、実測値のシ
ュミレーション値に対する差をとって示すとなおよい。
図9によれば、各資料の実測値のシュミレーション値に
対する違いが顕著になっている。ちなみに、図9におい
てAで示す部分は被検体の傷や異物付着の部分で、走査
光強度比が急激にかつ大きく低下している。図9におい
てBで示す部分は被検体の面が荒れている部分で、走査
光強度比の落ち込みは小さいが小刻みに変化している。
図9においてCで示す部分は被検体が曇っている部分
で、走査光強度比が比較的緩やかにかつ広範囲にわたっ
て落ち込んでいる。
より明確にするために、図9に示すように、実測値のシ
ュミレーション値に対する差をとって示すとなおよい。
図9によれば、各資料の実測値のシュミレーション値に
対する違いが顕著になっている。ちなみに、図9におい
てAで示す部分は被検体の傷や異物付着の部分で、走査
光強度比が急激にかつ大きく低下している。図9におい
てBで示す部分は被検体の面が荒れている部分で、走査
光強度比の落ち込みは小さいが小刻みに変化している。
図9においてCで示す部分は被検体が曇っている部分
で、走査光強度比が比較的緩やかにかつ広範囲にわたっ
て落ち込んでいる。
【0037】本発明にかかる走査光強度の測定方法およ
びその装置は、デジタル式画像形成装置等に適用するこ
とにより、被検体の品質上の欠陥によって起こるデジタ
ル画像の濃度ムラ等の異常を、画像を出力することなく
測定することができる。すなわち、被検体の各走査位置
における走査光強度を実測値とし、上記実測値とシミュ
レーション値との差をとることによって、被検体の品質
による影響を、画像を出力することなく測定することが
できる。
びその装置は、デジタル式画像形成装置等に適用するこ
とにより、被検体の品質上の欠陥によって起こるデジタ
ル画像の濃度ムラ等の異常を、画像を出力することなく
測定することができる。すなわち、被検体の各走査位置
における走査光強度を実測値とし、上記実測値とシミュ
レーション値との差をとることによって、被検体の品質
による影響を、画像を出力することなく測定することが
できる。
【0038】本発明にかかる走査光強度の測定方法およ
びその装置は、被検体の設計値が明らかであれば、被検
体が平面や球面であっても、さらには非球面、アナモフ
ィック面等の特殊な面であっても測定することができ、
測定可能な被検体の種類が広がる利点がある。また、本
発明にかかる測定方法および装置によれば、被測定面を
含む全測定系の設計値が既知であることを前提としてい
るため、基本的にはfθ系を用いない測定系によって測
定することも可能である。従って、被検体としての光学
素子または光学部品は、レーザー書込光学系等の走査光
学系用のものばかりでなく、複写機用、カメラ用、その
他各種光学機器であってもよい。
びその装置は、被検体の設計値が明らかであれば、被検
体が平面や球面であっても、さらには非球面、アナモフ
ィック面等の特殊な面であっても測定することができ、
測定可能な被検体の種類が広がる利点がある。また、本
発明にかかる測定方法および装置によれば、被測定面を
含む全測定系の設計値が既知であることを前提としてい
るため、基本的にはfθ系を用いない測定系によって測
定することも可能である。従って、被検体としての光学
素子または光学部品は、レーザー書込光学系等の走査光
学系用のものばかりでなく、複写機用、カメラ用、その
他各種光学機器であってもよい。
【0039】
【発明の効果】請求項1および請求項5記載の発明によ
れば、反射もしくは透過性の高精度面を有しその面の設
計値が既知である被検体をレーザー等の電磁波ビームで
走査し、反射もしくは透過ビームの各走査位置での走査
光強度を走査面に沿って移動しながら測定し、この走査
光強度の、シミュレーション値に対する差をとることに
より、被検体の面精度や内部欠陥等を含む品質を測定す
るようにしたため、走査光強度変化が画像に与える影響
を、非接触で、迅速に測定することができる。また、実
測値をシミュレーション値と比較して測定するため、被
検体を含む測定系の設計値としての走査光強度変化を測
定値から分離することができ、被検体自体の欠陥等によ
る走査光強度変化を正確に測定することができる。
れば、反射もしくは透過性の高精度面を有しその面の設
計値が既知である被検体をレーザー等の電磁波ビームで
走査し、反射もしくは透過ビームの各走査位置での走査
光強度を走査面に沿って移動しながら測定し、この走査
光強度の、シミュレーション値に対する差をとることに
より、被検体の面精度や内部欠陥等を含む品質を測定す
るようにしたため、走査光強度変化が画像に与える影響
を、非接触で、迅速に測定することができる。また、実
測値をシミュレーション値と比較して測定するため、被
検体を含む測定系の設計値としての走査光強度変化を測
定値から分離することができ、被検体自体の欠陥等によ
る走査光強度変化を正確に測定することができる。
【0040】請求項2および請求項6記載の発明によれ
ば、走査光学系に用いられる光学素子を、実際に使用さ
れる走査光学系の状態で測定するため、光学素子の測定
結果と実際的な全系の性能との対応が明確になり、評価
が正確かつ容易になる利点がある。
ば、走査光学系に用いられる光学素子を、実際に使用さ
