JP3532239B2 - ゾル−ゲルを用いた高保障試験光ファイバの作製 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はゾル−ゲル生成ガラスを
含むプリフォームから引いたシリカベース光ファイバの
作製に係る。初期の用途は、通常のファイバ作製プロセ
スにより作製されたコアロッドを囲むゾル−ゲル生成オ
ーバークラッド管で構成された合成プリフォームから作
製された低損失シングルモードファイバの形をとると予
想される。

【０００２】

【従来技術の記述】１９９２年８月１４日に申請された
同時に出願中の米国特許第０７／９３０，１２５号は、
ゾル−ゲル生成シリカベースガラス基体の使用で明らか
な、経済性を最終的に実現するためのブレークスルーを
示している。ある用途では、管状基体はスートプロセス
又は修正化学気相堆積により作製されたコアとともに、
合成プリフォームを作り、それから光ファイバを引いて
もよい。その特許は、乾燥中ゲル基体に亀裂が入るのを
避けるため、ゾル中に有機ポリマを導入することを述べ
ている。その後焼結中、ポリマを除去することにより、
現在用いられているより高価な方法で生成されたもの
と、同等の品質をもつファイバが、最終的に生じる。

【０００３】

【本発明の要約】多くの実験により、最終的な目的が支
持されている。すなわち、得られるファイバは、現在の
技術によるファイバと同じ損失特性をもつ。しかし、更
に問題が見つかっている。汚染により個別の粒子に起因
するファイバの破損が、歩留りを下げている。これらの
粒子は１μｍ又はそれより小さな寸法をもち、ＭＣＶＤ
又はスートプロセス中、どうしても避けられない。

【０００４】液相から運ばれたある種の粒子は、約２２
００℃で焼結する前、又はする間、高温プロセス中、ガ
ラス中に同化される。Ａｌ₂Ｏ₃はそのような無害な汚染
の例で、それは個別の粒子として残留しないため、破損
は起こさない。高温プロセスで残留する粒子は、注意す
べきもので、“耐熱性”と呼ばれる。

【０００５】特許請求の範囲は、そのような粒子、特に
ＺｒＯ₂ 及びＴｉＯ₂ の除去を目的としている。具体的
なプロセスは、ゲル化の前に、機械的に分離することに
依存する。機械的分離は、懸濁液すなわち水溶性ゾルを
構成するＳｉＯ₂ 粒子から、好ましくない粒子を見分け
るのに、密度又は寸法の違いに基づく。密度に依存する
沈澱及び寸法に基づく濾過は、有用である。

【０００６】好ましい分離プロセスは、有害な粒子の除
去のため、遠心力に依存する。この方式は、場合によっ
ては、密度及び寸法の違いの両方に敏感である。ＺｒＯ
₂ 及びＴｉＯ₂ のような耐熱物質の除去は、水溶性懸濁
液中で基本的にゾルを構成するＳｉＯ₂ 粒子に比べ、大
きな密度に基本的に依存する。同時に、亀裂の核及び気
泡中心として働く可能性のあるＳｉＯ₂ 粒子のかたまり
を除去することは、より大きな寸法に基づく。

【０００７】

【詳細な記述】

【同時に出願中の特許】同時に出願中の米国特許、Ｓ．
Ｎ．０８／０２９７５３（バンダーカール ２）は、ゾ
ル−ゲル生成部分を含むプリフォームから作られたファ
イバ中の耐熱性粒子除去の一般的問題を扱っている。そ
の特許出願に従うと、個別の粒子は、まだ多孔質の乾燥
ゲルのガス処理により、寸法を減少させる。好ましい処
理は、Ｏ₂ を含まない雰囲気中でＳＯＣｌ₂ を用い、そ
れはたとえば耐熱性ＺｒＯ₂ と反応し、最終的にはＺｒ
Ｃｌ₄ としてＺｒを除去する。

【０００８】この同時に出願中の特許のプロセスは、き
わめて効果的であるが、ゲル化の前に、ゾルからより大
きな粒子を除去することにより、促進される。従って、
好ましい商業的用途は、２つのプロセスを組合わせるこ
とに、依存する可能性がある。最終的な考察、すなわち
本発明の例の具体的なプロセスは、ゾルに対して操作
し、従ってゲル化中の汚染に付随した問題を軽減するこ
とはできない。最終的なゲルからの粒子除去を意図した
同時に出願中の特許は、その後に汚染されることの説明
となる。

