JP3514943B2 - Antifouling method and antifouling article using photocatalyst - Google Patents

Antifouling method and antifouling article using photocatalyst

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JP3514943B2
JP3514943B2 JP12989197A JP12989197A JP3514943B2 JP 3514943 B2 JP3514943 B2 JP 3514943B2 JP 12989197 A JP12989197 A JP 12989197A JP 12989197 A JP12989197 A JP 12989197A JP 3514943 B2 JP3514943 B2 JP 3514943B2
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知司 大石
高橋  研
忠憲 道本
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機物の分解を触
媒する光触媒の膜と、該膜を用いた防汚方法と、該膜を
備える物品とに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photocatalyst film that catalyzes the decomposition of organic substances, an antifouling method using the film, and an article provided with the film.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、TiO2光触媒を用いた有機物の
分解及び抗菌防臭材が注目を集めている。これはニュー
セラミックス(1996)No.2,55に記載されているように、
半導体光触媒の酸化還元反応を用いたもので、TiO2
薄膜をセラミックスタイルに成形したものが提案されて
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, attention has been paid to decomposition of organic substances and antibacterial deodorants using TiO 2 photocatalysts. This is as described in New Ceramics (1996) No. 2,55,
One using an oxidation-reduction reaction of the semiconductor photocatalyst, TiO 2
It is proposed that a thin film is molded in a ceramic style.

【0003】これらの光触媒の成膜法としてはゾル−ゲ
ル法などの化学的な方法によるものがある。これは、ス
ピンコート、スプレーなど簡単な装置で基板上に原料組
成物を塗布し、通常数百℃の温度で加熱することによっ
て光触媒膜を得るというものである。抗菌防臭用にはア
ナターゼ型TiO2結晶が有効であるため、機能発現に
はTiO2を結晶化することが有効であるとの報告がな
されている(国際公開番号WO94/11092,WO95/15816)。
またTiO2にV,Fe等を添加して高性能化したもの
についても、報告されている(W.Choi,A.Termin.,M.R.Ho
ffmann,J.Phys.Chem.,98,13669-13679(1994))。
As a film forming method for these photocatalysts, there is a chemical method such as a sol-gel method. This is to obtain a photocatalyst film by applying the raw material composition onto a substrate with a simple apparatus such as spin coating or spraying and heating the substrate at a temperature of usually several hundreds of degrees Celsius. Since anatase type TiO 2 crystal is effective for antibacterial deodorization, it has been reported that crystallization of TiO 2 is effective for function expression (International Publication No. WO94 / 11092, WO95 / 15816). .
In addition, it has been reported that TiO 2 is added with V, Fe, etc. to improve performance (W. Choi, A. Termin., MRHo.
ffmann, J. Phys. Chem., 98, 13669-13679 (1994)).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】TiO2は光触媒とし
ての機能を有しており、有機物や窒素酸化物などの分解
及び抗菌防臭作用を持つ。その機能は半導体であるTi
2が光、特に紫外線を照射すると生じる電子とホール
に起因する。半導体であるTiO2はバンドギャップ以
上のエネルギを持つ光を照射すると、電子とホールを生
成する。生成した電子とホールはTiO2表面に吸着し
た水を分解してHラジカルとOHラジカルを生成する。
このOHラジカルが有機物と反応することにより、有機
物を分解することができる。このため、上記技術を用い
れば、抗菌、防臭材として有機物を分解して環境浄化に
有効な材料を得ることができる。
TiO 2 has a function as a photocatalyst, and has a function of decomposing organic substances and nitrogen oxides and an antibacterial and deodorant effect. Its function is semiconductor, Ti
This is due to electrons and holes generated when O 2 is irradiated with light, especially ultraviolet rays. When TiO 2 which is a semiconductor is irradiated with light having an energy larger than the band gap, it produces electrons and holes. The generated electrons and holes decompose water adsorbed on the TiO 2 surface to generate H radicals and OH radicals.
By reacting the OH radical with an organic substance, the organic substance can be decomposed. Therefore, by using the above technique, it is possible to obtain a material effective for environmental purification by decomposing organic substances as an antibacterial / deodorant.

【0005】しかし、このような光触媒は、微細な異物
を分解除去することはできるが、例えばほこりのように
比較的大きな異物が付着すると、これを除去することは
困難である。従って、ほこりが表面を覆うことになり、
結果として光触媒への光照射量を減少して、その性能を
劣化させてしまう。
However, such a photocatalyst can decompose and remove fine foreign matter, but if relatively large foreign matter such as dust adheres, it is difficult to remove it. Therefore, dust will cover the surface,
As a result, the light irradiation amount on the photocatalyst is reduced, and the performance thereof is deteriorated.

【0006】この問題を解決するため、国際公開番号WO
96/129375の国際公開公報に報告されているように、親
水性を向上させることにより、無機物等の汚れを水で簡
単に洗い落すことができる超親水性光触媒が提案されて
いる。この超親水性光触媒は、水が供給できる環境下で
使用すれば有効である。しかし、水を供給できない環
境、例えば室内、電気製品等への使用した場合、付着し
たほこりなどを洗い流すことは困難である。
To solve this problem, the international publication number WO
As reported in International Publication No. 96/129375, a superhydrophilic photocatalyst has been proposed which can easily remove stains such as inorganic substances with water by improving hydrophilicity. This superhydrophilic photocatalyst is effective when used in an environment where water can be supplied. However, when used in an environment where water cannot be supplied, for example, indoors, electric appliances, etc., it is difficult to wash off the adhered dust and the like.

【0007】そこで、本発明は、光触媒により有機物を
分解可能であり、さらに埃などにも有効な優れた防汚効
果を有する防汚染膜と、該膜を用いた防汚方法と、該膜
を備える物品とを提供することを目的とする。
Therefore, the present invention provides an antifouling film capable of decomposing organic substances with a photocatalyst and having an excellent antifouling effect effective against dust and the like, an antifouling method using the film, and the film. An object of the present invention is to provide an article to be provided.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、有機物の分解を触媒する光触媒を含む
光触媒膜の表面抵抗値を導体を用いて109Ω/□以下
にすることにより、有機物の分解を触媒し、かつ、異物
の付着を防止する防汚方法と、有機物の分解を触媒する
光触媒を含む光触媒膜を備える防汚膜であって、光触媒
膜の表面抵抗値が109Ω/□以下である防汚膜とが提
供される。
In order to achieve the above object, in the present invention, the surface resistance value of a photocatalytic film containing a photocatalyst that catalyzes the decomposition of organic substances is set to 10 9 Ω / □ or less by using a conductor. An antifouling method for catalyzing the decomposition of organic substances and preventing the adhesion of foreign matter, and an antifouling film comprising a photocatalyst film containing a photocatalyst for catalyzing the decomposition of organic substances, the surface resistance value of which is 10 9 An antifouling film having an Ω / □ or less is provided.

【0009】本発明の方法によれば、微細な有機物は光
触媒により分解される。また、光触媒膜に導電性が付与
されている(表面抵抗値が低い)ため帯電が防止される
ので、ほこりなどの異物(有機物・無機物)が静電気に
より吸い付くのを防ぐことができる。従って、本発明に
よれば、一旦付着した有機物を分解除去できるだけでな
く、帯電した異物が付着するのを回避することができ
る。本発明では、長時間使用しても光触媒膜表面がほこ
りなどの異物により覆われないため、光触媒に十分な光
が供給される。このため、長時間使用しても、光触媒能
が低下しない。
According to the method of the present invention, fine organic matter is decomposed by a photocatalyst. In addition, since the photocatalyst film is provided with electrical conductivity (having a low surface resistance value), charging is prevented, and therefore foreign matter such as dust (organic matter / inorganic matter) can be prevented from being attracted by static electricity. Therefore, according to the present invention, not only can organic substances once attached be decomposed and removed, but also attachment of charged foreign matter can be avoided. In the present invention, since the surface of the photocatalyst film is not covered with foreign matter such as dust even after long-term use, sufficient light is supplied to the photocatalyst. Therefore, even if it is used for a long time, the photocatalytic activity does not decrease.

【0010】なお、光触媒膜の表面抵抗値は、109Ω
/□以下とすれば、ほこりの付着を防止するのに十分な
効果が得られ、特に104Ω/□以下とすることが好ま
しい。
The surface resistance of the photocatalytic film is 10 9 Ω.
When it is / square or less, an effect sufficient to prevent the adhesion of dust is obtained, and it is particularly preferably 10 4 Ω / square or less.

【0011】さらに、本発明では、有機物を分解し、さ
らに異物の静電気による付着を防止する機能を有する物
品として、有機物の分解を触媒する光触媒を含む光触媒
膜を備える物品であって、光触媒膜の帯電を防止するこ
とにより、ほこりの付着を防止する帯電防止機構を有す
る防汚物品が提供される。ここで、帯電防止機構は、光
触媒膜の表面抵抗値を109Ω/□以下にすることが望
ましい。
Further, according to the present invention, an article having a photocatalyst film containing a photocatalyst for catalyzing the decomposition of organic matter is provided as an article having a function of decomposing organic matter and preventing adhesion of foreign matter due to static electricity. By preventing static electricity, an antifouling article having an antistatic mechanism for preventing adhesion of dust is provided. Here, in the antistatic mechanism, it is desirable that the surface resistance value of the photocatalyst film be 10 9 Ω / □ or less.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明では、光触媒膜の帯電を防
止することによって、光触媒の性能(すなわち有機物の
分解性能)を向上させると共に、空気中に浮遊している
ほこりなどの異物の付着を防ぎ、より高性能な防汚機能
を提供できる。また、本発明では、ほこりなどの付着が
回避されるため、長時間使用しても光触媒への光の照射
量を減少すること無く、性能を維持できる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, by preventing the photocatalyst film from being charged, the performance of the photocatalyst (that is, the performance of decomposing organic matter) is improved, and the adhesion of foreign matter such as dust floating in the air is prevented. It can prevent and provide higher performance antifouling function. Further, in the present invention, since adhesion of dust and the like is avoided, the performance can be maintained without reducing the irradiation amount of light to the photocatalyst even when used for a long time.

