JP3527292B2 - 負圧スライダ - Google Patents
負圧スライダInfo
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、負圧スライダに関す
る。近年、磁気ディスク装置のスライダにおいては、S/
N比を向上させ、記録密度を上げるために低浮上化が進
んでいる。従来の正圧スライダにおいては、スライダと
ディスクとの間に発生する正圧力によって浮上し、ばね
板等により正圧力と逆方向のばね力をスライダに作用さ
せることにより、スライダの浮上バランスを保ってい
る。しかしながら、このような正圧スライダにおいて
は、周速に依存する正圧と、周速に依存しないばね力と
を用いるので、ディスクの内周と外周とで浮上量が変化
し、低浮上化には限度がある。 【０００２】一方、負圧スライダにおいては、スライダ
とディスクとの間に発生する正圧力と負圧力とによって
スライダの浮上バランスを保っている。これら正圧力と
負圧力とは周速に依存し、ディスクの内周と外周とでほ
とんど浮上量が変わらないので、低浮上化に有利であ
る。 【０００３】 【従来の技術】次に、図面を用いて従来例を説明する。
図８は従来の負圧スライダの斜視図、図９は図８におけ
るディスク対向面の平面図、図１０は図９におけるA-A
断面図である。これらの図において、ディスク回転によ
って発生する空気流の流れ方向(図８及び図９において
矢印w)に沿って負圧スライダ１のディスク対向面には、
両サイドに凸状の第１及び第２のサイドレール２,３が
形成されている。 【０００４】そして、第１及び第２のサイドレール２,
３の空気流流入端５側には、ディスクより離反する方向
のテーパがつけられている。凸状の第１のサイドレール
２と凸状の第２のサイドレール３との間には、空気流流
入端５から空気流出端６へ空気流を導く溝８が形成され
ている。 【０００５】更に、溝８の空気流入端５側には、絞り部
としてのクロスレール１２が形成されている。次に上記
構成の作動を説明する。ディスクが回転することにより
発生する空気流は、空気流流入端５から負圧スライダ１
のディスク対向面に流れる。そして、第１及び第２のサ
イドレール２,３には、正圧(スライダを浮上させる力)
が発生する。一方空気流流入端５から溝８に入った空気
流は、クロスレール１２を通過すると、急に体積が膨張
し、クロスレール１２以降の凹部８には負圧が発生す
る。これら正圧と負圧とのバランスにより、スライダは
安定浮上する。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】しかし、上記構成の負
圧スライダにおける溝８は、クロスレール１２以降で、
急激な空気の減圧が発生し、ゴミの付着,吸着が発生
し、ディスクに傷が付いたりして磁気ディスク装置の信
頼性が損なわれるという問題点がある。 【０００７】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、加工が簡単で、ディスク対向面にゴ
ミ等が付着,吸着しにくい負圧スライダを提供すること
にある。 【０００８】 【課題を解決するための手段】図１は本発明の負圧スラ
イダの原理図であり、(a)はディスク対向面側の平面
図、(b)は(a)図におけるB-B断面図、(c)は(a)図におけ
るC-C断面図である。図において、スライダのディスク
対向面には、凹部２１が形成されている。２２は凹部２
１の一部であって、空気流入端２３から空気流出端２２
へ空気流を導く溝である。溝２２の中間部には、溝２２
の幅を狭く、且つ、凹部２１の深さを浅くすることで、
絞り２４が形成されている。絞り２４の前後の凹部２１
において、溝２２の幅及び凹部２１の深さは、なだらか
に連続的に変化し、段差部２５が形成されている。 【０００９】 【００１０】 【００１１】 【００１２】 【作用】本発明の負圧スライダにおいて、図１の(b)図
及び(c)図に示すように、絞り２４の前後の凹部２１に
おいて、なだらかに連続的に溝２２の幅及び凹部２１の
深さが変化するので、減圧は徐々に行なわれ、ディスク
対向面にゴミ等が付着,吸着するのを防止する。 【００１３】 【００１４】 【００１５】 【実施例】次に図面を用いて本発明の一実施例を説明す