【０００９】

【一般的事項】オーバークラッドの生成のためのゾル−
ゲルプロセスは、期待にかなうものである。初期に用い
られたオーバークラッド管をゾル−ゲルクラッドで置き
かえた合成プリフォームから引いたファイバは、目的を
達成する。すなわち引いたファイバの損失特性は、同じ
である。しかし、強度は影響を受ける。研究した生成で
は、初期の合成プリフォームから生成させたファイバの
１００ｋｐｓｉ保障試験（ｐｒｏｏｆ−ｔｅｓｔｉｎ
ｇ）は、１００万メートルのファイバ当たり２５の破損
を生じた。これらの中で、８５％は表面及びコア−オー
バークラッド界面で破損し、約５％のみがオーバークラ
ッドに対し内部の粒子によるものであった。それに対
し、ゾル−ゲルから作製したオーバークラッドを含むプ
リフォームから引いたファイバの２０ｋｐｓｉ保障試験
では、５００メータのファイバ中で、２つの内部破損を
生じた。これはサンプリングとしては不十分であるが、
過度の破損を伴った。これらの内部破損は６μｍ及びオ
ーバークラッド中のより大きな寸法の耐熱性粒子である
ことがわかった。“耐熱性”粒子は引張りの際にも残留
し、破損の核となる。

【００１０】破損の機構に関しては、著しい量の情報が
ある（破損機構の基体、ジェイ・エフ・ノット（Ｊ．
Ｆ．Ｋｎｏｔｔ）ロンドン、バターワース、９８−１０
５頁、１９７３を参照のこと）。“グリフィス クラッ
ク”というのは、ひびを含むことによるファイバの破損
は、破損の核となる粒子、与えられたファイバ断面に対
する引張り応力に関係することが、報告されている。

【００１１】寸法及び量の両方の点で、必要な粒子の除
去は、製造の仕様に依存する。単一の２μｍ粒子が存在
することにより、１００ｋｐｓｉ保障試験で、破損を生
じる。一般的なシングルモードの設計では、ファイバ１
０００ｋｍ当り、３０ｋｇのオーバークラッドを必要と
する。１００万メートル当り高々５個の破損（又は１０
０万メートル当り５個の粒子）という条件は１０¹⁵当り
数個の汚染の除去と等価である。

【００１２】汚染は各種の原因をもつ。どこにでもある
ＺｒＯ₂ に加え、同様に面倒なＴｉＯ₂ 及びＣｒ₂Ｏ₃の
耐熱粒子は、ＳｉＯ₂ ゾル粒子の形成及び分散中に、導
入される可能性がある。両方ともプロセス中残留し、フ
ァイバを破損させるのに十分な耐熱性をもつ。

【００１３】

【遠心分離】問題の同定、すなわち水溶性懸濁液から粒
子を除去することは、適切に設計された遠心分離によ
り、可能である。除去すべき粒子は、２つの型をもつ。
すなわち、水溶性媒体中で本質的なゾルを構成するＳｉ
Ｏ₂ 粒子からは、両方とも重要な点で異なる。そのよう
な粒子は、より大きな密度、たとえば（ＳｉＯ₂ の２．
２ｇ／ｃｃに比べ）ＺｒＯ₂ 及びＴｉＯ₂ の５．５ｇ／
ｃｃ及び４．５ｇ／ｃｃ又はより大きな寸法、典型的な
場合（ＳｉＯ₂ の平均寸法０．０５μｍの懸濁粒子に比
べ）ＳｉＯ₂ のかたまりの１−８μｍのいずれかをも
つ。

【００１４】遠心分離の本質的な条件は、周知である
（化学技術の百科事典、カーク−オスマー（Ｋｉｒｋ−
Ｏｔｈｍｅｒ）第２編、第４巻、７１０−７５８頁（１
９６４）を参照のこと）。遠心力の形成は、連続流を起
すための装置とともに、図に示されたびん遠心分離機を
含む。そのような装置の１つは、“かご”又は“管状”
遠心分離機を含み、その中で流れは円筒状容器の軸に沿
う。もう１つのものは、“円盤状”遠心分離機で、その
中の流れは円盤の表面に平行である。遠心分離装置につ
いては、引用文献の７１５−７１７頁で詳細に考察され
ている。