【0013】上述のように、帯電防止機構は導体からな
り、光触媒膜に表面抵抗を下げるためのものである。帯
電を防止するための導体としては、光触媒の活性を劣化
させないように、Sn,In,Ag,Pdおよび/また
はCu、あるいはこれらの合金を用いるか、あるいは、
ATO(Sb添加SnO2)および/またはITO(S
n添加In23)などの導電性酸化物を用いることが望
ましい。ATOは、SnO2に約2〜10mol%のS
25を添加した導体であり、ITOは、In23に約
8〜12mol%のSnO2を添加した導体である。
As described above, the antistatic mechanism is made of a conductor and serves to reduce the surface resistance of the photocatalytic film. As a conductor for preventing electrification, Sn, In, Ag, Pd and / or Cu, or an alloy thereof is used so as not to deteriorate the activity of the photocatalyst, or
ATO (Sb-added SnO 2 ) and / or ITO (S
It is desirable to use a conductive oxide such as n-doped In 2 O 3 ). ATO is about 2-10 mol% of S in SnO 2.
b 2 O 5 is a conductor added, and ITO is a conductor obtained by adding about 8 to 12 mol% SnO 2 to In 2 O 3 .

【0014】なお、帯電防止は、光触媒膜中に導体から
なる導電性微粒子を分散することにより導電性を付与す
ることで実現してもよく、導電性膜を設けることにより
実現してもよい。
The antistatic property may be realized by dispersing conductive fine particles made of a conductor in the photocatalyst film to impart conductivity, or by providing a conductive film.

【0015】導電性微粒子を光触媒膜中に分散させる場
合には、十分な導電性を確保しつつ、光触媒活性および
膜強度を低下させないように、導電性微粒子を光触媒膜
全体の1〜20重量%とすることが望ましい。
When the conductive fine particles are dispersed in the photocatalyst film, the conductive fine particles are contained in an amount of 1 to 20% by weight based on the total weight of the photocatalyst film so that the photocatalytic activity and the film strength are not lowered while ensuring sufficient conductivity. Is desirable.

【0016】導電性膜は、物品の基材としてもよく、ま
た、基材と光触媒膜との間に設けてもよい。導電性膜
は、光触媒膜と接触していなくてもよいが、その間の距
離は、光触媒膜の表面抵抗値を下げる効果が十分得られ
る程度に狭くすることが望ましい。また、導電性膜は、
導体からなる膜でもよいが、十分な導電性が確保できれ
ば、導電性微粒子の分散した膜でもよい。
The conductive film may be the base material of the article, or may be provided between the base material and the photocatalytic film. The conductive film does not have to be in contact with the photocatalyst film, but the distance between them is preferably narrow enough to obtain the effect of lowering the surface resistance value of the photocatalyst film. In addition, the conductive film is
A film made of a conductor may be used, but a film in which conductive fine particles are dispersed may be used as long as sufficient conductivity can be secured.

【0017】光触媒膜としては、光触媒のみからなる膜
を用いることができる。本発明で用いることができる光
触媒としては、TiO2,SrTiO3,BaTiO3
WO3およびSiCのうちの少なくとも一種を用いるこ
とができる。光触媒膜は、直接外気に接触するように、
物品の最表面に設けることが望ましい。
As the photocatalyst film, a film made of only a photocatalyst can be used. Photocatalysts that can be used in the present invention include TiO 2 , SrTiO 3 , BaTiO 3 ,
At least one of WO 3 and SiC can be used. The photocatalyst film should be in direct contact with the outside air,
It is desirable to provide it on the outermost surface of the article.

【0018】光触媒の反応速度を大きくするには、活性
点の数を多くすることが望ましい。このためには表面積
を大きくする、すなわち光触媒を微粒子化することが望
ましい。そこで、光触媒膜として、光触媒のみからなる
膜の代わりに、光触媒の微粒子と、バインダとからなる
組成物膜を用いることが好ましい。バインダ(連続相)
としては、多孔質で吸水性が高く、光触媒の活性を劣化
させず、光触媒により分解されない物質、特に無機物が
望ましく、例えばSiO2を用いることができる。光触
媒膜として組成物膜を用いる場合の光触媒の重量は、十
分な膜強度を得るために、バインダの重量の9倍以下と
することが望ましく、十分な光触媒活性を得るために、
バインダの重量の5倍以上とすることが望ましい。
In order to increase the reaction rate of the photocatalyst, it is desirable to increase the number of active sites. For this purpose, it is desirable to increase the surface area, that is, to make the photocatalyst into fine particles. Therefore, as the photocatalyst film, it is preferable to use a composition film consisting of photocatalyst fine particles and a binder, instead of a film consisting only of the photocatalyst. Binder (continuous phase)
As the substance, a substance that is porous, has high water absorption, does not deteriorate the activity of the photocatalyst, and is not decomposed by the photocatalyst, particularly an inorganic substance is preferable, and for example, SiO 2 can be used. When the composition film is used as the photocatalyst film, the weight of the photocatalyst is preferably 9 times or less the weight of the binder in order to obtain sufficient film strength, and in order to obtain sufficient photocatalytic activity,
It is desirable that the weight is 5 times or more the weight of the binder.

【0019】また、活性点の仕事量は、光触媒の結晶性
を良くすることにより向上させることができる。しか
し、結晶性を向上させれば、粒子径が増大するため表面
積は低下してしまう。そこで、本発明者らは、多くの実
験を行なうことにより、光触媒のX線により求めた結晶
子径が5〜20nmのとき、反応速度が最大になること
を見出した。なお、TiO2微粒子を分散させるバイン
ダとして、種々の酸化物を使用しても、この範囲で分解
速度が最大となった。
The work of the active sites can be improved by improving the crystallinity of the photocatalyst. However, if the crystallinity is improved, the particle size increases and the surface area decreases. Therefore, the present inventors have conducted many experiments and found that the reaction rate becomes maximum when the crystallite diameter of the photocatalyst determined by X-ray is 5 to 20 nm. Even if various oxides were used as the binder for dispersing the TiO 2 fine particles, the decomposition rate was maximized in this range.

【0020】また、実用上十分な分解速度を得るために
は、ある程度の触媒量が必要であり、そのためには、光
触媒膜の膜厚を100nm以上にすることが望ましい。
また、膜厚が500nmを超えると、膜にひびわれが生
じたり、強度が不十分になったりすることがあるため、
光触媒膜の膜厚は500nm以下にすることが望まし
い。導電性膜についても、同様の理由により膜厚を50
0nm以下にすることが望ましく、導電性微粒子の結晶
子径を考慮すると、膜厚の下限は、通常5〜10nm以
上となる。また、光触媒膜の表面抵抗値を104Ω/□
程度にするためには、通常30nm以上の厚さにするこ
とが望ましい。
Further, in order to obtain a practically sufficient decomposition rate, a certain amount of catalyst is required, and for that purpose, it is desirable that the thickness of the photocatalyst film be 100 nm or more.
If the film thickness exceeds 500 nm, the film may be cracked or the strength may become insufficient.
The thickness of the photocatalyst film is preferably 500 nm or less. For the conductive film, the film thickness should be 50 for the same reason.
It is desirable that the thickness be 0 nm or less. Considering the crystallite diameter of the conductive fine particles, the lower limit of the film thickness is usually 5 to 10 nm or more. In addition, the surface resistance value of the photocatalyst film is 10 4 Ω / □
In order to obtain the degree, it is usually desirable to set the thickness to 30 nm or more.

【0021】基材には、ガラス、セラミック(陶磁器を
含む)、樹脂など、その表面に成膜することができる材
料であればどのようなものを用いても構わない。なお、
基材として可撓性を有するプラスチックフィルムを用い
れば、軽く、壁材、窓材、柱材などの建築材料や、自動
車のフロンドガラスなどの彎曲した部材にも簡単に貼付
することができ、また、張替も容易な、使い勝手のよい
防汚材料(物品)を得ることができる。そこで、本発明
では、防汚物品として、この順で積層された、有機高分
子化合物を含むシート状の基材と、導電性膜と、光触媒
膜とを備えるフィルムが提供される。なお、基材に導電
性有機高分子化合物のシートを用いれば、さらに導電性
膜を設ける必要はない。貼付用フィルムとして用いる場
合には、基材自体に粘着性を有するものを用いるか、あ
るいは、基材の表裏のうち、光触媒膜の形成されていな
い側の面に接着剤を含む層を設けることが、使い勝手の
上で好ましい。
As the base material, any material such as glass, ceramics (including ceramics), resin, etc. can be used as long as it can form a film on its surface. In addition,
If a flexible plastic film is used as a base material, it can be easily attached to building materials such as wall materials, window materials, and pillar materials, and curved members such as automobile front glass, etc. It is possible to obtain an easy-to-use antifouling material (article) that can be easily replaced. Therefore, in the present invention, a film including a sheet-shaped substrate containing an organic polymer compound, a conductive film, and a photocatalyst film, which are laminated in this order, is provided as an antifouling article. If a sheet of a conductive organic polymer compound is used as the base material, it is not necessary to further provide a conductive film. When using as a sticking film, use a substrate having adhesiveness, or provide a layer containing an adhesive on the surface of the front and back of the substrate on which the photocatalytic film is not formed. However, it is preferable in terms of usability.