る。図２は本発明の一実施例の負圧スライダのディスク
対向面の平面図、図３は図２における負圧スライダの斜
視図、図４は図２における各断面図で、(a)はD-D断面
図、(b)はE-E断面図、(C)はF-F断面図、図５は斜め粉砕
加工法を説明する図で、(a)は図２における第１及び第
２の溝以外の部分の説明図、(b)は図２における第１及
び第２の溝部分の説明図、図６は図２に示す負圧スライ
ダが設けられた磁気ディスク装置の平面図、図７は図６
におけるG-G断面図である。 【００１６】先ず、図６及び図７を用いて磁気ディスク
装置の全体構成を説明する。これらの図において、３０
はベースプレート、３１はベースプレートを覆うカバー
である。ベースプレート３０上には、シャフト３３が立
設され、このシャフト３３にはスピンドルモータ３４を
介してスピンドル３５が回転可能に設けられている。ス
ピンドル３５の外筒面には、スペーサ３６を介して複数
枚(本実施例では3枚)の磁気ディスク３７が積層配置さ
れている。 【００１７】更に、ベースプレート３０上にはシャフト
３８が立設され、このシャフト３８には、アクチュエー
タ３９が回転可能に設けられている。アクチュエータ３
９の一方の回転端部には、磁気ディスク３７の各記録面
方向に延出するヘッドアーム部３９ａが形成され、各ヘ
ッドアーム部３９ａの先端には、スプリングアーム４０
を介して磁気ディスク３７に対してデータのリード/ラ
イトを行なう負圧スライダ４１が設けられている。 【００１８】アクチュエータ３９の他方の回転端部に
は、コイル４２が設けられている。４３はベースプレー
ト３０上に設けられた磁気回路である。この磁気回路の
磁気ギャップに前述のコイル４２が配設されている。そ
して、コイル４２及び磁気回路４３とでムービングコイ
ル形のフォースモータ、所謂ボイスコイルモータ(VCM)
が構成されている。 【００１９】次に、図２及び図３を用いて負圧スライダ
４１の説明を行なう。磁気ディスクの回転によって発生
する空気流の流れ方向に沿って負圧スライダ４１のディ
スク対向面の両サイドには、第１のサイドレール５１と
第２のサイドレール５２とが形成されている。又、ディ
スク対向面の空気流流入端５０側には、第１及び第２の
サイドレール５１,５２間に凸状のセンタレール５３が
形成されている。 【００２０】そして、第１及び第２のサイドレール５
１,５２の空気流流入端５０側には、ディスクより離反
する方向のテーパがつけられている。第１及び第２のサ
イドレール５１,５２間には、凹部６０が形成され、凸
状の第１のサイドレール５１と凸状のセンタレール５３
との間には、空気流流入端５０から凹部１０まで空気流
を導く第１の溝６１が、同じく、凸状の第２のサイドレ
ール５２と凸状のセンタレール５３との間には、空気流
流入端５０から凹部６０まで空気流を導き、第１の溝６
１と略同じ幅の第２の溝６２がそれぞれ形成されてい
る。第１及び第２の溝６１,６２の幅は、空気流流入端
５０から略中間部迄は徐々に狭まり、絞り部７１,７２
が形成され、絞り部７１,７２以降は徐々に広がるよう
に設定されている。尚、本実施例においては、第１及び
第２の溝６１,６２の幅は65μm程度とした。 【００２１】更に、ディスク対向面の空気流出端６５側
には、第１及び第２のサイドレール５１,５２間に凸状
のリアレール６６が形成されている。凸状の第１のサイ
ドレール５１と凸状のリアレール６６との間には、凹部
６０から空気流出端６５まで空気流を導き、第１及び第
２の溝６１,６２の幅よりも広い第３の溝６７が、同じ
く、凸状の第２のサイドレール５２と凸状のリアレール
６６との間には、凹部６０から空気流出端６５まで空気
流を導き、第３の溝６７と略同じ幅の第４の溝６８がそ
れぞれ形成されている。尚、本実施例においては、第２
及び第３の溝６７,６８の幅は167μm程度とした。 【００２２】本実施例では、凸状の第１及び第２のサイ
ドレール５１,５２、センタレール５３及びリアレール
６６は、斜め粉砕加工法を用いて形成した。この斜め粉
砕加工法は、図５(a)に示すように、粉砕加工を行なわ
ない部分にレジスト層７０を形成し、粉砕角度30°以上
50°以下で加速した粒子をぶつけることにより形成し
た。このような斜め粉砕加工においては、斜めから粒子
