JP3534996B2

JP3534996B2 - カラーフィルタの製造方法

Info

Publication number: JP3534996B2
Application number: JP34344897A
Authority: JP
Inventors: 優美小倉
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1997-12-12
Filing date: 1997-12-12
Publication date: 2004-06-07
Anticipated expiration: 2017-12-12
Also published as: JPH11174221A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示素
子、およびカラー液晶表示素子に備えられるカラーフィ
ルタの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】カラーフィルタを有するカラー液晶表示
素子に備えられる液晶パネルは、例えば、対向して配さ
れた一対のガラス等からなる透明基板を有しており、一
方の透明基板の基板対向面に、ブラックマスク層、カラ
ーフィルタ層、オーバーコート層、表示用電極、および
配向膜がこの順に形成され、他方の透明基板の基板対向
面に、表示用電極、絶縁膜、および配向膜がこの順に形
成されている。

【０００３】そして、これら透明基板は、基板周辺部に
配されたガラスビーズを含有したシール材とセルギャッ
プコントロール用のプラスチックビーズを介して貼り合
わされると共に、シール材にて囲まれた透明基板の間隙
に液晶が封入され、液晶層が形成されている。なお、こ
のような液晶パネルの構成は一構成例である。

【０００４】ところで、カラー液晶表示素子を構成する
一要素である上記のカラーフィルタ層は、両表示用電極
にて形成される画素毎に対応する、赤（Ｒ），緑
（Ｇ），青（Ｂ）の３種類の色相膜からなり、その膜厚
は一般に１．０μｍ〜１．５μｍである。

【０００５】このようなカラーフィルタ層の製造方法の
一例を、図１８（ａ）〜（ｄ）を用いて説明すると、ま
ず、同図（ａ）に示すように、Ｃｒ等のブラックマスク
層３５を形成した透明基板３１上へ、Ｒ，Ｇ，Ｂの内の
１色（ここではＲ）の顔料を分散したネガ型の感光性樹
脂材料層３４ｒを、スピンコート法、印刷法、フィルム
ラミネート法等により所定の膜厚で形成する。そして、
これをマスク３３ｒを利用して特定波長のＵＶ（紫外
線）光を表面より所定の個所のみ露光する。

【０００６】次に、同図（ｂ）に示すように、これを現
像して１色目の色相膜３２ｒを所定の個所に形成した
後、同図（ｃ）に示すように、これをオーブン等により
ポストベークして熱重合硬化させる。

【０００７】上記各工程を、２色目、３色目についても
同様に繰り返し、最後に本ベークを行う。これにより、
同図（ｄ）に示すように、所定の位置にＲ，Ｇ，Ｂの色
相膜３２ｒ・３２ｇ・３２ｂが配置されたカラーフィル
タ層３２が形成される。

【０００８】また、上記した製造方法以外に、ＵＶ吸収
材を含有した感光性樹脂材料をもちいて形成したＲ，
Ｇ，Ｂの色相膜上に、感光性樹脂遮光材料をスピンコー
ト法、印刷法、フィルムラミネート法等により形成し、
Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜のＵＶ吸収剤を利用し、裏面よりＵ
Ｖ光を照射して、ブラックマスク層を形成する方法もあ
る。

【０００９】このように形成されるカラーフィルタ層の
膜厚は、感光性樹脂材料をスピンコート法、印刷法にて
形成する場合は、初期形成膜厚（塗布後および印刷直
後）およびその後のポズトベークおよび本ベークによる
膜減りにより決まり、フィルムラミネート法の場合は、
初期フィルム膜厚、およびその後のポストベークおよび
本ベークによる膜滅りにより決まる。したがって、カラ
ーフィルタ層の膜厚のバラツキは、初期形成膜厚のバラ
ツキ或いは初期フィルム厚のバラツキとベーク時の温度
分布バラツキにより決まることとなる。

【００１０】一方、上記のようなカラー液晶表示素子の
中で、一対の透明基板間での液晶分子のねじれ角を１８
０°〜３６０°に設定したＳＴＮ（超ねじれネマティッ
ク）型液晶表示素子が、その応答性の速さから注目され
ている。しかしながら、ＳＴＮ型液晶表示素子の場合、
液晶層の厚み、すなわちセルギャップのバラツキで、表
示品位が極端に低下するため、カラーフィルタ層の膜厚
のバラツキは問題となる。

【００１１】そこで、従来よりＳＴＮ型のカラー液晶表
示素子の場合は、カラーフィルタ層の上に膜厚１．０μ
ｍ〜３．０μｍ程度のオーバーコート層を形成すること
で、カラーフィルタ層表面の膜厚均一化（レベリング）
を行っている。

【００１２】また、カラーフィルタ層の形成に用いられ
るネガ型の感光性樹脂材料は、一般に、露光→現像→ポ
ストベークの各プロセスを経ると、図１９のように形状
変化を起こす。つまり、同図（ａ）に示すように、露光
により感光性樹脂材料層３４の表面に近い部分は光重合
反応が進むが、感光性樹脂材料層３４の内部ではＵＶ吸
収剤によりＵＶ光が減衰し、光重合反応が不十分とな
り、光重合反応が十分完了していない状態になる。な
お、ここでＵＶ光の照射量を上げることは、オーバー露
光となり、現像仕上がりの不良、ドットサイズのバラツ
キ等を招来するため、限界がある。

【００１３】続いて、同図（ｂ）に示すように、現像を
行うと光重合反応の不十分な部分はサイドエッチングに
よりテーパーがかかる。その後、同図（ｃ）に示すよう
に、ポストベークを行うと下層にある光重合反応の不十
分な部分の熱重合反応が進み、全体が変形して蒲鉾型に
なる。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】一方、近年、液晶表示
素子、特にＳＴＮ型カラー液晶表示素子について、高表
示品位、高特性、高信頼性が要求されており、コントラ
ストにおいては３０：１以上を要求されている。そし
て、上記要望の中でもとりわけ中間調の表示品位に対し
て、ユーザーより強い改善要求が出されている。