れる走査光学系の状態で測定するため、光学素子の測定
結果と実際的な全系の性能との対応が明確になり、評価
が正確かつ容易になる利点がある。
【0041】請求項3および請求項7記載の発明によれ
ば、被検体を電磁波ビームで走査し、被検体を含む測定
系の各走査位置における走査光強度のシミュレーション
値に対する差をとることにより、被検体の品質上の欠陥
によって起こるデジタル画像の異常を測定するようにし
たため、被検体の品質により画像に与える影響を、画像
を出力することなく測定することができる。
ば、被検体を電磁波ビームで走査し、被検体を含む測定
系の各走査位置における走査光強度のシミュレーション
値に対する差をとることにより、被検体の品質上の欠陥
によって起こるデジタル画像の異常を測定するようにし
たため、被検体の品質により画像に与える影響を、画像
を出力することなく測定することができる。
【0042】請求項4および請求項8記載の発明によれ
ば、請求項2または3記載の測定方法もしくは請求項6
または7記載の測定装置によって、被検体を含まない測
定系の特性値を予め測定しておき、測定系の加工および
設置誤差の影響を除去するようにしたため、測定結果に
は被検体の測定結果のみが現れることになり、被検体自
体の欠陥等による走査光強度変化を正確に測定すること
ができる。
ば、請求項2または3記載の測定方法もしくは請求項6
または7記載の測定装置によって、被検体を含まない測
定系の特性値を予め測定しておき、測定系の加工および
設置誤差の影響を除去するようにしたため、測定結果に
は被検体の測定結果のみが現れることになり、被検体自
体の欠陥等による走査光強度変化を正確に測定すること
ができる。
【図1】本発明にかかる走査光強度の測定方法およびそ
の装置の一実施の形態を示す光学配置図である。
の装置の一実施の形態を示す光学配置図である。
【図2】本発明にかかる走査光強度の測定方法およびそ
の装置の別の実施の形態を示す光学配置図である。
の装置の別の実施の形態を示す光学配置図である。
【図3】本発明にかかる走査光強度の測定方法およびそ
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
【図4】本発明にかかる走査光強度の測定方法およびそ
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
【図5】本発明にかかる走査光強度の測定方法およびそ
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
【図6】本発明にかかる走査光強度の測定方法およびそ
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
【図7】本発明にかかる走査光強度の測定方法およびそ
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
の装置のさらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
【図8】本発明にかかる走査光強度の測定方法およびそ
の装置によって測定した被検体の走査光強度とシミュレ
ーション値とを示すグラフである。
の装置によって測定した被検体の走査光強度とシミュレ
ーション値とを示すグラフである。
【図9】同上被検体の走査光強度の実測値のシミュレー
ション値に対する差を示すグラフである。
ション値に対する差を示すグラフである。
1 電磁波ビーム
2 走査手段を構成する偏向手段
3 被検体
4 走査面
5 測定手段
6 被検体
7 被検体
8 被検体
9 被検体
10 被検体
12 被検体
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
G01N 21/84 - 21/958
G01M 11/00 - 11/08
B41J 3/00
G02B 26/10
Claims (8)
- 【請求項1】 反射もしくは透過性の高精度面を有する
光学素子等の被検体を、レーザー等の電磁波ビームで走
査し、上記被検体からの 反射もしくは透過ビームによる走査光
強度を必要な走査面の走査位置で走査面に沿って移動し
ながら測定し、 上記被検体を含む測定系における走査光強度の、シミュ
レーション値に対する差をとることにより、被検体の品
質を測定する走査光強度の測定方法であって、 被検体を含まない測定系の特性値を上記の測定方法によ
って予め測定しておき、測定系の加工および設置誤差の
影響を除去しておく ことを特徴とする走査光強度の測定
方法。 - 【請求項2】 反射もしくは透過性の高精度面を有する
光学素子等の被検体を、実際に使用される走査光学系の
状態でレーザー等の電磁波ビームで走査し、上記被検体からの 反射もしくは透過ビームによる走査光
強度を必要な走査面の走査位置で走査面に沿って移動し
ながら測定し、 上記光学素子を含む測定系の各走査位置における走査光
強度の、シミュレーション値に対する差をとることによ
り、被検体の品質を測定することを特徴とする走査光強
度の測定方法。 - 【請求項3】 反射もしくは透過性の高精度面を有する
光学素子等の被検体を、実際に使用される走査光学系の