【0022】有機高分子化合物を含むシート状の基材と
しては、数か月程度の使用であれば、特に限定されるこ
となく、プラスチックフィルムとして汎用されている種
々の有機樹脂を用いることができる。しかし、基材と光
触媒が直接接触する場合には、数か月以上使用すると、
基材自体が分解され、光触媒膜が剥離してしまう。そこ
で、数か月以上使用する場合には、光触媒により影響を
受けにくい樹脂、例えば、シロキサン樹脂、シリコン樹
脂、フッ素樹脂などを用いることが望ましい。また、基
材と光触媒とが直接接触しないように、光触媒により影
響を受けにくい材料(例えば上述の樹脂または無機物)
からなるバリア層を備えることも、剥離防止のために有
効である。なお、バリア層は、基材と光触媒膜との間に
設ける。導電性膜を設ける場合には、この導電性膜があ
る程度バリアとして機能するが、さらにバリア層を設け
ることが望ましい。この場合、基材と導電性膜との間、
導電性膜と光触媒膜との間のいずれにバリア層を設けて
もかまわない。
The sheet-shaped substrate containing the organic polymer compound is not particularly limited as long as it is used for several months, and various organic resins generally used as plastic films can be used. . However, if the base material and the photocatalyst are in direct contact, if used for several months or more,
The base material itself is decomposed and the photocatalytic film is peeled off. Therefore, when used for several months or more, it is desirable to use a resin that is not easily affected by the photocatalyst, such as a siloxane resin, a silicon resin, or a fluororesin. Further, a material that is not easily affected by the photocatalyst so that the base material and the photocatalyst do not come into direct contact (for example, the above-mentioned resin or inorganic material)
The provision of a barrier layer made of is also effective for preventing peeling. The barrier layer is provided between the base material and the photocatalytic film. When a conductive film is provided, this conductive film functions as a barrier to some extent, but it is desirable to further provide a barrier layer. In this case, between the base material and the conductive film,
A barrier layer may be provided between the conductive film and the photocatalyst film.

【0023】なお、本発明者らは、Fe,Alおよび/
またはZrの存在により、TiO2の光触媒活性が失わ
れる事を見出した。そこで、本発明では、Fe,Al,
Zrを含有するバリア層を備える物品が提供される。こ
のように、バリア層に光触媒活性を失活させる物質を含
有させることにより、上層の光触媒層により、下層の有
機物(基材など)が分解・変質することを抑制すること
ができる。また、この失活物質を用いることにより、バ
リア層を従来より薄くすることができる。なお、導電性
膜にこれらの光触媒を失活させる元素を含有させれば、
導電性膜が高性能バリア層としても機能することにな
る。逆に、バリア層に導電性微粒子を分散させることに
より、光触媒膜の表面抵抗を低下させるための導電性膜
としてバリア層を機能させてもよい。
The present inventors have found that Fe, Al and /
It was also found that the presence of Zr causes the photocatalytic activity of TiO 2 to be lost. Therefore, in the present invention, Fe, Al,
Articles are provided that include a barrier layer containing Zr. In this way, by containing a substance that deactivates the photocatalytic activity in the barrier layer, it is possible to prevent the organic material (base material, etc.) in the lower layer from being decomposed / altered by the upper photocatalytic layer. Further, by using this deactivating substance, the barrier layer can be made thinner than before. If the conductive film contains an element that deactivates these photocatalysts,
The conductive film will also function as a high performance barrier layer. On the contrary, the barrier layer may be made to function as a conductive film for reducing the surface resistance of the photocatalytic film by dispersing the conductive fine particles in the barrier layer.

【0024】バリア層の膜厚は、500nmを超える
と、膜にひびわれが生じたり、強度が不十分になったり
することがあるため、500nm以下にすることが望ま
しい。また、膜厚の下限は、用途に応じて適宜定められ
る。例えば、抗菌のみを目的とする場合には、弱い触媒
作用で足りるため、通常、20nm以上とすればよい。
また、有機物や窒素酸化物などの分解を目的とする場合
には、強い触媒作用が必要なため、通常50nm以上に
するが、この場合でも、上述の光触媒活性を失活させる
元素を含有させる場合には、膜厚を20nm程度にする
ことができる。
If the thickness of the barrier layer exceeds 500 nm, the film may be cracked or its strength may become insufficient. Therefore, it is desirable to set the thickness to 500 nm or less. Further, the lower limit of the film thickness is appropriately determined according to the application. For example, in the case of antibacterial purposes only, a weak catalytic action is sufficient, and therefore, the thickness is usually 20 nm or more.
Further, in the case of decomposing organic substances, nitrogen oxides, etc., a strong catalytic action is required, so it is usually set to 50 nm or more. However, even in this case, when an element for deactivating the above-mentioned photocatalytic activity is contained. The film thickness can be about 20 nm.

【0025】本発明が適用される防汚物品としては、前
述の防汚フィルムの他、例えば、建築材料(ガラス板な
どの窓材、タイル、建築パネルなどの壁材、床材、柱材
など)、内装材(壁紙、カーテン、鏡など)、自動車部
品(窓ガラス、内装部品など)、家具、衛生器具(便
器、洗面台など)、浴槽、流し台等、多岐に渡る物品を
挙げることができる。
Examples of the antifouling article to which the present invention is applied include, in addition to the above-mentioned antifouling film, building materials (window materials such as glass plates, tiles, wall materials such as building panels, flooring materials, pillar materials, etc.). ), Interior materials (wallpaper, curtains, mirrors, etc.), automobile parts (window glass, interior parts, etc.), furniture, sanitary ware (toilet bowls, washbasins, etc.), bathtubs, sinks, etc. .

【0026】[0026]

【実施例】【Example】

(実施例1〜5、比較例1〜2)本実施例では、図1
(b)に示すように、基材1と導電性光触媒膜4とが積
層された帯電防止光触媒膜付きガラス板5を作製した。
導電性光触媒膜4は、図1(a)の部分拡大断面図から
わかるように、光触媒であるTiO2からなる連続相3
と、該連続相3中に分散した導電性微粒子2とを備え
る。このガラス板の本実施例における作製方法を以下に
示す。
(Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2) In this example, FIG.
As shown in (b), a glass plate 5 with an antistatic photocatalyst film was produced in which the substrate 1 and the conductive photocatalyst film 4 were laminated.
The conductive photocatalyst film 4 has a continuous phase 3 made of TiO 2 which is a photocatalyst, as can be seen from the partially enlarged sectional view of FIG.
And conductive particles 2 dispersed in the continuous phase 3. The method for producing this glass plate in this example is described below.

【0027】まず、TiO2からなる連続相3を形成す
るため、イソプロポキシチタネート10gをイソプロパ
ノール90g中に溶解させ、TiO2相形成のためのチ
タニアゾルを調製した。つぎに、Ag、Cu、Pd、A
TOまたはITOの微粒子(X線により求めた結晶子径
5〜10nm)を、エタノール−プロパノール2:1
(体積比)混合液に非イオン性界面活性剤(1重量%)
を用いて分散させ、導電性微粒子分散液(2重量%)を
調製した。さらに、調製したチタニアゾル5gに対し
て、上述の微粒子分散液5gを添加して各種コーティン
グ液を調製した。
First, in order to form the continuous phase 3 composed of TiO 2 , 10 g of isopropoxy titanate was dissolved in 90 g of isopropanol to prepare a titania sol for forming a TiO 2 phase. Next, Ag, Cu, Pd, A
Fine particles of TO or ITO (crystallite size determined by X-ray: 5 to 10 nm) were mixed with ethanol-propanol 2: 1.
(Volume ratio) Nonionic surfactant (1% by weight) in the mixed liquid
Was used to prepare a conductive fine particle dispersion liquid (2% by weight). Furthermore, 5 g of the above-mentioned fine particle dispersion liquid was added to 5 g of the prepared titania sol to prepare various coating liquids.

【0028】得られたコーティング液を、良く洗浄した
ガラス基板1(100mm×100mm×2mm)の表
裏一方の面全面に滴下し、400rpmでスピンコート
塗布して塗膜を形成した後、60℃で5分間乾燥させ、
さらに450℃で1時間加熱処理した。これにより、ガ
ラス基板1表面に、導電性微粒子2が光触媒膜3中に分
散した帯電防止光触媒膜4(膜厚400nm)が積層さ
れたガラス板5を得た。
The obtained coating solution was dropped onto the entire surface of one side of the well-washed glass substrate 1 (100 mm × 100 mm × 2 mm) and spin-coated at 400 rpm to form a coating film, and then at 60 ° C. Let it dry for 5 minutes,
Furthermore, it heat-processed at 450 degreeC for 1 hour. As a result, a glass plate 5 was obtained in which the antistatic photocatalyst film 4 (film thickness 400 nm) in which the conductive fine particles 2 were dispersed in the photocatalyst film 3 was laminated on the surface of the glass substrate 1.

