JP3529240B2 - Screen plate manufacturing method - Google Patents

Screen plate manufacturing method

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JP3529240B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はスクリーン版の製造
方法に係り、さらに詳しくは円錐状バンプの印刷・形成
に適するバンプ形成用スクリーン版の製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a screen printing plate, and more particularly to a method of manufacturing a screen printing plate for bump formation suitable for printing and forming a conical bump.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、導電性ペーストの応用とし
て、配線基板などの配線パターン形成、あるいは配線パ
ターン層間の電気的な接続部の構成などが知られてい
る。すなわち、多層配線基板の製造においては、絶縁体
層を介して一体的に配設される配線パターン層間の電気
的な接続(スルホール接続)を導電性ペーストの埋め込
みによって行うことが試みられている。より具体的に説
明すると、配線パターン層間の電気的な接続箇所に、絶
縁体層を貫通(貫挿)する孔を穿設し、この孔内壁面に
導電性のメッキ層を成長させ、所要のスルホール接続を
形成する代りに、孔内に導電性ペーストを充填・埋め込
み、所要のスルホール接続を形成することが知られてい
る。
2. Description of the Related Art For example, as an application of a conductive paste, formation of a wiring pattern such as a wiring board, or a structure of an electrically connecting portion between wiring pattern layers is known. That is, in the manufacture of a multilayer wiring board, it has been attempted to make electrical connection (through hole connection) between wiring pattern layers that are integrally arranged via an insulating layer by embedding a conductive paste. More specifically, a hole penetrating (inserting) through the insulating layer is formed at an electrical connection point between the wiring pattern layers, and a conductive plating layer is grown on the inner wall surface of the hole to form a required layer. It is known that instead of forming the through-hole connection, a conductive paste is filled and embedded in the hole to form a required through-hole connection.

【0003】このスルホール接続を形成する手段は、配
線パターンの高密度化(もしくは微細線化)などに伴っ
て、精度の高い孔の穿設が困難化するなどの問題もあ
り、絶縁体層を貫通(貫挿)する孔の穿設加工が大幅に
煩雑化する傾向にある。加えて、前記スルホール接続を
形成する貫通(貫挿)孔が小径化した場合、前記メッキ
層の均一な成長困難さや、導電性ペーストの緻密な充填
・埋め込みが困難となって、形成するスルホール接続の
信頼性に問題がある。
The means for forming the through-hole connection has a problem that it is difficult to form holes with high accuracy as the wiring pattern becomes denser (or finer), and the insulating layer is used. There is a tendency that the process of forming a hole that penetrates (inserts) becomes significantly complicated. In addition, when the diameter of the through hole forming the through-hole connection is reduced, it is difficult to uniformly grow the plating layer and it is difficult to densely fill / embed the conductive paste, and thus the through-hole connection is formed. There is a problem with the reliability of.

【0004】また、配線パターン層間の絶縁体層とし
て、たとえば熱可塑性樹脂シートを用いる一方、前記配
線パターンの所定位置に、予め導電性バンプを設置して
おき、これらを積層一体化する過程で、前記導電性バン
プが絶縁体層を貫通(貫挿)することを利用し、スルホ
ール接続を形成することも試みられている。
Further, for example, a thermoplastic resin sheet is used as an insulating layer between the wiring pattern layers, while conductive bumps are previously installed at predetermined positions of the wiring pattern, and they are laminated and integrated in the process. Attempts have also been made to form through-hole connections by utilizing the fact that the conductive bumps penetrate the insulating layer.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】たとえば多層配線基板
の製造において、導電性バンプ方式を利用した場合は、
メッキによってスルホール接続を形成する場合のよう
に、メッキ液の管理や後処理など煩雑な作業も回避でき
るので、実用的に多くの関心が払われつつある。特に、
導電性バンプをスクリーン印刷・配置しておき、絶縁体
層と積層一体化する加圧過程で、その絶縁体層を貫通
(貫挿)させ、この貫挿した導電性バンプ先端部を対向
する配線パターンに電気的に接続させる手段は、高密度
な配線基板の形成が可能なこと、生産性や歩留まり性が
良好なこと、などの点から注目される。ところで、導電
性バンプの形成には、次のようにして製造されたスクリ
ーン版が一般的に使用されている。
For example, when the conductive bump method is used in the manufacture of a multilayer wiring board,
Much attention is being paid to practical use because it is possible to avoid complicated operations such as management of plating liquid and post-treatment as in the case of forming through-hole connection by plating. In particular,
Conductive bumps are screen-printed and arranged in advance, and the insulating layer is pierced (inserted) in the pressure process of laminating and integrating with the insulating layer, and the tip end of the inserted conductive bump is opposed to the wiring. The means for electrically connecting to the pattern is noted from the viewpoints that it is possible to form a high-density wiring board, and that productivity and yield are good. By the way, a screen plate manufactured as follows is generally used for forming the conductive bumps.