をぶつけることにより、溝の底面と壁部とのなす角部近
傍には、加工ダレ８０が発生する。この加工ダレの幅及
び高さはレジスト層の厚さ,粒子の角度及び加工量(加工
深さ)によって変化する。例えば、粉砕角を30°〜50°
とすると、 溝幅は 1/tan(30°)×2〜1/tan(50°)×2 レジストの影となって溝部がほとんど掘れない条件は、
粉砕角が30°〜50°とすると、 溝幅は 1/tan(30°)〜1/tan(50°) よって、レジスト層の厚さの範囲は、溝の幅の1/tan(30
°)=0.8391倍〜1/tan(50°)=3.4641倍となる。 【００２３】よって、本実施例では、第１及び第２溝６
１,６２は(b)図に示すように、加工ダレの幅より溝の幅
を狭く設定することによりクロスレール状の段差とする
ことができる。 【００２４】図４に粉砕角45°,レジスト層の厚さ25μ
m,溝の深さ4μmと設定した場合の各断面を示している。
第３及び第４の溝６７,６８の断面は幅が十分にあるの
で、(b)図に示すように設定通り深さ4μm程度となる
が、第１及び第２の溝６１,６２の断面は(a)図及び(c)
図に示すように、溝の入口及び出口では、幅があるの
で、深さが4μm程度となるが、徐々に浅くなり、絞り部
７１,７２では2μm程度となり、絞り部７１,７２以降は
幅が徐々に広がるので、絞り部７１,７２以降は徐々に
深くなり、4μm程度となる。 【００２５】次に、上記構成の作動を説明する。磁気デ
ィスク３７はスピンドルモータ３４によって高速回転駆
動される。磁気回路４３に電流を流すと、コイル４２に
はアクチュエータ３９を回転する推力が発生し、アクチ
ュエータ３９はシャフト３８を中心として回転し、負圧
スライダ４１は磁気ディスク３７の目的のトラック上に
移動する。 【００２６】磁気ディスク３７が回転することにより発
生する空気流は、各負圧スライダ４１の空気流流入端５
０から負圧スライダ４１のディスク対向面に流れる。そ
して、第１及び第２のサイドレール５１,５２及びセン
タレール５３には、正圧(スライダを浮上させる力)が発
生する。一方空気流流入端５０から第１及び第２の溝６
１,６２に入った空気流は、絞り部７１,７２を通過する
と、急に体積が膨張し、凹部６０には負圧が発生する。
これら正圧と負圧とのバランスにより、負圧スライダ４
１は安定浮上する。 【００２７】上記構成によれば、第１及び第２の溝６
１,６２は絞り部７１,７２の前後においてなだらかに連
続的に幅及び深さが変化することにより、減圧は徐々に
行なわれ、ディスク対向面にゴミ等が付着,吸着するの
を防止する。 【００２８】又、第１及び第２の溝６１,６２は粉砕角
が30°以上50°以下の斜め粉砕加工法を用いることによ
り、１回の加工で行なえる。更に、正圧を発生する部位
として、両サイドに第１及び第２のサイドレール５１,
５２を、中央部にセンタレール５３をそれぞれ設け、負
圧を発生する部位として、中央部に凹部６０を設けたこ
とにより、安定した低浮上が可能となる。 【００２９】尚、本発明は上記実施例に限定するもので
はない。上記実施例では、溝の加工に粉砕法を用いた
が、他にサンドブラスト等粒子をぶつけて加工する方法
ならば何でもよい。 【００３０】 【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、凹部
に空気流を導く溝は、絞りの前後において、なだらかに
連続的に溝の幅及び凹部の深さが変化するので、減圧は
徐々に行なわれ、ディスク対向面にゴミ等が付着,吸着
するのを防止できる。 【００３１】
る。近年、磁気ディスク装置のスライダにおいては、S/
N比を向上させ、記録密度を上げるために低浮上化が進
んでいる。従来の正圧スライダにおいては、スライダと
ディスクとの間に発生する正圧力によって浮上し、ばね
板等により正圧力と逆方向のばね力をスライダに作用さ
せることにより、スライダの浮上バランスを保ってい
る。しかしながら、このような正圧スライダにおいて
は、周速に依存する正圧と、周速に依存しないばね力と
を用いるので、ディスクの内周と外周とで浮上量が変化
し、低浮上化には限度がある。 【０００２】一方、負圧スライダにおいては、スライダ
とディスクとの間に発生する正圧力と負圧力とによって