状態でレーザー等の電磁波ビームで走査し、上記被検体からの 反射もしくは透過ビームによる走査光
強度を必要な走査面の走査位置で走査面に沿って移動し
ながら測定し、 上記光学素子を含む測定系の各走査位置における走査光
強度の、シミュレーション値に対する差をとることによ
り、被検体の品質上の欠陥によって起こるデジタル画像
の異常を、画像を出力することなく測定することを特徴
とする走査光強度の測定方法。 - 【請求項4】 被検体を含まない測定系の特性値を、請
求項2または3記載の測定方法によって予め測定してお
き、測定系の加工および設置誤差の影響を除去しておく
ことを特徴とする請求項2又は3記載の走査光強度の測
定方法。 - 【請求項5】 反射もしくは透過性の高精度面を有する
光学素子等の被検体を、レーザー等の電磁波ビームで走
査する走査手段と、上記被検体からの 反射もしくは透過ビームによる走査光
強度を走査位置で走査面に沿って移動しながら測定する
測定手段と、 上記被検体を含む測定系における走査光強度の、シミュ
レーション値に対する差をとることにより、被検体の品
質を算出する計算手段と、を有し、 上記計算手段は、あらかじめ求めておいた被検体を含ま
ない測定系の特性に応じて測定系の加工および設置誤差
の影響を除去するものであることを特徴とする 走査光強
度の測定装置。 - 【請求項6】 反射もしくは透過性の高精度面を有する
光学素子等の被検体を、実際に使用される走査光学系の
状態でレーザー等の電磁波ビームで走査する走査手段
と、上記被検体からの 反射もしくは透過ビームによる走査光
強度を走査位置で走査面に沿って移動しながら測定する
測定手段と、 上記被検体を含む測定系の各走査位置における走査光強
度の、シミュレーション値に対する差をとることによ
り、被検体の品質を算出する計算手段と、を有してなる
走査光強度の測定装置。 - 【請求項7】 反射もしくは透過性の高精度面を有する
光学素子等の被検体を、実際に使用される走査光学系の
状態でレーザー等の電磁波ビームで走査する走査手段
と、上記被検体からの 反射もしくは透過ビームによる走査光
強度を走査位置で走査面に沿って移動しながら測定する
測定手段と、 上記被検体を含む測定系の各走査位置における走査光強
度の、被検体に欠陥がない場合のシミュレーション値に
対する差をとることにより、被検体の品質上の欠陥によ
って起こるデジタル画像の異常を、画像を出力すること
なく算出する計算手段と、を有してなる走査光強度の測
定装置。 - 【請求項8】 計算手段は、あらかじめ求めておいた被
検体を含まない測定系の特性に応じて測定系の加工およ
び設置誤差の影響を除去することを特徴とする請求項6
又は7記載の走査光強度の測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26568396A JP3537608B2 (ja) | 1996-08-16 | 1996-10-07 | 走査光強度の測定方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP21636996 | 1996-08-16 | ||
JP8-216369 | 1996-08-16 | ||
JP26568396A JP3537608B2 (ja) | 1996-08-16 | 1996-10-07 | 走査光強度の測定方法およびその装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH10111256A JPH10111256A (ja) | 1998-04-28 |
JP3537608B2 true JP3537608B2 (ja) | 2004-06-14 |
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ID=26521399
Family Applications (1)
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JP26568396A Expired - Fee Related JP3537608B2 (ja) | 1996-08-16 | 1996-10-07 | 走査光強度の測定方法およびその装置 |
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JP2008076100A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Ricoh Co Ltd | 表面電荷分布あるいは表面電位分布の測定方法、及び測定装置、並びに画像形成装置 |
WO2016158174A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | 投影表示装置 |
-
1996
- 1996-10-07 JP JP26568396A patent/JP3537608B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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