【0029】また、比較例として、微粒子分散液を添加
していないチタニアゾルまたはシリカゾルをコーティン
グ液として用いて同様に塗膜を形成し、上述の実施例と
同様に乾燥、加熱処理して、非導電性の膜(膜厚400
nm)を形成した。なお、チタニアゾルは上述の調製方
法と同様にして調製した。また、SiO2相形成のため
のシリカゾルは、テトラエトキシシラン10gをイソプ
ロパノール90g中に溶解して調製した。
In addition, as a comparative example, a coating film was similarly formed by using titania sol or silica sol to which the fine particle dispersion was not added as a coating solution, and dried and heat-treated in the same manner as in the above-mentioned examples to obtain a non-conductive material. Film (film thickness 400
nm). The titania sol was prepared in the same manner as the above-mentioned preparation method. The silica sol for forming the SiO 2 phase was prepared by dissolving 10 g of tetraethoxysilane in 90 g of isopropanol.

【0030】得られた帯電防止光触媒薄膜4または非導
電性膜の表面抵抗値と、喫煙室中に1か月放置した後の
膜の汚れとを調べたところ、表1に示すような結果とな
った。
The surface resistance value of the obtained antistatic photocatalyst thin film 4 or non-conductive film and the stain of the film after left in the smoking room for 1 month were examined, and the results shown in Table 1 were obtained. became.

【0031】[0031]

【表1】 [Table 1]

【0032】この表からわかるように、表面抵抗値は、
導電性微粒子を分散させた膜(実施例1〜5)では10
8〜109Ω/□、TiO2のみの膜(比較例1)では1
10Ω/□、SiO2のみの膜(比較例2)では1012
Ω/□以上であった。帯電防止機能は、表面抵抗値が1
9Ω/□以下であればほこりの付着防止のために有効
であると考えられる。従って、得られた表面抵抗値か
ら、導電性微粒子を分散した試料には帯電防止効果があ
るが、SiO2またはTiO2のみの膜ではこの効果は期
待できないことがわかる。実際、TiO2のみの膜(比
較例1)およびSiO2のみの膜(比較例2)には、ほ
こりが付着していたが、各実施例の導電性微粒子を分散
させた帯電防止光触媒膜にはほこりがほとんど付着して
いなかった。
As can be seen from this table, the surface resistance value is
10 in the film in which the conductive fine particles are dispersed (Examples 1 to 5).
8 to 10 9 Ω / □, 1 in the case of TiO 2 only film (Comparative Example 1)
0 10 Ω / □, 10 12 for a film containing only SiO 2 (Comparative Example 2)
Ω / □ or more. Antistatic function has surface resistance of 1
If it is less than 09 Ω / □, it is considered to be effective for preventing dust adhesion. Therefore, from the obtained surface resistance value, it can be seen that the sample in which the conductive fine particles are dispersed has an antistatic effect, but this effect cannot be expected in a film containing only SiO 2 or TiO 2 . In fact, dust was adhered to the TiO 2 only film (Comparative Example 1) and the SiO 2 only film (Comparative Example 2), but the antistatic photocatalytic film in which the conductive fine particles of each Example were dispersed was used. Almost no dust was attached.

【0033】一方、光触媒特性については、TiO2
みの膜(比較例1)および導電性微粒子を分散させたT
iO2膜(実施例1〜5)には、タバコのヤニの付着が
見られなかったことから、実施例1〜5および比較例1
の膜のいずれも、有効な光触媒特性を有すると考えられ
る。しかしSiO2のみの膜(比較例2)では、光触媒
特性がないため、ヤニの付着のため黄色に着色してい
た。
On the other hand, regarding the photocatalytic properties, a film of TiO 2 alone (Comparative Example 1) and T containing conductive particles dispersed therein were used.
No adhesion of tobacco tar was found on the iO 2 film (Examples 1 to 5), so Examples 1 to 5 and Comparative Example 1
It is believed that any of the above membranes have effective photocatalytic properties. However, the film containing only SiO 2 (Comparative Example 2) had no photocatalytic property and was colored yellow due to the adhesion of tar.

【0034】以上の結果から、光触媒に導電性微粒子を
分散させて形成した帯電防止光触媒膜は、タバコのヤニ
のような有機物を分解するだけでなく、ほこりなどの無
機物の付着をも防止することができ、従来の材料より防
汚効果に優れていることが分かった。
From the above results, the antistatic photocatalytic film formed by dispersing the conductive fine particles in the photocatalyst should not only decompose the organic matter such as the tar of the cigarette but also prevent the adhesion of the inorganic matter such as dust. It was found that the antifouling effect was superior to the conventional materials.

【0035】なお、光触媒連続相3として、TiO2
の代わりに、光触媒特性のあるSrTiO3、BaTi
3、WO3またはSiCの膜(膜厚400nm)を形成
してガラス板5を作製し、実施例1〜5と同様の実験を
行ったところ、TiO2を用いた実施例1〜5と同様な
結果が得られ、これらの材料も有効であることが確認で
きた。
As the photocatalytic continuous phase 3, instead of the TiO 2 film, SrTiO 3 and BaTi having photocatalytic properties are used.
A glass plate 5 was prepared by forming a film of O 3 , WO 3 or SiC (film thickness 400 nm), and an experiment similar to that of Examples 1 to 5 was performed. As a result, Examples 1 to 5 using TiO 2 were obtained. Similar results were obtained, and it was confirmed that these materials were also effective.

【0036】SrTiO3膜は、硝酸ストロンチウムの
プロパノール溶液(0.3mol/L)100mlと、
イソプロポキシチタネートのプロパノール溶液(0.3
mol/L)100mlとを混合し、よく撹拌して調製
した溶液に、上述の導電性微粒子分散液5gを分散させ
てコーティング液を調製し、このコーティング液を、ガ
ラス基板1表面にスピンコート塗布し、60℃で5分間
乾燥した後、850℃で2時間加熱して形成した。
The SrTiO 3 film was prepared by adding 100 ml of a strontium nitrate propanol solution (0.3 mol / L),
Isopropoxy titanate in propanol (0.3
mol / L) 100 ml and mixed well to prepare a solution prepared by dispersing 5 g of the above-mentioned electroconductive fine particle dispersion liquid, and spin-coating the coating liquid on the surface of the glass substrate 1. And dried at 60 ° C. for 5 minutes and then heated at 850 ° C. for 2 hours to form a film.

【0037】BaTiO3膜は、硝酸バリウムのプロパ
ノール溶液(0.3mol/L)100mlと、イソプ
ロポキシチタネートのプロパノール溶液(0.3mol
/L)100mlとを混合し、よく撹拌して調製した溶
液に、上述の導電性微粒子分散液5gを分散させてコー
ティング液を調製し、このコーティング液を、ガラス基
板1表面にスピンコート塗布し、60℃で5分間乾燥し
た後、850℃で2時間加熱して形成した。
The BaTiO 3 film was composed of 100 ml of a barium nitrate propanol solution (0.3 mol / L) and 100 ml of an isopropoxy titanate propanol solution (0.3 mol / L).
/ L) 100 ml and mixed well, to prepare a coating solution by dispersing 5 g of the above conductive fine particle dispersion liquid in a solution prepared by spin coating the surface of the glass substrate 1 with this coating solution. After being dried at 60 ° C. for 5 minutes, it was formed by heating at 850 ° C. for 2 hours.

【0038】WO3膜は、硝酸タングステンのプロパノ
ール溶液(0.3mol/L)5gに上述の導電性微粒
子分散液5gを分散させて調製したコーティング液を、
ガラス基板1表面にスピンコート塗布した後、60℃で
5分間乾燥させ、さらに450℃で1時間加熱して形成
した。
The WO 3 film was prepared by dispersing 5 g of the above conductive fine particle dispersion in 5 g of a propanol solution of tungsten nitrate (0.3 mol / L),
After being spin-coated on the surface of the glass substrate 1, it was dried at 60 ° C. for 5 minutes and further heated at 450 ° C. for 1 hour to be formed.

【0039】(実施例6〜10)実施例1〜5において
調製したチタニアゾルおよび各種導電性微粒子分散液を
用いて、図2に示すように、ガラス基板1上と導電層6
と光触媒層7とがこの順で積層された帯電防止光触媒膜
付きガラス板20を作製した。
(Examples 6 to 10) Using the titania sol and various conductive fine particle dispersions prepared in Examples 1 to 5, as shown in FIG. 2, on the glass substrate 1 and the conductive layer 6.
A glass plate 20 with an antistatic photocatalyst film was produced in which the photocatalyst layer 7 and the photocatalyst layer 7 were laminated in this order.