【0006】(a)厚さ 0.1〜 2mm程度のステンレス鋼板
やリン青銅板の両主面の所定位置に、化学エッチング加
工(処理)によって貫通孔を形設してスクリーン版とす
る。
(A) Through holes are formed by chemical etching (treatment) at predetermined positions on both main surfaces of a stainless steel plate or a phosphor bronze plate having a thickness of about 0.1 to 2 mm to form a screen plate.

【0007】加工を施して貫通孔を形設してスクリーン
版とする。
The screen plate is formed by forming a through hole by processing.

【0008】(b)厚さ 0.3〜 2mm程度のステンレス鋼板
やリン青銅板の所定位置に、ドリル加工を施して貫通孔
を形設してスクリーン版とする。
(B) A screen plate is formed by forming a through hole by drilling at a predetermined position of a stainless steel plate or a phosphor bronze plate having a thickness of about 0.3 to 2 mm.

【0009】しかしながら、多層配線基板においては、
さらに、口径が 0.1mm程度と微小で、精度の高い寸法・
形状の導電性バンブが求められており、厚さ 0.1mmのス
テンレス鋼板などにアスペクト比が約 1の開口部を有す
るスクリーン版を得ようとすると、以下のような問題が
あり、その改善が望まれている。
However, in the multilayer wiring board,
Furthermore, the caliber is as small as 0.1 mm and the dimensions are highly accurate.
Shaped conductive bumps are required, and when trying to obtain a screen plate with an opening with an aspect ratio of about 1 on a stainless steel plate with a thickness of 0.1 mm, there are the following problems, and improvements are desired. It is rare.

【0010】先ず、 (a)の場合は、図4 (a)〜 (c)に製
造の実施態様を模式的に示すごとく、たとえばステンレ
ス鋼板1の両面に、レジスト層2を設け(図4 (a))、
このレジスト層2をパターニング(図4 (b))する。そ
の後、両面側からエッチングが進行するため、図4 (c)
に拡大して示すごとく、形設された貫通孔3の断面形状
は中央部径が小さくなるという問題がある。すなわち、
貫通孔3の断面形状が不揃いとなり、寸法・形状など精
度の高いスクリーン印刷を困難化するし、また、孔3内
壁面にバリが発生して、スクリーン版の破損を招来し易
いという問題がある。
First, in the case of (a), as shown schematically in FIGS. 4 (a) to 4 (c), a resist layer 2 is provided on both sides of a stainless steel plate 1 (see FIG. a)),
This resist layer 2 is patterned (FIG. 4 (b)). After that, as etching progresses from both sides, Fig. 4 (c)
As shown in the enlarged view of FIG. 1, the cross-sectional shape of the formed through hole 3 has a problem that the central portion diameter is small. That is,
There is a problem that the cross-sectional shapes of the through holes 3 become uneven, which makes it difficult to perform screen printing with high accuracy in terms of size and shape, and burrs are generated on the inner wall surface of the holes 3 to easily damage the screen plate. .

【0011】また、 (b)の場合は、ドリル加工への対応
性から、一般的に、ステンレス鋼板などの厚さは少なく
とも 0.3mm程度が望まれ、口径0.15〜 0.1mmでアスペク
ト比約 1の貫通孔を穿設することは事実上至難といえ
る。つまり、口径が 0.1mm程度と微小で、精度の高い寸
法・形状のバンプ形成用のスクリーン版の製造に、一般
的に、ドリル加工法は馴染まないといえる。
Further, in the case of (b), it is generally desired that the thickness of a stainless steel plate or the like is at least about 0.3 mm in view of compatibility with drilling, and that the aperture ratio is 0.15 to 0.1 mm and the aspect ratio is about 1. It can be said that it is practically difficult to form a through hole. In other words, it can be said that the drilling method is generally unsuitable for the production of a screen plate for forming bumps with a small diameter of about 0.1 mm and highly accurate size and shape.

【0012】本発明は上記事情に対処してなされたもの
で、開口径が高々0.15mm程度と微小で、かつ寸法・形状
精度の高いバンプなどを印刷・形成できるスクリーン
製造方法の提供を目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is a screen printing plate capable of printing and forming bumps or the like having an opening diameter as small as 0.15 mm at the most and having high dimensional and shape accuracy.
An object of the present invention is to provide a manufacturing method of.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、樹脂
系の接着剤層を介して剛性な第1の金属層および第2の
金属層が積層一体化して成る積層型薄板の第1の金属層
面に厚さ方向へ開口する比較的口径が大きい開口用レジ
ストパターニングする工程と、前記第2の金属層面に厚
さ方向へ開口する孔の中心軸を一致させて比較的口径が
小さい開口用レジストパターニングする工程と、前記レ
ジストパターニングした積層型薄板にエッチング処理を
施して、接着剤層を停止線として両金属層にそれぞれ所
定の開口を穿設する工程と、前記穿設した開口の底壁面
を成している接着剤層を除去する工程とを有することを
特徴とするスクリーン版の製造方法である
The invention according to claim 1 is a resin
A rigid first metal layer and a second rigid metal layer through the adhesive layer of the system.
A first metal layer of a laminated thin plate formed by laminating and integrating metal layers
Opening register with a relatively large diameter that opens in the thickness direction on the surface
And a step of patterning the second metal layer.
The central axes of the holes that open in the
A step of patterning a resist for a small opening;
Etching processing on laminated thin plates that have been patterned
The adhesive layer as a stop line on both metal layers.
A step of forming a fixed opening, and a bottom wall surface of the formed opening
And removing the adhesive layer forming
This is a method for producing a characteristic screen plate .