【００１５】このような状況下、上記した従来のカラー
フィルタ層の製造方法では膜厚差の低減に限界があり、
ユーザからの要求に応えられなくなってきている。

【００１６】即ち、従来のカラー液晶表示素子の製造方
法では、カラーフィルタ層の本ベーク後の膜厚を約１．
０μｍ〜１．５μｍとすると、スピンコート法、印刷法
の場合、±０．２μｍ〜０．３μｍのバラツキがある。
しかるにＲ，Ｇ，Ｂの色相膜は各々個別に、露光、現
像、ポストベークの各工程を繰り返すために、ミクロ
（Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜間）の場合でも、マクロ（表示エ
リア全体）の場合でも、例えば１．５μｍをＴＹＰとし
て形成しようとした場合、１．２μｍ〜１．８μｍ（差
０．６μｍ）の膜厚差が発生することになる。そしてさ
らに、これに焼成温度分布のバラツキ等による膜厚のバ
ラツキが加わる。

【００１７】また、フィルムラミネート法においても、
その感光性着色フィルム材料を製造する過程において、
支持体に感光性樹脂材料を塗布して着色フィルムラミネ
ートを作製するため、完成品であるフィルムの着色層の
膜厚バラツキが±０．１５μｍ程度あり、露光、現像、
ポストベークを繰り返してＲ，Ｇ，Ｂの色層膜を形成す
るため、本ベーク後に±０．１〜０．２μｍのカラーフ
ィルタ層の膜厚バラツキが生じてしまう。

【００１８】ＳＴＮ型カラー液晶表示素子においては、
光学特性、表示品位（特に中間調の表示品位）は、マク
ロにおいても、ミクロにおいても、セルギャップのバラ
ツキに大きく影響され、６μｍ系のセルギャップでＳＴ
Ｎ型カラー液晶表示素子を製造した場合、１．５μｍ設
計のカラーフィルタ層において、１．２μｍ〜１．８μ
ｍ（差０．６μｍ）のカラーフィルタ層の膜厚のバラツ
キがあると、オーバーコート処理後でも、セルギャップ
は５．９１μｍ〜６．０９μｍ（差０．１８μｍ）Ｒ，
Ｇ，Ｂの画素間でバラツクことになる。

【００１９】その結果、Ｖｏｆｆの液晶点灯状態で液晶
シャッター効果にＲ，Ｇ，Ｂの画素間でバラツキが発生
して、黒レベルが悪くなりコントラストが上がらなくな
る。また、Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜のドット形状が蒲鉾型の
場合にも、山の部分と谷の部分でのセルギャップに違い
が生じることになり、コントラストが上がらなくなる。
さらに、中間調の表示品位についても、セルギャップの
バラツキが液晶分子の立ち上がりの差となって現れるた
め、たとえば６μｍ系のＳＴＮ型液晶表示素子におい
て、Ｇの色相膜が＋０．０５μｍ、Ｒ，Ｂの色相膜より
高いと、中間調が緑っぽくなり、ユーザーから色調異常
と問題にされる。

【００２０】図２０のグラフに、ＳＴＮ型液晶表示素子
におけるセルギャップのバラツキとコントラストの関係
を示す。コントラストは、液晶パネルの外側に配置され
る偏光板の位相差と、液晶パネルの位相差で決定され
る。また液晶パネルの位相差はｄ×Δｎ（ｄ：セル厚，
Δｎ：液晶の複屈折率）で現される。

【００２１】液晶パネルのセルギャップが変動すると、
液晶パネルの位相差が変化することになり、液晶パネル
を通過する偏光（楕円偏光）が変化して偏光板でのシャ
ッター効果が弱くなり、コントラストが低下する。すな
わち、ＴＹＰセル厚（ここでは６．０μｍ）で設計され
たパネルシステムに対し、セルギャップが厚目、もしく
は、薄目にバラツクとコントラストが低下することにな
る。

【００２２】図２１（ａ)(ｂ）に、Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜
の膜厚差と表示品位（中間調、特にはＤＯＳ画面）の関
係を示す。ここでは、Ｒの色相膜３２ｒを基準にしてＧ
の色相膜３２ｇの膜厚が変動する場合の品位を示す。

【００２３】Ｒの色相膜３２ｒに対してＧの色相膜３２
ｇの膜厚が高いと、その色相の画素のセルギャップはＲ
の色相膜３２ｒの部分に対し、Ｇの色相膜３２ｇの部分
の方が薄くなることになる。すなわち、Ｖ−Ｔカーブ
（電圧ｖｓ透過率特性）で考えると、Ｇの画素の方がＲ
の画素よりセルギャップが薄いので、液晶の立ち上がり
が早くなり、中間調としてＧの光がより抜けることによ
り、緑っぽくなる。

【００２４】同図（ｂ）における膜厚差（Ｒ−Ｇ）は、
カラーフィルタ層の上にオーバーコート層を設けたオー
バーコート処理後の膜厚差であり、セルギャップの差に
等しい。

【００２５】本発明は、上記課題に鑑みて成されたもの
であって、その目的は、より均一に近い膜厚のカラーフ
ィルタを製造可能なカラーフィルタの製造方法を提供す
ることであり、また、該製造方法を用いてカラー液晶表
示素子を製造することで、高コントラストで、かつ、中
間調の表示品位の優れたカラー液晶表示素子を提供する
ことである。

【００２６】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
カラーフィルタの製造方法は、上記の課題を解決するた
めに、ネガ型の感光性材料を用いて形成され、少なくと
も２色以上の色相膜を有するカラーフィルタの製造方法
において、各色相膜の作製工程に、現像前に上記感光性
材料を表面側から露光し、該感光性材料にパターンを描
く第１露光工程と、現像後で上記感光性材料を焼成する
前に、該感光性材料を再び露光する第２露光工程と、第
２露光工程後に感光性材料を焼成して硬化させるベーク
工程と、を含み、上記第２露光工程での露光量を調節す
ることで、焼成後の各色相膜の膜厚が均一となるよう
に、上記感光性樹脂材料の膜厚方向の光重合完了領域の
広がりをコントロールすることを特徴としている。

【００２７】これによれば、感光性材料が例えば感光性
樹脂材料とすると、現像後、焼成前の段階で、再度感光
性材料を露光する第２露光工程の露光量を調整すること
で、感光性樹脂材料の膜厚方向の光重合完了領域の広が
りをコントロールできる。これにより、焼成後の膜減り
率をコントロールして膜厚を均一にすることが可能とな
る。