【0040】まず、実施例1で用いたものと同様の良く
洗浄したガラス基板1の表裏一方の面に、導電性微粒子
分散液を滴下し、400rpmでスピンコートし、60
℃で5分間乾燥し、導電性微粒子分散液の塗膜を形成し
た。つぎに、得られた塗膜表面に、チタニアゾルを滴下
し、400rpmでスピンコートすることによりチタニ
アゾルの塗膜を積層した。最後に、積層板全体を450
℃で1時間加熱処理し、導電層6(膜厚400nm)お
よびTiO2層7(膜厚400nm)からなる積層膜で
ある帯電防止光触媒膜8を得た。
First, the conductive fine particle dispersion liquid was dropped onto one of the front and back surfaces of the glass substrate 1 which was well washed similarly to the one used in Example 1, and was spin-coated at 400 rpm.
It was dried at 5 ° C. for 5 minutes to form a coating film of the conductive fine particle dispersion liquid. Next, a titania sol coating film was laminated on the obtained coating film surface by dropping titania sol and spin coating at 400 rpm. Finally, the entire laminate is 450
A heat treatment was performed at 1 ° C. for 1 hour to obtain an antistatic photocatalyst film 8 which is a laminated film including the conductive layer 6 (film thickness 400 nm) and the TiO 2 layer 7 (film thickness 400 nm).

【0041】得られたガラス板20における帯電防止光
触媒膜8の性能を、実施例1〜5と同様にして評価した
ところ、表2に示すように、光触媒層7の表面抵抗は1
3〜106であり、実施例1〜5と同様の、タバコのヤ
ニによる着色及びほこりの付着を防止することができる
優れた防汚効果を有することが分かった。
When the performance of the antistatic photocatalyst film 8 on the obtained glass plate 20 was evaluated in the same manner as in Examples 1 to 5, as shown in Table 2, the surface resistance of the photocatalyst layer 7 was 1.
It was 0 3 to 10 6 and was found to have an excellent antifouling effect capable of preventing coloring by dust of a cigarette and adhesion of dust, similar to Examples 1 to 5.

【0042】[0042]

【表2】 [Table 2]

【0043】なお、光触媒層として、TiO2層7の代
わりに、光触媒特性のあるSrTiO3、BaTiO3
たはWO3の薄膜(膜厚400nm)を形成した他は、
本実施例6〜10と同様にして積層膜である帯電防止光
触媒膜8を備えるガラス板20を作製し、性能を評価し
たところ、TiO2使用時と同様な結果が得られ、これ
らの材料も有効であることが確認できた。
As a photocatalyst layer, a thin film (film thickness 400 nm) of SrTiO 3 , BaTiO 3 or WO 3 having photocatalytic properties was formed instead of the TiO 2 layer 7.
A glass plate 20 having an antistatic photocatalyst film 8 which is a laminated film was prepared in the same manner as in Examples 6 to 10, and the performance was evaluated. The same results as when using TiO 2 were obtained, and these materials were also used. It was confirmed to be effective.

【0044】なお、SrTiO3膜は、硝酸ストロンチ
ウムのプロパノール溶液(0.3mol/L)100m
lと、イソプロポキシチタネートのプロパノール溶液
(0.3mol/L)100mlとを混合し、よく撹拌
して調製したコーティング液を、ガラス基板1表面にス
ピンコート塗布し、60℃で5分間乾燥した後、850
℃で2時間加熱して形成した。
The SrTiO 3 film was formed by using a strontium nitrate propanol solution (0.3 mol / L) 100 m.
1 and 100 ml of a propanol solution of isopropoxy titanate (0.3 mol / L) were mixed and well stirred to prepare a coating solution, which was spin-coated on the surface of the glass substrate 1 and dried at 60 ° C. for 5 minutes. , 850
It was formed by heating at 0 ° C. for 2 hours.

【0045】BaTiO3膜は、硝酸バリウムのプロパ
ノール溶液(0.3mol/L)100mlと、イソプ
ロポキシチタネートのプロパノール溶液(0.3mol
/L)100mlとを混合し、よく撹拌して調製したコ
ーティング液を、ガラス基板1表面にスピンコート塗布
し、60℃で5分間乾燥した後、850℃で2時間加熱
して形成した。
The BaTiO 3 film is composed of 100 ml of a barium nitrate propanol solution (0.3 mol / L) and 100 ml of an isopropoxy titanate propanol solution (0.3 mol / L).
/ L) 100 ml, and the mixture was thoroughly stirred to prepare a coating liquid, which was applied onto the surface of the glass substrate 1 by spin coating, dried at 60 ° C. for 5 minutes, and then heated at 850 ° C. for 2 hours to form the layer.

【0046】WO3膜は、硝酸タングステンのプロパノ
ール溶液(0.3mol/L)を、ガラス基板1表面に
コーティングした後、60℃で5分間乾燥させ、さらに
450℃で1時間加熱して形成した。
The WO 3 film was formed by coating the surface of the glass substrate 1 with a propanol solution of tungsten nitrate (0.3 mol / L), drying it at 60 ° C. for 5 minutes, and then heating it at 450 ° C. for 1 hour. .

【0047】(実施例11〜15)実施例2までは、高
温で処理できる基材を用いたが、本発明はこれに限られ
ず、一般に耐熱性の低いプラスチック表面にも帯電防止
光触媒膜を形成することができる。本実施例では、PE
T(ポリテレフタル酸エチレン)フィルムを基材とし、
以下に示すように低温の成膜処理を行なうことで、図3
(b)に示す、帯電防止光触媒薄膜13付きの高機能プ
ラスチックフィルム30を作製した。なお、本実施例の
導電性光触媒膜13は、図3(a)の部分拡大断面図か
らわかるように、SiO2からなる連続相10と、該連
続相10中に分散した、光触媒であるTiO2の微粒子
11および導電性微粒子12とを備える。
(Examples 11 to 15) Up to Example 2, a substrate which can be treated at a high temperature was used, but the present invention is not limited to this, and an antistatic photocatalytic film is generally formed on a plastic surface having low heat resistance. can do. In this embodiment, PE
Using T (polyethylene terephthalate) film as the base material,
By performing a low-temperature film forming process as shown below, as shown in FIG.
A high-performance plastic film 30 with an antistatic photocatalytic thin film 13 shown in (b) was produced. Note that the conductive photocatalyst film 13 of this example has a continuous phase 10 made of SiO 2 and TiO, which is a photocatalyst, dispersed in the continuous phase 10, as can be seen from the partially enlarged sectional view of FIG. The second fine particles 11 and the conductive fine particles 12 are provided.

【0048】まず、5gのテトラエトキシシランを10
0mlの水−エタノール−プロパノール(体積比3:2
7:70)混合溶液中に溶解し、40℃で5時間程度撹
伴した後、室温で2週間放置してSiO2ゾルを調製し
た。次に、得られたSiO2ゾル中に、重量比でTiO2
/SiO2=9となる量のTiO2微粒子を添加し、固形
分濃度が4重量%となるように水を加えて調製した。さ
らに、実施例1で調製した各種導電性微粒子分散液を加
え、直径5mmのジルコニアボールを用いて24hrボ
ールミルで混練し、SiO2ゾル中にTiO2微粒子と導
電性微粒子を分散させた各種コーティング液を調製し
た。
First, 5 g of tetraethoxysilane was added to 10
0 ml of water-ethanol-propanol (volume ratio 3: 2
7:70) Dissolved in a mixed solution, stirred at 40 ° C. for about 5 hours, and allowed to stand at room temperature for 2 weeks to prepare a SiO 2 sol. Next, the obtained SiO 2 sol was mixed with TiO 2 in a weight ratio.
The amount of TiO 2 particles was such that / SiO 2 = 9, and water was added so that the solid content concentration was 4% by weight. Further, various conductive fine particle dispersions prepared in Example 1 were added and kneaded with a zirconia ball having a diameter of 5 mm in a 24 hr ball mill to obtain various coating liquids in which TiO 2 fine particles and conductive fine particles were dispersed in SiO 2 sol. Was prepared.

【0049】最後に、得られたコーティング液をPET
フィルム9(100mm×100mm×0.2mm)に
スピンコート塗布し、120℃で低圧水銀ランプ(強
度:15mW/cm2)を5分間照射して硬化させた。
これにより、SiO2連続相10中にTiO2微粒子11
と導電性微粒子12とが分散した帯電防止光触媒膜13
(膜厚400nm)を備えるプラスチックフィルム30
が形成された。PETフィルム上に得られた薄膜は、膜
質および強度共に良好であった。
Finally, the obtained coating liquid was subjected to PET.
Film 9 (100 mm × 100 mm × 0.2 mm) was spin-coated and cured by irradiation with a low pressure mercury lamp (strength: 15 mW / cm 2 ) at 120 ° C. for 5 minutes.
As a result, TiO 2 fine particles 11 are contained in the SiO 2 continuous phase 10.
And antistatic photocatalyst film 13 in which conductive particles 12 are dispersed
Plastic film 30 having (film thickness 400 nm)
Was formed. The thin film obtained on the PET film had good film quality and strength.

【0050】得られた高機能プラスチックフィルム30
における帯電防止光触媒膜13の性能を、実施例1〜5
と同様にして評価したところ、表3に示すように、いず
れの導電性微粒子を用いた場合も表面抵抗が109Ω/
□以下であり、実施例1〜5と同様の、タバコのヤニに
よる着色及びほこりの付着を防止することができる優れ
た防汚効果を有することが分かった。
High-performance plastic film 30 obtained
The performance of the antistatic photocatalytic film 13 in Examples 1-5
The evaluation was performed in the same manner as in Table 3, and as shown in Table 3, the surface resistance was 10 9 Ω / cm when any of the conductive fine particles was used.
It was found that it has the following excellent antifouling effect, which is the same as in Examples 1 to 5 and can prevent the coloring by the tar of the cigarette and the adhesion of dust.

