JP3530069B2 - フローセンサ - Google Patents

フローセンサ

Info

Publication number
JP3530069B2
JP3530069B2 JP12062399A JP12062399A JP3530069B2 JP 3530069 B2 JP3530069 B2 JP 3530069B2 JP 12062399 A JP12062399 A JP 12062399A JP 12062399 A JP12062399 A JP 12062399A JP 3530069 B2 JP3530069 B2 JP 3530069B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow sensor
base
temperature
micro
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP12062399A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000310553A (ja
Inventor
清志 小田
康広 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yazaki Corp
Original Assignee
Yazaki Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yazaki Corp filed Critical Yazaki Corp
Priority to JP12062399A priority Critical patent/JP3530069B2/ja
Publication of JP2000310553A publication Critical patent/JP2000310553A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3530069B2 publication Critical patent/JP3530069B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Volume Flow (AREA)
  • Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、流量計測として用
いることができる流速センサ(以下、フローセンサと称
する。)に関し、特にダスト、ドレン等が付着しにくい
構造を有したフローセンサに関する。 【0002】 【従来の技術】図8に従来の熱型のマイクロフローセン
サのチップ構成図を示す。このマイクロフローセンサ
は、Si基体102、ダイアフラム103、ダイアフラ
ム103上に形成されたマイクロヒータ104、マイク
ロヒータ104の下端でダイアフラム103上に形成さ
れた下流側サーモパイル105、マイクロヒータ104
に駆動電流を供給する電極からなる電源端子106A,
106B、マイクロヒータ104の上端でダイアフラム
103上に形成された上流側サーモパイル108、上流
側サーモパイル108から出力される第1温度検出信号
を出力する電極からなる第1出力端子109A,109
B、下流側サーモパイル105から出力される第2温度
検出信号を出力する電極からなる第2出力端子107
A,107B、ガス温度(外部温度)を測定するための
抵抗115,116、この抵抗115,116からのガ
ス温度信号を出力する電極からなる出力端子117A,
117Bを備える。 【0003】このような構成のマイクロフローセンサに
よれば、マイクロヒータ104が、外部からの駆動電流
により流体を加熱すると、このマイクロヒータ104の
加熱と並行して、上流側サーモパイル108は、マイク
ロヒータ104による加熱される前の流体の温度を検出
し、第1の温度検出信号を出力する。 【0004】また、下流側サーモパイル105は、マイ
クロヒータ104による加熱された後の流体の温度を検
出し、第2の温度検出信号を出力するので、第1温度検
出信号と第2温度検出信号との差信号に基づき、Pから
Qにへ向かって流れる流体の流量を算出することができ
る。 【0005】また、図9に図8に示す従来の熱型のマイ
クロフローセンサの全体構成図を示す。Si基体2は、
図9に示すように、ステム131の表面の中央に配置さ
れ、このSi基体2上の各端子における各電極は、ボン
ディングワイヤ(以下、ワイヤと称する。)121を介
して、ステム131を貫通する丸棒状のピン123に電
気的に接続されている。 【0006】このピン123は、ステム131によって
計測対象流体(以下、流体と略称する。)と外部との気
密を保持しながら、且つ、絶縁をとりながら、各電極を