【0014】請求項2の発明は、樹脂系の接着剤層を介
して剛性な第1の金属層および第2の金属層が積層一体
化して成る積層型薄板の第1の金属層面に厚さ方向へ開
口する比較的口径が大きい開口用レジストパターニング
する工程と、前記第2の金属層面にレジスト層を設ける
工程と、前記レジスト層を設けた積層型薄板にエッチン
グ処理を施して、接着剤層を停止線として第1の金属層
に所定の開口を穿設する工程と、前記穿設した開口させ
た孔の中心軸を一致させて第2の金属層に小径の開口を
ドリルで穿設する工程とを有することを特徴とするスク
リーン版の製造方法である
According to a second aspect of the present invention, a resin-based adhesive layer is interposed.
And rigid first metal layer and second metal layer are laminated and integrated
Open in the thickness direction on the first metal layer surface of the laminated thin plate
Resist patterning for openings with relatively large diameter
And a resist layer is provided on the surface of the second metal layer.
Etching the laminated thin plate with the process and the resist layer
Is applied to the first metal layer using the adhesive layer as a stop line.
A step of forming a predetermined opening in the
Align the central axes of the holes to make a small-diameter opening in the second metal layer.
And a step of drilling with a drill.
This is a lean plate manufacturing method .

【0015】これらにより、ペーストが通過し、ペース
トバンプを形成する開口を備えたスクリーン版であっ
て、前記スクリーン版は、剛性な第1の金属層、樹脂系
の接着剤層および第2の金属層とから成り、かつ第1の
金属層の開口に対して接着剤層および第2の金属層の開
口が縮径しているスクリーン版が得られる
These allow the paste to pass through and
It is a screen version with an opening that forms a bump.
The screen plate is made of a rigid first metal layer, a resin-based material.
The adhesive layer and the second metal layer, and
Opening the adhesive layer and the second metal layer to the openings in the metal layer.
A screen plate with a reduced mouth is obtained .

【0016】または、このスクリーン版において、ペー
ストが通過する開口は第1の金属層部および第2の金属
層で階段的に縮径してものが得られる
Alternatively , in this screen version, the page
The openings through which the strike passes are the first metal layer portion and the second metal
It is possible to obtain things by reducing the diameter stepwise in layers .

【0017】すなわち、本発明は、たとえば導電性ペー
ストを選択的に通過させ、微細な導電性バンプを形成す
るためのスクリーン版に係るもので、対接・接合面に接
着樹脂層を介在させ、この樹脂層を選択エッチングのス
トッパーとして、シャープな内壁面を呈する微小径孔を
穿設することにより、精度も高い微小な径・形状の揃っ
た導電性バンプなどを形成できるスクリーン版の提供を
図ったものである。
That is, the present invention relates to a screen plate for selectively passing a conductive paste to form fine conductive bumps, for example, with an adhesive resin layer interposed on the contact / joining surface, This resin layer is used as a stopper for selective etching, and by piercing minute diameter holes that present a sharp inner wall surface, we are aiming to provide a screen plate that can form highly accurate conductive bumps with a minute diameter and shape. It is a thing.

【0018】本発明に係るスクリーン版の製造方法によ
り製造されるスクリーン版は、たとえば厚さ0.1〜 2.5m
m程度のステンレス鋼板、リン青銅板、真鍮板、ニッケ
ル系合金板、メッキ鋼板などの剛性を有する第1の金属
層に、合成樹脂系の接着剤層を介して、たとえば厚さ10
〜 100μm 程度の銅箔、ステンレス鋼箔など第2の金属
層を張合わせて成る積層型薄板を機本体として構成され
る。そして、前記微小口径の開口穿孔は、たとえば選択
エッチング処理、もしくは選択エッチング処理とドリル
加工との組み合わせで行われる。ここで、第1の金属層
は、機械的な強度ないし取扱易さを考慮して、その厚さ
が比較的厚く設定されるため、良好なアスペクト比の確
保に伴って大きめの口径の開口が穿設される。一方、第
2の金属層は、その厚さが比較的薄くて、アスペクト比
のよい微小な開口が穿設され、第1の金属層に支持され
た第2の金属層側が、実質的にスクリーン版として機能
する。
According to the method of manufacturing a screen plate according to the present invention
The screen plate produced by
A stainless steel plate, phosphor bronze plate, brass plate, nickel alloy plate, plated steel plate or the like having a rigidity of about 1 m, which has a thickness of, for example, 10
The machine body is composed of a laminated thin plate made by laminating a second metal layer such as copper foil or stainless steel foil of about 100 μm. Then, the perforation with a small diameter is performed by, for example, selective etching treatment or a combination of selective etching treatment and drilling. Here, since the thickness of the first metal layer is set to be relatively thick in consideration of mechanical strength and easiness of handling, an opening having a large diameter is formed in order to secure a good aspect ratio. Drilled. On the other hand, the second metal layer has a relatively small thickness and is formed with minute openings having a good aspect ratio, and the second metal layer side supported by the first metal layer is substantially a screen. Serves as a plate.