【0051】[0051]

【表3】 [Table 3]

【0052】なお、光触媒微粒子11として、TiO2
微粒子の代わりにSrTiO3、BaTiO3、WO3
たはSiCの微粒子を用いた他は、本実施例11〜15
と同様にして、帯電防止光触媒膜13(膜厚400n
m)を備える高機能プラスチックフィルム30を作製
し、性能を評価したところ、TiO2微粒子を使用した
ものと同様の結果が得られた。
As the photocatalyst fine particles 11, TiO 2 was used.
Examples 11 to 15 except that fine particles of SrTiO 3 , BaTiO 3 , WO 3 or SiC were used instead of the fine particles.
The antistatic photocatalyst film 13 (film thickness 400n
When a high-performance plastic film 30 having m) was prepared and the performance was evaluated, the same results as those using TiO 2 fine particles were obtained.

【0053】SrTiO3微粒子はつぎのようにして形
成した。すなわち、硝酸ストロンチウムのプロパノール
溶液(0.3mol/L)100mlと、イソプロポキ
シチタネートのプロパノール溶液(0.3mol/L)
100mlとを混合し、よく撹拌して調製した溶液を、
容器ごと80℃で5時間乾燥した後、850℃で2時間
加熱し、容器から採り出して粉砕し、微粒子(X線によ
り求めた結晶子径10nm)とした。
The SrTiO 3 fine particles were formed as follows. That is, 100 ml of a strontium nitrate propanol solution (0.3 mol / L) and an isopropoxy titanate propanol solution (0.3 mol / L)
The solution prepared by mixing with 100 ml and stirring well,
The whole container was dried at 80 ° C. for 5 hours, then heated at 850 ° C. for 2 hours, taken out of the container and pulverized to obtain fine particles (crystallite diameter 10 nm determined by X-ray).

【0054】また、BaTiO3微粒子は、硝酸バリウ
ムのプロパノール溶液(0.3mol/L)100ml
と、イソプロポキシチタネートのプロパノール溶液
(0.3mol/L)100mlとを混合し、よく撹拌
して調製した溶液を、容器ごと80℃で5時間乾燥した
後、850℃で2時間加熱し、容器から採り出して粉砕
し、微粒子(X線により求めた結晶子径10nm)とし
た。
BaTiO 3 fine particles are 100 ml of a barium nitrate propanol solution (0.3 mol / L).
And 100 ml of a propanol solution of isopropoxy titanate (0.3 mol / L) were mixed and well stirred to prepare a solution, which was dried with the container at 80 ° C for 5 hours, and then heated at 850 ° C for 2 hours, and then the container. And pulverized to obtain fine particles (crystallite diameter determined by X-ray: 10 nm).

【0055】WO3微粒子は、硝酸タングステンのプロ
パノール溶液(0.3mol/L)を、容器ごと80℃
で5時間乾燥した後、850℃で2時間加熱し、容器か
ら採り出して粉砕し、微粒子(X線により求めた結晶子
径10nm)とした。
WO 3 fine particles were prepared by using a propanol solution of tungsten nitrate (0.3 mol / L) in a container at 80 ° C.
After drying for 5 hours at 850 ° C., it was heated for 2 hours at 850 ° C., taken out of the container and pulverized to obtain fine particles (crystallite diameter 10 nm determined by X-ray).

【0056】また、SiC微粒子は、X線により求めた
結晶子径が10nmの市販品を購入して用いた。
As the SiC fine particles, a commercially available product having a crystallite diameter of 10 nm determined by X-ray was purchased and used.

【0057】(実施例16〜20)実施例11〜15で
は、光触媒微粒子の分散した膜に、さらに導電性微粒子
を分散させたが、本実施例では、図4に示すように、光
触媒微粒子11の分散した光触媒層18と導電性粒子の
分散した導電層15との積層膜である帯電防止光触媒薄
膜19を備える高機能プラスチックフィルム40を作製
した。
(Examples 16 to 20) In Examples 11 to 15, conductive fine particles were further dispersed in the film in which the photocatalyst fine particles were dispersed. In this Example, however, as shown in FIG. A high-performance plastic film 40 having an antistatic photocatalyst thin film 19, which is a laminated film of the photocatalyst layer 18 in which the above-mentioned dispersed and the conductive layer 15 in which conductive particles are dispersed, was produced.

【0058】まず、実施例11〜15と同様にしてSi
2ゾルを調製し、TiO2微粒子(X線により求めた結
晶子径5nm)を重量比でTiO2/SiO2=9となる
ように添加した後、固形分濃度が4重量%となるように
水を加えて調製して、直径5mmのジルコニアボールを
用いて24hrボールミルで混練して、SiO2ゾル中
にTiO2微粒子を分散させた。これにより、光触媒層
18形成用コーティング液が得られた。
First, in the same manner as in Examples 11 to 15, Si was used.
After preparing an O 2 sol and adding TiO 2 fine particles (crystallite size determined by X-ray: 5 nm) in a weight ratio of TiO 2 / SiO 2 = 9, the solid content concentration becomes 4% by weight. Water was added to the mixture to prepare a mixture, and zirconia balls having a diameter of 5 mm were used for kneading with a 24 hr ball mill to disperse the TiO 2 fine particles in the SiO 2 sol. As a result, a coating liquid for forming the photocatalyst layer 18 was obtained.

【0059】帯電防止光触媒薄膜19は、つぎのように
して形成した。まず、実施例11〜15と同様のPET
フィルム9に、実施例1〜5で調製した導電性微粒子分
散液をスピンコート塗布し、60℃で5分間乾燥した
後、さらにその表面に、上述の光触媒層18形成用コー
ティング液をスピンコート塗布し、最後に120℃で低
圧水銀ランプ(強度:15mW/cm2)を5分間照射
して硬化させた。これにより、PETフィルム9上に、
導電層15(膜厚400nm)とTiO2分散SiO2
(光触媒層)18(膜厚400nm)との積層膜19が
形成された。なお、導電層15における導電性微粒子1
2の間隙には、上層18の連続相であるSiO2が充填
された。本実施例においてPETフィルム9上に得られ
た薄膜19は、膜質および強度共に良好であった。
The antistatic photocatalyst thin film 19 was formed as follows. First, PET similar to that of Examples 11 to 15
The conductive fine particle dispersion liquids prepared in Examples 1 to 5 were applied to the film 9 by spin coating, dried at 60 ° C. for 5 minutes, and then the coating liquid for forming the photocatalyst layer 18 was applied onto the surface by spin coating. Finally, at 120 ° C., a low pressure mercury lamp (strength: 15 mW / cm 2 ) was irradiated for 5 minutes to cure. Thereby, on the PET film 9,
A laminated film 19 of the conductive layer 15 (film thickness 400 nm) and the TiO 2 -dispersed SiO 2 layer (photocatalyst layer) 18 (film thickness 400 nm) was formed. The conductive fine particles 1 in the conductive layer 15
The gap 2 was filled with SiO 2, which is the continuous phase of the upper layer 18. The thin film 19 obtained on the PET film 9 in this example had good film quality and strength.

【0060】得られた高機能プラスチックフィルム40
における帯電防止光触媒膜19の性能を、実施例1〜5
と同様にして評価したところ、表4に示すように、いず
れの導電性微粒子を用いた場合も、光触媒層18の表面
抵抗は109Ω/□以下であり、実施例1〜5と同様
の、タバコのヤニによる着色及びほこりの付着を防止す
ることができる優れた防汚効果を有することが分かっ
た。
High-performance plastic film 40 obtained
The performance of the antistatic photocatalyst film 19 in Examples 1-5
The evaluation was performed in the same manner as in Table 1. As shown in Table 4, the surface resistance of the photocatalyst layer 18 was 10 9 Ω / □ or less, which is the same as in Examples 1 to 5, when any conductive fine particles were used. It was found that it has an excellent antifouling effect that can prevent the coloring by the tar of the cigarette and the adhesion of dust.

【0061】[0061]

【表4】 [Table 4]

【0062】なお、光触媒微粒子11として、TiO2
微粒子の代わりに前述のSrTiO3、BaTiO3、W
3またはSiCの微粒子を用いた他は、本実施例16
〜20と同様にして、積層膜である帯電防止光触媒膜1
9を備える高機能プラスチックフィルム40を作製し、
性能を評価したところ、TiO2微粒子を使用したもの
と同様の結果が得られた。
As the photocatalyst fine particles 11, TiO 2 was used.
Instead of the fine particles, the above-mentioned SrTiO 3 , BaTiO 3 , W
Example 16 except that fine particles of O 3 or SiC were used.
~ 20, the antistatic photocatalyst film 1 which is a laminated film
A high-performance plastic film 40 including 9 is produced,
When the performance was evaluated, the same results as those using the TiO 2 fine particles were obtained.

【0063】(実施例21〜24)本実施例では、防汚
フィルムを長期間使用することができるように、基材と
光触媒膜との間にバリア層を設けた。本実施例で作製し
た高機能プラスチックフィルムを図5に示す。
(Examples 21 to 24) In this example, a barrier layer was provided between the base material and the photocatalyst film so that the antifouling film could be used for a long time. The high-performance plastic film produced in this example is shown in FIG.