スライダの浮上バランスを保っている。これら正圧力と
負圧力とは周速に依存し、ディスクの内周と外周とでほ
とんど浮上量が変わらないので、低浮上化に有利であ
る。 【０００３】 【従来の技術】次に、図面を用いて従来例を説明する。
図８は従来の負圧スライダの斜視図、図９は図８におけ
るディスク対向面の平面図、図１０は図９におけるA-A
断面図である。これらの図において、ディスク回転によ
って発生する空気流の流れ方向(図８及び図９において
矢印w)に沿って負圧スライダ１のディスク対向面には、
両サイドに凸状の第１及び第２のサイドレール２,３が
形成されている。 【０００４】そして、第１及び第２のサイドレール２,
３の空気流流入端５側には、ディスクより離反する方向
のテーパがつけられている。凸状の第１のサイドレール
２と凸状の第２のサイドレール３との間には、空気流流
入端５から空気流出端６へ空気流を導く溝８が形成され
ている。 【０００５】更に、溝８の空気流入端５側には、絞り部
としてのクロスレール１２が形成されている。次に上記
構成の作動を説明する。ディスクが回転することにより
発生する空気流は、空気流流入端５から負圧スライダ１
のディスク対向面に流れる。そして、第１及び第２のサ
イドレール２,３には、正圧(スライダを浮上させる力)
が発生する。一方空気流流入端５から溝８に入った空気
流は、クロスレール１２を通過すると、急に体積が膨張
し、クロスレール１２以降の凹部８には負圧が発生す
る。これら正圧と負圧とのバランスにより、スライダは
安定浮上する。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】しかし、上記構成の負
圧スライダにおける溝８は、クロスレール１２以降で、
急激な空気の減圧が発生し、ゴミの付着,吸着が発生
し、ディスクに傷が付いたりして磁気ディスク装置の信
頼性が損なわれるという問題点がある。 【０００７】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、加工が簡単で、ディスク対向面にゴ
ミ等が付着,吸着しにくい負圧スライダを提供すること
にある。 【０００８】 【課題を解決するための手段】図１は本発明の負圧スラ
イダの原理図であり、(a)はディスク対向面側の平面
図、(b)は(a)図におけるB-B断面図、(c)は(a)図におけ
るC-C断面図である。図において、スライダのディスク
対向面には、凹部２１が形成されている。２２は凹部２
１の一部であって、空気流入端２３から空気流出端２２
へ空気流を導く溝である。溝２２の中間部には、溝２２
の幅を狭く、且つ、凹部２１の深さを浅くすることで、
絞り２４が形成されている。絞り２４の前後の凹部２１
において、溝２２の幅及び凹部２１の深さは、なだらか
に連続的に変化し、段差部２５が形成されている。 【０００９】 【００１０】 【００１１】 【００１２】 【作用】本発明の負圧スライダにおいて、図１の(b)図
及び(c)図に示すように、絞り２４の前後の凹部２１に
おいて、なだらかに連続的に溝２２の幅及び凹部２１の
深さが変化するので、減圧は徐々に行なわれ、ディスク
対向面にゴミ等が付着,吸着するのを防止する。 【００１３】 【００１４】 【００１５】 【実施例】次に図面を用いて本発明の一実施例を説明す
る。図２は本発明の一実施例の負圧スライダのディスク
対向面の平面図、図３は図２における負圧スライダの斜
視図、図４は図２における各断面図で、(a)はD-D断面
図、(b)はE-E断面図、(C)はF-F断面図、図５は斜め粉砕
加工法を説明する図で、(a)は図２における第１及び第
２の溝以外の部分の説明図、(b)は図２における第１及
び第２の溝部分の説明図、図６は図２に示す負圧スライ
ダが設けられた磁気ディスク装置の平面図、図７は図６
におけるG-G断面図である。 【００１６】先ず、図６及び図７を用いて磁気ディスク
装置の全体構成を説明する。これらの図において、３０
はベースプレート、３１はベースプレートを覆うカバー
である。ベースプレート３０上には、シャフト３３が立
設され、このシャフト３３にはスピンドルモータ３４を
介してスピンドル３５が回転可能に設けられている。ス
ピンドル３５の外筒面には、スペーサ３６を介して複数