【００２８】しかも、現像後の第２露光工程の露光によ
り、感光性樹脂材料の膜厚方向の光重合反応領域が広が
り、焼成後のドット変形が蒲鉾型になる現象も緩和され
る。したがって、これによっても、膜厚分布ムラを低下
させてカラーフィルタの膜厚を均一にできる。

【００２９】これらの結果、カラーフィルタの膜厚差
を、全体膜厚を例えば１．０〜１．５μｍとした場合、
オーバーコート処理後で０．０５μｍ以下にできる。

【００３０】なお、第２露光工程の露光は、現像後であ
るため、感光性材料の表面側からでも、透明基板を介し
た裏面側からでも、さらには、表裏両面側から行って
も、それぞれ膜厚方向に対して有効に作用する。

【００３１】本発明の請求項２記載のカラーフィルタの
製造方法は、上記の課題を解決するために、ネガ型の感
光性材料を用いて形成され、少なくとも２色以上の色相
膜を有するカラーフィルタの製造方法において、各色相
膜の作製工程に、現像前に上記感光性材料を表面側から
露光し、該感光性材料にパターンを描く第１露光工程
と、第１露光工程後、上記感光性材料を焼成する前に、
該感光性材料を再び露光する第２露光工程と、感光性材
料を焼成して硬化させるベーク工程と、を含み、このう
ち、最後に形成される色相膜以外の色相膜の作製工程に
おける第２露光工程は、現像後に表面側或いは透明基板
の背面側から露光し、最後に形成される色相膜の作製工
程における第２露光工程のみ、現像前に透明基板の背面
側から露光し、上記第２露光工程での露光量を調節する
ことで、焼成後の各色相膜の膜厚が均一となるように、
上記感光性樹脂材料の膜厚方向の光重合完了領域の広が
りをコントロールすることを特徴としている。

【００３２】これによれば、請求項１の構成と同様に、
感光性材料が例えば感光性樹脂材料とすると、第２露光
工程の露光量を調整することで、焼成後の膜減り率をコ
ントロールして膜厚を均一にすることが可能となり、か
つ、焼成後のドット変形が蒲鉾型になる現象も緩和され
る。

【００３３】そして、特に、最後に形成される色相膜の
み、現像前に感光性材料を透明基板の基板側から露光
（第２露光工程）するようになっている。この場合、既
に形成されている色相膜が最後の色相膜のマスクとして
作用するため、現像前に第２露光工程を実施できる。こ
のような手順とすることで、既に形成した色相膜に発生
しているピンホール不良を、最後の色相膜の形成と同時
に最後の色相膜を形成するための感光性材料にて修正で
きる。

【００３４】本発明の請求項３記載のカラーフィルタの
製造方法は、請求項１又は２の構成において、第１露光
工程よりも第２露光工程の方が、感光性材料が受ける露
光エネルギーが大きいことを特徴としている。

【００３５】第２露光工程における露光は、既に現像
後、或いは、既に形成された色相膜等をマスクとして直
接行われるものであるので、パターンを描くための第１
露光工程の露光より光の照射量を上げても、オーバー露
光となる恐れがない。したがって、第２露光工程の露光
エネルギーを高くして確実に感光性材料の膜厚方向の光
重合反応を達成させることで、よりカラーフィルタの膜
厚を均一にして膜厚差を小さくできる。なお、本発明
は、上記第２露光工程の露光量は、第２露光工程の露光
条件対色相膜が完成した後の本ベーク後の各色相膜の膜
厚の関係から導き出したものであることが好ましい。ま
た、上記各色相膜は順に形成していき、それぞれ現像後
で焼成を行う前に第２露光工程を実施して、色相膜毎に
膜減り率をコントロールすることが好ましい。

【００３６】本発明の請求項６記載のカラー液晶表示素
子は、請求項１ないし５の何れか１項の製造方法で作製
されたカラーフィルタを備え、ねじれ角が１８０°〜３
６０°の超ねじれネマティック液晶分子配列の液晶パネ
ルからなることを特徴としている。

【００３７】請求項１ないし５の何れか１項の製造方法
で作製されたカラーフィルタは、前述したように、膜厚
差０．０５μｍ以下を実現できる。したがって、このよ
うなカラーフィルタを備えた超ねじれネマティック型液
晶表示素子は、コントラスト向上、中間調表示品位向上
が図れ、非常に優れた表示特性、表示品位を有する。

【００３８】

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態であるＳＴ
Ｎ型カラー液晶表示素子を、図１ないし図９に基づいて
説明すれば以下の通りである。

【００３９】本ＳＴＮ型カラー液晶表示素子に備えられ
た液晶パネルは、図３に示すように、対向して配された
ガラス等からなる一対の透明基板１・２を有している。
一方の透明基板１の基板対向面に、ブラックマスク層
５、カラーフィルタ層３、オーバーコート層６、表示用
電極７ａ、および配向膜８ａがこの順に形成され、他方
の透明基板２の基板対向面に、表示用電極７ｂ、絶縁膜
９、および配向膜８ｂがこの順に形成されている。

【００４０】上記表示用電極７ａ・７ｂは、互いに直交
するストライプパターンを成し、表示用電極７ａ・７ｂ
の交差部毎に表示の１単位となる画素が形成されてい
る。上記カラーフィルタ層３は、上記の画素毎に対応し
て配置されたＲ，Ｇ，Ｂ３色の色相膜からなる。そし
て、このカラーフィルタ層３は、その膜厚が例えば１．
０μｍ〜１．５μｍの間に設定されているとすると、後
述するような製造方法で作製することで、カラーフィル
タ層３完成状態で膜厚差０．１μｍ程度、オーバーコー
ト層６完成状態で膜厚差０．０５μｍ以下にて作製され
ている。

【００４１】上記オーバーコート層６は、カラーフィル
タ層３の表面の凹凸を平滑にしてカラーフィルタ層３の
膜厚差を吸収するためのもので、吸収率は７０％程度で
ある。

【００４２】上記ブラックマスク層５は、例えばＣｒや
感光性樹脂遮光材料からなるもので、カラーフィルタ層
３のＲ，Ｇ，Ｂの色相膜の混色の防止等のために、色相
膜間を仕切るように形成されている。

【００４３】上記の透明基板１・２は、基板周辺部に配
されたガラスビーズ１１を含有したシール材１２とセル
ギャップコントロール用のプラスチックビーズ１０を介
して貼り合わされ、シール材１２にて囲まれたガラス基
板１・２の間隙には液晶が封入され、液晶層１３が形成
されている。