【0064】まず、5gのテトラエトキシシランを10
0mlの水−エタノール−プロパノール(体積比3:2
7:70)混合溶液中に溶解し、40℃で5時間程度撹
伴した後、室温で2週間放置してシリカゾルを調製し
た。得られたシリカゾル中を4等分し、一つを残し、3
つに、硝酸鉄(III)、硝酸アルミニウムまたは硝酸ジ
ルコニウム(IV)を、5重量%になるように添加し、4
種のゾルを、それぞれ固形分濃度が4重量%となるよう
に水を加えて調製して、バリア層形成用コーティング液
とした。
First, 5 g of tetraethoxysilane was added to 10
0 ml of water-ethanol-propanol (volume ratio 3: 2
7:70) Dissolved in a mixed solution, stirred at 40 ° C. for about 5 hours, and allowed to stand at room temperature for 2 weeks to prepare a silica sol. Divide the resulting silica sol into four equal parts, leaving one
First, iron nitrate (III), aluminum nitrate or zirconium nitrate (IV) was added so as to be 5% by weight.
A seed sol was prepared by adding water so that the solid content concentration was 4% by weight, to prepare a coating liquid for forming a barrier layer.

【0065】つぎに、実施例11〜15と同様のPET
フィルム9(100mm×100mm×0.2mm)
に、得られたバリア層形成用コーティング液をスピンコ
ート塗布し、120℃で低圧水銀ランプ(強度:15m
W/cm2)を5分間照射して硬化させた。これにより
バリア層が形成された。つぎに、バリア層表面に、実施
例11〜15と同様にして調製した光触媒膜形成用コー
ティング液(導電性微粒子としてAgを用いたもの)を
スピンコート塗布し、120℃で低圧水銀ランプ(強
度:15mW/cm2)を5分間照射して硬化させた。
以上により、基板表面に、膜厚400nmのバリア層5
1と、膜厚400nmの帯電防止光触媒膜13とが積層
された。PETフィルム上に得られた薄膜は、膜質およ
び強度共に良好であった。
Next, the same PET as in Examples 11 to 15 was used.
Film 9 (100 mm x 100 mm x 0.2 mm)
The obtained coating liquid for forming a barrier layer was spin-coated on the resultant, and the low-pressure mercury lamp (strength: 15 m
W / cm 2 ) was irradiated for 5 minutes to cure. Thereby, the barrier layer was formed. Next, a photocatalyst film-forming coating liquid (using Ag as conductive fine particles) prepared in the same manner as in Examples 11 to 15 was spin-coated on the surface of the barrier layer, and the low-pressure mercury lamp (strength) was applied at 120 ° C. : 15 mW / cm 2 ) for 5 minutes for curing.
As described above, the barrier layer 5 having a film thickness of 400 nm is formed on the substrate surface.
1 and an antistatic photocatalyst film 13 having a film thickness of 400 nm were laminated. The thin film obtained on the PET film had good film quality and strength.

【0066】得られた高機能プラスチックフィルム50
における帯電防止光触媒膜13の性能を、実施例1〜5
と同様にして評価したところ、いずれのバリア層を用い
た場合も、表面抵抗は109Ω/□以下であり、実施例
11〜15と同様の、タバコのヤニによる着色及びほこ
りの付着を防止することができた。
Obtained high-performance plastic film 50
The performance of the antistatic photocatalytic film 13 in Examples 1-5
When evaluated in the same manner as above, the surface resistance was 10 9 Ω / □ or less when any of the barrier layers was used, and the coloring by the tar of the cigarette and the adhesion of dust, which are the same as in Examples 11 to 15, were prevented. We were able to.

【0067】また、得られた高機能プラスチックフィル
ム50と、比較のため、実施例11で作製した高機能プ
ラスチックフィルム30(バリア層なし)とを1年間放
置して、基板からの膜の剥離の有無を観察した。結果を
表5に示す。なお、表5において「×」は約半年で剥離
が見られたことを、「△」は約1年で剥離が見られたこ
とを、「○」は剥離が見られなかったことを、それぞれ
示している。
Further, the obtained high-performance plastic film 50 and, for comparison, the high-performance plastic film 30 produced in Example 11 (without barrier layer) was left for one year to remove the film from the substrate. The presence or absence was observed. The results are shown in Table 5. In Table 5, "x" indicates that peeling was observed in about 6 months, "△" indicates that peeling was observed in 1 year, and "○" indicates that peeling was not observed. Shows.

【0068】[0068]

【表5】 [Table 5]

【0069】この表5からわかるように、実施例11の
フィルム30では、約半年で剥離が見られたのに対し、
本実施例21〜24で作製したフィルム50では、半年
の時点では剥離は見られなかった。なお、この表から
は、シリカのみのバリア層を設けた実施例21では、約
1年程度の放置で剥離が見られたのに対し、バリア層に
光触媒活性を失活させる金属(Al、FeまたはZr)
を添加した場合(実施例22〜24)には、1年放置し
ても剥離は見られず、接着強度を維持するためには、こ
のような金属を添加することが好ましいこともわかる。
As can be seen from Table 5, in the film 30 of Example 11, peeling was observed in about half a year, whereas
In the films 50 produced in Examples 21 to 24, no peeling was observed at the half-year point. From this table, in Example 21 in which the barrier layer made of only silica was provided, peeling was observed after standing for about 1 year, whereas the barrier layer was made of a metal (Al, Fe) that deactivates the photocatalytic activity. Or Zr)
When added (Examples 22 to 24), peeling is not observed even if left for one year, and it is understood that it is preferable to add such a metal in order to maintain the adhesive strength.

【0070】(実施例25)本実施例では、バリア層中
にATOを分散させたフィルム50を作製した。本実施
例におけるフィルム50作製方法は、バリア層形成用コ
ーティング液が異なる以外は実施例21と同様である。
本実施例で用いたバリア層形成用コーティング液は、実
施例11と同様にして調製したシリカゾル20gに、実
施例1と同様にして調製した導電性微粒子としてATO
を含む導電性微粒子分散液50gを添加し、固形分濃度
が2重量%となるように水を加えて調製した。
Example 25 In this example, a film 50 having ATO dispersed in the barrier layer was produced. The method for producing the film 50 in this example is the same as that in Example 21 except that the coating liquid for forming the barrier layer is different.
The coating liquid for forming a barrier layer used in this example was prepared by adding 20 g of silica sol prepared in the same manner as in Example 11 to ATO as conductive fine particles prepared in the same manner as in Example 1.
Was prepared by adding 50 g of a conductive fine particle dispersion liquid containing the above and adding water so that the solid content concentration was 2% by weight.

【0071】作製されたフィルム50は、実施例21と
同様に半年程度では膜の剥離が見られないすぐれた接着
性を備え、さらに実施例21より優れた防汚効果を有し
ていた。
The produced film 50 had excellent adhesiveness in which peeling of the film was not observed in about half a year as in Example 21, and further had an antifouling effect superior to that of Example 21.

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明によれば、異物が付着しにくく、
かつ付着した有機物を光触媒により効率よく分解するこ
とのできる、優れた防汚効果を持つ物品が得られる。さ
らに、本発明によれば、基材に有機物を用いた場合に
も、長期間の使用に耐える防汚物品を得ることができ
る。
According to the present invention, it is difficult for foreign matter to adhere,
In addition, an article having an excellent antifouling effect can be obtained, which can efficiently decompose the attached organic matter by the photocatalyst. Furthermore, according to the present invention, it is possible to obtain an antifouling article that can be used for a long period of time even when an organic material is used as the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 ガラス基板上に形成した導電性微粒子分散T
iO2膜の構造を模式的に示す部分断面図と、その拡大
図である。
FIG. 1 Conductive fine particle dispersion T formed on a glass substrate
FIG. 3 is a partial cross-sectional view schematically showing the structure of the iO 2 film and its enlarged view.

【図2】 ガラス基板上に形成した導電層−TiO2
積層膜の構造を示す部分断面図である。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing the structure of a conductive layer-TiO 2 layer laminated film formed on a glass substrate.

【図3】 PETフィルム上に形成した、導電性微粒子
とTiO2微粒子とが分散したSiO2膜の構造を模式的
に示す部分断面図と、その拡大図である。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view schematically showing a structure of a SiO 2 film in which conductive fine particles and TiO 2 fine particles are dispersed, which is formed on a PET film, and an enlarged view thereof.

【図4】 PETフィルム上に形成した導電層−TiO
2分散SiO2層積層膜の構造を模式的に示す部分断面図
である。
FIG. 4 is a conductive layer-TiO formed on a PET film.
FIG. 3 is a partial cross-sectional view schematically showing the structure of a 2- dispersion SiO 2 layer laminated film.