外部に取り出すようになっている。 【0007】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
マイクロフローセンサにあっては、ワイヤ121に、ダ
スト、ドレン等が付着しやすく、ワイヤ121の断線や
隣接電極との短絡が発生しやすくなっていた。 【0008】また、ワイヤ121やピン123が流体の
流れを乱し、マイクロフローセンサの固体差を発生させ
る一因ともなっていた。さらに、ワイヤ121は、マイ
クロフローセンサの構成部品の中で最も耐久性がない部
分であり、信頼性に欠けていた。 【0009】そこで、ワイヤ121の断線や隣接電極と
の短絡をモニタする方法も考えられるが、結局のとこ
ろ、従来のマイクロフローセンサは、故障しやすいよう
な構造となっているため、例えば、マイクロフローセン
サをガスメータに用いた場合に、マイクロフローセンサ
が故障した際には、センサを容易に交換することができ
なかったため、センサを交換できない間、流体の流量計
測が行えず、ガスを遮断しておかなければならない等の
問題が発生してくる。 【0010】本発明は、ダスト、ドレン等が付着しにく
く、耐久性が良好なフローセンサを提供することを課題
とする。 【0011】 【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために以下の構成とした。請求項1の発明のフロ
ーセンサは、基体の表面上に形成され、外部からの駆動
電流により流路を流れる計測対象流体を加熱するヒータ
と、前記基体の表面上に形成され、前記ヒータに対して
前記計測対象流体の上流側に配置され、前記計測対象流
体の温度を検出し、第1温度検出信号を出力する上流側
温度センサと、前記基体の表面上に形成され、前記ヒー
タに対して前記計測対象流体の下流側に配置され、前記
計測対象流体の温度を検出し、第2温度検出信号を出力
する下流側温度センサと、前記基体の表面上に形成さ
れ、前記ヒータ、前記上流側温度センサ及び前記下流側
温度センサの各々について各々に配線された複数の電極
とを備え、前記基体の内の前記電極の位置に対応する基
体部分に、前記電極から前記基体の面まで複数の溝部
を形成し、前記複数の溝部の各々の位置にあたる位置
に、基台の表面上に突出する外部出力部材を設け、前記
溝部に固定する部材である導電性部材を埋め込み、前記
基台上の前記外部出力部材が前記導電性部材に埋め込ま
れ、前記基体を前記基台に固定し、かつ、前記電極を外
部に取り出したことを特徴とする。 【0012】請求項1の発明のフローセンサによれば、
ヒータは、外部からの駆動電流により計測対象流体を加
熱する。このヒータの加熱と並行して、上流側温度セン
サは、ヒータによる加熱される前の計測対象流体の温度
を検出し、第1の温度検出信号を出力する。下流側温度
センサは、ヒータによる加熱された後の計測対象流体の
温度を検出し、第2の温度検出信号を出力するので、第
1温度検出信号と第2温度検出信号との差信号に基づき
流量を算出することができる。 【0013】また、ヒータ、上流側温度センサ及び下流
側温度センサの各々には電極が配線され、基体の内の電
極の位置に対応する基体部分には、電極から基体の
まで複数の溝部が形成され、複数の溝部の各々の位置に
あたる位置に、基台の表面上に突出する外部出力部材が
設けられ、溝部に固定する部材である導電性部材を埋め
込み、基台上の外部出力部材が導電性部材に埋め込ま
れ、基体を基台に固定し、かつ、電極を外部に取り出し
た。即ち、導電性部材を介して基体上の電極を外部に取
り出すことができるとともに、ワイヤを用いていないた
め、ダスト、ドレン等が付着しにくく、しかも耐久性が
良好となる。また、ワイヤボンディング工程とダイボン
ディング工程とが1つの工程となるため、ワイヤボンデ
ィング工程が削減され、大幅な工数削減となり、フロー
センサが安価となる。 【0014】 【0015】 【0016】 【0017】 【0018】 【0019】 【0020】 【0021】 【発明の実施の形態】以下、本発明のフローセンサの実
施の形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は実施
の形態のマイクロフローセンサの全体構成図である。図
2は実施の形態のマイクロフローセンサのチップ構成図
である。 【0022】マイクロフローセンサは、図2に示すよう
に、支持基板としてのSi基体2、このSi基体2の表
面に形成されたダイアフラム3、ダイアフラム3上に形
成された白金等からなるマイクロヒータ4、マイクロヒ
ータ4に対して下流側でダイアフラム3上に形成された
下流側温度センサとしての下流側サーモパイル5、マイ
クロヒータ4に図示しない電源から駆動電流を供給する