【0019】請求項1および2の発明では、煩雑な工程
など要せずに、緻密で、かつ微小孔径の断面形状に対応
し、全体的に、形状、寸法など揃った微細なバンプなど
を容易に印刷・形成できるスクリーン版を歩留まりよく
提供できる
In the inventions of claims 1 and 2, complicated steps are involved.
It is possible to correspond to the cross-sectional shape of a minute and fine hole without requiring
However, as a whole, fine bumps with uniform shapes and dimensions
Screen plate that can easily print and form
Can be provided .

【0020】このスクリーン版は、第1の金属層側が比
較的大きい口径に開口しており、この口径大側面を導電
性ペーストなどスキージングするため、口径小の第2の
金属層側の開口を圧入的に通過し、緻密なバンプが容易
に形成される。つまり、開口(貫通孔)の径は断面階段
的で、ペーストなど微小な孔から加圧吐出する形態を採
るため、緻密で、かつ微小孔径の断面形状に対応し、全
体的に、形状、寸法など揃った微細なバンプが容易に形
成される。
In this screen plate, the first metal layer side is
It has a relatively large diameter, and the side with the large diameter is conductive.
For squeezing with a conductive paste
Passes through the opening on the metal layer side by force to facilitate precise bumping
Is formed. In other words, the diameter of the opening (through hole) is
In this mode, the paste is discharged from a small hole such as paste under pressure.
Therefore, it is dense and corresponds to the cross-sectional shape of micropores,
Physically, it is easy to form minute bumps with uniform shapes and dimensions.
Is made.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図1、図2 (a), (b)およ
び図3 (a), (b), (c), (d)を参照して実施例を説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments will be described below with reference to FIGS. 1, 2 (a), 2 (b) and 3 (a), 3 (b), 3 (c), 3 (d).

【0022】図1は、第1実施例のスクリーン版の要部
構成例を断面的に示したものである。図1において、4
は厚さ0.15mmのステンレス綱などの剛性な第1の金属
層、5はエポキシ樹脂などの樹脂系接着剤層、6は厚さ
36μm 銅箔など第2の金属層である。ここで、第1の金
属層4の開口4aは直径 0.2mm程度、第2の金属層6の開
口6aは直径 0.1mm程度であり、これらの開口4a,6aは、
同軸的に連接しながら、前記接着剤層5の部分で縮径し
ている。なお、このスクリーン版は、縦 500mm,横 600
mm,貫通孔数 10000個である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the essential structure of the screen plate of the first embodiment. In FIG. 1, 4
Is a rigid first metal layer such as stainless steel having a thickness of 0.15 mm, 5 is a resin adhesive layer such as epoxy resin, and 6 is a thickness
A second metal layer such as 36 μm copper foil. Here, the opening 4a of the first metal layer 4 has a diameter of about 0.2 mm, the opening 6a of the second metal layer 6 has a diameter of about 0.1 mm, and these openings 4a, 6a are
While being coaxially connected, the diameter of the adhesive layer 5 is reduced. This screen version is 500 mm long and 600 mm wide.
mm, the number of through holes is 10,000.

【0023】次に、上記構成のスクリーン版7の使用例
について説明する。ほぼ水平に置かれた厚さ18μm の銅
箔面に、スクリーン版7の縮径された開口6a面側を対接
・配置する。その後、スクリーン版7の開口4a面側に導
電性ペーストを塗布・担持させ、いわゆるスキーイジン
グ処理を行ってからスクリーン版7を取り外して、前記
縮径の開口6aに充填された導電性ペーストを円錐状の導
電性バンプとし、銅箔面に印刷・担持させる。
Next, an example of use of the screen plate 7 having the above structure will be described. The reduced-diameter opening 6a surface side of the screen plate 7 is contacted and arranged on a copper foil surface having a thickness of 18 μm which is placed substantially horizontally. After that, a conductive paste is applied and carried on the opening 4a side of the screen plate 7 and a so-called squeezing treatment is performed, and then the screen plate 7 is removed, and the conductive paste filled in the reduced-diameter opening 6a is conical. -Shaped conductive bumps are printed and carried on the copper foil surface.