枚(本実施例では3枚)の磁気ディスク３７が積層配置さ
れている。 【００１７】更に、ベースプレート３０上にはシャフト
３８が立設され、このシャフト３８には、アクチュエー
タ３９が回転可能に設けられている。アクチュエータ３
９の一方の回転端部には、磁気ディスク３７の各記録面
方向に延出するヘッドアーム部３９ａが形成され、各ヘ
ッドアーム部３９ａの先端には、スプリングアーム４０
を介して磁気ディスク３７に対してデータのリード/ラ
イトを行なう負圧スライダ４１が設けられている。 【００１８】アクチュエータ３９の他方の回転端部に
は、コイル４２が設けられている。４３はベースプレー
ト３０上に設けられた磁気回路である。この磁気回路の
磁気ギャップに前述のコイル４２が配設されている。そ
して、コイル４２及び磁気回路４３とでムービングコイ
ル形のフォースモータ、所謂ボイスコイルモータ(VCM)
が構成されている。 【００１９】次に、図２及び図３を用いて負圧スライダ
４１の説明を行なう。磁気ディスクの回転によって発生
する空気流の流れ方向に沿って負圧スライダ４１のディ
スク対向面の両サイドには、第１のサイドレール５１と
第２のサイドレール５２とが形成されている。又、ディ
スク対向面の空気流流入端５０側には、第１及び第２の
サイドレール５１,５２間に凸状のセンタレール５３が
形成されている。 【００２０】そして、第１及び第２のサイドレール５
１,５２の空気流流入端５０側には、ディスクより離反
する方向のテーパがつけられている。第１及び第２のサ
イドレール５１,５２間には、凹部６０が形成され、凸
状の第１のサイドレール５１と凸状のセンタレール５３
との間には、空気流流入端５０から凹部１０まで空気流
を導く第１の溝６１が、同じく、凸状の第２のサイドレ
ール５２と凸状のセンタレール５３との間には、空気流
流入端５０から凹部６０まで空気流を導き、第１の溝６
１と略同じ幅の第２の溝６２がそれぞれ形成されてい
る。第１及び第２の溝６１,６２の幅は、空気流流入端
５０から略中間部迄は徐々に狭まり、絞り部７１,７２
が形成され、絞り部７１,７２以降は徐々に広がるよう
に設定されている。尚、本実施例においては、第１及び
第２の溝６１,６２の幅は65μm程度とした。 【００２１】更に、ディスク対向面の空気流出端６５側
には、第１及び第２のサイドレール５１,５２間に凸状
のリアレール６６が形成されている。凸状の第１のサイ
ドレール５１と凸状のリアレール６６との間には、凹部
６０から空気流出端６５まで空気流を導き、第１及び第
２の溝６１,６２の幅よりも広い第３の溝６７が、同じ
く、凸状の第２のサイドレール５２と凸状のリアレール
６６との間には、凹部６０から空気流出端６５まで空気
流を導き、第３の溝６７と略同じ幅の第４の溝６８がそ
れぞれ形成されている。尚、本実施例においては、第２
及び第３の溝６７,６８の幅は167μm程度とした。 【００２２】本実施例では、凸状の第１及び第２のサイ
ドレール５１,５２、センタレール５３及びリアレール
６６は、斜め粉砕加工法を用いて形成した。この斜め粉
砕加工法は、図５(a)に示すように、粉砕加工を行なわ
ない部分にレジスト層７０を形成し、粉砕角度30°以上
50°以下で加速した粒子をぶつけることにより形成し
た。このような斜め粉砕加工においては、斜めから粒子
をぶつけることにより、溝の底面と壁部とのなす角部近
傍には、加工ダレ８０が発生する。この加工ダレの幅及
び高さはレジスト層の厚さ,粒子の角度及び加工量(加工
深さ)によって変化する。例えば、粉砕角を30°〜50°
とすると、 溝幅は 1/tan(30°)×2〜1/tan(50°)×2 レジストの影となって溝部がほとんど掘れない条件は、
粉砕角が30°〜50°とすると、 溝幅は 1/tan(30°)〜1/tan(50°) よって、レジスト層の厚さの範囲は、溝の幅の1/tan(30
°)=0.8391倍〜1/tan(50°)=3.4641倍となる。 【００２３】よって、本実施例では、第１及び第２溝６
１,６２は(b)図に示すように、加工ダレの幅より溝の幅
を狭く設定することによりクロスレール状の段差とする
ことができる。 【００２４】図４に粉砕角45°,レジスト層の厚さ25μ