電極としての金属膜6A,6B、マイクロヒータ4に対
して上流側でダイアフラム3上に形成された上流側温度
センサとしての上流側サーモパイル8、上流側サーモパ
イル8から出力される第1温度検出信号を出力する電極
としての金属膜9A,9B、下流側サーモパイル5から
出力される第2温度検出信号を出力する電極からなる金
属膜7A,7B、ガス温度(外部温度)を測定する抵抗
15,16、この抵抗15,16からのガス温度信号を
出力する電極からなる金属膜17A,17Bを備える。 【0023】上流側サーモパイル8、下流側サーモパイ
ル5は、熱電対から構成されている。この熱電対は、p
++−Si及びAlにより構成され、冷接点と温接点とを
有し、熱を検出し、冷接点と温接点との温度差から熱起
電力が発生することにより、温度検出信号を出力するよ
うになっている。 【0024】また、図1に示すように、Si基体2は、
基台としてのステム23上に載せられており、基体2の
内の金属膜7(7A,7B),9(9A,9B)の先端
部分に対応する基体部分には、基体2の裏面から金属膜
7(7A,7B),9(9A,9B)の先端部分までテ
ーパ状の溝部21が形成されている。 【0025】この溝部21には導電性部材としてのハン
ダ22が埋め込まれており、このハンダ22には外部出
力部材としてのピン24が電気的に接触して取り付けら
れている。このピン24は、ステム23を貫通してい
て、ハンダ22の位置に対応して設けられている。ま
た、ハンダ22がピン24と接触することにより、Si
基体2全体をステム23に固定している。 【0026】なお、ピン24の代わりに、パットを用い
ても良い。また、ステム23の代わりに、実装基板を用
いてもよい。 【0027】このように構成されたマイクロフローセン
サによれば、Si基体2の表面に配線された電極である
金属膜7に対応するSi基体2の裏面の位置に溝部21
が形成され、この溝部21にハンダ22が埋め込まれて
いて、このハンダ22にピン24が接触しているため、
Si基体2の電極がハンダ22を介してピン24に電気
的に導通する。 【0028】従って、Si基体2の電極を外部に容易に
取り出すことができるとともに、従来のようなワイヤを
用いていないため、ダスト、ドレン等が付着しにくくな
り、また、耐久性が良好となる。 【0029】また、このように構成されたマイクロフロ
ーセンサによれば、マイクロヒータ4が、外部からの駆
動電流により加熱を開始すると、マイクロヒータ4から
発生した熱は、流体を媒体として、下流側サーモパイル
5と上流側サーモパイル8のそれぞれの温接点に伝達さ
れる。それぞれのサーモパイルの冷接点は、Si基体
(Si基板)上にあるので、基体温度になっており、そ
れぞれの温接点は、ダイアフラム上にあるので、伝達さ
れた熱により加熱され、Si基体温度より温度が上昇す
る。そして、それぞれのサーモパイルは、温接点と冷接
点の温度差より熱起電力を発生し、温度検出信号を出力
する。 【0030】流体を媒体として伝達される熱は、流体の
熱拡散効果とPからQに向かって流れる流体の流速との
相乗効果によって、それぞれのサーモパイルに伝達され
る。すなわち、流速がない場合には、熱拡散によって上
流側サーモパイル8と下流側サーモパイル5に均等に伝
達され、上流側サーモパイル8からの第1温度検出信号
と下流側サーモパイル5からの第2温度検出信号の差信
号は、零になる。 【0031】一方、流体に流速が発生すると、流速によ
って上流側サーモパイル8の温接点に伝達される熱量が
多くなり、前記第2温度検出信号と前記第1温度検出信
号との差信号は流速に応じた正値になる。このため、上
流側サーモパイル8からの第1温度検出信号と下流側サ
ーモパイル5からの第2温度検出信号との差信号に基づ
いて流体の流量を算出することができる。 【0032】さらに、マイクロフローセンサによれば、
ダイアフラム3上に、マイクロヒータ4、上流側サーモ
パイル8、下流側サーモパイル5を形成したので、これ
らの熱容量を小さくして、消費電力を低減することがで
きる。 【0033】図3は実施の形態のマイクロフローセンサ
の一例の概略上面図である。図4は実施の形態のマイク
ロフローセンサを作製する作製工程を示す図である。図
3に示すマイクロフローセンサは、マイクロヒータ4
a、上流側サーモパイル8a、下流側サーモパイル5
a、リファレンス抵抗16aを有する。 【0034】なお、図4に示すマイクロフローセンサの
各図は、図3におけるA−A′間の断面図である。 【0035】次に、図4を参照して実施の形態のマイク
ロフローセンサの作製方法を説明する。まず、図4
(a)に示すようなSi基体2となるSiウェハ6を用
意し、図4(b)に示すように、Siウェハ6の表面及
び裏面を酸化することにより、SiO2からなる絶縁膜