【0024】次いで、前記印刷・担持させた導電性バン
プを乾燥し、要すればスクリーン版7の位置合わせ、導
電性ペーストの印刷・乾燥を繰り返して、所用の高さの
導電性バンプを形成する。このようにして形成した導電
性バンプの形状などを、観察・評価したところ、いずれ
も高さ 0.1mm程度,直径 0.1mmの円柱状でバラツキは非
常に少なかった。なお、導電性ペーストとしては、熱硬
化性導電ペースト DW-250H-5の商品名(東洋紡績KK製)
で市販されている銀ペーストなどが挙げられる。 上記
所定位置に導電性バンプを形成して銅箔面に、たとえば
エポキシ樹脂・ガラスクロス系のプリプレグ層(絶縁体
層)を介して厚さ18μm の銅箔を重ね合わせて積層体化
する。その後、この重ね合わせ積層体を 160〜 180℃程
度、圧力30〜50kg/cm2 程度、30〜60分間程度の加熱加
圧処理を施すことにより、絶縁体層を厚さ方向に貫通す
る導電性バンプで、両面の銅箔が電気的に接続した両面
銅箔張り積層板が得られる。
Next, the printed / carried conductive bumps are dried, and if necessary, the alignment of the screen plate 7 and the printing / drying of the conductive paste are repeated to form conductive bumps of a desired height. . The shape and the like of the conductive bumps formed in this way were observed and evaluated. As a result, they were cylindrical with a height of about 0.1 mm and a diameter of 0.1 mm, and had very little variation. As the conductive paste, the thermosetting conductive paste DW-250H-5 product name (manufactured by Toyobo KK)
The silver paste and the like, which are commercially available at. A conductive bump is formed at the predetermined position, and a copper foil having a thickness of 18 μm is superposed on the copper foil surface via an epoxy resin / glass cloth prepreg layer (insulator layer) to form a laminate. After that, the laminated laminate is subjected to heat and pressure treatment at a temperature of about 160 to 180 ° C., a pressure of about 30 to 50 kg / cm 2 for about 30 to 60 minutes, so that the insulating layer penetrates in the thickness direction. A double-sided copper foil-clad laminate is obtained in which the copper foils on both sides are electrically connected by the bumps.

【0025】そして、このようにして製造した両面銅箔
張り積層板を素材とし、両面銅箔をホォトエッチング処
理して微細な配線パターニングを行って、両面型配線板
を製造した。この両面型配線板は、前記導電性バンプに
よる所用の接続が確実に成されており、接続部の電気的
な抵抗も低くて、信頼性の高い配線回路を形成してい
る。
Then, using the double-sided copper foil-clad laminate thus produced as a raw material, the double-sided copper foil was subjected to photo-etching for fine wiring patterning to produce a double-sided wiring board. In this double-sided wiring board, the required connection is reliably made by the conductive bumps, and the electrical resistance of the connection portion is low, so that a highly reliable wiring circuit is formed.

【0026】次に、上記スクリーン版7の製造方法例に
ついて説明する。図2 (a), (b)は第1の実施態様例を
模式的に示す断面図である。
Next, an example of a method of manufacturing the screen plate 7 will be described. 2A and 2B are cross-sectional views schematically showing the first embodiment example.

【0027】先ず、厚さ0.15mmのステンレス綱などの剛
性な第1の金属層4、厚さ36μm 銅箔など第2の金属層
6を、たとえばエポキシ樹脂などの樹脂系接着剤層5を
介して積層一体化した金属積層板を用意する。次いで、
図2 (a)に示すごとく、金属積層板の第1の金属層4の
面に、エッチングレジストパターン8aを形成し、その
後、第2の金属層6の面にエッチングレジストパターン
8bを形成する。
First, a rigid first metal layer 4 such as stainless steel having a thickness of 0.15 mm, a second metal layer 6 such as a copper foil having a thickness of 36 μm, and a resin adhesive layer 5 such as an epoxy resin are interposed. A metal laminated plate which is laminated and integrated is prepared. Then
As shown in FIG. 2A, an etching resist pattern 8a is formed on the surface of the first metal layer 4 of the metal laminated plate, and then an etching resist pattern 8a is formed on the surface of the second metal layer 6.
Form 8b.

【0028】ここで、第1の金属層4の面におけるエッ
チングレジストパターン8aは、直径0.2mm程度の開口8
a′を有しており、また、第2の金属層6におけるエッ
チングレジストパターン8bは、直径 0.1mm程度の開口8
b′を有し、かつこれらの開口8a′,8b′が同軸的に対
向している。なお、エッチングレジストパターンニング
の順序は、第2の金属層6の面について行ってから第1
の金属層4の面に行ってもよい。
The etching resist pattern 8a on the surface of the first metal layer 4 has an opening 8 with a diameter of about 0.2 mm.
The etching resist pattern 8b in the second metal layer 6 has an opening 8 having a diameter of about 0.1 mm.
b ', and these openings 8a', 8b 'are coaxially opposed. The etching resist patterning is performed on the surface of the second metal layer 6 first and then first.
It may be performed on the surface of the metal layer 4.