m,溝の深さ4μmと設定した場合の各断面を示している。
第３及び第４の溝６７,６８の断面は幅が十分にあるの
で、(b)図に示すように設定通り深さ4μm程度となる
が、第１及び第２の溝６１,６２の断面は(a)図及び(c)
図に示すように、溝の入口及び出口では、幅があるの
で、深さが4μm程度となるが、徐々に浅くなり、絞り部
７１,７２では2μm程度となり、絞り部７１,７２以降は
幅が徐々に広がるので、絞り部７１,７２以降は徐々に
深くなり、4μm程度となる。 【００２５】次に、上記構成の作動を説明する。磁気デ
ィスク３７はスピンドルモータ３４によって高速回転駆
動される。磁気回路４３に電流を流すと、コイル４２に
はアクチュエータ３９を回転する推力が発生し、アクチ
ュエータ３９はシャフト３８を中心として回転し、負圧
スライダ４１は磁気ディスク３７の目的のトラック上に
移動する。 【００２６】磁気ディスク３７が回転することにより発
生する空気流は、各負圧スライダ４１の空気流流入端５
０から負圧スライダ４１のディスク対向面に流れる。そ
して、第１及び第２のサイドレール５１,５２及びセン
タレール５３には、正圧(スライダを浮上させる力)が発
生する。一方空気流流入端５０から第１及び第２の溝６
１,６２に入った空気流は、絞り部７１,７２を通過する
と、急に体積が膨張し、凹部６０には負圧が発生する。
これら正圧と負圧とのバランスにより、負圧スライダ４
１は安定浮上する。 【００２７】上記構成によれば、第１及び第２の溝６
１,６２は絞り部７１,７２の前後においてなだらかに連
続的に幅及び深さが変化することにより、減圧は徐々に
行なわれ、ディスク対向面にゴミ等が付着,吸着するの
を防止する。 【００２８】又、第１及び第２の溝６１,６２は粉砕角
が30°以上50°以下の斜め粉砕加工法を用いることによ
り、１回の加工で行なえる。更に、正圧を発生する部位
として、両サイドに第１及び第２のサイドレール５１,
５２を、中央部にセンタレール５３をそれぞれ設け、負
圧を発生する部位として、中央部に凹部６０を設けたこ
とにより、安定した低浮上が可能となる。 【００２９】尚、本発明は上記実施例に限定するもので
はない。上記実施例では、溝の加工に粉砕法を用いた
が、他にサンドブラスト等粒子をぶつけて加工する方法
ならば何でもよい。 【００３０】 【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、凹部
に空気流を導く溝は、絞りの前後において、なだらかに
連続的に溝の幅及び凹部の深さが変化するので、減圧は
徐々に行なわれ、ディスク対向面にゴミ等が付着,吸着
するのを防止できる。 【００３１】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の原理図である。
【図２】本発明の一実施例の負圧スライダのディスク対
向面の平面図である。 【図３】図２における負圧スライダの斜視図である。 【図４】図２における各断面図で、(a)はD-D断面図、
(b)はE-E断面図、(C)はF-F断面図である。 【図５】斜め粉砕加工法を説明する図で、(a)は図２に
おける第１及び第２の溝以外の部分の説明図、(b)は図
２における第１及び第２の溝部分の説明図である。 【図６】図２に示す負圧スライダが設けられた磁気ディ
スク装置の平面図である。 【図７】図６におけるG-G断面図である。 【図８】従来の負圧スライダの斜視図である。 【図９】図８におけるディスク対向面の平面図である。 【図１０】図９におけるA-A断面図である。 【符号の説明】 ２１ 凹部 ２２ 空気流出端 ２３ 空気流流入端 ２４ 絞り ２５ 段差部
向面の平面図である。 【図３】図２における負圧スライダの斜視図である。 【図４】図２における各断面図で、(a)はD-D断面図、
(b)はE-E断面図、(C)はF-F断面図である。 【図５】斜め粉砕加工法を説明する図で、(a)は図２に
おける第１及び第２の溝以外の部分の説明図、(b)は図
２における第１及び第２の溝部分の説明図である。 【図６】図２に示す負圧スライダが設けられた磁気ディ