【図5】 光触媒膜とバリア層とを備える高機能プラス
チックフィルムの構造を示す部分断面図である。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing the structure of a high-performance plastic film including a photocatalyst film and a barrier layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラス基板、2…導電性微粒子(分散相)、3…T
iO2(連続相)、4…導電性光触媒膜(導電性微粒子
分散TiO2膜)、5…導電性微粒子分散TiO2膜を備
える高機能ガラス板、6…導電層、7…光触媒(TiO
2)層、8…導電性光触媒膜(導電層−光触媒層積層
膜)、9…PETフィルム、10…SiO2(連続
相)、11…光触媒(TiO2)微粒子、12…導電性
微粒子、13…導電性光触媒膜(導電性微粒子光触媒微
粒子分散SiO2膜)、15…導電層、16…SiO2
18…光触媒微粒子分散SiO2膜(光触媒層)、19
…導電層−光触媒層積層膜、20…導電層−光触媒層積
層膜を備える高機能ガラス板、30…導電性微粒子光触
媒微粒子分散SiO2膜を備える高機能プラスチックフ
ィルム、40…導電層−光触媒層積層膜を備える高機能
プラスチックフィルム、50…光触媒膜とバリア層とを
備える高機能プラスチックフィルム、51…バリア層。
1 ... Glass substrate, 2 ... Conductive fine particles (dispersed phase), 3 ... T
iO 2 (continuous phase), 4 ... Conductive photocatalyst film (conductive fine particle dispersed TiO 2 film), 5 ... High-performance glass plate provided with conductive fine particle dispersed TiO 2 film, 6 ... Conductive layer, 7 ... Photocatalyst (TiO 2).
2 ) Layer, 8 ... Conductive photocatalyst film (conductive layer-photocatalyst layer laminated film), 9 ... PET film, 10 ... SiO 2 (continuous phase), 11 ... Photocatalyst (TiO 2 ) fine particles, 12 ... Conductive fine particles, 13 ... conductive photocatalyst film (conductive fine particle photocatalyst fine particle dispersed SiO 2 film), 15 ... conductive layer, 16 ... SiO 2 ,
18 ... Photocatalyst fine particle dispersed SiO 2 film (photocatalyst layer), 19
... conductive layer - photocatalyst layer laminate film, 20 ... conductive layer - comprising a photocatalyst layer laminated film highly functional glass plates, high-performance plastic film with 30 ... conductive fine photocatalyst particles dispersed SiO 2 film, 40 ... conductive layer - photocatalyst layer High-performance plastic film including a laminated film, 50 ... High-performance plastic film including a photocatalyst film and a barrier layer, 51 ... Barrier layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI B01D 53/36 H (72)発明者 大石 知司 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株式会社日立製作所 日立研究所内 (72)発明者 高橋 研 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株式会社日立製作所 日立研究所内 (72)発明者 道本 忠憲 大阪府茨木市下穂積一丁目1番2号 日 東電工株式会社内 (72)発明者 柴田 和成 大阪府茨木市下穂積一丁目1番2号 日 東電工株式会社内 (56)参考文献 特開 平8−1010(JP,A) 特開 平10−175270(JP,A) 国際公開97/010186(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01J 21/00 - 38/74 B01D 53/00 - 53/96 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI B01D 53/36 H (72) Inventor Tomoji Oishi 7-1-1, Omika-cho, Hitachi-shi, Ibaraki Hitachi Ltd. Hitachi Research Laboratory ( 72) Inventor Ken Takahashi 7-1-1 Omika-cho, Hitachi-shi, Ibaraki Hitachi Ltd. Hitachi Research Laboratory (72) Inventor Tadanori Michimoto 1-2-2 Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nitto Denko Corporation (72) Inventor Kazunari Shibata 1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nitto Denko Corporation (56) Reference JP 8-1010 (JP, A) JP 10-175270 ( JP, A) International Publication 97/010186 (WO, A1) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) B01J 21/00-38/74 B01D 53/00-53/96

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】有機物の分解を触媒する光触媒とバインダ
を含み、該光触媒の重量が該バインダの重量の5〜9
倍である光触媒膜の表面抵抗値を、光触媒中に分散され
導体からなる導電性微粒子を用いて109Ω/□以下
にすることにより、有機物の分解を触媒し、かつ、異物
の付着を防止することを特徴とする防汚方法。
1. A photocatalyst and a binder which catalyze the decomposition of organic substances.
Look including the door, 5-9 weight photocatalyst is the weight of the binder
The surface resistance of the photocatalyst film, which is double, is dispersed in the photocatalyst.
By the 10 9 ohm / □ or less by using the conductive fine particles made of a conductor was, the decomposition of organic matter and the catalyst and antifouling method characterized by preventing adhesion of foreign matter.
【請求項2】有機物の分解を触媒する光触媒を含む光触
媒膜を備える物品において、 上記光触媒膜の帯電を防止することにより、異物の付着
を防止する帯電防止機構を有し、 上記帯電防止機構は、上記光触媒膜中に分散された、導
体からなる導電性微粒子であり、 上記光触媒膜は、膜厚が100〜500nmであ ること
を特徴とする防汚物品。
2. A article comprising a photocatalytic film containing a catalyst for photocatalytic degradation of organic substances, by preventing the charging of the photocatalyst film, possess antistatic mechanism for preventing adhesion of foreign matter, the antistatic mechanism , Dispersed in the photocatalyst film,
An antifouling article, which is a conductive fine particle composed of a body, wherein the photocatalytic film has a film thickness of 100 to 500 nm .
【請求項3】有機物の分解を触媒する光触媒を含む光触
媒膜を備える物品において、 上記光触媒膜の帯電を防止することにより、異物の付着
を防止する帯電防止機構を有し、 上記帯電防止機構は、上記光触媒膜中に分散された、導
体からなる導電性微粒子であり、 上記光触媒の微粒子は、X線により求めた結晶子径が5
〜20nmであ ることを特徴とする防汚物品。
3. A article comprising a photocatalytic film containing a catalyst for photocatalytic degradation of organic substances, by preventing the charging of the photocatalyst film, possess antistatic mechanism for preventing adhesion of foreign matter, the antistatic mechanism , Dispersed in the photocatalyst film,
The photocatalyst fine particles are conductive fine particles having a crystallite diameter of 5 determined by X-ray.
An antifouling article having a thickness of 20 nm .
【請求項4】有機物の分解を触媒する光触媒を含む光触
媒膜を備える物品において、 上記光触媒膜の帯電を防止することにより、異物の付着
を防止する帯電防止機構を有し、 上記帯電防止機構は、上記光触媒膜中に分散された、導
体からなる導電性微粒子であり、 上記光触媒の重量は、上記バインダの重量の5〜9倍で
ることを特徴とする防汚物品。
4. A article comprising a photocatalytic film containing a catalyst for photocatalytic degradation of organic substances, by preventing the charging of the photocatalyst film, possess antistatic mechanism for preventing adhesion of foreign matter, the antistatic mechanism , Dispersed in the photocatalyst film,
A conductive fine particle made of the body, the weight of the photocatalyst is a 5-9 times the weight of the binder
An antifouling article characterized by being present.
【請求項5】上記帯電防止機構は、 上記光触媒膜の表面抵抗値を109Ω/□以下にする機
構であることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに
載の防汚物品。
Wherein the antistatic mechanism, the photocatalyst film or the serial <br/> mounting proof of claims 2 to 4, characterized in that the surface resistance value is a mechanism to 10 9 ohm / □ or less of Dirty articles.
【請求項6】有機高分子化合物を含むシート状の基材
と、無機物からなるバリア層と、有機物の分解を触媒す
る光触媒を含む光触媒膜とがこの順で積層されたフィル
ムであって、 上記光触媒膜の帯電を防止することにより、異物の付着
を防止する帯電防止機構を有し、 上記帯電防止機構は、上記光触媒膜中に分散された、導
体からなる導電性微粒子であって、上記光触媒膜の表面
抵抗値を109Ω/□以下にする機構である ことを特徴
とする防汚物品。
6. A sheet-shaped substrate containing an organic polymer compound, a barrier layer made of an inorganic substance, and a catalyst for decomposing the organic substance.
A photocatalyst film containing a photocatalyst that is laminated in this order
A beam, by preventing charging of the photocatalyst film, possess antistatic mechanism for preventing adhesion of foreign matter, the antistatic mechanism, dispersed in the photocatalyst film, guide
Conductive fine particles composed of a body, the surface of the photocatalytic film
An antifouling article, which has a mechanism of reducing the resistance value to 109 Ω / □ or less .
【請求項7】上記バリア層は、 Fe,AlおよびZrのうちの少なくとも一の元素を含
む、金属酸化物の膜であることを特徴とする請求項
載の防汚物品。
7. The antifouling article according to claim 6 , wherein the barrier layer is a film of a metal oxide containing at least one element of Fe, Al and Zr.
【請求項8】上記基材の表裏のうち、上記光触媒膜の形
成されていない側の面に、 接着剤を含む層を、さらに備えることを特徴とする請求
記載の防汚物品。
8. The antifouling article according to claim 6 , further comprising a layer containing an adhesive on the surface on the side where the photocatalyst film is not formed, of the front and back surfaces of the base material.
【請求項9】上記導体は、 Sn,In,Ag,Pd,Cu,ATO(Sb添加Sn
O2)およびITO(Sn添加In2O3)のうちの少
なくとも一種を含むことを特徴とする請求項2〜4のい
ずれかに記載の防汚物品。
9. The conductor is Sn, In, Ag, Pd, Cu, ATO (Sb-added Sn).
O2) and at least one of ITO (Sn-added In2O3) are contained, and the element according to any one of claims 2 to 4.
The antifouling article as described in the slip .
【請求項10】上記光触媒は、TiO2,SrTiO
3,BaTiO3,WO3およびSiCのうちの少なく
とも一種であることを特徴とする請求項2〜4のいずれ
かに記載の防汚物品。
10. The photocatalyst is TiO2 or SrTiO3.
3. BaTiO3, WO3, and at least one of SiC , any one of claims 2 to 4, characterized in that
An antifouling article as described in Crab .
【請求項11】上記バインダは、SiO2であることを
特徴とする請求項3又は4記載の防汚物品。
11. The antifouling article according to claim 3 or 4 , wherein the binder is SiO2.
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