31をSiウェハ6の表面及び裏面に形成する。 【0036】次に、絶縁膜31をフォトリソグラフィ工
程によりエッチングし、Siウェハ6の上面に窓を開
け、p型不純物であるホウ素を高濃度に拡散し、P++
Si層32を形成する。そして、P++−Si層32を形
成した後、表面の絶縁膜31を除去し、Siウェハ6の
表面及び裏面を酸化することにより、再び絶縁膜31を
Siウェハ6の表面及び裏面に形成する。 【0037】次に、同様なフォトリソグラフィ工程によ
り、Siウェハ6に、図4(c)に示すように、絶縁膜
31を除去して、サーモパイル用コンタクトホール33
及び電極取り出し用コンタクトホール34を形成する。 【0038】一方、Siウェハ6裏面にも同様なフォト
リソグラフィ工程により、ダイアフラム及び電極取り出
し用コンタクトホール34の相当部分の絶縁膜31を除
去して、Siエッチング窓36を形成する。 【0039】次に、図4(d)に示すように、配線用の
AL薄膜等の金属膜37を真空蒸着法などにより形成
し、フォトリソグラフィにより配線パターン部分だけを
残し、不要な金属膜をエッチングにより除去する。 【0040】次に、図4(e)に示すように、Siウェ
ハ6の裏面を絶縁膜31をマスクとして異方性エッチン
グし、凹部を形成することによりダイアフラム3及び溝
部21を形成する。すなわち、Siウェハ6の表面に配
線された金属膜37による電極の裏面に対してエッチン
グによって溝部21を形成する。ここで、図示しないダ
イシング工程により、チップ状にウェハを切断し、マイ
クロフローセンサチップ(基体)とする。 【0041】さらに、図4(f)に示すように、形成さ
れた溝部21にハンダ22を埋め込む。なお、ハンダ2
2の代わりに、導電性ペーストを溝部21に埋め込むよ
うにしてもよい。 【0042】次に、ステム23のSi基体2を配置する
部分の内の溝部21が接触する部分に、外部に電極を取
り出すためのピン24またはパットを設ける。そして、
Si基体2をステム23に載せる(ダイボンディング工
程)。 【0043】これによって、ハンダ22を介して電極で
ある金属膜37とピン24とが電気的に導通し、外部に
センサチップの電極が取り出せる。このとき、ハンダ2
2を用いた場合には、400℃ほど加熱すればよく、導
電性ペーストを用いた場合には、数時間乾燥させればよ
い。 【0044】図6は従来のマイクロフローセンサの一例
の概略上面図である。図7は従来のマイクロフローセン
サを作製する作製工程を示す図である。図6に示すマイ
クロフローセンサは、マイクロヒータ104b、上流側
サーモパイル108b、下流側サーモパイル105b、
リファレンス抵抗116bを有する。 【0045】なお、図7に示すマイクロフローセンサの
各図は、図6におけるA−A′間の断面図である。 【0046】次に、図7を参照して従来のマイクロフロ
ーセンサの作製方法を説明する。まず、図7(a)及び
図7(b)の工程は、図4(a)及び図4(b)の工程
と同様であるので、ここでは、その説明は省略する。 【0047】次に、フォトリソグラフィ工程により、図
7(c)に示すように、絶縁膜31を除去して、サーモ
パイル用コンタクトホール33を形成する。また、裏面
はダイアフラムに対応するマスクで露光を行い、ダイア
フラムの相当部分の絶縁膜31を除去して、Siエッチ
ング窓36aを形成する。 【0048】次に、図7(d)に示すように、配線用の
AL薄膜等の金属膜37を真空蒸着法などにより形成
し、フォトリソグラフィにより配線パターン部分だけを
残し、不要な金属膜をエッチングにより除去する。 【0049】次に、図7(e)に示すように、Siウェ
ハ6の裏面を絶縁膜31をマスクとして異方性エッチン
グし、凹部を形成することによりダイアフラム103を
形成する。ここで、図示しないダイシング工程により、
チップ状にウェハを切断し、マイクロフローセンサチッ
プ(基体)とする。 【0050】さらに、図7(f)に示すように、Si基
体2の裏面の絶縁膜31にハンダ22を接合して、ステ
ム131に固定する(ダイボンディング工程)。このス
テム131の両端にはピン123を貫通して設けてあ
る。 【0051】その後に、図7(g)に示すように、ピン
123と電極である金属膜37とをワイヤ121で接続
する(ワイヤボンディング工程)。 【0052】このように、図4に示す実施の形態のマイ
クロフローセンサの作製工程は、図7に示す従来のマイ
クロフローセンサの作製工程に対して、ワイヤボンディ
ング工程とダイボンディング工程とが1つの工程とな
る。 【0053】すなわち、ワイヤボンディング工程が削減
され、電極取り出しは、従来のダイボンディング工程に
含まれることになる。従って、工数を大幅に削減するこ
とができるため、マイクロフローセンサが安価となる。 【0054】次に、実施の形態のマイクロフローセンサ