【0029】次に、上記エッチングレジストパターンニ
ングした金属積層板についてエッチング処理を施す。す
なわち、第1の金属層4および第2の金属層6の選択的
なエッチング液、たとえば塩化鉄、塩化銅を含むエッチ
ング液中に浸漬して、前記エッチングレジストパターン
8a,8bの開口8a′,8b′に対応して露出している第1の
金属層4および第2の金属層6の各領域を選択的にエッ
チング処理する。ここで、エッチング液としては、レジ
ストパターン8a,8bの開口8a′,8b′が大きい方の金属
層(第1の金属層4)に対するエッチング作用の強いも
のを選ぶことが好ましい。
Next, the metal laminate having the above etching resist patterning is subjected to an etching treatment. That is, the etching resist pattern is formed by immersing in a selective etching solution for the first metal layer 4 and the second metal layer 6, for example, an etching solution containing iron chloride and copper chloride.
Regions of the first metal layer 4 and the second metal layer 6 exposed corresponding to the openings 8a 'and 8b' of 8a and 8b are selectively etched. Here, as the etching liquid, it is preferable to select one having a strong etching action on the metal layer (first metal layer 4) having the larger openings 8a 'and 8b' of the resist patterns 8a and 8b.

【0030】このエッチング処理においては、第1の金
属層4側および第2の金属層6側とも、図2 (b)に示す
ごとく、エッチングレジストパターン8a,8bの開口8
a′,8b′に対応して、その厚さ方向にそれぞれ穿孔が
進められ、接着剤層5によって穿孔が停止される。すな
わち、エッチング作用による穿孔は、開口8a′,8b′に
対応する領域で厚さ(深さ)方向に進められ、厚さ(深
さ)方向への進行に伴って縮径化するが、接着剤層5に
よって深さ方向への進行が抑制されるため、接着剤層5
に隣接する領域での径方向へのエッチングが進行して、
内径が一様な、シャープな穿孔がなされる。
In this etching process, the openings 8 of the etching resist patterns 8a and 8b are formed on both the first metal layer 4 side and the second metal layer 6 side as shown in FIG. 2 (b).
Corresponding to a'and 8b ', perforation is advanced in the thickness direction, and perforation is stopped by the adhesive layer 5. That is, the perforation due to the etching action is advanced in the thickness (depth) direction in the regions corresponding to the openings 8a ′ and 8b ′, and the diameter is reduced as the thickness (depth) progresses. Since the agent layer 5 suppresses the progress in the depth direction, the adhesive layer 5
Etching in the radial direction progresses in the area adjacent to
Sharp drilling with uniform inner diameter.

【0031】上記エッチング処理後、エッチングレジス
トパターン8a,8bを除去する一方、第1の金属層4の開
口4aおよび第2の金属層6の開口6a間を遮断している接
着剤層5を、たとえばドリル加工などにより穿孔(打ち
抜く)することにより、前記図1に図示したような構成
のスクリーン版7が得られる。なお、この接着剤層5の
打ち抜による穿孔は、高圧気体の吹き付けや溶媒による
溶解除去などの手段でも行うことができる。
After the above etching process, the etching resist patterns 8a and 8b are removed, while the adhesive layer 5 that blocks the opening 4a of the first metal layer 4 and the opening 6a of the second metal layer 6 is removed. For example, by punching (punching) by a drilling process or the like, the screen plate 7 having the structure shown in FIG. 1 can be obtained. The punching of the adhesive layer 5 by punching can also be performed by means such as spraying a high-pressure gas or dissolving and removing with a solvent.

【0032】図3 (a)〜 (d)は、スクリーン版7の製造
方法の第2の実施態様例を模式的に示す断面図である。
FIGS. 3A to 3D are sectional views schematically showing a second embodiment of the method for manufacturing the screen printing plate 7.

【0033】この実施態様では、前記第1の実施態様例
の場合と同様に構成された金属積層板(積層型薄板)を
用意し、図3 (a)に示すごとく、第1の金属層4面に厚
さ方向へ開口する比較的口径が大きい開口用のエッチン
グレジストパターニングする一方、第2の金属層6面に
エッチングレジスト層8cを設ける。次いで、前記エッチ
ングレジスト層8a,8cをそれぞれ設けた金属積層板を、
たとえば塩化鉄系のエッチング液中に浸漬してエッチン
グ処理を施し、図3 (b)に示すごとく、接着剤層5を停
止線として第1の金属層4に所定の開口4aを穿設する。
In this embodiment, a metal laminated plate (laminated thin plate) having the same structure as in the case of the first embodiment is prepared, and the first metal layer 4 is formed as shown in FIG. 3 (a). An etching resist layer 8c is provided on the surface of the second metal layer 6 while the etching resist patterning for the opening having a relatively large aperture opening in the thickness direction is formed on the surface. Then, the metal laminated plate provided with the etching resist layers 8a and 8c,
For example subjected to etching treatment was immersed in e pitch ranging solution of iron chloride, puncture as shown in FIG. 3 (b), a predetermined opening 4a to the first metal layer 4 an adhesive layer 5 as a stop line Set up.