【００４４】上記液晶層１３の液晶分子は、透明基板１
・２間で１８０°〜３６０°のねじれ角で螺旋構造を成
している。そして、このような構成の液晶パネルを挟持
するように、２枚の偏光板（図示せず）が配設されてい
る。

【００４５】次に、図１、図２を基にして、上記液晶パ
ネルにおけるカラーフィルタ層３の製造方法を説明す
る。図１（ａ）〜（ｍ）は、カラーフィルタ層３の各製
造工程を示す断面図であり、図２は、製造フローを示す
工程図である。

【００４６】まず、図１（ａ）に示すように、Ｃｒ等の
ブラックマスク５を形成したガラス基板１へ、Ｒ，Ｇ，
Ｂのうちの１色、ここではＲの顔料を分散したネガ型の
感光性樹脂材料層１４ｒを、スピンコート法、印刷法、
フィルムラミネート法等により所定の膜厚で形成し（図
２のＰ１）、マスク１５ｒを利用して特定波長のＵＶ光
を表面より所定の個所のみ露光する（本露光：第１露光
工程)(図２のＰ２）。続いて、図１（ｂ）に示すよう
に、現像してＲの感光性樹脂材料層１４ｒを所定の個所
に形成し、まずＲの色相膜３ｒを形成する（図２のＰ
３）。

【００４７】従来方法では、この後、ポストベークを行
うが、本発明では、現像後、図１（ｃ）に示すように、
所定の露光条件にてＵＶ光を照射して、Ｒの色相膜３ｒ
にポスト露光（第２露光工程）を行う（図２のＰ４）。
なお、このポスト露光は、Ｒの色相膜３ｒの表面側から
でも、裏面側（つまり基板背面側）からでも、さらには
表裏の両面側からでもよい。ただし、裏面側からの露光
の場合、透明基板１を介して行うこととなるため、表側
から行う場合に比べて、露光量をかなり上げる必要があ
る。その点、両面側からの露光とすることで、裏側から
の露光に比べて、露光量を小さくできる。

【００４８】こうしてポスト露光が終了すると、図１
（ｄ）に示すように、オーブン等を用いてポストベーク
を行ってＲの色相膜３ｒを熱重合硬化させる（図２のＰ
５）。次いで、図１（ｅ）に示すように、Ｒの色相膜３
ｒが形成された透明基板１の上に残りのＧ，Ｂのうちの
１色、ここではＧ色の顔料を分散したネガ型の感光性樹
脂材料層１４ｇを所定の膜厚で形成し（図２のＰ６）、
マスク１５ｇを利用して特定波長のＵＶ光を表面より所
定の個所のみ露光し（図２のＰ７）、図１（ｆ）に示す
ように、現像してＧの感光性樹脂材料層１４ｇを所定の
個所に形成し、Ｇの色相膜３ｇを形成する（図２のＰ
８）。

【００４９】次いで、図１（ｇ）に示すように、所定の
露光条件にてＵＶ光を照射して、色相膜３ｇにポスト露
光を行う（図２のＰ９）。なお、このポスト露光も、Ｇ
の色相膜３ｇの表面側からでも、裏面側からでも、表裏
の両面側からでもよい。その後、図１（ｈ）に示すよう
に、オーブン等を用いてポストベークを行ってＧの色相
膜３ｇを熱重合硬化させる（図２のＰ１０）。

【００５０】同様に、図１（ｉ）〜（ｌ）に示すよう
に、Ｂ色の顔料を分散したネガ型の感光性樹脂材料層１
４ｂを所定の膜厚で形成し、マスク１５ｂを用い、残り
のＢの色相膜３ｂを形成する（図２のＰ１１〜Ｐ１
５）。そして、最後に、図１（ｍ）に示すように、オー
ブン等を用いて本ベークを行う（図２のＰ１６）。これ
にて、カラーフィルタ層３を形成する。

【００５１】このような手順でカラーフィルタ層３を形
成することで、本ベーク終了後のカラーフィルタ層３の
膜厚差を０．１μｍ以下に制御することが可能となる。
以下、その理由を説明する。ネガ型の感光性樹脂材料を
用いたカラーフィルタ層の製造工程は、通常、本露光→
現像→ポストベークをＲ，Ｇ，Ｂの色相膜毎に繰り返
し、Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜が完成した後、本ベークを行っ
て所定のカラーフィルタ層を形成する。

【００５２】図４に、ポストベークおよび本ベークによ
るＲ，Ｇ，Ｂの色相膜の膜減りの関係を示す。図４から
分かるように、Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜は、ポストベークお
よび本ベークによる熱重合反応により膜減りをおこす。
そして、通常、最終段階では重合度の向上（焼き締め）
のため、ポストベーク温度より本ベーク温度の方が高く
設定されているため、膜減りは同図に示すように、２段
階で発生する。

【００５３】さらに、ポストベークおよび本ベーク等の
熱重合反応では、モノマーの熱分解と熱重合の競争反応
が起こるため、温度分布ムラがそのまま重合度バラツキ
になり、結果としてカラーフィルタ層の膜厚分布ムラが
発生する。

【００５４】図５に、現像後に表面側からポスト露光を
実施した場合と、従来通りのポスト露光を実施しなかっ
た場合の、各カラーフィルタ（ＣＦ）層のポストベー
ク、本ベーク完了後の膜厚変化率を示す。膜厚変化率よ
り、膜減り率、およびバラツキ＝膜厚分布ムラがわか
る。

【００５５】図５から分かるように、現像後に表面側よ
りポスト露光を実施すると、カラーフィルタ層の膜厚方
向の光重合完了領域が広がり、つまりはポストベーク又
は本ベークにおける熱重合反応領域が狭まるため、カラ
ーフィルタ層の膜厚変化率は小さくなり、膜減り率およ
び膜厚分布ムラが低下する。

【００５６】このことから、ポスト露光の露光量を調整
することでカラーフィルタ層の膜厚方向の重合完了領域
の広がりをコントロールして膜減り率をコントロール
し、膜厚分布ムラを低下させることが可能となる。

【００５７】また、図６（ａ）〜（ｄ）に示すように、
現像後にポスト露光を実施すると、カラーフィルタ層３
の膜厚方向の光重合反応領域が広がり、ポストベーク後
のドットの変形が緩和され、蒲鉾型形状が緩和される。
したがって、これによっても、膜厚分布ムラを低下させ
ることが可能となる。