を用いた流体の流量計測を説明する。図5は実施の形態
のマイクロフローセンサを用いた流量計測装置の構成ブ
ロック図である。 【0055】この流量計測装置は、例えば、ガス等の流
体の流量を計測するものであり、マイクロフローセンサ
内の下流側サーモパイル5からの第2温度検出信号を増
幅するアンプ38aと、マイクロフローセンサ内の上流
側サーモパイル8からの第1温度検出信号を増幅するア
ンプ38bと、アンプ38aから出力される第2温度検
出信号とアンプ38bから出力される第1温度検出信号
との差信号を増幅する差動アンプ39と、差動アンプ3
9で得られた第2温度検出信号と第1温度検出信号との
差信号に基づき流体の流量を算出する流量算出部41を
有するマイクロコンピュータ40とを備えて構成され
る。 【0056】次に、実施の形態の流量計測装置の動作を
説明する。まず、外部からのパルス信号による駆動電流
によりマイクロヒータ4を加熱すると、下流側サーモパ
イル5から第2温度検出信号が出力され、上流側サーモ
パイル8から第1温度検出信号が出力される。第2温度
検出信号は、アンプ38aで増幅されて差動アンプ39
に出力され、第1温度検出信号は、アンプ38bで増幅
されて差動アンプ39に出力される。 【0057】そして、差動アンプ39が、アンプ38a
からの第2温度検出信号とアンプ38bからの第1温度
検出信号との差信号を増幅するので、流量算出部41に
より、差動アンプ39からの差信号に基づき流体の流量
を算出することができる。 【0058】なお、本発明は実施の形態のマイクロフロ
ーセンサに限定されるものではない。実施の形態では、
温度センサとしてサーモパイルを用いたが、例えば、温
度センサとして測温抵抗を用いても良い。このほか、本
発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、種々変形して
実施可能であるのは勿論である。 【0059】 【発明の効果】請求項1の発明のフローセンサによれ
ば、ヒータは、外部からの駆動電流により計測対象流体
を加熱する。このヒータの加熱と並行して、上流側サー
モパイルは、ヒータによる加熱される前の計測対象流体
の温度を検出し、第1の温度検出信号を出力する。下流
側サーモパイルは、ヒータによる加熱された後の計測対
象流体の温度を検出し、第2の温度検出信号を出力する
ので、第1温度検出信号と第2温度検出信号との差信号
に基づき流量を算出することができる。 【0060】また、ヒータ、上流側温度センサ及び下流
側温度センサの各々には電極が配線され、基体の内の電
極の位置に対応する基体部分には、電極から基体の
まで複数の溝部が形成され、複数の溝部の各々の位置に
あたる位置に、基台の表面上に突出する外部出力部材が
設けられ、溝部に固定する部材である導電性部材を埋め
込み、基台上の外部出力部材が導電性部材に埋め込ま
れ、基体を基台に固定し、かつ、電極を外部に取り出し
た。即ち、導電性部材を介して基体上の電極を外部に取
り出すことができるとともに、ワイヤを用いていないた
め、ダスト、ドレン等が付着しにくく、しかも耐久性が
良好となる。また、ワイヤボンディング工程とダイボン
ディング工程とが1つの工程となるため、ワイヤボンデ
ィング工程が削減され、大幅な工数削減となり、フロー
センサが安価となる。 【0061】 【0062】 【0063】 【0064】
【図面の簡単な説明】 【図1】実施の形態のマイクロフローセンサの全体構成
図である。 【図2】実施の形態のマイクロフローセンサのチップ構
成図である。 【図3】実施の形態のマイクロフローセンサの一例の概
略上面図である。 【図4】実施の形態のマイクロフローセンサを作製する
作製工程を示す図である。 【図5】実施の形態のマイクロフローセンサを用いた流
量計測装置の構成ブロック図である。 【図6】従来のマイクロフローセンサの一例の概略上面
図である。 【図7】従来のマイクロフローセンサを作製する作製工
程を示す図である。 【図8】従来の熱型のマイクロフローセンサのチップ構
成図である。 【図9】図8に示す従来の熱型のマイクロフローセンサ
の全体構成図である。 【符号の説明】 2 Si基体 3 ダイアフラム 4 マイクロヒータ 5 下流側サーモパイル 6 Siウェハ 7,9 金属膜 8 上流側サーモパイル 21 溝部 22 ハンダ 23 ステム 24 ピン 31 絶縁膜 33 サーモパイル用コンタクトホール 36a Siエッチング窓 37 金属膜 38a,38b アンプ 39 差動アンプ 40 マイクロコンピュータ 41 流量算出部 121 ワイヤ 123 ピン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01F 1/00 - 9/02