【0034】その後、図3 (c)に示すごとく、エッチン
グレジスト層8a,8cをそれぞれ除去してから、NC制御式
の孔明け装置にセットし、前記穿設・開口させた孔4aの
中心軸と一致させて第2の金属層6に小径の開口6aをド
リルで穿設する。このドリル加工によって、第2の金属
層6に所要の開口6aを穿設するとともに、接着剤層5も
穿孔もしくは打ち抜かれ、厚さ方向に貫通する同軸孔
(開口)を形設し、図3(d)に示すようなスクリーン版
を製造した。このスクリーン版は、厚さ方向に貫通する
孔(開口)径が深さ方向にシャープな段付き型であり、
また、所定孔径に対するバラツキも± 5%以内で、全体
的にほぼ一様な導電性ペーストなどの通過・充填が可能
であった。
Then, as shown in FIG. 3 (c), the etching resist layers 8a and 8c are respectively removed and then set in an NC control type drilling device, and the central axis of the drilled / opened hole 4a is set. A small-diameter opening 6a is drilled in the second metal layer 6 in accordance with the above. By this drilling process, the required opening 6a is formed in the second metal layer 6, and the adhesive layer 5 is also punched or punched to form a coaxial hole (opening) penetrating in the thickness direction. A screen plate as shown in (d) was manufactured. This screen plate is a stepped type with a hole (opening) diameter penetrating in the thickness direction that is sharp in the depth direction.
In addition, the variation with respect to the predetermined hole diameter was within ± 5%, and it was possible to pass and fill the conductive paste or the like that was substantially uniform as a whole.

【0035】すなわち、上記構成のスクリーン版(縦 5
00mm,横 600mm,貫通孔数 10000個)をプリント配線板
用の電解銅箔の一主面に配置し、導電性ペーストをスク
リーン印刷した後、スクリーン版を採り外して乾燥さ
せ、導電性バンプを形成した。このようにして形成した
導電性バンプの形状などを、観察・評価したところ、い
ずれも高さ0.12mm程度,直径 0.1mmの円柱状でバラツキ
は非常に少なかった。
That is, the screen plate (vertical 5
00mm, width 600mm, through hole number 10000) is arranged on one main surface of electrolytic copper foil for printed wiring board, and after conductive paste is screen-printed, the screen plate is removed and dried to form conductive bumps. Formed. The shape and the like of the conductive bumps formed in this way were observed and evaluated. As a result, they were cylindrical with a height of about 0.12 mm and a diameter of 0.1 mm, and had very little variation.

【0036】なお、本発明は上記例示に限定されるもの
でなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲でいろいろの変形
を採ることも可能であり、また、用途もプリント配線板
の配線パターン層間のスルホール接続用のバンプ形成だ
けでなく、たとえば電子部品の電極端子(バンプ)の形
成、あるいは一般的な印刷などにも利用し得る。また、
スクリーン版も上記例示以外の素材、第1の金属層とし
ては、たとえば厚さ 0.1〜0.25mm程度のリン青銅板、真
鍮板、ニッケル系合金板、メッキ鋼板などを、また、第
2の金属層としては、たとえば厚さ10〜 100μm 程度の
ステンレス鋼箔などを使用することもできる。
The present invention is not limited to the above examples, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention, and the application is also through holes between wiring pattern layers of a printed wiring board. It can be used not only for forming bumps for connection, but also for forming electrode terminals (bumps) of electronic parts, or for general printing. Also,
The screen plate is also made of a material other than those exemplified above, and the first metal layer is, for example, a phosphor bronze plate having a thickness of about 0.1 to 0.25 mm, a brass plate, a nickel alloy plate, a plated steel plate, or the like, and a second metal layer. For example, a stainless steel foil having a thickness of about 10 to 100 μm can be used.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明によれば、煩雑な工程など要せず
に、緻密で、かつ微小孔径の断面形状に対応し、全体的
に、形状、寸法など揃った微細なバンプなどを容易に印
刷・形成できるスクリーン版を提供できる
According to the present invention, there is no need for complicated steps.
In addition, it is dense and corresponds to the cross-sectional shape of micropores,
In addition, it is easy to print fine bumps with uniform shapes and dimensions.
It is possible to provide a screen plate that can be printed and formed .

【0038】[0038]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】1実施例のスクリーン版の要部構成を示す断面
図。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a main configuration of a screen plate according to an embodiment.

【図2】(a), (b)は図1に図示したスクリーン版の第
1の製造工程例を模式的に示す断面図。
2A and 2B are cross-sectional views schematically showing an example of a first manufacturing process of the screen plate shown in FIG.

【図3】(a), (b), (c), (d)は図1に図示したスク
リーン版の第2の製造工程例を模式的に示す断面図。
3 (a), (b), (c), and (d) are cross-sectional views schematically showing a second manufacturing process example of the screen plate shown in FIG.