【００１５】一般的にストークス則（７１３頁）に従う
分離は、液体媒体に対する粒子の密度の差に、直線的に
依存し、粒子寸法の二乗で変化する。

【００１６】遠心力場で沈降する粒子について、ストー
クス則は、次式を与える。

【００１７】

【数１】

【００１８】ここで、 Ｖ_s ＝ 遠心力場中の粒子の沈降速度 △ρ＝ ρ_s−ρ_L、粒子の質量密度と周囲の媒体のそれ
との差 ｄ ＝ 粒子の直径 ω ＝ 粒子の角速度 γ ＝ 沈澱速度が決められるゾル内の回転軸と面との
間の半径方向の距離

【００１９】従って、ＺｒＯ₂（５．５ｇ／ｃｃ密度）
は（５．５−１）／（２．２−１）×（１ないし８）²
／（０．０５）²＝１５００ないし９０，０００倍、名
目上のＳｉＯ₂ ゾル粒子より速く移動する。４００の名
目上のゾル粒子のかたまり（従って、単一のゾル粒子よ
り約８倍寸法が大きい）は、個々の粒子より、約５０倍
速く移動する。例で報告されるように、一組の操作条
件、すなわち３０分間の３２００ｇの遠心分離では、破
損の核となるとＳｉＯ₂ のかたまりとともに、０．８μ
ｍより大きな寸法のＺｒＯ₂ 粒子が除去されるが、懸濁
ＳｉＯ₂ は３．５重量％が除去される（破損核生成の水
準程度又はそれ以下にＳｉＯ₂ が減少する）だけであ
る。ストークスの式を用いた計算では、沈降が妨げられ
た場合について修正すると、０．２μｍまで小さなＺｒ
Ｏ₂ 、ＴｉＯ₂ 及びＣｒＯ₃ 粒子が除去されるはずであ
ることが、示される。

【００２０】他の型の遠心分離装置、すなわち円盤とと
もに管状の遠心分離機も、適切である可能性がある。

【００２１】

【実験手順】手順は市販の製品の特性に基いている。一
般的に得られる材料は、水溶性懸濁液中に、０．０５μ
ｍの平均寸法をもつＳｉＯ₂ 粒子から成る。破損を誘発
する核として働く可能性のあるかたまりは、そのような
粒子を少なくとも４００含み、（０．０５μｍゾル粒子
を基本にし）、０．４μｍのかたまりを作る。そのよう
なかたまりを含むことは、そのような材料中で１．０重
量％以下であることがわかる。不適切なゾルＳｉＯ₂ に
よる“不均一な”流れを最小にすることが、必要であ
る。最小のＳｉＯ₂ ゾル含有量は、ゲル化が完了した
時、約３０重量％である。実験により、適切な遠心分離
で、最大１％の損失が生じることが示され、従って遠心
分離前の許容される最小値は３１％である。報告した実
験に用いた典型的な市販製品は、４６重量％のＳｉＯ₂
を含み、購入でき、難点はない。もしより希薄なゾルを
用いるなら、この水準は厳密さを必要とするようになる
可能性がある。

【００２２】この説明はゾル中に必然的に存在するよう
な不均一性を除くか減らすことに向けられている。最終
的な製品、すなわち光ファイバは、それを必要とするも
のの１つである。雰囲気、清浄でない表面及び同様のも
のからの汚染を避けるために従来行われてきた方法を、
続いて行わなければならない。ゾル−ゲルプロセスは、
スートプロセス又はＭＣＶＤより、汚染のこの源を必然
的に、取り入れやすい。加えて、ゾル−ゲルプロセスは
現在進んでいる物理的分離中、及びゲル化の間の両方
で、容器壁から汚染を受けやすい。例に示されたデータ
は、表面又は内部破損のないファイバを生成するよう、
意味のある汚染はないという鋳型に基づいている。

【００２３】同時に出願された米国特許出願Ｓ．Ｎ．０
８／０２９７５３（エス・ディー・バンダカール ２）
は、なお多孔質の乾燥ゲルから、粒子の気体除去を行う
ためのプロセスを目的としている。ゾル精製のためのプ
ロセスを商業的に採用することは、そのような気体除去
により補ってもよい。