【００５８】このようなポスト露光による効果は、ポス
ト露光を表面側（表露光）から行っても、裏面側（裏露
光）から行っても、或いは表裏両面側（両面露光）から
行っても、それぞれ膜厚方向に対して有効作用するの
で、同様に得られる。

【００５９】但し、表面側からのポスト露光の場合、図
７（ａ）に示すように、カラーフィルタ層３における透
明基板１側の部分の重合が弱いため、現像がオーバー気
味になると、その後の本ベーク（高温・長時間）時に、
膜垂れが起こってサイドに空気を巻き込んで気泡が発生
する虞れがある。気泡は、以降の工程で破裂するため不
良である。したがって、表面側からのポスト露光は、こ
のような不良を回避するために、現像条件が絞られ、現
像マージンが狭い。

【００６０】これに対し、裏面側からのポスト露光の場
合、同図（ｂ）に示すように、透明基板１側の部分の重
合が進んでいるため、現像がオーバー気味になっても、
本ベーク時に膜垂れによる気泡の発生等が起こり難く、
現像マージンが広い。しかしながら、透明基板１を介し
ての露光であるので、必要な露光量が表面側からの露光
に比べて大きく、生産タクトが遅くなる。

【００６１】これらに対し、表裏両面側からの露光は、
裏面側のみからの露光よりも露光量を減らすことができ
るので、上記した裏面側からの露光の利点を生かしつ
つ、生産タクトを速くできるといった効果がある。

【００６２】さらに、図２のフローでは、Ｒ，Ｇ，Ｂの
色相膜３ｒ・３ｇ・３ｂとも、総て現像後に、ポスト露
光を行うが、最後に形成される色相膜、つまり、ここで
はＢの色相膜３ｂをポスト露光する際は、既に形成され
ているＲ，Ｇの色相膜３ｒ・３ｇがマスクとして作用す
るため、現像前に裏面側より透明基板１を介して行うこ
とも、或いは、本露光（表露光）とポスト露光（裏露
光）を同時に実施することもできる。

【００６３】このような手順とすることで、Ｒ，Ｇの色
相膜３ｒ・３ｇに発生しているピンホール不良を、Ｂの
色相膜３ｂの形成と同時にＢの感光性樹脂材料層１４ｂ
にて埋めて修正でき、良品率の向上が図れる。

【００６４】上記したカラーフィルタ層の膜減り率をコ
ントロールするためのポスト露光条件の設定は、図８に
示すような、従来技術による、つまり、ポスト露光を行
わないでＲ，Ｇ，Ｂの色相膜を形成したときの膜厚変化
を求めると共に、図９に示すような、ポスト露光量をパ
ラメータに、ポスト露光量対本ベーク後のＲ，Ｇ，Ｂの
色相膜の膜厚の関係を評価する基礎実験を行って実験デ
ータを得て、カラーフィルタ層３におけるＲ，Ｇ，Ｂの
色相膜３ｒ・３ｇ・３ｂの膜厚が均一になるように、シ
ミュレートすればよい。

【００６５】また、ポスト露光は既に現像後であるの
で、本露光の露光量（露光エネルギー）よりＵＶ光の照
射量を上げても、オーバー露光となる恐れがない。した
がって、ポスト露光にて確実にカラーフィルタ層３の膜
厚方向の光重合反応を達成させるためにも、本露光の露
光量より大きな露光量とすることが好ましい。

【００６６】このように、本ＳＴＮ型カラー液晶表示素
子では、カラーフィルタ層３のＲ，Ｇ，Ｂの色相膜３ｒ
・３ｇ・３ｂを順に形成していく際に、それぞれ現像
後、ポストベークを行う前にポスト露光を実施して、各
色相膜毎に膜減り率をコントロールしている。

【００６７】これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜３ｒ・３
ｇ・３ｂ間の膜厚分布ムラが低く、カラーフィルタ層３
の膜厚が１．０〜１．５μｍの場合、膜厚差を０．１μ
ｍ以下の精度で形成でき、オーバーコート処理後の膜厚
差を０．０５μｍ以下にできる。その結果、セルギャッ
プ制御の難しいＳＴＮ型においても、コントラストが高
く、中間調表示品位の向上を実現し得る。

【００６８】

【実施例】〔実施例１〕図１０に、本発明の第１実施例
のＳＴＮ型カラー液晶表示素子のカラーフィルタ層の製
造フローを示す。このような工程で製造されたカラーフ
ィルタ層３のＲ，Ｇ，Ｂの色相膜３ｒ・３ｇ・３ｂのド
ット形状を図１１に示す。

【００６９】前述の図１を参照して説明すると、Ｃｒ等
の金属をマトリクス状に形成したブラックマスク層５を
配したガラスからなる透明基板１に、富士フィルム製の
ＵＶ吸収材を含有したネガ型の感光性樹脂材料フィルム
を使用して、初期膜厚１．９０μｍのＲの色相膜３ｒ
を、初期膜厚１．９５μｍのＧの色相膜３ｇを、初期膜
厚２．１０μｍのＢの色相膜３ｂを、フィルムラミネー
ト法により、表１に示す条件で形成した。表１中のＩ線
とは、波長３６５ｎｍのＵＶ光のことである。

【００７０】

【表１】

【００７１】なお、ポスト露光の条件は図８の従来技術
でカラーフィルタ層を作製した場合の現像完了後の各色
相膜の膜厚と、図９のポスト露光条件をパラメータに、
ポスト露光条件ｖｓ仕上がり膜厚の関係を評価した基礎
実験からのデータより、Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜３ｒ・３ｇ
・３ｂの各膜厚が均一になるように（この場合１．７μ
ｍでＲ，Ｇ，Ｂの色相膜３ｒ・３ｇ・３ｂの膜厚が揃う
条件にした）導き出したシミュレーション値である。こ
こでは、Ｒ，Ｇ，Ｂの３種類とも、ポスト露光は表面か
らの表露光とした。