スク装置の平面図である。 【図７】図６におけるG-G断面図である。 【図８】従来の負圧スライダの斜視図である。 【図９】図８におけるディスク対向面の平面図である。 【図１０】図９におけるA-A断面図である。 【符号の説明】 ２１ 凹部 ２２ 空気流出端 ２３ 空気流流入端 ２４ 絞り ２５ 段差部
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(56)参考文献 特開 平４−228157（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−97176（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−210930（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−247872（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−222418（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−101688（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 5/56 - 5/60
G11B 21/16 - 21/26
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 ディスク対向面に形成された凹部と、 前記凹部の一部であって空気流入端から空気流出端にか
けて空気流を導く溝に形成された絞り部とを備え、 前記絞り部は、前記溝の幅を狭く、且つ、前記凹部の深
さを浅く、しかも、なだらかに連続的に前記溝の幅及び
前記凹部の深さを変化させることにより形成されている
ことを特徴とする負圧スライダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25690094A JP3527292B2 (ja) | 1994-10-21 | 1994-10-21 | 負圧スライダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25690094A JP3527292B2 (ja) | 1994-10-21 | 1994-10-21 | 負圧スライダ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08124140A JPH08124140A (ja) | 1996-05-17 |
| JP3527292B2 true JP3527292B2 (ja) | 2004-05-17 |
Family
ID=17298957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25690094A Expired - Fee Related JP3527292B2 (ja) | 1994-10-21 | 1994-10-21 | 負圧スライダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3527292B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2001279053A1 (en) | 2000-07-28 | 2002-02-13 | Seagate Technology Llc | Disk head slider having cavities for increasing contact stiffness and controlling suction center movement |
| JPWO2002041318A1 (ja) | 2000-11-17 | 2004-03-25 | 富士通株式会社 | ヘッドスライダとこれを用いたディスク装置、及びヘッドスライダの撥水処理方法 |
-
1994
- 1994-10-21 JP JP25690094A patent/JP3527292B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08124140A (ja) | 1996-05-17 |
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