【００２４】ゾル−ゲル管の作製の効果的な方法につい
ては、１９９２年８月１４日に出願された米国特許出願
第０７／９３０，１２５号に述べられている。それにつ
いて、以下で簡単に述べる。ある種の実験では、ＺｒＯ
₂ 、ＴｉＯ₂ 及びＣｒ₂Ｏ₃の耐熱粒子を、ゾルに添加し
た。粒子除去後のゲルの評価は、得られたファイバの処
理の前及び後、又は引張り及び試験により、不純物含有
量を直接分析することにより行った。残留する特定の物
質の問題となる量は非常に小さいから、ほとんどの識別
試験は、ファイバ破損を数えることにより行った。

【００２５】遠心分離は図１に示されるようなベンチト
ップボトル遠心分離器上で行った。それは４個の等間隔
のびん（１０）から成り、それらの各々は直径４ｃｍ及
び長さ１０ｃｍのおおよその寸法を有し、約１リットル
の容量をもつ。びんは長さ３０ｃｍの回転子アーム（１
１）に取り付けられ、アームは回転子（１２）に接続さ
れ、図示されていない手段により、駆動される。図示さ
れるように、操作により沈澱物（“ケーキ”）（１３）
を生じた。用いた装置は３９００ｒｐｍの最大速度を有
し、３２００ｇ（３×１０⁶ ｃｍ／ｓｅｃ² ）の加速を
生じた。

【００２６】第１の実験は１２５０ｒｐｍで１時間（例
２）の遠心分離を用いた。以下の例は実験装置で得られ
る最高速度である３９００ｒｐｍを、３０分間用いた。
遠心分離後、表面に浮かんだ液体を流し去り、鋳造に用
いるためのゾルが生じた。ケーキの分析はファイバ破損
に基づく実験結果と一致した。

【００２７】例はプリフォームの形成及び引張りに、一
様な工程を続けて行った。用いた工程について、簡単に
述べる。

【００２８】オーバクラッド管は溶融シリカの２５００
ｇ水溶性分散液から作製した。分散液は約５０ｍ² ／ｇ
の表面積を有する４６重量％のコロイド状シリカを含ん
だ。粒子サイズの分布は、約５０ｎｍ径に中心をおき、
５ｎｍから２００ｎｍまで及んだ。分散液に、水（２５
重量％）に溶解させた一定量の水酸化テトラメチルアン
モニウム（ＴＭＡＨ）（乾燥させた重量で、ＳｉＯ₂ を
基本にして２．８重量％）を、添加した。これによりｐ
Ｈが約１２に上り、ゲル化及び沈降に対し、ゾルが安定
化された。２０時間後、約５０，０００の分子量の０．
２１重量％ポリエチルオキサゾリン及び０．８７重量％
のグリセリン（ＳｉＯ₂ を基礎として）を添加し、ゾル
と混合した。メチル蟻酸（ＳｉＯ₂ を基礎として２．１
重量％）を添加し、直ちにゾルを鋳型に注いだ。鋳型は
アクリル管及び同心状のステンレススチール棒から成
り、両方で６３．５ｍｍＯＤ×２８．６ｍｍＩＤ×長さ
１ｍの管状鋳型を構成した。蟻酸の添加後、１０分間で
ｐＨは９．６−９．７の範囲に減少し、本質的に完全な
ゲル化が起こった。ゲル化は１０分後、本質的に完了し
た。

【００２９】ゲル管は鋳型からとり出され、３”間隔の
回転中の２．５”径ローラ上で、水平に乾燥された。ゆ
るく閉じた箱の中で、２週間１ｒｐｈで回転することに
より、２５．１ｍｍＩＤ×５５．６ｍｍＯＤ×８４４長
の乾燥した管が生じた（１２．４％の縮小に対応す
る）。報告された結果は、室温で約８０％の相対温度で
得られた。

【００３０】乾燥された管は溶融石英焼結シュラウド中
に置かれた。焼結シュラウドは試料を１２”長の炉高温
領域を通して垂直方向に移動させる昇降機上に保持し
た。焼結中、基体はシンタしない管の中心孔中に、１
１．３ｃｍ延びる１９ｍｍロッドにより、支持された。
試料はＨｅ、Ｏ₂ 及びＣｌ₂ が流れる雰囲気中の高温領
域上に保持され、炉は１０００℃の脱水酸化温度に加熱
された。炉はこの温度に１６時間保たれ、試料はそれを
通してゆっくり冷却させた。通過させた後、試料を底部
に保ち、炉温度は１４００℃に上昇させ、試料は高温領
域を通過させ上昇されることにより、固化させた。固化
により、管は更に２７％縮み、内径は１８．３ｍｍに減
少し、管を１９ｍｍ支持ロッドに焼結させた。約８ｃｍ
の長さの溶融部分は取り除き、長さ約５９ｃｍの管が残
った。