【００７２】この条件で作製したカラーフィルタ層３の
表面を表面粗さ計で６ポイント測定すると、表２のよう
になった。

【００７３】

【表２】

【００７４】そして、さらにオーバーコート層６を形成
し、その表面を、図１２に示すように、表面粗さ計で１
基板当たり５ポイントとして４基板、計２０ポイント測
定し、Ｒの色相膜３ｒの高さを基準に、Ｇ−Ｒ，Ｂ−Ｒ
の膜厚差としてデータを集計し、平均値、最大値、最小
値を求めると、表３のようになった。

【００７５】

【表３】

【００７６】表３より、平均値は０．０１μｍ以内、バ
ラツキ（ＭＡＸ−ＭＩＮ）も０．０５μｍ程度と極めて
精度良く仕上がることが確認できた。

【００７７】また、この条件で作製したカラーフィルタ
層３を用いて、図３に示すようなＳＴＮ型のカラー液晶
表示素子を作製し、光学特性を確認すると、コントラス
トは４０：１で従来品より約１０〜１５％向上した。ま
た、表示品位も面内のカラーフィルタ層３の膜厚のバラ
ツキが少ない分、特に中間調表示において均一な表示品
位を達成し、特に今後のＳＴＮ型カラー液晶表示素子で
重要な高速応答タイプ（セル厚５μｍ以下）においても
均一な表示品位を達成できた。

【００７８】〔実施例２〕図１３に、本発明の第２実施
例のＳＴＮ型カラー液晶表示素子のカラーフィルタ層の
製造フローを示す。このような工程で製造されたカラー
フィルタ層３のＲ，Ｇ，Ｂの色相膜３ｒ・３ｇ・３ｂの
ドット形状を図１４に示す。

【００７９】ここでは、実施例１と同様の基板、Ｒ，
Ｇ，Ｂフィルムを用意し、表４に示す条件でカラーフィ
ルタ層３を形成した。なお、ポスト露光の条件は実施例
１と同様、基礎実験から求めたが、ここでは裏露光とし
た。裏露光の場合、透明基板であるガラスが存在するの
で、実施例１の表露光に比べるとかなり露光量が上が
る。また、最後に形成されるＢの色相膜３ｂについての
み、現像前にポスト露光を行った。Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜
３ｒ・３ｇ・３ｂは、ＵＶ吸収材を含有しているので、
最終色相のＢの色相膜３ｂを形成するためのポスト露光
は、現像前に実施できる。

【００８０】

【表４】

【００８１】この条件で作製したカラーフィルタ層３の
表面を実施例１と同様に表面粗さ計で６ポイント測定す
ると、表５のようになった。

【００８２】

【表５】

【００８３】そして、さらにオーバーコート層６を形成
し、その表面を、表面粗さ計で１基板当たり５ポイント
・４基板、計２０ポイント測定し、Ｒの色相膜３ｒの高
さを基準に、Ｇ−Ｒ，Ｂ−Ｒの膜厚差としてデータを集
計し、平均値、最大値、最小値を求めると、表６のよう
になった。

【００８４】

【表６】

【００８５】表６より、平均値は０．０１μｍ以内、バ
ラツキ（ＭＡＸ−ＭＩＮ）も０．０５μｍ程度と極めて
精度良く仕上がることが確認できた。

【００８６】また、この条件で作製したカラーフィルタ
層３を用いて、図３に示すようなＳＴＮ型のカラー液晶
表示素子を作製した結果、実施例１と同様の特性、品位
を達成することができた。また、上記の手順とすること
で、Ｒ，Ｇの色相膜３ｒ・３ｇで発生したピンホール不
良をＢの樹脂材料で埋めて修正することが併用して可能
となり、良品率も向上した。

【００８７】なお、Ｒ，Ｇの色相膜３ｒ・３ｇの形成に
おいても、各々の本露光に用いたと同じマスクを用いる
ことで、現像前に裏露光することは可能である。

【００８８】〔実施例３〕図１５に、本発明の第３実施
例のＳＴＮ型カラー液晶表示素子のカラーフィルタ層の
製造フローを示す。このような工程で製造されたカラー
フィルタ層３のＲ，Ｇ，Ｂの色相膜３ｒ・３ｇ・３ｂの
ドット形状を図１６に示す。

【００８９】ここでは、実施例１と同様の基板、Ｒ，
Ｇ，Ｂフィルムを用意し、表７に示す条件でカラーフィ
ルタ層３を形成した。なお、ポスト露光の条件は実施例
１と同様、基礎実験から求めた。Ｒ，Ｇの色相膜３ｒ・
３ｇの形成は現像後、ポスト露光を表露光で行い、Ｂの
色相膜３ｂのみ、本露光とポスト露光とを同時に実施し
た。

【００９０】

【表７】

【００９１】この条件で作製したカラーフィルタ層３の
表面を実施例１と同様に表面粗さ計で６ポイント測定す
ると、表８のようになった。

【００９２】

【表８】

【００９３】そして、さらにオーバーコート層６を形成
し、その表面を、表面粗さ計で１基板当たり５ポイント
・４基板、計２０ポイント測定し、Ｒの色相膜３ｒの高
さを基準に、Ｇ−Ｒ，Ｂ−Ｒの膜厚差としてデータを集
計し、平均値、最大値、最小値を求めると、表９のよう
になった。

【００９４】

【表９】

【００９５】表９より、平均値は０．０１μｍ以内、バ
ラツキ（ＭＡＸ−ＭＩＮ）も０．０５μｍ程度と極めて
精度良く仕上がることが確認できた。また、この条件で
作製したカラーフィルタ層３を用いて、図３に示すよう
なＳＴＮ型のカラー液晶表示素子を作製した結果、実施
例１と同様の特性、品位を達成することができた。

【００９６】これにおいても、実施例２と同様に、Ｒ，
Ｇの色相膜３ｒ・３ｇで発生したピンホール不良をＢの
樹脂材料で埋めて修正することが併用して可能となり、
良品率も向上した。

【００９７】〔比較例１〕比較のために、ポスト露光を
行わない以外は、実施例１と同じ条件で、カラーフィル
タ層を作製した。図１７に、比較例のカラーフィルタ層
のＲ，Ｇ，Ｂの色相膜３７ｒ・３７ｇ・３７ｂのドット
形状を示す。