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 基体の表面上に形成され、外部からの駆
    動電流により流路を流れる計測対象流体を加熱するヒー
    タと、 前記基体の表面上に形成され、前記ヒータに対して前記
    計測対象流体の上流側に配置され、前記計測対象流体の
    温度を検出し、第1温度検出信号を出力する上流側温度
    センサと、 前記基体の表面上に形成され、前記ヒータに対して前記
    計測対象流体の下流側に配置され、前記計測対象流体の
    温度を検出し、第2温度検出信号を出力する下流側温度
    センサと、 前記基体の表面上に形成され、前記ヒータ、前記上流側
    温度センサ及び前記下流側温度センサの各々について各
    々に配線された複数の電極とを備え、 前記基体の内の前記電極の位置に対応する基体部分に、
    前記電極から前記基体の面まで複数の溝部を形成し、
    前記複数の溝部の各々の位置にあたる位置に、基台の表
    面上に突出する外部出力部材を設け、前記溝部に固定す
    る部材である導電性部材を埋め込み、前記基台上の前記
    外部出力部材が前記導電性部材に埋め込まれ、前記基体
    を前記基台に固定し、かつ、前記電極を外部に取り出し
    ことを特徴とするフローセンサ。
JP12062399A 1999-04-27 1999-04-27 フローセンサ Expired - Lifetime JP3530069B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12062399A JP3530069B2 (ja) 1999-04-27 1999-04-27 フローセンサ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12062399A JP3530069B2 (ja) 1999-04-27 1999-04-27 フローセンサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000310553A JP2000310553A (ja) 2000-11-07
JP3530069B2 true JP3530069B2 (ja) 2004-05-24