【００３１】ＭＣＶＤにより生成したコアロッドは△⁺
＝０．３５％（アンドープシリカより大きい）の屈折率
を有するＧｅＯ₂ ドープコア、△^- ＝０．１１％の屈折
率のフッ素ドープクラッド及び１６ｍｍの外径を有す
る。ロッドは管中に挿入された。合成プリフォームの作
製は、表面バーナーを有する垂直旋盤上で行った。水銀
の２５−２７インチの真空は、ゾル−ゲル管をコアロッ
ドにつぶす際、助けとなった。構成は１０ｒｐｍで回転
され、１．２ｃｍ／分の速度で上下を逆にして、溶融さ
せた。オーバークラッド温度は、いくつかの目的を達成
するのに、十分であった。（１）ゾル−ゲル管中の残留
空孔の除去、（２）管のコアロッドへのつぶし及び
（３）管−コアロッド界面での溶融。得られたプリフォ
ームは２．６ｍｍ径のコアと４０ｍｍＯＤを有した。そ
の他の作製の詳細は、米国特許第４，８２０，３３２号
の指針に従った。

【００３２】プリフォームは２２００℃で動作するｒ．
ｆ．ＺｒＯ₂ 誘導炉を用いて、１２５μｍ径のファイバ
に引いた。引張り速度は毎秒３．９メートルで、引張り
中の張力は７５グラムであった。ＵＶなましアクリルの
二重被覆を施した。引張ったファイバは、被覆を除いて
８．２μｍのコアと、１２５μｍの外径を有した。

【００３３】選択された試料上で測定した挿入損は、
１．３μｍにおいて＜０．４ｄＢ／ｋｍ、１．５５μｍ
で＜０．２２／ｋｍと最もよく入手しうる市販のファイ
バと同程度であった。

【００３４】沈澱物の分析すなわち堆積すべき第１の
“層”の分析結果である例で報告するために、測定を選
んだ。びんからとり出したケーキの下側のエネルギー分
散スペクトルＸ線分析は、約２５μｍの深さまで感度を
もつ。これらの目的のために、その２５μｍの厚さを、
“層”と考える。例によっては、遠心分離の時間を報告
している。報告されている時間は、報告されている遠心
分離の条件下で、得られる本質的な最大値を生じるのに
必要な時間である。ＳｉＯ₂ 懸濁液粒子の数は、プロセ
スを著しく分断し、乾燥中ゲル基体を破損するような量
まで、減らすべきではない。３０重量％のゾル粒子を維
持することが、適切であるとわかった。沈澱の時間を測
定した例において、堆積速度は本質的な時間、本質的に
一定に保った。これはそれ自身遠心分離プロセスを洞察
することになり、初期の沈澱はより高密度で、粒子の寸
法はより大きい。沈澱速度はこの初期の時間中変わらな
いから、より遅く移動する粒子の到達時間は、より速く
移動する粒子が初期に選択されることにより、幾分補償
されると結論づけなければならない。速度が低下するこ
とは、ゾルの好ましくない希釈を意味する。遠心分離
は、低下の前に終了すべきである。

【００３５】例は粒子の分離に関して異なり、それを用
いた場合は、図に関係して述べたびん遠心分離の形をと
る。例１は基本の役目をもち（それから何もとり出さ
ず、何も添加しない処理したままのゾルである）、未処
理のゾルを利用している。他の例は、寸法及び組成が変
わる粒子汚染物質を意図的にドープしたゾルを用いた。
例を表の形で示す。

【００３６】

【表１】

【００３７】示されている加速の値は、平均の値であ
る。−それらはびんの高さの中央にある粒子に基づく。
実効的なレバーアームは、約１５インチ（１２インチ長
のアーム＋５インチボトルの長さの半分）である。ケー
キの残りは、すべての例でＳｉＯ₂ であった。これに示
す△層は、汚染を示さなかった。