【００９８】また、表１０に作製条件を示す。

【００９９】

【表１０】

【０１００】この条件で作製したカラーフィルタ層の表
面を実施例１と同様に表面粗さ計で６ポイント測定する
と、表１１のようになった。

【０１０１】

【表１１】

【０１０２】そして、さらにオーバーコート層を形成
し、その表面を、表面粗さ計で１基板当たり５ポイント
ー４基板、計２０ポイント測定し、Ｒの色相膜３７ｒの
高さを基準に、Ｇ−Ｒ，Ｂ−Ｒの膜厚差としてデータを
集計し、平均値、最大値、最小値を求めると、表１２の
ようになった。

【０１０３】

【表１２】

【０１０４】表１２より、平均値は０．１μｍを超え、
バラツキ（ＭＡＸ−ＭＩＮ）も０．２μｍ程度と本発明
を利用して作製したカラーフィルタ層３より悪いことが
確認できた。

【０１０５】また、この条件で作製したカラーフィルタ
層を用いて、図３に示すようなＳＴＮ型のカラー液晶表
示素子を作製して光学特性を確認すると、コントラスト
は３５：１であった。また表示品位も面内のカラーフィ
ルタ層膜厚のバラツキが大きいため、特に中間調表示に
おいて赤ほい個所、緑ほい個所、青ほい個所等不均一で
あった。さらに、高速応答タイプ（セル厚５μｍ以下）
のＳＴＮ液晶表示素子を作製した場合、中間調の不均一
差が顕著になった。

【０１０６】

【発明の効果】本発明の請求項１記載のカラーフィルタ
の製造方法は、各色相膜の作製工程に、現像前に上記感
光性材料を表面側から露光し、該感光性材料にパターン
を描く第１露光工程と、現像後で上記感光性材料を焼成
する前に、該感光性材料を再び露光する第２露光工程
と、第２露光工程後に感光性材料を焼成して硬化させる
ベーク工程と、を含み、上記第２露光工程での露光量を
調節することで、焼成後の各色相膜の膜厚が均一となる
ように、上記感光性樹脂材料の膜厚方向の光重合完了領
域の広がりをコントロールするものである。

【０１０７】これにより、平滑なカラーフィルタを製造
することが可能となるため、このような製造方法で超ネ
ジレネマティック型の液晶表示素子のカラーフィルタを
作製することで、セルギャップが均一になり、コントラ
スト向上、中間調表示品位向上が図れ、表示特性、表示
品位の向上が図れるという効果を奏する。

【０１０８】本発明の請求項２記載のカラーフィルタの
製造方法は、各色相膜の作製工程に、現像前に上記感光
性材料を表面側から露光し、該感光性材料にパターンを
描く第１露光工程と、第１露光工程後、上記感光性材料
を焼成する前に、該感光性材料を再び露光する第２露光
工程と、感光性材料を焼成して硬化させるベーク工程
と、を含み、このうち、最後に形成される色相膜以外の
色相膜の作製工程における第２露光工程は、現像後に表
面側或いは透明基板の背面側から露光し、最後に形成さ
れる色相膜の作製工程における第２露光工程のみ、現像
前に透明基板の背面から露光し、上記第２露光工程での
露光量を調節することで、焼成後の各色相膜の膜厚が均
一となるように、上記感光性樹脂材料の膜厚方向の光重
合完了領域の広がりをコントロールするするものであ
る。

【０１０９】これにより、請求項１に記載した効果に加
えて、既に形成した色相膜に発生しているピンホール不
良を、最後の色相膜の形成と同時に最後の色相膜を形成
するための感光性材料にて修正できるため、良品率の向
上も図れるといった効果を奏する。

【０１１０】本発明の請求項３記載のカラーフィルタの
製造方法は、請求項１又は２の構成において、第１露光
工程よりも第２露光工程の方が、感光性材料が受ける露
光エネルギーが大きいものである。

【０１１１】これにより、請求項１、２の方法で得るカ
ラーフィルタよりもさらに平滑なものを得ることがで
き、その結果、このような製造方法で超ネジレネマティ
ック型の液晶表示素子のカラーフィルタを作製すること
で、セルギャップがさらに均一になり、コントラスト向
上、中間調表示品位向上が図れ、表示特性、表示品位の
さらなる向上が図れるという効果を奏する。また、上記
第２露光工程の露光量は、第２露光工程の露光条件対色
相膜が完成した後の本ベーク後の各色相膜の膜厚の関係
から導き出したものである。また、上記各色相膜は順に
形成していき、それぞれ現像後で焼成を行う前に第２露
光工程を実施して、色相膜毎に膜減り率をコントロール
するものである。これにより、平坦なカラーフィルタを
製造することができる。

【０１１２】本発明の請求項６記載のカラー液晶表示素
子は、請求項１ないし５の何れか１項の製造方法で作製
されたカラーフィルタを備え、ねじれ角が１８０°〜３
６０°の超ねじれネマティック液晶分子配列の液晶パネ
ルからなる構成である。

【０１１３】請求項項１ないし５の何れか１項の製造方
法で作製されたカラーフィルタは、非常に平滑であるた
め、このようなカラーフィルタを備えた超ねじれネマテ
ィック型液晶表示素子は、コントラスト向上、中間調表
示品位向上が図れ、非常に優れた表示特性、表示品位を
有するものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）〜（ｍ）は、本発明の一実施形態のカラ
ー液晶表示素子における、カラーフィルタ層の製造工程
を示す断面図である。