【図4】(a), (b), (c)は従来のスクリーン版の製造
工程例を模式的に示す断面図。
4 (a), (b) and (c) are cross-sectional views schematically showing an example of a conventional screen plate manufacturing process.

【符号の説明】 4……第1の金属層 4a……第1の金属層の開口 5……接着剤層 6……第2の金属層 6a……第2の金属層の開口 7……スクリーン版 8a,8b,8c……エッチングレジスト 8a′,8b′……エッチングレジストの開口[Explanation of symbols] 4 ... the first metal layer 4a ... Opening of the first metal layer 5 ... Adhesive layer 6 ... second metal layer 6a ... Aperture of the second metal layer 7 ... Screen version 8a, 8b, 8c ... Etching resist 8a ', 8b' ... Opening of etching resist

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−34395(JP,A) 特開 平5−229091(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41N 1/24 B41C 1/14 Continuation of the front page (56) Reference JP-A-2-34395 (JP, A) JP-A-5-229091 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) B41N 1 / 24 B41C 1/14

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 樹脂系の接着剤層を介して剛性な第1の
金属層および第2の金属層が積層一体化して成る積層型
薄板の第1の金属層面に厚さ方向へ開口する比較的口径
が大きい開口用レジストパターニングする工程と、 前記第2の金属層面に厚さ方向へ開口する孔の中心軸を
一致させて比較的口径が小さい開口用レジストパターニ
ングする工程と、 前記レジストパターニングした積層型薄板にエッチング
処理を施して、接着剤層を停止線として両金属層にそれ
ぞれ所定の開口を穿設する工程と、 前記穿設した開口の底壁面を成している接着剤層を除去
する工程とを有することを特徴とするスクリーン版の製
造方法。
1. A comparison in which a rigid first metal layer and a second metal layer are laminated and integrated via a resin-based adhesive layer, and a laminated thin plate is opened in the thickness direction on the first metal layer surface. A step of patterning an opening resist having a large aperture, a step of aligning a central axis of the hole opened in the thickness direction with the second metal layer surface, and performing a resist patterning of an opening having a relatively small aperture, and the resist patterning A step of etching the laminated thin plate to form a predetermined opening in each of the metal layers with the adhesive layer as a stop line, and removing the adhesive layer forming the bottom wall surface of the opened opening. A method of manufacturing a screen printing plate, comprising:
【請求項2】 樹脂系の接着剤層を介して剛性な第1の
金属層および第2の金属層が積層一体化して成る積層型
薄板の第1の金属層面に厚さ方向へ開口する比較的口径
が大きい開口用レジストパターニングする工程と、 前記第2の金属層面にレジスト層を設ける工程と、 前記レジスト層を設けた積層型薄板にエッチング処理を
施して、接着剤層を停止線として第1の金属層に所定の
開口を穿設する工程と、 前記穿設した開口させた孔の中心軸を一致させて第2の
金属層に小径の開口をドリルで穿設する工程とを有する
ことを特徴とするスクリーン版の製造方法。
2. A comparison in which a rigid first metal layer and a second metal layer are laminated and integrated through a resin-based adhesive layer, and a laminated thin plate is opened in the thickness direction on the first metal layer surface. A step of patterning a resist for an opening having a large aperture, a step of providing a resist layer on the surface of the second metal layer, an etching process is performed on the laminated thin plate provided with the resist layer, and an adhesive layer is used as a stop line. A step of drilling a predetermined opening in the first metal layer, and a step of drilling a small-diameter opening in the second metal layer by aligning the central axes of the opened holes. And a method for manufacturing a screen plate.
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EP2480413A1 (en) * 2009-09-21 2012-08-01 DTG International GmbH Printing screens and method of fabricating the same
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CN103171264B (en) * 2011-12-23 2016-03-02 昆山允升吉光电科技有限公司 A kind of electrode of solar battery Printing screen
JP5079169B1 (en) * 2012-04-14 2012-11-21 株式会社谷黒組 Soldering apparatus and method, and manufactured board and electronic component
WO2013157064A1 (en) 2012-04-16 2013-10-24 株式会社谷黒組 Soldering device and method, and manufactured substrate and electronic component
KR101686312B1 (en) 2012-04-17 2016-12-13 가부시키가이샤 다니구로구미 Solder bump and forming method therefor, and substrate having solder bump and manufacturing method for substrate having solder bump
US20140036427A1 (en) 2012-08-02 2014-02-06 Tanigurogumi Corporation Component having an electrode corrosion preventing layer and a method for manufacturing the component
WO2014148634A1 (en) 2013-03-21 2014-09-25 株式会社谷黒組 Soldering device and method, and manufactured substrate and electronic component
CN109177560A (en) * 2018-09-18 2019-01-11 深圳华美板材有限公司 A kind of thermal transfer Coil Coating Products and its manufacturing process
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