【００３８】例とともに議論は第１に可能性のあるゾル
−ゲルファイバ作製の商業的な適合性に向けられてき
た。すなわち、挿入されたコアロッドを含むシンタ（焼
結，シンタリング）されたゾル−ゲル管で構成された合
成プリフォームから引くファイバ引張りに基づく作製に
向けられてきた。進歩した点は、ロッドの周囲にオーバ
ークラッドがゲル化されるプロセスとともに、すでに含
まれたコアロッドの周囲に、管がシンタされることを含
む別の方法にも、等しくあてはまる。進歩した点は、全
体をゾル−ゲル誘導されたプリフォームとともに、すべ
てのそのような合成プリフォームから引いたファイバ中
の破損を減らすことに、価値がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】例で用いられる遠心分離装置を示す図である。
一般的に、“びん”遠心分離と表わし区別されているの
は、“びん”の底に塊として集められるものである。

【符号の説明】

１０・・・・・・びん １１・・・・・・回転子アーム １２・・・・・・回転子 １３・・・・・・沈澱物

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スハス ダッタトレヤ バンダーカー アメリカ合衆国 07974 ニュージャー シィ，マレイ ヒル，１−エー，サウス ゲート ロード 68 (72)発明者 ハリッシュ シー．チャンダン アメリカ合衆国 30278 ジョージア, スネルヴィル，ブライス ウォーク 1545 (72)発明者 ディヴィッド ウィルフレッド ジョン ソン，ジュニヤ アメリカ合衆国 07921 ニュージャー シィ，ベッドミンスター，オークラ レ ーン ５ (72)発明者 ジョン バーネット マックチェスニー アメリカ合衆国 08833 ニュージャー シィ，レバノン，クレートタウン ロー ド 187 (56)参考文献 特開 昭61−40825（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−97136（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−232230（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−232233（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−186236（ＪＰ，Ａ)

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ゾル−ゲル基体を含むプリフォームから
   ファイバを延伸し、ゾル−ゲル基体はゾルのゲル化と、
   それに続く多孔質性基体への乾燥及び焼結（シンタリン
   グ）により作製され、ゾルは水中のＳｉＯ_２ 懸濁粒子
   を含み、懸濁粒子は基本的に、０．００５μｍないし
   ０．２μｍの範囲内の寸法をもつ光ファイバの作製方法
   において、 ゾルは、そのような懸濁粒子より大きな密度、及びその
   ような懸濁粒子より大きな寸法を含む類から選択された
   少なくとも１つの特性に基いて、汚染粒子を除去するよ
   うにさらに処理（プロセス）され、このさらなるプロセ
   スは、遠心分離、沈降、あるいは濾過を含み、かつ、こ
   のさらなるプロセスは、０．２μｍないし１μｍの寸法
   の耐熱性粒子の実質的な分離をもたらす（ここで耐熱性
   というのは得られるファイバ中には同化されない粒子を
   示す）ことを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 プロセスは、遠心分離を含む請求項１記
   載の方法。
3. 【請求項３】 遠心分離により、懸濁粒子の寸法≧２μ
   ｍの集合体の耐熱性粒子が実質的に分離される請求項２
   記載の方法。
4. 【請求項４】 耐熱性粒子は、ＺｒＯ_２ 、ＴｉＯ_２ 及
   びＣｒ_２Ｏ_３から成る類から選択された少なくとも１つ
   の組成を含む請求項３記載の方法。
5. 【請求項５】 ゾル−ゲル基体は、管状で、プリフォー
   ムは本質的に、そのようなゾル−ゲル基体により囲まれ
   たロッド形基体を含む請求項１記載の方法。
6. 【請求項６】 そのようなゾル−ゲル基体は、焼結され
   たままの状態では、それ自身を支持する管状基体で、そ
   のようなロッド形基体がその中に挿入され、プリフォー
   ムを生じる請求項５記載の方法。
7. 【請求項７】 そのようなロッド形基体は、修正化学気
   相堆積及びスートプロセスから成る類から選択されたプ
   ロセスにより作製され、スートプロセスは更に気相軸堆
   積及び外部気相堆積から選択される請求項６記載の方
   法。
8. 【請求項８】 そのようなゾル−ゲル基体は、挿入され
   たロッド形基体の存在下で焼結される請求項５記載の方
   法。
9. 【請求項９】 請求項１ないし８のいずれかのプロセス
   により生産された光ファイバ。