【図２】カラーフィルタ層の製造フローを示す工程図で
ある。

【図３】カラー液晶表示素子の断面図である。

【図４】カラーフィルタ層形成工程順の膜厚変化を示す
グラフである。

【図５】ポスト露光を実施した場合と実施しなかった場
合とで、カラーフィルタ層形成工程における膜厚変化率
を比較して示すグラフである。

【図６】（ａ）〜（ｄ）は、ポスト露光を実施するカラ
ーフィルタ層形成工程での形状変化を示す説明図であ
る。

【図７】（ａ)(ｂ）共に、オーバー現像となった場合の
本ベーク後のカラーフィルタ層の色相膜の形状を示す説
明図である。

【図８】ポスト露光を実施しなかった場合の、カラーフ
ィルタ層の現像完了時から本ベーク完了時までの膜厚変
化を示すグラフである。

【図９】ポスト露光量をパラメータにした時の本ベーク
終了時の膜厚を示すグラフである。

【図１０】本発明の一実施例である実施例１のカラーフ
ィルタ層の製造フローを示す工程図である。

【図１１】実施例１のカラーフィルタ層の形状を示す説
明図である。

【図１２】カラーフィルタ層の表面を表面粗さ計で測定
する測定ポイントを示す説明図である。

【図１３】本発明の一実施例である実施例２のカラーフ
ィルタ層の製造フローを示す工程図である。

【図１４】実施例２のカラーフィルタ層の形状を示す説
明図である。

【図１５】本発明の一実施例である実施例３のカラーフ
ィルタ層の製造フローを示す工程図である。

【図１６】実施例３のカラーフィルタ層の形状を示す説
明図である。

【図１７】本発明の比較例のカラーフィルタ層の形状を
示す説明図である。

【図１８】（ａ）〜（ｄ）は、従来技術によるカラーフ
ィルタ層の製造工程を示す断面図である。

【図１９】（ａ）〜（ｃ）は、従来技術によるカラーフ
ィルタ層形成工程での形状変化を示す説明図である。

【図２０】ＳＴＮ型液晶表示素子におけるセルギャップ
とコントラストの関係を示すグラフである。

【図２１】（ａ)(ｂ）共に、ＳＴＮ型液晶表示素子にお
ける、Ｒ，Ｇ，Ｂの色相膜の膜厚差（オーバーコート処
理後）と表示品位の関係を示す説明図である。

【符号の説明】

１，２透明基板３カラーフィルタ層（カラーフィルタ）３ｒＲの色相膜３ｇＧの色相膜３ｂＢの色相膜１３液晶層１４ｒＲの感光性樹脂材料層（感光性材料）１４ｇＧの感光性樹脂材料層（感光性材料）１４ｂＢの感光性樹脂材料層（感光性材料）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 5/20 101 G02F 1/1335 505

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】ネガ型の感光性材料を用いて形成され、少
なくとも２色以上の色相膜を有するカラーフィルタの製
造方法において、各色相膜の作製工程に、現像前に上記感光性材料を表面側から露光し、該感光性
材料にパターンを描く第１露光工程と、現像後で上記感光性材料を焼成する前に、該感光性材料
を再び露光する第２露光工程と、第２露光工程後に感光性材料を焼成して硬化させるベー
ク工程と、を含み、上記各色相膜は順に形成していき、上記第２露光工程で
の露光量を調節して色相膜毎に膜減り率をコントロール
することで、焼成後の各色相膜の膜厚が均一となるよう
に、上記感光性樹脂材料の膜厚方向の光重合完了領域の
広がりをコントロールすることを特徴とするカラーフィ
ルタの製造方法。
【請求項２】ネガ型の感光性材料を用いて形成され、少
なくとも２色以上の色相膜を有するカラーフィルタの製
造方法において、各色相膜の作製工程に、現像前に上記感光性材料を表面側から露光し、該感光性
材料にパターンを描く第１露光工程と、第１露光工程後、上記感光性材料を焼成する前に、該感
光性材料を再び露光する第２露光工程と、感光性材料を焼成して硬化させるベーク工程と、を含
み、このうち、最後に形成される色相膜以外の色相膜の作製
工程における第２露光工程は、現像後に表面側或いは透
明基板の背面側から露光し、最後に形成される色相膜の
作製工程における第２露光工程のみ、現像前に透明基板
の背面側から露光し、上記各色相膜は順に形成していき、上記第２露光工程で
の露光量を調節して色相膜毎に膜減り率をコントロール
することで、焼成後の各色相膜の膜厚が均一となるよう
に、上記感光性樹脂材料の膜厚方向の光重合完了領域の
広がりをコントロールすることを特徴とするカラーフィ
ルタの製造方法。
【請求項３】第１露光工程よりも第２露光工程の方が、
感光性材料が受ける露光エネルギーが大きいことを特徴
とする請求項１または２記載のカラーフィルタの製造方
法。
【請求項４】上記第２露光工程の露光量は、第２露光工
程の露光条件対色相膜が完成した後の本ベーク後の各色
相膜の膜厚の関係から導き出したものであることを特徴
とする請求項１ないし３の何れか１項に記載のカラーフ
ィルタの製造方法。
【請求項５】ネガ型の感光性材料を用いて形成され、少
なくとも２色以上の色相膜を有するカラーフィルタの製
造方法において、各色相膜の作製工程に、現像前に上記感光性材料を表面側から露光し、該感光性
材料にパターンを描く第１露光工程と、現像後で上記感光性材料を焼成する前に、該感光性材料
を再び露光する第２露光工程と、第２露光工程後に感光性材料を焼成して硬化させるベー
ク工程と、を含み、感光性材料の初期膜厚と、第２露光工程を行わないで色
相膜を形成したときの、色相膜が完成した後の本べーク
後の色相膜の膜厚と、第２露光工程の露光量対色相膜が
完成した後の本べーク後の色相膜の膜厚の関係を評価す
る実験のデータとから、各色相膜の膜厚が均一になるよ
うに導き出された露光量に、上記第２露光工程での露光
量を調節することで、焼成後の各色相膜の膜厚が均一と
なるように、上記感光性樹脂材料の膜厚方向の光重合完
了領域の広がりをコントロールすることを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法。
【請求項６】ネガ型の感光性材料を用いて形成され、少
なくとも２色以上の色相膜を有するカラーフィルタの製
造方法において、各色相膜の作製工程に、現像前に上記感光性材料を表面側から露光し、該感光性
材料にパターンを描く第１露光工程と、第１露光工程後、上記感光性材料を焼成する前に、該感
光性材料を再び露光する第２露光工程と、感光性材料を焼成して硬化させるベーク工程と、を含
み、このうち、最後に形成される色相膜以外の色相膜の作製
工程における第２露光工程は、現像後に表面側或いは透
明基板の背面側から露光し、最後に形成される色相膜の
作製工程における第２露光工程のみ、現像前に透明基板
の背面側から露光し、感光性材料の初期膜厚と、第２露光工程を行わないで色
相膜を形成したときの、色相膜が完成した後の本べーク
後の色相膜の膜厚と、第２露光工程の露光量対色相膜が
完成した後の本べーク後の色相膜の膜厚の関係を評価す
る実験のデータとから、各色相膜の膜厚が均一になるよ
うに導き出された露光量に、上記第２露光工程での露光
量を調節することで、焼成後の各色相膜の膜厚が均一と
なるように、上記感光性樹脂材料の膜厚方向の光重合完
了領域の広がりをコントロールすることを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法。