Family

ID=14790819

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12062399A Expired - Lifetime JP3530069B2 (ja) 1999-04-27 1999-04-27 フローセンサ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3530069B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2003063258A1 (ja) * 2002-01-24 2005-05-26 三菱電機株式会社 半導体装置
KR101072296B1 (ko) 2008-12-22 2011-10-12 한국전자통신연구원 열 대류형 마이크로 가속도 측정 장치 및 이의 제조 방법
JP6148990B2 (ja) * 2014-01-27 2017-06-14 アズビル株式会社 センサおよびセンサ製造方法
WO2018196089A1 (zh) * 2017-04-24 2018-11-01 广东美的制冷设备有限公司 微型加热器及其加工方法
JP6993893B2 (ja) * 2018-02-16 2022-02-10 日立Astemo株式会社 半導体素子及びそれを用いた流量測定装置
CN112484800B (zh) * 2020-11-24 2022-02-22 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 热堆式气体质量流量传感器及其制备方法
CN112461312B (zh) * 2020-11-24 2022-08-30 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 热堆式气体质量流量传感器及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000310553A (ja) 2000-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8667839B2 (en) Heat conduction-type sensor for calibrating effects of temperature and type of fluid, and thermal flow sensor and thermal barometric sensor using this sensor
US7536908B2 (en) Micromachined thermal mass flow sensors and insertion type flow meters and manufacture methods
JP2880651B2 (ja) 熱式マイクロフローセンサ及びその製造方法
JPH0781892B2 (ja) 半導体集積回路、その製造方法、および流速計を提供するためのそのような回路の使用
EP2682720B1 (en) Heat-type flow meter
JP3324855B2 (ja) 質量流量センサ
JP2009529695A (ja) 熱式気体質量流量センサおよびそれを形成する方法
JP3530069B2 (ja) フローセンサ
US6725716B1 (en) Thermo-sensitive flow rate sensor and method of manufacturing the same
US6378365B1 (en) Micromachined thermal flowmeter having heating element disposed in a silicon island
EP1870681B1 (en) Thermal type flow rate measuring apparatus
US4930347A (en) Solid state microanemometer with improved sensitivity and response time
CN108185526B (zh) 一种集成二极管温度传感器的mems发热芯片及其制造方法
EP1705463B1 (en) Sensing device for measuring a fluid flow and a liquid level
JP3500040B2 (ja) フローセンサ
Ye et al. DRIE trenches and full-bridges design for sensitivity improvement of MEMS silicon thermal wind sensor
JPH06105177B2 (ja) 感熱式流量センサ
JPH11258055A (ja) サーモパイル型温度センサ
JPH102773A (ja) 熱式空気流量計
JPH04372865A (ja) シリコンを用いた流速測定装置
JP2000241257A (ja) 絶縁性基板の温度センサ装置
JP2018124225A (ja) 熱伝導式センサ
JP3252375B2 (ja) 流速センサ
JP2003106884A (ja) 気流センサ
JPH10221144A (ja) マイクロヒータ及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20031226

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040210

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040226

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090305

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100305

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100305

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110305

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110305

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120305

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120305

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305

Year of fee payment: 9